Positive type resist for use in electron beams
Номер патента: JPS57104136A
Опубликовано: 29-06-1982
Автор(ы): Seiji Miyazaki
Принадлежит: Sanyo Denki Co Ltd, Sanyo Electric Co Ltd
Опубликовано: 29-06-1982
Автор(ы): Seiji Miyazaki
Принадлежит: Sanyo Denki Co Ltd, Sanyo Electric Co Ltd
Polymerizable composition, polymer, resist, and process for electron beam lithography
Номер патента: US20040081910A1. Автор: Klaus Elian,Rafael Abargues. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-04-29.