CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, RESIST-COATED MASK BLANK, METHOD OF FORMING PHOTOMASK AND PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
Номер патента: US20150072274A1
Опубликовано: 12-03-2015
Автор(ы): Takahashi Koutarou, Tsuchimura Tomotaka
Принадлежит: FUJIFILM Corporation
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 12-03-2015
Автор(ы): Takahashi Koutarou, Tsuchimura Tomotaka
Принадлежит: FUJIFILM Corporation
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Resin composition, resist film using the same, resist coated mask blank, method for forming resist pattern, and photomask
Номер патента: TW201319743A. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Takeshi Inasaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-05-16.