Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Peak-based endpointing for chemical mechanical polishing

Peak-based endpointing for chemical mechanical polishing

Номер патента: US09564377B2
Опубликовано: 07-02-2017
Автор(ы): Boguslaw A. Swedek, David J. Lischka, Dominic J. Benvegnu
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Peak-based endpointing for chemical mechanical polishing

Номер патента: US09799578B2. Автор: Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,David J. Lischka. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-24.

Peak-based endpointing for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2008055174A3. Автор: Dominic J Benvegnu,Boguslaw A Swedek,David J Lischka. Владелец: David J Lischka. Дата публикации: 2008-07-10.

Peak-based endpointing for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2008055174A2. Автор: Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,David J. Lischka. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2008-05-08.

PEAK-BASED ENDPOINTING FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING

Номер патента: US20170092551A1. Автор: Swedek Boguslaw A.,Benvegnu Dominic J.,Lischka David J.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-03-30.

Systems and methods for chemical mechanical planarization with photo-current detection

Номер патента: US09754845B2. Автор: I-Shuo Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US20030057185A1. Автор: Gundu Sabde,Jim Hofmann,Scott Moore,Stephen Kramer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-27.

Optical thickness control during a chemical mechanical polishing process and apparatus for effecting the same

Номер патента: US20240308020A1. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Optical thickness control during a chemical mechanical polishing process and apparatus for effecting the same

Номер патента: US12059769B2. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Chemical-mechanical polishing (CMP) apparatus

Номер патента: US5705435A. Автор: Lai-Tuh Chen. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 1998-01-06.

Chemical mechanical polishing method and chemical mechanical polishing device

Номер патента: EP2079106A3. Автор: Masanori Miyata,Kenji Nishihara,Tetsuya Okada,Akinori Suzuki,Tadao Uehara,Koichi Sogawa,Tohru Haruki,Taro Usami,Shisyo Chin,Hiroaki Teratani,Yuuichi Kohno. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-07.

Endpoint control during chemical mechanical polishing by detecting interface between different layers through selectivity change

Номер патента: WO2012012052A3. Автор: Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Xiaoyuan Hu (Sandra). Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Endpoint control during chemical mechanical polishing by detecting interface between different layers through selectivity change

Номер патента: WO2012012052A2. Автор: Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Xiaoyuan Hu (Sandra). Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240308021A1. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Chemical-mechanical polishing pad and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20130189907A1. Автор: Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Kotaro Kubo. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-25.

Method of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20050070091A1. Автор: Hyo-Jong Lee,Sung-Bae Lee,Sang-Rok Ha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-03-31.

Polishing pad, chemical mechanical polishing apparatus including the same, and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230219191A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Ji Su Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Ji-hun Jeong,Myung-Ki Hong,Dong Geun Kim,Hyun Jun Ryu,Yeong Bong PARK. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-07-13.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12017322B2. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical mechanical planarization slurry processing techniques and systems and methods for polishing substrate using the same

Номер патента: WO2022177767A9. Автор: Jason Keleher,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,Katherine WORTMON-OTTO,Abigail LINHART,Kiana A. CAHUE. Владелец: Araca, Inc.. Дата публикации: 2023-05-19.

Chemical mechanical planarization slurry processing techniques and systems and methods for polishing substrate using the same

Номер патента: EP4272241A1. Автор: Jason Keleher,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,Abigail LINHART,Kiana A. CAHUE,Katherine WORTMAN-OTTO. Владелец: Araca Inc. Дата публикации: 2023-11-08.

Temperature modification for chemical mechanical polishing

Номер патента: US09550270B2. Автор: Yeh-Chieh Wang,Chi-Hao Huang,Jung-Lung Hung,Rong-June Hsiao,Hong-Hsing Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Electrochemical mechanical polishing and planarization equipment for processing conductive wafer substrate

Номер патента: US20240149361A1. Автор: Donghui Wang,Yaomin Deng,Zhengting ZHU. Владелец: Hangzhou Sizone Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Chemical mechanical polishing apparatus for controlling polishing uniformity

Номер патента: US20200185231A1. Автор: Seung-Ho Park,Hyo-san Lee,In-Kwon Kim,Sang-Won Bae,Woo-in Lee,Sun-jae Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-11.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US12076831B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US12020946B2. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical mechanical polishing apparatus and method using the same

Номер патента: US20230191555A1. Автор: Hoyoung Kim,Jinyoung Park,Jaehyug LEE,Chaelyoung KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240304455A1. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Electrochemical mechanical polishing and planarization equipment for processing conductive wafer substrate

Номер патента: US12017293B2. Автор: Donghui Wang,Yaomin Deng,Zhengting ZHU. Владелец: Hangzhou Sizone Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: US20240100648A1. Автор: Jaeseok Lee,Jessica Lindsay,Satish Rai,Sangcheol Kim. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: WO2024064259A1. Автор: Jaeseok Lee,Satish Rai,Sangcheol Kim,Jessica TABERT. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240145254A1. Автор: Hyo-Jung Kim,Dong Hoon KWON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Chemical-mechanical polishing method and apparatus using ultrasound applied to the carrier and platen

Номер патента: US5688364A. Автор: Junichi Sato. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1997-11-18.

Chemical mechanical polishing method suitable for highly accurate planarization

Номер патента: US6132292A. Автор: Akira Kubo. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2000-10-17.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US11673223B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-13.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing system using the same

Номер патента: US20240051079A1. Автор: Hoyoung Kim,Boun Yoon,Eunkyoung Kim,Kiho BAE,Boumyoung Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-15.

Tools for chemical planarization

Номер патента: EP4395960A1. Автор: Suryadevara Babu,Sudhanshu Misra. Владелец: Chempower Corp. Дата публикации: 2024-07-10.

Tools for chemical planarization

Номер патента: US20230077988A1. Автор: Suryadevara Babu,Sudhanshu Misra. Владелец: Chempower Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Tools for chemical planarization

Номер патента: WO2023034874A1. Автор: Suryadevara Babu,Sudhanshu Misra. Владелец: Chempower Corporation. Дата публикации: 2023-03-09.

Mega-sonic vibration assisted chemical mechanical planarization

Номер патента: US12036636B2. Автор: Kei-Wei Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang,Ching-hsiang Tsai,Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Mega-sonic vibration assisted chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230219188A1. Автор: Kei-Wei Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang,Ching-hsiang Tsai,Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Chemical mechanical planarization membrane

Номер патента: US11850702B2. Автор: Chien-Wei Chang,Tzi-Yi Shieh,Ren-Dou Lee,Cheng-Ping Chen,Tsung-Lung Lai,Sheng-Tai Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

PEAK-BASED ENDPOINTING FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING

Номер патента: US20140080232A1. Автор: Swedek Boguslaw A.,Benvegnu Dominic J.,Lischka David J.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-03-20.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09776300B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240278383A1. Автор: Dongchan Kim,Byoungho Kwon,Hwiyoung JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

System and method for monitoring chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230182257A1. Автор: Chih-Yu Wang,Tien-Wen Wang,In-Tsang Lin,Hsin-Hui Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Polishing articles and integrated system and methods for manufacturing chemical mechanical polishing articles

Номер патента: US12023853B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Kasiraman Krishnan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Gregory E. Menk,Jason G. Fung,Russell Edward Perry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Polishing articles and integrated system and methods for manufacturing chemical mechanical polishing articles

Номер патента: US09776361B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Kasiraman Krishnan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Gregory E. Menk,Jason G. Fung,Russell Edward Perry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Double-sided adhesive tape for adhering polishing pad allowing easy air bubble discharge, and chemical-mechanical polishing apparatus using same

Номер патента: EP4450577A1. Автор: JEONG Yeon Jeong,Seung Geun Kim,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Kang Mun Cho. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Apparatus for the chemical-mechanical polishing of wafers

Номер патента: US5964652A. Автор: Hermann Wendt,Hanno Melzner. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1999-10-12.

Chemical mechanical polishing apparatus and method for performing cerium oxide-based chemical mechanical polishing

Номер патента: CN111318955A. Автор: 李善雄. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2020-06-23.

Method and/or system for chemical mechanical planarization (CMP)

Номер патента: US09997420B2. Автор: Cheng Yen-Wei,Jong-I Mou,Yen-Di Tsen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Method of grooving a chemical-mechanical planarization pad

Номер патента: US8758659B2. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,John Erik Aldeborgh,Anoop Mathew,Oscar K. Hsu,Marc C. Jin. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-24.

Chemical mechanical planarization for shallow trench isolation

Номер патента: WO2024173029A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,LU Gan,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-08-22.

Chemical mechanical planarization (cmp) pad conditioner and method of making

Номер патента: EP2652773A2. Автор: Srinivasan Ramanath,Jianhui Wu,Arup K. Khaund,Eric M. Schulz. Владелец: Saint Gobain Abrasifs SA. Дата публикации: 2013-10-23.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US09827647B2. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US20160158910A1. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Substrate holder to reduce substrate edge stress during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012012056A2. Автор: HUNG Chih Chen,Samuel Chu-Chiang Hsu,Denis M. Koosau,Gautam Shashank. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Substrate holder to reduce substrate edge stress during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012012056A3. Автор: HUNG Chih Chen,Samuel Chu-Chiang Hsu,Denis M. Koosau,Gautam Shashank. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Chemical mechanical polishing system for a workpiece, arithmetic system, and method of producing simulation model for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230043639A1. Автор: Norikazu Suzuki,Yoshihiro Mochizuki,Hozumi Yasuda,Yohei Hashimoto. Владелец: Kanazawa University NUC. Дата публикации: 2023-02-09.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20240307928A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Methods and systems for chemical mechanical polish and clean

Номер патента: US09449841B2. Автор: Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Shich-Chang Suen,Ying-Liang Chuang,Ming-Liang Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Vacuum assembly for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200101580A1. Автор: Shih-Ho Lin,Yu-chen Wei,Chun-Jui Chu,Chih-Yuan Yang,Jen Chieh Lai,Szu-Cheng Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection and monitoring for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: EP1419853A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Grigory Pyatigorsky,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-19.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US11986921B2. Автор: Byoung Ho Kwon,Yong Hee Lee,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-21.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US20220118582A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE,Youg Hee LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-21.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703B1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-06.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-12.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Method and system for chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20230274929A1. Автор: Yi-Chang Liu,Chih-I Peng,Hsiu-Ming Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-23.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of controlling the same

Номер патента: US20240217059A1. Автор: Wonkeun Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200070300A1. Автор: Ji Min Lee,Eun Kyung Hong,Sung Hyup Kim,Nam Il Koo,Ji Min CHOI,Ik Seon JEON,Sang Yeon OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-03-05.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240227122A9. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US20150306730A1. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-10-29.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US09333620B2. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200198088A1. Автор: Ilcheol Shin,Sung-Chang Park,Kyoungwoo Kim,Young-Kyun Woo,Hak-Jae Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-25.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220388041A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-12-08.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20200376523A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-12-03.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US12030093B2. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: WO2003082522A8. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J Hemker,Damon V Williams. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: EP1487611A1. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J. Hemker,Damon V. Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-12-22.

Apparatus and methods for aligning a surface of an active retainer ring with a wafer surface during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1372907A2. Автор: Miguel A. Saldana,Damon Vincent Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-01-02.

Apparatus and methods for aligning a surface of an active retainer ring with a wafer surface during chemical-mechanical polishing

Номер патента: EP1372907B1. Автор: Miguel A. Saldana,Damon Vincent Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2006-11-29.

Chemical mechanical polishing tool, apparatus and method

Номер патента: WO2003022518A2. Автор: In-kwon Jeong. Владелец: Oriol, Inc.. Дата публикации: 2003-03-20.

