Electrical isolation of FinFET active region by selective oxidation of sacrificial layer
Номер патента: US09716174B2
Опубликовано: 25-07-2017
Автор(ы): Ajey Poovannummoottil Jacob, Jody A. FRONHEISER, Murat Kerem Akarvardar
Принадлежит: Globalfoundries Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 25-07-2017
Автор(ы): Ajey Poovannummoottil Jacob, Jody A. FRONHEISER, Murat Kerem Akarvardar
Принадлежит: Globalfoundries Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Partial fin on oxide for improved electrical isolation of raised active regions
Номер патента: US20160079397A1. Автор: Kangguo Cheng,Ali Khakifirooz,Terence B. Hook,Henry K. Utomo,Reinaldo A. Vega,Eric C. Harley. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-03-17.