Rotary body module and chemical mechanical polishing apparatus having the same

Номер патента: US11590628B2. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han,Yungjun Kim,Hyunjoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-28.

Improved chemical mechanical polishing pad and methods of making and using same

Номер патента: EP2025454A2. Автор: Richard D. Hreha,Ravichandra V. Palaparthi,Benjamin John Vining. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2009-02-18.

Chemical-mechanical polishing apparatus, polishing pad and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20030168169A1. Автор: Kiyoshi Tanaka,Akira Ishikawa,Satoru Ide,Eiichi Yamamoto,Takahiko Mitsui. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-09-11.

Chemical mechanical polishing using time share control

Номер патента: US11931854B2. Автор: Wei Lu,Jianshe Tang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Priscilla Diep LaRosa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20180009078A1. Автор: Kyutae Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-11.

Loading device of chemical mechanical polishing equipment for semiconductor wafers

Номер патента: WO2007061170A1. Автор: Young Su Heo,Chang Il Kim,Young Min Na. Владелец: Doosan Mecatec Co., Ltd.. Дата публикации: 2007-05-31.

Rotary body module and chemical mechanical polishing apparatus having the same

Номер патента: US20210008686A1. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han,Yungjun Kim,Hyunjoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-01-14.

Method and system for in-situ optimization for semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing process

Номер патента: US6159075A. Автор: Liming Zhang. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2000-12-12.

Device and method for preventing settlement of particles on a chemical-mechanical polishing pad

Номер патента: US5968841A. Автор: Michael Francis Lofaro,William Francis Landers,Adam Dan Ticknor. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-10-19.

Chemical mechanical polishing with multiple polishing pads

Номер патента: US20030190865A1. Автор: Sasson Somekh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-10-09.

Spray system for slurry reduction during chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US11819976B2. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Ekaterina MIKHAYLICHENKO,Erik Rondum,Anand Nilakantan IYER,Tiffany Yu-nung Cheung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Detergent composition and chemical-mechanical polishing composition

Номер патента: US20230174892A1. Автор: Yuichi Sakanishi. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Chemical mechanical polishing method, method of manufacturing semiconductor device, and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20180104792A1. Автор: Hyo-san Lee,Myung-Ki Hong,Joo-Han LEE,Sung-Oh Park,Yung-Jun Kim,Kyu-min Oh,Sun-gyu PARK,Seh-Kwang Lee,Chan-ki Yang. Владелец: EHWA Diamond Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-19.

Spray system for slurry reduction during chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US20240042571A1. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Erik Rondum,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Anand Nilakantan IYER,Tiffany Yu-nung Cheung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Configurable pressure design for multizone chemical mechanical planarization polishing head

Номер патента: US09610672B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Samuel Chu-Chiang Hsu,Gautam Shashank Dandavate. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Vertically adjustable chemical mechanical polishing head having a pivot mechanism and method for use thereof

Номер патента: US20040121704A1. Автор: Jun Liu,Huey-Ming Wang,Kunihiko Sakurai,Gerard Moloney,Peter Lao. Владелец: Ebara Technologies Inc. Дата публикации: 2004-06-24.

Polishing head of a chemical and mechanical polishing apparatus for polishing a wafer

Номер патента: US6517421B2. Автор: Choul-Gue Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-02-11.

Endpoint detection in chemical mechanical polishing (cmp) by substrate holder elevation detection

Номер патента: AU3761799A. Автор: Trung T. Doan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Chemical Mechanical Polishing Apparatus Including a Multi-Zone Platen

Номер патента: US20230364733A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Chih Hung Chen,Tsung Hsien Chang,Fu-Ming HUANG,Hung Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Chemical mechanical polishing apparatus including a multi-zone platen

Номер патента: US11772228B2. Автор: Chi-hsiang Shen,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Chih Hung Chen,Tsung Hsien Chang,Fu-Ming HUANG,Hung Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Real-time control of chemical-mechanical polishing processes using a shaft distortion measurement.

Номер патента: MY124028A. Автор: Li Leping,Wang Xinhui. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2006-06-30.

In situ monitoring technique and apparatus for chemical/mechanical planarization endpoint detection

Номер патента: CA2036102C. Автор: Gabriel Lorimer Miller,Eric Richard Wagner. Владелец: American Telephone and Telegraph Co Inc. Дата публикации: 1995-04-04.

Configurable pressure design for multizone chemical mechanical planarization polishing head

Номер патента: WO2015199815A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Samuel Chu-Chiang Hsu,Gautam Shashank Dandavate. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-12-30.

Fabricating structures using chemo-mechanical polishing and chemically-selective endpoint detection

Номер патента: WO2003005421A2. Автор: Charles Hunt,Jeffrey Peterson. Владелец: The Regents of the University of California. Дата публикации: 2003-01-16.

Fabricating structures using chemo-mechanical polishing and chemically-selective endpoint detection

Номер патента: WO2003005421A3. Автор: Charles Hunt,Jeffrey Peterson. Владелец: Univ California. Дата публикации: 2003-08-28.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230381923A1. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US12017325B2. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical-mechanical planarization pad including patterned structural domains

Номер патента: EP2382651A1. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,Anoop Mathew,Oscar K. Hsu. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2011-11-02.

Compensating chemical mechanical wafer polishing apparatus and method

Номер патента: US20030100196A1. Автор: Wen-Chueh Pan,Yang-Jiann Fann,Yih-Hsing Wang,Chaug-Liang Hsu,Jer-Shyong Lai,Chien-Cheng He. Владелец: National Chung Shan Institute of Science and Technology NCSIST. Дата публикации: 2003-05-29.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: WO2003057405A8. Автор: Xu Cangshan. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2003-10-30.

Chemical mechanical planarization apparatus and methods

Номер патента: US09950405B2. Автор: Wufeng Deng. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Systems, methods and apparatus for post-chemical mechanical planarization substrate cleaning

Номер патента: US09844800B2. Автор: Brian J. Brown,Steven M. Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: EP1469971A4. Автор: Xu Cangshan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-01-12.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: US20030139124A1. Автор: Cangshan Xu. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-07-24.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12006446B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-11.

Composition for chemical mechanical polishing and method for polishing

Номер патента: US20230203344A1. Автор: Kouhei Yoshio,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Polishing composition, method for fabricating thereof and method of chemical mechanical polishing using the same

Номер патента: US09493677B2. Автор: Dae Soon Lim,Dong Hee Shin,Dong Hyeon LEE,Il Ho YANG,Yang Bok Lee,Seung Koo Lee. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2016-11-15.

Slurry compositions for polishing metal layers, chemical mechanical polishing apparatuses using the same, and methods for fabricating semiconductor devices using the same

Номер патента: US20230193080A1. Автор: Sang Kyun Kim,Byung Keun Hwang,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

End point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: EP1399294A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina A. Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-03-24.

Slurry composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230104949A1. Автор: Sangkyun Kim,Hyosan Lee,Sanghyun Park,Yearin BYUN,Inkwon KIM,Wonki HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-06.

Chemical mechanical polishing pad composite polishing layer formulation

Номер патента: US09630293B2. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Jeffrey James Hendron,Diego Lugo,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Composite polishing layer chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09539694B1. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Teresa Brugarolas Brufau. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Chemical mechanical polishing pad with composite polishing layer

Номер патента: US09457449B1. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Teresa Brugarolas Brufau. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Chemical-mechanical polishing composition and chemical-mechanical polishing method using the same

Номер патента: US20240263039A1. Автор: Hiroshi Kitamura,Tsuyoshi Masuda,Yoshiyuki Matsumura,Akihisa NAMIKI. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Neutral to alkaline chemical mechanical polishing compositions and methods for tungsten

Номер патента: US11591495B2. Автор: Yi Guo,Tony Quan Tran. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-02-28.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: SG11201901582QA. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-03-28.

Chemical mechanical polishing pads for improved removal rate and planarization

Номер патента: US20230294240A1. Автор: Bainian Qian,George C. Jacob,Nan-Rong Chiou,Jonathan G. Weis. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-09-21.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: US20180056479A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-01.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: EP3504731A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-07-03.

Apparatus and method for supplying chemicals in chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US20030089456A1. Автор: Sue-ryeon Kim,Seung-un Kim,Seung-ki Chae,Je-Gu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-05-15.

Methods and apparatus for post-chemical mechanical planarization substrate cleaning

Номер патента: US09711381B2. Автор: Sen-Hou Ko,Lakshmanan Karuppiah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6827630B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-12-07.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6352466B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-05.

In-situ defect count detection in post chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230298949A1. Автор: Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Chun-Hung LIAO,Huang-Lin Chao,Jeng-Chi Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Run-to-run control for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20130267148A1. Автор: Patrick David Noll,Madhu Sudan RAMAVAJJALA,Prakash Lakshmikanthan. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2013-10-10.

Polishing pad for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing apparatus inluding the same, and method of fabricating semiconductor device using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20230211456A1. Автор: Sang Kyun Kim,Bo Un Yoon,Byung Keun Hwang,Bo yun KIM,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Methods and systems for chemical mechanical polish cleaning

Номер патента: US09966281B2. Автор: Hui-Chi Huang,Chien-Ping Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11806835B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11986926B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of replacing polishing pad using the same

Номер патента: US20240217057A1. Автор: Chungki MIN,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Equipment, apparatus and method of chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US20240227112A1. Автор: Ilyoung Yoon,Seungjun LEE,Jinoh Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Light sensitive chemical-mechanical polishing aggregate

Номер патента: US20010028052A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-11.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus

Номер патента: US20240157502A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-16.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240173820A1. Автор: Donghoon Kwon,Yeonsu Go. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Apparatus for holding wafer cassettes in a cassette in a cassette tub during a chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20030119434A1. Автор: Yao-Hsiang Liang,Kevin Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-06-26.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240238935A1. Автор: Gihwan KIM,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus and method of controlling thereof

Номер патента: US20240238936A1. Автор: Wonkeun Cho,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Light sensitive chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20010053606A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-12-20.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: US11752589B2. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: US20230356351A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Sequential application of cleaning fluids for improved maintenance of chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US11850700B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Van H. Nguyen,Jeonghoon Oh,Roger M. Johnson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: WO2020214706A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-10-22.

Chemical mechanical polishing method with in-line thickness detection

Номер патента: US6117780A. Автор: Kuei-Chang Tsai,Chin-Hsiang Chang,Li-Chun Hsien,Yun-Liang Ouyang. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2000-09-12.

Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US11813714B2. Автор: Donghyuk Jang,Taesung Kim,Youngjin Hong,Seokjun HONG,Hojoong Kim,Junyong KIM. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-11-14.

Spherical drive assembly for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2002060643A9. Автор: David G Halley. Владелец: STRASBAUGH. Дата публикации: 2003-09-12.

Method and apparatus for controlling backside pressure during chemical mechanical polishing

Номер патента: US5925576A. Автор: Cheng-An Peng. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 1999-07-20.

Retainer ring used in chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: KR102510720B1. Автор: 송성훈,송종석. Владелец: 피코맥스(주). Дата публикации: 2023-03-16.

Chemical mechanical polishing fixture having lateral perforation structures

Номер патента: US20140342643A1. Автор: Hui-Chen Yen. Владелец: KAI FUNG TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-20.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: WO2024085975A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240131562A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240226970A9. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Wafer support for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2002053320A9. Автор: David G Halley. Владелец: STRASBAUGH. Дата публикации: 2004-03-04.

Wafer conveying device, chemical mechanical planarization apparatus and wafer conveying method

Номер патента: US20230201995A1. Автор: Zhipeng ZHOU,Yuansi YANG. Владелец: Hangzhou Sizone Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2023-06-29.

Method for shaping features of a semiconductor structure using chemical mechanical planarization (CMP)

Номер патента: US5302233A. Автор: Scott Meikle,Sung C. Kim. Владелец: Micron Semiconductor Inc. Дата публикации: 1994-04-12.

Method and apparatus for endpoint detection for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2000054935A9. Автор: John A Adams,Robert A Eaton,Thomas Frederick Allen J Bibby. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2002-06-20.

Layered-filament lattice for chemical mechanical polishing

Номер патента: US7517277B2. Автор: Gregory P. Muldowney. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2009-04-14.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method using same

Номер патента: EP2533274A1. Автор: Akihiro Takemura,Tomohisa Konno,Tatsuya Yamanaka,Kouhei Yoshio. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-12-12.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method using same

Номер патента: WO2011093153A1. Автор: 達也 山中,彰浩 竹村,金野　智久,浩平 吉尾. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-08-04.

Composition for chemical-mechanical polishing and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US12104087B2. Автор: Pengyu Wang,Yasutaka Kamei,Norihiko Sugie,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Chemical mechanical polishing composition and polishing method

Номер патента: US20240254365A1. Автор: Yasutaka Kamei,Kohei Nishimura,Koki Ishimaki,Shuhei Nakamura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Chemical Mechanical Planarization Pad Having Polishing Layer with Multi-lobed Embedded Features

Номер патента: US20240009798A1. Автор: Bainian Qian,Donna M. Alden,Sheng-Huan Tseng. Владелец: Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holidngs Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Disk/pad clean with wafer and wafer edge/bevel clean module for chemical mechanical polishing

Номер патента: US09508575B2. Автор: Hui Chen,Sen-Hou Ko. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-11-29.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US20050170751A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-08-04.

Adapative endpoint method for pad life effect on chemical mechanical polishing

Номер патента: US20130146224A1. Автор: Hui-Chi Huang,Chu-An Lee,Peng-Chung Jangjian. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-06-13.

Chemical mechanical polishing apparatus, slurry, and method of using the same

Номер патента: US11351648B2. Автор: Hsun-Chung KUANG,Tung-He Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-06-07.

Chemical mechanical polishing apparatus, slurry, and method of using the same

Номер патента: US20180361525A1. Автор: Hsun-Chung KUANG,Tung-He Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-12-20.

Method of manufacturing semiconductor device using single slurry chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20230215926A1. Автор: SEUNGJAE LEE,Ilyoung Yoon,JaEung Koo,Boun Yoon,Joongsuk Oh,Kangchun LEE,Junhwan Yim,Huiteak Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

High Oxide Removal Rates Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Planarization Compositions

Номер патента: US20240297049A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-05.

High oxide film removal rate shallow trench (STI) chemical mechanical planarization (CMP) polishing

Номер патента: US12091581B2. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Mark Leonard O'Neill,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-17.

Method and apparatus for in-situ monitoring of chemical mechanical planarization (cmp) processes

Номер патента: EP4355528A2. Автор: Daniel Ray TROJAN,Jessica BRINDLEY. Владелец: AXUS Tech LLC. Дата публикации: 2024-04-24.

Pad-in-a-bottle (pib) technology for copper and through-silicon via (tsv) chemical-mechanical planarization (cmp)

Номер патента: US20230287242A1. Автор: Xiaobo Shi,Ara Philipossian,Mark O'Neill,Yasa Sampurno,John Langan. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-09-14.

Membrane coating compound for chemical mechanical polishing process, membrane including the same, and polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240189960A1. Автор: Sangkyun Kim,Yearin BYUN,Inkwon KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-13.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US20020100895A1. Автор: Ting-Chang Chang,Cheng-Jer Yang,Huang-Chung Cheng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-08-01.

Tungsten chemical mechanical polishing slurries

Номер патента: EP4441158A1. Автор: Bradley Brennan,Agnes Derecskei,Matthias Stender. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-10-09.

Abrasive particles for mechanical polishing

Номер патента: RU2356926C2. Автор: Цзя-Ни ЧУ,Джеймс Нил ПРАЙОР. Владелец: У.Р. Грэйс Энд Ко.-Конн.. Дата публикации: 2009-05-27.

Polishing devices for chemical mechanical polishing devices and their chemical mechanical polishing devices

Номер патента: KR100308138B1. Автор: 사토시 무라카미,노부히로 가토,도모하루 와타나베. Владелец: 니시무로 타이죠. Дата публикации: 2002-04-24.

Chemical mechanical polishing system and method for planarizing substrates in fabricating semiconductor devices

Номер патента: US20040092112A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Teng-Chun Tsai,Shao-Chung Hu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2004-05-13.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20200354609A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-11-12.

Fabrication of a Polishing Pad for Chemical Mechanical Polishing

Номер патента: US20230347471A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Ming-Shiuan She,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and cmp pads made therewith

Номер патента: US20180148537A1. Автор: Michael E. Mills,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-05-31.

Chemical mechanical polishing composition for polishing sapphire surface and methods of using same

Номер патента: RU2661219C2. Автор: Аллен С. БЬЮЛИК,Хидеаки НИСИЗАВА,Казуки МОРИЯМА,Коити ЙОСИДА,Сундзи ЕЗАВА,Селванатхан АРУМУГАМ. Владелец: РОМ ЭНД ХААС ЭЛЕКТРОНИК МАТИРИАЛЗ СиЭмПи ХОЛДИНГЗ, ИНК.. Дата публикации: 2018-07-13.

Semiconductor Chemical Mechanical Polishing Sludge Recycling Method

Номер патента: US20240316608A1. Автор: Shao-Hua Hu,Hsin-Hui Chou,Ya-Min Hsieh,Wen-Ming Cheng,Hsing-Wen HSIEH,Chin-An KUAN. Владелец: Transcene Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Chemical mechanical polishing pad and preparation thereof

Номер патента: US20230112228A1. Автор: Bainian Qian,Michael E. Mills,Lyla M. El-Sayed,Bradley K. Taylor,Robert M. Blomquist,Kancharla-Arun REDDY,Shijing Xia. Владелец: DuPont Electronics Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Method and apparatus for recovery of water and slurry abrasives used for chemical and mechanical planarization

Номер патента: US5928492A. Автор: Glenn A. Roberson, Jr.,Gary L. Corlett. Владелец: Lucid Treatment Systems Inc. Дата публикации: 1999-07-27.

Suspension for chemical mechanical planarization (cmp) and method employing the same

Номер патента: EP4314179A1. Автор: Sridevi R. ALETY,Mark CYFFKA,Niraj Mahadev. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-02-07.

Recycle method and device for recycle of waste water containing suspension from semiconductor processing process, in particular, chemical-mechanical finishing

Номер патента: RU2520474C2. Автор: Франц БРУММЕР. Владелец: Хигхк-Фэктори Гмбх. Дата публикации: 2014-06-27.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: WO2000028586A3. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-10-12.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: US20010016469A1. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-23.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: US6276996B1. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-08-21.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: WO2000028586A2. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2000-05-18.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: US6676484B2. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-01-13.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: EP1138069A2. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-10-04.

Erosion inhibitor for chemical mechanical polishing, slurry for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: WO2012161202A1. Автор: 穣 竹越,加藤　充,知大 岡本,晋哉 加藤. Владелец: 株式会社クラレ. Дата публикации: 2012-11-29.

Composition for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and method for manufacturing particles for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2021124771A1. Автор: 達也 山中,鵬宇 王,康二 中西. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2021-06-24.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1962334A4. Автор: Norihiko Ikeda,Tomikazu Ueno. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-11-17.

Erosion inhibitor for chemical mechanical polishing, slurrry for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: IL229522A0. Автор: . Владелец: Kuraray Co. Дата публикации: 2014-01-30.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR101276026B1. Автор: 노리히꼬 이께다,도미까즈 우에노. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2013-06-19.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1962334A1. Автор: Norihiko Ikeda,Tomikazu Ueno. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-08-27.

Polyurethane, composition for formation of polishing layers that contains same, pad for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method using same

Номер патента: WO2010146982A1. Автор: 岡本　隆浩,力丸 桑原. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2010-12-23.

Polyurethane, composition for formation of polishing layers that contains same, pad for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method using same

Номер патента: KR20120039523A. Автор: 다카히로 오카모토,리키마루 구와바라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2012-04-25.

Polyurethane, composition for formation of polishing layers that contains same, pad for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method using same

Номер патента: EP2444433A1. Автор: Takahiro Okamoto,Rikimaru Kuwabara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-04-25.

Slurry for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: WO2013180079A1. Автор: 加藤　充,知大 岡本,晋哉 加藤. Владелец: 株式会社クラレ. Дата публикации: 2013-12-05.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: US20090221213A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Tomohisa Konno,Masayuki Motonari,Yuuji Namie. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-09-03.

Slurry for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: EP2858097A4. Автор: Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-06.

Slurry for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US9437446B2. Автор: Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-06.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: WO2008044477A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Tomohisa Konno,Masayuki Motonari,Yuuji Namie. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2008-04-17.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, production method thereof, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20090325323A1. Автор: Norihiko Ikeda,Tomikazu Ueno,Mitsuru Meno. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-12-31.

Chemical mechanical polishing method for first interlayer dielectric layer

Номер патента: US09490175B2. Автор: Ji Cheng,Jian Zhao. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Method for improving Uniformity of Chemical-Mechanical Planarization Process

Номер патента: US20130273669A1. Автор: Tao Yang,Chao Zhao,Junfeng Li. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2013-10-17.

Polishing slurry and method for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US20020098700A1. Автор: James Alwan,Craig Carpenter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US7138654B2. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2006-11-21.

Method for chemical mechanical polishing of semiconductor device

Номер патента: KR100732308B1. Автор: 권판기,이상익. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-06-25.

Mechanisms for forming oxide layer over exposed polysilicon during a chemical mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US09711374B2. Автор: William Weilun HONG,Ying-Tsung Chen,Chih-Yu Chang,Che-Hao Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Chemical mechanical polishing cleaning system with temperature control for defect reduction

Номер патента: US20230326736A1. Автор: Kei-Wei Chen,Gin-Chen Huang,Ying-Tsung Chen,Ya-Ting Tsai,Ssutzu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US20050142877A1. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2005-06-30.

Surface conversion in chemical mechanical polishing

Номер патента: US11804378B2. Автор: Chih-Chao Yang,Cornelius Brown Peethala,Donald F Canaperi,Raghuveer R Patlolla,Mary Breton. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-10-31.

Method for chemical-mechanical jet etching of semiconductor structures

Номер патента: US7037854B2. Автор: Robert Z. Bachrach,Jeffrey D. Chinn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-05-02.

Method and slurry for tuning low-k versus copper removal rates during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1936674A3. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Rachel Dianne Mcconnell,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2010-04-28.

Module for chemically processing a substrate

Номер патента: US11938522B2. Автор: Andreas GLEISSNER,Herbert Ötzlinger,Oliver Knoll,Raoul Schröder. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2024-03-26.

Module For Chemically Processing a Substrate

Номер патента: MY195775A. Автор: Andreas GLEISSNER,Herbert Ötzlinger,Oliver Knoll,Raoul Schröder. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2023-02-13.

Module for chemically processing a substrate

Номер патента: US20230226578A1. Автор: Andreas GLEISSNER,Herbert Ötzlinger,Oliver Knoll,Raoul Schröder. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2023-07-20.

Substrate locking system for chemical and/or electrolytic surface treatment

Номер патента: GB2564896A. Автор: GLEISSNER Andreas,Ötzlinger Herbert,Wimsberger Thomas. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2019-01-30.

Substrate locking system, device and procedure for chemical and/or electrolytic surface treatment

Номер патента: US20190032234A1. Автор: Andreas GLEISSNER,Herbert Ötzlinger,Thomas Wimsberger. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2019-01-31.

Substrate locking system, device and procedure for chemical and/or electrolytic surface treatment

Номер патента: US20210017662A1. Автор: Andreas GLEISSNER,Herbert Ötzlinger,Thomas WIRNSBERGER. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2021-01-21.

Substrate locking system, device and procedure for chemical and/or electrolytic surface treatment

Номер патента: US11136687B2. Автор: Andreas GLEISSNER,Herbert Ötzlinger,Thomas Wimsberger. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2021-10-05.

Pad-in-a-bottle and single platen chemical mechanical-planarization for back-end applications

Номер патента: EP4430655A1. Автор: Xiaobo Shi,Mark Leonard O'Neill,Robert Vacassy,John G. LANGAN,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,James A. Schlueter. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-18.

Cleaner for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240208005A1. Автор: Jongsu Kim,Sungyong PARK,Hoseop Choi,Jubong LEE,Hyunjoon Park,Bongki PARK,Eunsun PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-27.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for preparing the aqueous dispersion, chemical mechanical polishing process, and process for producing semiconductor devices

Номер патента: US20070049180A1. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Nobuyuki Kurashima,Susumu Yamamoto,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Masayuki Hattori. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-03-01.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for preparing the aqueous dispersion for a chemical mechanical polishing process, and process for producing semiconductor devices

Номер патента: EP1757665B8. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Nobuyuki Kurashima,Susumu Yamamoto,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Masayuki Hattori. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-04-11.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polish, kit for formulating the aqueous dispersion, chemical mechanical polishing method and method for producing semiconductor device

Номер патента: TW200714697A. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Nobuyuki Kurashima,Susumu Yamamoto,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Masayuki Hattori. Владелец: Toshiba Kk. Дата публикации: 2007-04-16.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for preparing the aqueous dispersion for a chemical mechanical polishing process, and process for producing semiconductor devices

Номер патента: EP1757665B1. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Nobuyuki Kurashima,Susumu Yamamoto,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Masayuki Hattori. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-02-22.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for preparing the aqueous dispersion for a chemical mechanical polishing process, and process for producing semiconductor devices

Номер патента: EP1757665A1. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Nobuyuki Kurashima,Susumu Yamamoto,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Masayuki Hattori. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-02-28.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, kit for chemical mechanical polishing, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20090124172A1. Автор: Dai Fukushima,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Yuuichi Hashiguchi,Gaku Minamihara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-05-14.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, kit for chemical mechanical polishing, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP2006890A4. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Yuuichi Hashiguchi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-02-16.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, kit for chemical mechanical polishing, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR101330960B1. Автор: 히로유끼 야노,가꾸 미나미하바,가즈히또 우찌꾸라,히로따까 시다,유우이찌 하시구찌,다이 후꾸시마,요시꾸니 다떼야마. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2013-11-18.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, kit for chemical mechanical polishing, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20110250756A1. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Yuuichi Hashiguchi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-10-13.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, kit for chemical mechanical polishing, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW200801168A. Автор: Yano Hiroyuki,Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,TATEYAMA Yoshikuni,Yuuichi Hashiguchi. Владелец: Toshiba Kk. Дата публикации: 2008-01-01.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, kit for chemical mechanical polishing, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP2006890A2. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Yuuichi Hashiguchi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-12-24.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, kit for chemical mechanical polishing, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP2006890A9. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Yuuichi Hashiguchi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-07-22.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20090302266A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Masatoshi Ikeda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-12-10.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR101406642B1. Автор: 히로따까 시다,아끼히로 다께무라,마사또시 이께다. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-06-11.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP2006891A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Masatoshi Ikeda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-12-24.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP2006891A4. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Masatoshi Ikeda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-02-23.

TREATMENT COMPOSITION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD, AND CLEANING METHOD

Номер патента: US20180111248A1. Автор: Yamanaka Tatsuya,MITSUMOTO Kiyotaka,KAWAMOTO Tatsuyoshi,ARAKAWA Megumi,KUNITANI Eiichirou,IIDA Masashi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2018-04-26.

Treatment composition for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and cleaning method

Номер патента: WO2016170942A1. Автор: 英一郎 國谷,達也 山中,達慶 河本,清孝 三ツ元,愛 荒川,雅史 飯田. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2016-10-27.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing inorganic particles and polymer particles

Номер патента: RU2579597C2. Автор: Южуо ЛИ,Виджай Иммануэль РАМАН,Михаэль ЛАУТЕР,Шиям Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Даниэль Кво-Хунг ШЕН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-04-10.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates having polysilicon and silicon oxide dielectric films

Номер патента: RU2573672C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Вей Лан Уиллиам ЧИУ,Харви Уэйн ПИНДЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-01-27.

Composition for chemical-mechanical polishing containing polyvinyl phosphon acid and derivatives thereof

Номер патента: RU2598046C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН,Виджай Иммануил РАМАН,Южио ЛИ,Кристиан ШАДЕ,Исон Ю-Шен СУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-09-20.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing protein

Номер патента: RU2631875C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Михаэль ЛАУТЕР,Роланд ЛАНГЕ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-09-28.

Stabilized Chemical Mechanical Polishing Composition And Method Of Polishing A Substrate

Номер патента: US20110306211A1. Автор: Yi Guo,Zhendong Liu,Kancharla-Arun Kumar Reddy,Guangyun Zhang. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, containing film based on silicon oxide dielectric and based on polycrystalline silicon

Номер патента: RU2588620C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Исон Юй-Шен СУ,Аренд Йоукэ КИНГМА,Бастиан Мартен НОЛЛЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US20230416570A1. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Chemical mechanical planarization topography control via implant

Номер патента: US09401285B2. Автор: Andrew Carswell,Lequn Liu,Tony M. Lindenberg,Kyle Ritter,Mark Morley. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2016-07-26.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09586305B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Chemical mechanical polishing slurry composition for polishing boron silicon compound, chemical mechanical polishing method and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230123263A1. Автор: Ungyu Paik,Hyun Goo Kang,Dong Hyeok Kim,Cheolmin SHIN,Taeseup SONG,Jong Young Cho. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2023-04-20.

Chemical mechanical polishing slurry composition for polishing multiple films and polishing method using the same

Номер патента: US20210009859A1. Автор: Jae Ik Lee,Jae Woo Lee,Ji Hye Kim,Bo Hyeok Choi. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Use of stop layer for chemical mechanical polishing of CU damascene

Номер патента: US6051496A. Автор: Syun-Ming Jang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-04-18.

Silicon nitride chemical mechanical polishing slurry with silicon nitride removal rate enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US20220315800A1. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Water polishing composition and method of chemical-mechanical polishing of substrate materials for electric, mechanical and optical devices

Номер патента: RU2577281C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Харви Уэйн ПИНДЕР,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-03-10.

Chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230352310A1. Автор: Sang Kyun Kim,Hyo San LEE,In Kwon Kim,Yearin BYUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-02.

Dummy metal gate structures to reduce dishing during chemical-mechanical polishing

Номер патента: US09601489B2. Автор: Chan-Hong Chern,Chih-Chang Lin,Jacklyn CHANG,Julie Tran. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20240087907A1. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US12100598B2. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Chemical mechanical polishing slurry composition and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240318040A1. Автор: Seungho Park,Sanghyun Park,Boyun KIM,Yearin BYUN,Jeongwon Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Planarization of a polysilicon layer surface by chemical mechanical polish to improve lithography and silicide formation

Номер патента: US6548336B2. Автор: Steven C. Avanzino,Steven K. Park. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-04-15.

Planarization of a polysilicon layer surface by chemical mechanical polish to improve lithography and silicide formation

Номер патента: US20020072219A1. Автор: Steven Avanzino,Stephen Park. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2002-06-13.

Silicon nitride chemical mechanical polishing slurry with silicon nitride removal rate enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US11999877B2. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Chemical mechanical polishing process for forming shallow trench isolation structure

Номер патента: US20080029478A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Hsiao-Ling Lu,Chia-Jung Hsu,Art Yu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-02-07.

Phosphonium Based Polymers And Copolymers As Additives For Chemical Mechanical Planarization Slurries

Номер патента: US20240261931A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Stender,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-08.

Chemical mechanical polishing composition

Номер патента: US11993729B2. Автор: Yongqing Lan,Sheik Ansar Usman Ibrahim,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Te Yu Wei,Christian Daeschlein,Reza M Golzarian. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-05-28.

Alignment method for used in chemical mechanical polishing process

Номер патента: US5933744A. Автор: Tsu Shih,Chung-Long Chang,Jeng-Horng Chen,Jui-Yu Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1999-08-03.

Chemical-mechanical polishing for shallow trench isolation

Номер патента: US5958795A. Автор: Juan-Yuan Wu,Water Lur,Coming Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-09-28.

Tri azole- and/or tri azoli um-based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: WO2023056324A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Matthias Stender,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-04-06.

Electrochemical-mechanical polishing composition and method for using the same

Номер патента: WO2005118736A1. Автор: Jian Zhang,David Schroeder,Vlasta Brusic,Michael Richardson. Владелец: Cabot Microelectronics Corporation. Дата публикации: 2005-12-15.

Methods for chemically etching a target layer

Номер патента: US20240363358A1. Автор: Timothee Blanquart,Charles DEZELAH,René Henricus Jozef Vervuurt. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-31.

Method for chemically adhering a diene rubber to a piezoelectric polymer

Номер патента: US20220403143A1. Автор: Anke Blume,Louis Reuvekamp,Carmela MANGONE,Michel KLEIN GUNNEWIEK,Wisut KAEWSAKUL. Владелец: Apollo Tyres Global R&D BV. Дата публикации: 2022-12-22.

Chemical mechanical planarization using amino-polyorganosiloxane-coated abrasives

Номер патента: WO2023178286A1. Автор: Gerhard Jonschker,Matthias Stender,René LUTZ. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-09-21.

Chemical mechanical planarization polishing for shallow trench isolation

Номер патента: EP4413088A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-14.

Pad-ln-a-bottle chemical mechanical planarization polishing with cost-effective non-porous solid polishing pads

Номер патента: EP4430134A1. Автор: Xiaobo Shi,Mark Leonard O'Neill,Robert Vacassy,John G. LANGAN,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,James A. Schlueter. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-18.

Stable chemical mechanical planarization polishing compositions and methods for high rate silicon oxide removal

Номер патента: WO2023178003A1. Автор: LU Gan,Maitland GRAHAM,Ramon BERNASCONI,Maxwell WARNEKE. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-09-21.

Methods for reducing scratch defects in chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230377898A1. Автор: William Weilun HONG,Ying-Tsung Chen,Wan-Chun Pan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Tungsten chemical mechanical polishing method using fixed polishing pad and tungsten layer chemical mechanical polishing solution for chemical mechanical polishing using fixed polishing pad

Номер патента: JP4010112B2. Автор: ダイネッシュ チョップラ，,スコット， ジー． メイクル，. Владелец: マイクロン テクノロジー， インク．. Дата публикации: 2007-11-21.

Tungsten chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a tungsten layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: US6273786B1. Автор: Dinesh Chopra,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-08-14.

Tungsten chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a tungsten layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: US6206756B1. Автор: Dinesh Chopra,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-03-27.

Tungsten chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a tungsten layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: WO2000028585A1. Автор: Dinesh Chopra,Scott G. Meikle. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2000-05-18.

Tungsten chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a tungsten layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: KR100443458B1. Автор: 디네쉬 코프라,스코트지. 메이클. Владелец: 미크론 테크놀로지,인코포레이티드. Дата публикации: 2004-08-09.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method using the same, and method for regenerating aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW200938604A. Автор: Kazuo Nishimoto,Tomotaka Shinoda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-09-16.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method using same, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2011093195A1. Автор: 和男 西元,太一 阿部,達慶 河本,志保　浩司. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-08-04.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method using same, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW201139633A. Автор: Kazuo Nishimoto,Hiroshi Shiho,Taichi Abe,Tatsuyoshi Kawamoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-11-16.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12098301B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

PROCESS FOR MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-x Gex MATERIAL IN PRESENCE OF CMP (CHEMICAL MECHANICAL POLISHING) COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND

Номер патента: RU2605941C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Беттина ДРЕШЕР,Кристоф ЖИЛЛО. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-12-27.

Polishing etchant composition for chemical-mechanical polishing of cadmium-zinc telluride

Номер патента: RU2627711C1. Автор: Алексей Сергеевич Кашуба,Медина Рефатовна Лакманова,Анна Владимировна Погожева. Владелец: Акционерное общество "НПО "Орион". Дата публикации: 2017-08-10.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C9. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-03-16.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C2. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-02-02.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing non-ionic surfactant and aromatic compound containing acid group

Номер патента: RU2636511C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-11-23.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US20240002698A1. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-01-04.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US11725117B2. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2023-08-15.

Cerium oxide particles, chemical mechanical polishing slurry composition comprising same, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230348753A1. Автор: Jeong Ho Lee,Seok Joo Kim. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Slurry for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20040021125A1. Автор: Yasuaki Tsuchiya,Shin Sakurai,Kenichi Aoyagi,Toshiji Taiji,Tomoyuki Ito. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-02-05.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: WO2024081201A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-18.

Economical and environmentally friendly chemical mechanical polishing for III-V compound semiconductor device fabrication

Номер патента: US09601482B1. Автор: Alexander Reznicek,Devendra K. Sadana,Keith E. Fogel,Charan V. Surisetty. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Chemical-mechanical polishing (cmp) composition comprising benzotriazole derivatives as corrosion inhibitors

Номер патента: RU2669598C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Мартин КАЛЛЕР,Михаэль ЛАУТЕР,Андреас КЛИПП. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-10-12.

Chemical mechanical polishing composition containing composite silica particles, method of making the silica composite particles and method of polishing a substrate

Номер патента: US11718769B2. Автор: Yi Guo. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-08-08.

Chemical-mechanical polishing compositions comprising one or more polymers selected from the group consisting of n-vinyl-homopolymers and n-vinyl copolymers

Номер патента: MY177867A. Автор: Yongqing Lan,Peter Przybylski,Zhenyu Bao,Julian Prol?. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2020-09-23.

Chemical-mechanical polishing composition and method for using the same

Номер патента: IL176669A0. Автор: . Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-10-31.

Chemical mechanical polishing solution

Номер патента: US11746257B2. Автор: JIAN Ma,Kai Song,Ying Yao,Jianfen JING,Xinyuan CAI,Guohao WANG,Junya YANG,Pengcheng BIAN. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: US20240117220A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Removal of defects by in-situ etching during chemical-mechanical polishing processing

Номер патента: EP4235751A2. Автор: Scott B. Singer,Joseph C. Boisvert,Daniel C. Law,Christopher M. Fetzer. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-08-30.

Removal of defects by in-situ etching during chemical-mechanical polishing processing

Номер патента: EP4235751A3. Автор: Scott B. Singer,Joseph C. Boisvert,Daniel C. Law,Christopher M. Fetzer. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-11-15.

Tri azole- and/or tri azoli um-based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: EP4408944A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Matthias Stender,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-07.

Cerium oxide chemical mechanical polishing slurry composition that enhanced polishing non-uniformity

Номер патента: KR20060123878A. Автор: 박종대,공현구,이봉상,손정현. Владелец: 주식회사 동진쎄미켐. Дата публикации: 2006-12-05.

Composition for post chemical-mechanical-polishing cleaning

Номер патента: WO2017108748A2. Автор: Andreas Klipp,Peter Przybylski,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Te Yu Wei,Christian DÄSCHLEIN,Roelf-Peter BAUMANN. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-06-29.

Chemical mechanical planarization slurry and method of polishing a substrate

Номер патента: WO2023240260A1. Автор: Lin Fu,Renjie Zhou,Stephen BOTTIGLIERI,Chun-Lung Kuan. Владелец: SAINT-GOBAIN CERAMICS & PLASTICS, INC.. Дата публикации: 2023-12-14.

Chemical mechanical planarization slurry and method of polishing a substrate

Номер патента: US20230399543A1. Автор: Lin Fu,Renjie Zhou,Stephen BOTTIGLIERI,Chun-Lung Kuan. Владелец: Saint Gobain Ceramics and Plastics Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Distribution system for chemical and/or electrolytic surface treatment

Номер патента: GB2564895A. Автор: GLEISSNER Andreas,Ötzlinger Herbert,Markut Franz. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2019-01-30.

Multilayer pattern transfer for chemical guides

Номер патента: US09478506B2. Автор: Sudharshanan RAGHUNATHAN,Gerard M. Schmid,Richard A. Farrell. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Composition for selective etch for chemical process of thinning of silicon plates

Номер патента: RU2615596C2. Автор: Владимир Григорьевич Коссов,Леонид Владимирович Горохов,Константин Ильич Серушкин. Владелец: Открытое акционерное общество "Центральный научно-исследовательский институт "Электрон". Дата публикации: 2017-04-05.

Patterning method of lift-off using mechanical polishing

Номер патента: KR101814277B1. Автор: 이진균,손종찬. Владелец: 인하대학교 산학협력단. Дата публикации: 2018-01-02.

Carbon and boron implantation for backside chemical mechanical planarization control

Номер патента: US20240266175A1. Автор: Yan Zhang,Jae Young Lee,Naushad Variam,Johannes M. van Meer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Tungsten chemical mechanical planarization (CMP) with low dishing and low erosion topography

Номер патента: US11884859B2. Автор: Agnes Derecskei,Matthias Stender,Bradley J. Brennan. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-01-30.

Chemical Mechanical Planarization (CMP) For Copper And Through-Silicon Via (TSV)

Номер патента: US20240006189A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Rung-Je Yang,Robert Vacassy,Keh-Yeuan LI,Ming Shih Tsai. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-01-04.

Chemical mechanical planarization (cmp) for copper and through-silicon via (tsv)

Номер патента: EP4259736A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Rung-Je Yang,Robert Vacassy,Keh-Yeuan LI,Ming Shih Tsai. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-10-18.

Apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240363447A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Chen-Hao WU,Shich-Chang Suen,Te-Chien Hou,Jeng-Chi Lin,Chen-Chi Tang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Formulations for chemical mechanical polishing pads with high planarization efficiency and CMP pads made therewith

Номер патента: US12064845B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

TREATMENT COMPOSITION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD, AND CLEANING METHOD

Номер патента: US20180086943A1. Автор: NISHIGUCHI Naoki,MITSUBOSHI Ran,MITSUMOTO Kiyotaka,IIDA Masashi,HAYAMA Takahiro,Kamo Satoshi,KAMEI Yasutaka. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2018-03-29.

Mass spectrometer for chemical ionization, electron impact ionization and mass spectrometry/mass spectrometry operation

Номер патента: US4377745A. Автор: Cherng Chang. Владелец: Individual. Дата публикации: 1983-03-22.

Method of chemical-mechanical polishing of thick layers of cobalt-containing alloys

Номер патента: RU2687649C2. Автор: Валентина Александровна Гайдедей. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "КРОКУС НАНОЭЛЕКТРОНИКА". Дата публикации: 2019-05-15.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, having structured or unstructured dielectric layers with low dielectric constant

Номер патента: RU2589482C2. Автор: Виджай Иммануэль РАМАН,Франк РИТТИГ,Юйчжо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Process for chemical-mechanical polishing of iii-v semiconductor materials

Номер патента: CA1044580A. Автор: Robert J. Walsh. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1978-12-19.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TWI634956B. Автор: 陳輝. Владелец: 應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2018-09-11.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW201501820A. Автор: Hui Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-01-16.

Methods for forming interconnections between top electrodes in memory cells by a two-step chemical-mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US09443763B2. Автор: Samuele Sciarrillo. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Chemical mechanical polishing for hybrid bonding

Номер патента: US20230268308A1. Автор: Chandrasekhar MANDALAPU,Cyprian Emeka Uzoh,Jeremy Alfred Theil,Gaius Gillman Fountain, Jr.. Владелец: Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20070072407A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-03-29.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US7781281B2. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-08-24.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20100124817A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-05-20.

Composition for post chemical-mechanical-polishing cleaning

Номер патента: WO2017211653A1. Автор: Andreas Klipp,Peter Przybylski,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Christian Daeschlein,Ivan GARCIA ROMERO. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-12-14.

Processing system and method for chemically treating a substrate

Номер патента: EP1604388A2. Автор: Thomas Hamelin,Jay Wallace,Arthur H. Laflamme, Jr.. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-12-14.

Raw material for chemical deposition containing organoruthenium compound, and chemical deposition method for ruthenium thin film or ruthenium compound thin film

Номер патента: US20240060176A1. Автор: Hirofumi Nakagawa,Yuki Mori,Kazuharu Suzuki,Shunichi Nabeya,Subhabrata Das. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2024-02-22.

Photodefinable alignment layer for chemical assisted patterning

Номер патента: EP3238234A1. Автор: Todd R. Younkin,James M. Blackwell,Robert L. Bristol,Marie KRYSAK,Rami HOURANI,Eungnak Han,Michael J. Leeson,Ernisse S. Putna. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-11-01.

Device for chemical separation of semiconductor plates to crystals

Номер патента: RU2664882C1. Автор: Николай Алексеевич Дюжев,Евгений Эдуардович Гусев. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники". Дата публикации: 2018-08-23.

Method and apparatus for chemical vapour deposition

Номер патента: US11970765B2. Автор: Henrik Pedersen,Hama NADHOM. Владелец: Ionautics AB. Дата публикации: 2024-04-30.

Modified water-soluble polysaccharides having different cation types for slurries in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024073209A1. Автор: Xiaobo Shi,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI,Sana MA. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-04-04.

Electrostatic suction cup device for wafer chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240286244A1. Автор: Yao-Sung Wei. Владелец: Shoxproof Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

External heating system for use in chemical mechanical polishing system

Номер патента: US11633829B2. Автор: Chun-Wei Hsu,Chi-hsiang Shen,Chi-Jen Liu,Yi-Sheng Lin,Yang-chun Cheng,Kei-Wei Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-25.

External heating system for use in chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230294237A1. Автор: Chun-Wei Hsu,Chi-hsiang Shen,Chi-Jen Liu,Yi-Sheng Lin,Yang-chun Cheng,Kei-Wei Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR20010096326A. Автор: 김석진,이길성,이재석,장두원. Владелец: 안복현. Дата публикации: 2001-11-07.

Chemical mechanical polishing of carbon hard mask

Номер патента: US20240194732A1. Автор: Sharath Hegde,Gary Ding,Matthew J. Prince,Walid M. Hafez,Inki Kim,Amitesh Shrivastava,Anurag A. Jain,Caitlin M. Kilroy. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Method for forming aluminum bumps by sputtering and chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020142604A1. Автор: Cheng-Wei Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2002-10-03.

METHOD OF FINISHING CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF InAs PLATES

Номер патента: RU2582904C1. Автор: Екатерина Алексеевна Ковалишина. Владелец: Открытое акционерное общество "Центральный научно-исследовательский институт "Электрон". Дата публикации: 2016-04-27.

Phosphonium based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: EP4352120A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Stender,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-04-17.

Mitigating damage from a chemical mechanical planarization process

Номер патента: US09437814B1. Автор: Steven Patrick MAXWELL,Sundar Narayanan,Natividad VASQUEZ, JR.,Harry Yue Gee,Majid Milani. Владелец: Crossbar Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Polycationic polymer or copolymer having different cation types for slurries in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2023201189A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-10-19.

Bottom Leads Chemical Mechanical Planarization for TMR Magnetic Sensors

Номер патента: US20210057638A1. Автор: Ming Jiang,Ronghui ZHOU,Yuankai Zheng,Ming Mao,Chih-Ching Hu,Yung-Hung Wang,Chen-Jung Chien. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2021-02-25.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and method for preparing the same, kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: WO2009031389A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Mitsuru Meno,Yuuji Shimoyama. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2009-03-12.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for preparing the aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and method of chemical mechanical polishing

Номер патента: KR101610976B1. Автор: 히로타카 시다,다카후미 시미즈,아츠시 바바,에이치로 구니타니. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2016-04-08.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for preparing the aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and method of chemical mechanical polishing

Номер патента: TW201000614A. Автор: Hirotaka Shida,Takafumi Shimizu,Eiichirou KUNITANI,Atsushi Baba. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-01-01.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and method for preparing the same, kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: US20100221918A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Mitsuru Meno,Yuuji Shimoyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-09-02.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for preparing the aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and method of chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2009133793A1. Автор: 裕貴 仕田,英一郎 國谷,崇文 清水,馬場　淳. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2009-11-05.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for preparing the dispersion, method for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing using the kit, and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: WO2009098951A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2009-08-13.

SLURRY FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD

Номер патента: US20150147884A1. Автор: Kato Shinya,KATO Mitsuru,OKAMOTO Chihiro. Владелец: KURARAY CO., LTD.. Дата публикации: 2015-05-28.

Process for chemical mechanical polishing of semiconductor substrate and aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1333476A2. Автор: Masayuki Hattori,Tomohisa Konno,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2003-08-06.

Process for chemical mechanical polishing of semiconductor substrate and aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1333476A3. Автор: Masayuki Hattori,Tomohisa Konno,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-10-19.

Process for chemical mechanical polishing of semiconductor substrate and aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: US7183211B2. Автор: Masayuki Hattori,Tomohisa Konno,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-02-27.

Method of chemical mechanical polishing aluminum containing metal layers and slurry for chemical mechanical polishing

Номер патента: US5209816A. Автор: Chris C. Yu,Trung T. Doan,Alan E. Laulusa. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1993-05-11.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: EP2131389A1. Автор: Taichi Matsumoto,Tomikazu Ueno,Michiaki Andou. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-12-09.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: WO2009098924A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Kazuhito Uchikura,Takafumi Shimizu,Masatoshi Ikeda,Shou Kubouchi,Yousuke Shibata. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2009-08-13.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: KR101563023B1. Автор: 히로타카 시다,다카후미 시미즈,마사토시 이케다,쇼 구보우치,요스케 시바타,미치아키 안도,가즈히토 우치쿠라,아키히로 다케무라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2015-10-23.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing

Номер патента: DE602005002409T2. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Norihiko Ikeda,Kazuo Nishimoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-06-12.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20110081780A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Kazuhito Uchikura,Michiaki Andou,Takafumi Shimizu,Masatoshi Ikeda,Shou Kubouchi,Yousuke Shibata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-04-07.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US8506359B2. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Kazuhito Uchikura,Takafumi Shimizu,Masatoshi Ikeda,Shou Kubouchi,Yousuke Shibata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-08-13.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: WO2009104517A1. Автор: 和一 内倉,裕貴 仕田,民智明 安藤,彰浩 竹村,正俊 池田,翔 窪内,崇文 清水,陽介 柴田. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2009-08-27.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: TW200944583A. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Kazuhito Uchikura,Michiaki Andou,Takafumi Shimizu,Masatoshi Ikeda,Shou Kubouchi,Yousuke Shibata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-11-01.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20110059680A1. Автор: Masayuki Motonari,Takashi Matsuda,Tomikazu Ueno,Eiichirou KUNITANI,Takahiro Iijima. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-03-10.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: KR101431299B1. Автор: 미치아키 안도,도미카즈 우에노,다이치 마츠모토. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-08-20.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for their preparation and chemical-mechanical polishing process

Номер патента: DE602006002900D1. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Kazuhito Uchikura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-11-13.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: JP5403262B2. Автор: 富和 植野,民智明 安藤,太一 松本. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-29.

Process for chemical mechanical polishing of semiconductor substrate and aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030153183A1. Автор: Masayuki Hattori,Tomohisa Konno,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2003-08-14.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: WO2008117593A1. Автор: Taichi Matsumoto,Tomikazu Ueno,Michiaki Andou. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2008-10-02.

Fabrication of volcano-shaped field emitters by chemical-mechanical polishing (CMP)

Номер патента: US6008064A. Автор: Heinz H. Busta. Владелец: American Energy Services Inc. Дата публикации: 1999-12-28.

Melted electrolyte for chemical current source

Номер патента: RU2714512C1. Автор: Евгений Иванович Фролов,Иван Кириллович Гаркушин,Юрий Васильевич Мощенский,Вера Ивановна Сырова. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Самарский государственный технический университет". Дата публикации: 2020-02-18.

Fused electrolyte for chemical current source

Номер патента: RU2645763C1. Автор: Иван Кириллович Гаркушин,Екатерина Михайловна Дворянова,Анна Сергеевна Пронина,Василий Дмитриевич Николькин. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Самарский государственный технический университет". Дата публикации: 2018-02-28.

Composite carboniferous material for chemical current source and method of its obtaining

Номер патента: RU2554933C1. Автор: Валерий Борисович Дудаков,Андрей Валерьевич Чеглаков,Сергей Павлович Губин,Марк Михайлович Геллер,Павел Николаевич Чупров,Николай Иванович Чистяков,Екатерина Геннадьевна Рустамова,Денис Юрьевич Корнилов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "АкКо Лаб". Дата публикации: 2015-07-10.

Practical ion mobility spectrometer apparatus and methods for chemical and/or biological detection

Номер патента: EP2094375A2. Автор: Ching Wu. Владелец: Excellims Corp. Дата публикации: 2009-09-02.

Practical ion mobility spectrometer apparatus and methods for chemical and/or biological detection

Номер патента: US09523657B2. Автор: Ching Wu. Владелец: Excellims Corp. Дата публикации: 2016-12-20.

System for chemical vapor deposition at ambient temperature using electron cyclotron resonance and method for depositing metal composite film using the same

Номер патента: US20030000827A1. Автор: Byung-Won Cho,Joong-Kee Lee,Dal-Keun Park,Joo-Man Woo,Bup-Ju Jeon. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2003-01-02.

Method of manufacturing electrodes for chemical current sources

Номер патента: CA2202384C. Автор: Igor Nikolaevich Varakin,Alexei Borisovich Stepanov,Vladimir Vasilievich Menukhov. Владелец: Universal Resources AG. Дата публикации: 2005-11-01.

Method and device for chemical ionisation of samples

Номер патента: RU2696088C2. Автор: Стивен ТЭЙЛОР,Джонатан АТКИНСОН. Владелец: Смитс Детекшн-Уотфорд Лимитед. Дата публикации: 2019-07-31.

Method and apparatus for chemical analysis

Номер патента: GB2327804A. Автор: Stephen Paul Thompson,Victor Carl Parr. Владелец: Scientific Analysis Instruments Ltd. Дата публикации: 1999-02-03.

Method and Apparatus for Chemical Ionization of a Gas Mixture

Номер патента: US20180047550A1. Автор: Martin BREITENLECHNER,Armin Hansel. Владелец: UNIVERSITAET INNSBRUCK. Дата публикации: 2018-02-15.

Preparation set for chemical mechanical polishing aqueous dispersion, preparation method for chemical mechanical polishing aqueous dispersion, chemical mechanical polishing aqueous dispersion, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: TW200900491A. Автор: Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Eiichirou KUNITANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-01-01.

Aqueous polishing composition and process for chemically mechanically polishing substrates for electrical, mechanical and optical devices

Номер патента: RU2607214C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Харви Уэйн ПИНДЕР,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-01-10.

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SLURRY, METHOD FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR STRUCTURE

Номер патента: US20170338123A1. Автор: Huang Shu-Hao. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-23.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method using same

Номер патента: WO2011016323A1. Автор: 康孝 亀井,達慶 河本,馬場　淳,祐吾 田井. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-02-10.

Method for chemically adhering a diene rubber to a piezoelectric polymer

Номер патента: EP4031616A1. Автор: Anke Blume,Louis Reuvekamp,Carmela MANGONE,Michel KLEIN GUNNEWIEK,Wisut KAEWSAKUL. Владелец: Apollo Tyres Global R&D BV. Дата публикации: 2022-07-27.

Radio frequency driven reactors for chemical production

Номер патента: US20220387961A1. Автор: Benjamin A. Wilhite,Micah J. Green,Naveen K. Mishra,Nutan S. Patil. Владелец: TEXAS A&M UNIVERSITY SYSTEM. Дата публикации: 2022-12-08.

Magnetorheological-elastomer polishing pad for chemical mechanical polishing of semiconductor wafer, preparation method and application thereof

Номер патента: US12083647B1. Автор: Qiang XIONG,Da Hu,Jiabin LU,Haotian Long,Yuhang Jin. Владелец: GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-10.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing process, production process of semiconductor device and material for preparing an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: US7005382B2. Автор: Akihiro Takemura,Masayuki Hattori,Atsushi Shigeta,Nobuo Kawahashi,Kazuo Nishimoto,Naoto Miyashita,Tatsuaki Sakano,Yoshitaka Matsui,Kazuhiko Ida. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-02-28.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing process, production process of semiconductor device and material for preparing an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: TWI296282B. Автор: Akihiro Takemura,Masayuki Hattori,Atsushi Shigeta,Nobuo Kawahashi,Kazuo Nishimoto,Naoto Miyashita,Tatsuaki Sakano,Yoshitaka Matsui,Kazuhiko Ida. Владелец: Toshiba Kk. Дата публикации: 2008-05-01.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing process, production process of semiconductor device and material for preparing an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20040132305A1. Автор: Akihiro Takemura,Masayuki Hattori,Atsushi Shigeta,Nobuo Kawahashi,Kazuo Nishimoto,Naoto Miyashita,Tatsuaki Sakano,Yoshitaka Matsui,Kazuhiko Ida. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-07-08.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing process, production process of semiconductor device and material for preparing an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1416025A1. Автор: Akihiro Takemura,Masayuki Hattori,Atsushi Shigeta,Nobuo Kawahashi,Kazuo Nishimoto,Naoto Miyashita,Tatsuaki Sakano,Yoshitaka Matsui,Kazuhiko Ida. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-05-06.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method and the kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW200734435A. Автор: Masayuki Motonari,Eiichirou KUNITANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-09-16.

COMPOSITION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND METHOD FOR REDUCING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SURFACE DEFECTS

Номер патента: US20180016467A1. Автор: Yang Chi-Ming,YU AN-DIH. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-18.

Aqueous slurry composition for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: KR101202720B1. Автор: 신동목,최은미,조승범,하현철. Владелец: 주식회사 엘지화학. Дата публикации: 2012-11-19.

An aqueous slurry composition for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: WO2009107986A1. Автор: Seung-Beom Cho,Dong-Mok Shin,Eun-Mi Choi,Hyun-Chul Ha. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2009-09-03.

Aqueous slurry composition for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20100184291A1. Автор: Seung-Beom Cho,Dong-Mok Shin,Eun-Mi Choi,Hyun-Chul Ha. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2010-07-22.

Composition for chemical mechanical polishing and method for reducing chemical mechanical polishing surface defects

Номер патента: US10066127B2. Автор: Chi-Ming Yang,An-Dih Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-09-04.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: WO2007060869A1. Автор: Masayuki Motonari,Eiichirou KUNITANI. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2007-05-31.

An aqueous slurry composition for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: EP2247682A4. Автор: Seung-Beom Cho,Dong-Mok Shin,Eun-Mi Choi,Hyun-Chul Ha. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2012-03-14.

An aqueous slurry composition for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: EP2247682A1. Автор: Seung-Beom Cho,Dong-Mok Shin,Eun-Mi Choi,Hyun-Chul Ha. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2010-11-10.

Composite pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230339067A1. Автор: Zhan Liu,Michael E. Mills,Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230406984A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244740A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Method to shape the surface of chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09802293B1. Автор: Jeffrey James Hendron,Jeffrey Robert Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Method of manufacturing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09770808B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Method of forming a polyurea polyurethane elastomer containing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: WO2009051895A1. Автор: Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2009-04-23.

Method for producing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20090104856A1. Автор: Yukio Hosaka,Rikimaru Kuwabara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-23.

Method and apparatus for measuring substrate layer thickness during chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030104761A1. Автор: Boguslaw Swedek,Andreas Wiswesser,Walter Schoenleber. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-06-05.

Chemical-mechanical polishing subpad having porogens with polymeric shells

Номер патента: EP4267342A1. Автор: Chen-Chih Tsai,Dustin Miller,Paul Andre Lefevre,Aaron Peterson. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-01.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244739A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230405765A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Apertured conditioning brush for chemical mechanical planarization systems

Номер патента: WO2007047996A3. Автор: Stephen J Benner. Владелец: Tbw Ind Inc. Дата публикации: 2007-10-04.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: EP3793772A1. Автор: Rajesh Tiwari,Patrick Doering,Bruce Arrington,Conrad SURIAGA,Andrew Allan GALPIN. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2021-03-24.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: WO2019222302A1. Автор: Rajesh Tiwari,Patrick Doering,Bruce Arrington,Conrad SURIAGA,Andrew Allan GALPIN. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2019-11-21.

Multi-layered chemical-mechanical planarization pad

Номер патента: US09796063B2. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,John Erik Aldeborgh,Anoop Mathew,Scott Xin Qiao,Oscar K. Hsu,Marc C. Jin. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20030060140A1. Автор: David Carlson. Владелец: Carlson David W.. Дата публикации: 2003-03-27.

Process for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030064594A1. Автор: Alfred Kersch,Johannes Baumgartl,Stephanie Delage. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-04-03.

Active acoustic monitoring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20220281058A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,Nicholas A. Wiswell,Sohrab POURMAND. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-09-08.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240342855A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024215780A2. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-17.

System, control method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230390882A1. Автор: Kei-Wei Chen,Shich-Chang Suen,Te-Chien Hou,Wen-Pin Liao,Chen-Chi Tang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Retaining ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20050014452A1. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuus Inc. Дата публикации: 2005-01-20.

Retainiing ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: WO2005009679A2. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuu's Inc., Dba Kamet. Дата публикации: 2005-02-03.

End-point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: US20020061713A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-05-23.

Wafer carrier structure for chemical-mechanical polisher

Номер патента: US20020173253A1. Автор: Chi-Feng Cheng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Monitoring of polishing pad texture in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230321788A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Polishing pad including an acoustic window for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4366911A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian,Nicholas A. Wiswell,Jason Garcheung Fung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Controlled retention of slurry in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6019665A. Автор: Solomon I. Beilin,Michael G. Lee. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2000-02-01.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US6135868A. Автор: Madhavi Chandrachood,Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-24.

Valve for a slurry outlet opening of a chemical mechanical polishing device and chemical mechanical polishing device having a valve

Номер патента: US20030024582A1. Автор: Andreas Fischer,Stefan Geyer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-02-06.

Uv-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: EP4229104A1. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-08-23.

Valve for a slurry outlet opening of a chemical mechanical polishing device and chemical mechanical polishing device having a valve

Номер патента: US6854484B2. Автор: Andreas Fischer,Stefan Geyer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2005-02-15.

Slurry dispenser for chemical mechanical polishing (CMP) apparatus and method

Номер патента: US8277286B2. Автор: Huang Soon Kang,Zin-Chang Wei,Kun-Ku Hung,Chyi-Shyuan Chern. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-10-02.

Retaining ring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US8556684B2. Автор: William B. Sather,Adam W. Manzonie. Владелец: SPM Technology Inc. Дата публикации: 2013-10-15.

UV-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11807710B2. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-07.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: WO1999041038A1. Автор: Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom,Madhayi Chandrachood. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1999-08-19.

Polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus for polishing a workpiece, and method of polishing a workpiece using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US09821429B2. Автор: Kenya Ito,Shozo Takahashi,Yu Ishii,Mika Suzuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Slurry recycling for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220355441A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Chemical mechanical polishing pad with fluorinated polymer and multimodal groove pattern

Номер патента: US20240207998A1. Автор: Joseph So,Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Temperature control of chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2010126902A4. Автор: Thomas H. Osterheld,Stephen Jew,Kun Xu,Jimin Zhang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-03-31.

Broad spectrum, endpoint detection monophase olefin copolymer window with specific composition in multilayer chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09446497B2. Автор: David B. James,Marty W. Degroot,Mary A. Leugers,Angus Repper. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Polisher for chemical mechanical polishing process

Номер патента: KR20020053941A. Автор: 한동원. Владелец: 박종섭. Дата публикации: 2002-07-06.

Hot water generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4334083A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-13.

Detection method and detection apparatus for polishing pad of chemical mechanical polishing device

Номер патента: US20210146501A1. Автор: Hsien-Ming Lee,Chun-Chen Chen,Po-Ching Huang,Ching-Tang Hsueh. Владелец: Ta Liang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing of substrates

Номер патента: EP1307320A1. Автор: Jason Melvin,Hilario L. Oh,Nam P. Suh. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2003-05-07.

Slurry supply system disposed above the rotating platen of a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030139117A1. Автор: Jen-Chieh Tung,Kuan-Fu Chang,Sheng-Jan Chang,Yu-Wei Chih. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-24.

Chemical mechanical polishing conditioner with high quality abrasive particles

Номер патента: US09415481B2. Автор: Jui-Lin Chou. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2016-08-16.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US11344991B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-05-31.

Apparatus and method for chemically mechanically polishing

Номер патента: US20200306929A1. Автор: Bo-I Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11833637B2. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415297A1. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Methods of detecting non-conforming substrate processing events during chemical mechanical polishing

Номер патента: US12036635B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Jeonghoon Oh,Ashish BHUSHAN,John Anthony GARCIA,Stephen Thomas CORMIER,Nick Joseph JACKSON,Manoj BALAKUMAR,Nandkishore PATIDAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Chemical mechanical planarization pads with constant groove volume

Номер патента: US20240238937A1. Автор: Jaeseok Lee,Eric S. Moyer,Paul Andre Lefevre,Devin SCHMITT,Holland Hodges. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-07-18.

Chemical mechanical polishing apparatus with stable signals

Номер патента: US6568988B1. Автор: Chun-Chieh Lee,Hua-Jen Tseng,Dong-Tay Tsai,Yi-Hua Chin. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2003-05-27.

Chemical mechanical polishing apparatus and polishing method using the same

Номер патента: US09481069B2. Автор: Sheng-Chen Wang,Feng-Inn Wu,Yuan-Hsuan Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Chemical-mechanical polishing aid

Номер патента: GB9828786D0. Автор: . Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-02-17.

Low magnetic chemical mechanical polishing conditioner

Номер патента: US09475171B2. Автор: Tian-Yeu WU. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2016-10-25.

Chemical mechanical polishing pad with window

Номер патента: US09446498B1. Автор: Joseph So,Bainian Qian,Janet Tesfai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US6676717B1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-13.

Conditioning disks for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2017146678A1. Автор: Alexander Tregub,Kenneth A. DELBRIDGE,Andrew Paul MANSSON,Gunnmeet S. DHILLON,John E. GARLAND. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2017-08-31.

Carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6165058A. Автор: Hung Chen,Steven Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-12-26.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US20040014395A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-01-22.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240042574A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: WO2024049890A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11945073B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US20240075584A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Slurry recycling for chemical mechanical planarization system

Номер патента: US20230256563A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing and method of operation

Номер патента: WO2023229658A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-30.

System and method for chemical mechanical polishing pad replacement

Номер патента: US20230009839A1. Автор: Shih-Chung Chen,Ching-Wen Cheng,Chun Yan Chen,Wei-Kang TU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-01-12.

Chemical mechanical polishing apparatus using a magnetically coupled pad conditioning disk

Номер патента: US11766758B2. Автор: Wen-Pin HO,Ren-Hao JHENG,S. P. Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Controlling chemical mechanical polishing pad stiffness by adjusting wetting in the backing layer

Номер патента: WO2020176460A1. Автор: Kevin H. Song,Benedict W. Pang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-09-03.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230381917A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US20170197290A1. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-07-13.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20190358772A1. Автор: Yong-Hee Lee,Jong-hwi SEO,Seung-Chul Han,Hui-Gwan LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-11-28.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20020142711A1. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2002-10-03.

Apparatus and system of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020132567A1. Автор: Hai-Ching Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-19.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6761624B2. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2004-07-13.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US09737971B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Chemical mechanical polishing method, chemical mechanical polishing system, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20050197046A1. Автор: Hirofumi Tsuchiyama,Shinobu Nakamura,Masahiro Aoyagi,Aki Nakajo. Владелец: Trecenti Technologies Inc. Дата публикации: 2005-09-08.

Method and apparatus for using across wafer back pressure differentials to influence the performance of chemical mechanical polishing

Номер патента: US6531397B1. Автор: Ronald J. Nagahara,Dawn M. Lee. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2003-03-11.

Electrochemical mechanical polishing and planarization equipment for processing conductive wafer substrate

Номер патента: EP4364890A1. Автор: Donghui Wang,Yaomin Deng,Zhengting ZHU. Владелец: Hangzhou Sizone Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2024-05-08.

Chemical mechanical polishing slurry pump monitoring system and method

Номер патента: US20050101223A1. Автор: Daniel Caldwell,Thomas Kiez. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-12.

Chemical mechanical polishing apparatus and a method for planarizing/polishing a surface

Номер патента: US20070026769A1. Автор: Eugene Davis,Kyle Hunt,Daniel Caldwell. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2007-02-01.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: US20240174891A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-05-30.

Method and system for controlling the chemical mechanical polishing of substrates by calculating an overpolishing time and/or a polishing time of a final polishing step

Номер патента: US7268000B2. Автор: Gerd Marxsen,Dirk Wollstein,Jan Raebiger. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2007-09-11.

Chemical mechanical polishing apparatus for polishing workpiece

Номер патента: US20190262968A1. Автор: Hitoshi Morinaga,Kenya Ito,Hiroshi Asano,Kazusei Tamai,Yu Ishii,Shingo OHTSUKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-08-29.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: WO2024107316A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-05-23.

Chemical mechanical polishing pad with controlled polish rate

Номер патента: US6054017A. Автор: Bih-Tiao Lin,Fu-Liang Yang. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-04-25.

Chemical mechanical planarization pads with constant groove volume

Номер патента: US11938584B2. Автор: Jaeseok Lee,Eric S. Moyer,Paul Andre Lefevre,Devin SCHMITT,Holland Hodges. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-26.

Method of chemical mechanical polish operation and chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230256561A1. Автор: Yu-Chu Hsu,Chunhung Chen,Ren-Dou Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: US20240075582A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: WO2024049642A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20050095963A1. Автор: David Stark,Christopher Schutte. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-05.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240173815A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

A carrier head including a flexible membrane and a compliant backing member for a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: EP1045740A1. Автор: Steven M. Zuniga,Hung Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-25.

Customized polish pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20100273398A1. Автор: Pradip K. Roy,Sudhanshu Misra. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-10-28.

Chip customized polish pads for chemical mechanical planarization (cmp)

Номер патента: EP1610929A1. Автор: Pradip K. Roy. Владелец: Neopad Technologies Corp. Дата публикации: 2006-01-04.

Method of detecting end point and monitoring uniformity in chemical-mechanical polishing operation

Номер патента: US6153116A. Автор: Champion Yi,Ming-Cheng Yang,Cheng-Sung Huang,Feng-Yeu Shau. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-11-28.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240131655A1. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Single drive system for a bi-directional linear chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030022607A1. Автор: Douglas Young,Bernard Frey,Mark Henderson. Владелец: ASM Nutool Inc. Дата публикации: 2003-01-30.

Endpoint detection window, chemical mechanical polishing pad with window and preparation method thereof

Номер патента: US20240009797A1. Автор: Kai Chen,Lijun Yao,Jianguo SHI,Hongqi XIANG. Владелец: Inventech Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Method for chemical-mechanical finishing of surface

Номер патента: RU2290291C2. Автор: Марк Д. МИЧОД,Гари СРОКА,Лэйн Уилль м УИНКЕЛМАНН,Лэйн Уилльям УИНКЕЛМАНН. Владелец: Рем Текнолоджиз, Инк.. Дата публикации: 2006-12-27.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230182259A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Monitor chemical mechanical polishing process using machine learning based processing of heat images

Номер патента: EP4329981A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-06.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2022006012A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-01-06.

Chemical-mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6010395A. Автор: Hideharu Nakajima. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-01-04.

Retaining ring for holding semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20040261945A1. Автор: Wilfried Ensinger. Владелец: Ensinger Kunststofftechnologie GbR. Дата публикации: 2004-12-30.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415295A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Chemical mechanical polishing pad and polishing method

Номер патента: US11813713B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Chemical mechanical plishing pad with window

Номер патента: US20160263721A1. Автор: Joseph So,Bainian Qian,Janet Tesfai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-15.

Chemical mechanical polishing apparatus with integrated slurry mixer-dispenser and methods for operating the same

Номер патента: US20230373062A1. Автор: Yu-chen Wei,Feng-Inn Wu,You-Shiang Lin,Jiun Ru Huang,Jyun-Jie Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Chemical mechanical polishing apparatus using a magnetically coupled pad conditioning disk

Номер патента: US20230364731A1. Автор: Wen-Pin HO,Ren-Hao JHENG,S.P. Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4171872A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-05-03.

Method and apparatus for distributing fluid to a polishing surface during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2003002302A1. Автор: Robert A. Eaton. Владелец: Speedfam-Ipec Corporation. Дата публикации: 2003-01-09.

Chemical mechanical polishing optical endpoint detection

Номер патента: US20050075055A1. Автор: Brian ZINN,Barry Lanier. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-04-07.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024006213A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-04.

Chemical mechanical polishing machine and fabrication processes using the same.

Номер патента: GB2342605A. Автор: Juan-Yuan Wu,Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Daniel Chiu,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Kun-Lin Wu,Hao-Kuang Chiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-04-19.

Chemical-mechanical-polishing system with continuous filtration

Номер патента: US6244929B1. Автор: Daniel Thomas,Richard D. Russ. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2001-06-12.

Installation for improving chemical-mechanical polishing operation

Номер патента: US6062955A. Автор: Ying-Chih Liu. Владелец: Worldwide Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2000-05-16.

Retainer ring, chemical mechanical polishing apparatus, and substrate polishing method

Номер патента: US20240091902A1. Автор: Younghun Kim,Sangyun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Chemical mechanical planarization pads via vat-based production

Номер патента: US11845157B2. Автор: Lin Fu,Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer,Justin Stewart,Carlos Barros,William Michael SPITZIG. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-19.

Conditioner, chemical mechanical polishing apparatus including the same and method of manufacturing a semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US11964357B2. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-23.

Conditioner, chemical mechanical polishing apparatus including the same and method of manufacturing a semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US20200346317A1. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-11-05.

Wafer carrier assembly for a chemical mechanical polishing apparatus and a polishing method using the same

Номер патента: US20030234078A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Hsueh-Chung Chen,Shih-Hsun Hsu,Art Yu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2003-12-25.

Removal rate estimating method of a chemical mechanical polishing process under mixed products or mixed layers

Номер патента: US20070145010A1. Автор: Chih-Wei Lai,Ming-Wei Lee. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2007-06-28.

Chemical mechanical polishing

Номер патента: GB2345257A. Автор: Juan-Yuan Wu,Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Daniel Chiu,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Kun-Lin Wu,Hao-Kuang Chiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-07-05.

Retaining ring for use in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6821192B1. Автор: Timothy J. Donohue. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-11-23.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR100568031B1. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2006-04-05.

In-situ real-time monitoring technique and apparatus for endpoint detection of thin films during chemical/mechanical polishing planarization

Номер патента: US7024063B2. Автор: Wallace T. Y. Tang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-04-04.

Carrier head with layer of conformable material for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US6036587A. Автор: Robert D. Tolles,John Prince,Tsungan Cheng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-03-14.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR20050014350A. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2005-02-07.

Compliant inner ring for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230356354A1. Автор: Steven M. Zuniga,Satish Radhakrishnan,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Hari Prasath RAJENDRAN,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Eric L. Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Methods to clean chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US11850704B2. Автор: Kei-Wei Chen,Yen-Ting Chen,Chih-Chieh Chang,Hui-Chi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Compliant inner ring for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: WO2023214985A1. Автор: Steven M. Zuniga,Satish Radhakrishnan,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Hari Prasath RAJENDRAN,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Eric L. Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-09.

Method for analyzing effective polishing frequency and effective polishing times for chemical mechanical planarization polishing wafers with different polishing pad profiles

Номер патента: US20060240745A1. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2006-10-26.

Method for analyzing effective polishing frequency and effective polishing times for chemical mechanical planarization polishing wafers with different polishing pad profiles

Номер патента: US7299107B2. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2007-11-20.

Optical coupler hub for chemical-mechanical-planarization polishing pads with an integrated optical waveguide.

Номер патента: US20030190866A1. Автор: Stephan Wolf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-09.

Guanidinium-based polyionic liquids and their use as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: WO2024073211A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-04-04.

Systems and methods for mechanical polishing

Номер патента: WO2023086464A1. Автор: J. Louie MENESES,Davide MARTINO. Владелец: Sybridge Technologies U.S. Inc.. Дата публикации: 2023-05-19.

Systems and methods for mechanical polishing

Номер патента: CA3237893A1. Автор: J. Louie MENESES,Davide MARTINO. Владелец: Sybridge Technologies US Inc. Дата публикации: 2023-05-19.

Method for operating chemical mechanical polishing ("CMP") tool for the manufacture of semiconductor devices

Номер патента: US20040171266A1. Автор: Chien Hua Chen,Yuan Hsin Peng,Xiao Hua Li. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2004-09-02.

Method and apparatus for electrochemical mechanical polishing nip substrates

Номер патента: WO2008058200A3. Автор: Yuzhuo Li. Владелец: ST LAWRENCE NANOTECHNOLOGY Inc. Дата публикации: 2008-10-09.

Apparatus for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US7479206B2. Автор: Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-01-20.

System and Method for Online End Point Detection for use in Chemical Mechanical Planarization

Номер патента: US20060100821A1. Автор: ASHOK KUMAR,Arun SIKDER,Tapas Das,Rajesh Ganesan. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH FLORIDA. Дата публикации: 2006-05-11.

Chemical Mechanical Planarization Tool

Номер патента: US20230271298A1. Автор: Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Kao-Feng Liao,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Hsin-ying Ho,Chih Hung Chen,Fu-Ming HUANG,Michael Yen,Chun-Wen Hsiao,Sheng-Chao Chuang,Peng-Chung Jangjian,Ji James Cui. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Seal for use with a chemical mechanical planarization apparatus

Номер патента: US20020086626A1. Автор: Andrew Yednak,Phillip Rayer. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Chemical mechanical planarization tool

Номер патента: US12030159B2. Автор: Kei-Wei Chen,Tung-Kai Chen,Hui-Chi Huang,Wan-Chun Pan,Shang-Yu Wang,Zink Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6739955B2. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-05-25.

Chemical mechanical machining and surface finishing

Номер патента: IL157290A. Автор: . Владелец: Rem Technologies. Дата публикации: 2007-06-03.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic device substrate assemblies

Номер патента: US6361413B1. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

Apparatus and method for conditioning a fixed abrasive polishing pad in a chemical mechanical planarization process

Номер патента: US6361414B1. Автор: Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich,Don E. Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-03-26.

Multi-action chemical mechanical planarization device and method

Номер патента: US6514129B1. Автор: David G. Halley. Владелец: Strasbaugh Inc. Дата публикации: 2003-02-04.

An apparatus for and method of polishing a semiconductor wafer using chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2008023288A2. Автор: Eoin O'dea. Владелец: Eoin O'dea. Дата публикации: 2008-02-28.

Chemical Mechanical Planarization Tool

Номер патента: US20230321789A1. Автор: Kei-Wei Chen,Tung-Kai Chen,Hui-Chi Huang,Wan-Chun Pan,Shang-Yu Wang,Zink Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Chemical-mechanical processing slurry and methods for processing a nickel substrate surface

Номер патента: MY199592A. Автор: TONG Li,Hon Wu Lau. Владелец: Cmc Mat Llc. Дата публикации: 2023-11-08.

Ignition device for chemical oxygen generators

Номер патента: CA1234494A. Автор: Rainer Ernst,Carl E. Van Der Smissen. Владелец: Draegerwerk AG and Co KGaA. Дата публикации: 1988-03-29.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing process

Номер патента: TW572980B. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari,Kazuhito Uchikura. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co. Дата публикации: 2004-01-21.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing process

Номер патента: EP1116762A1. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari,Kazuhito Uchikura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2001-07-18.

Aqueous Dispersion for Chemical Mechanical Polishing and Chemical Mechanical Polishing Process

Номер патента: KR100719982B1. Автор: 마사유끼 핫또리,마사유끼 모또나리,노부오 가와하시,가즈히또 우찌꾸라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2007-05-18.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing process

Номер патента: US6579153B2. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari,Kazuhito Uchikura. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2003-06-17.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20010008828A1. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari,Kazuhito Uchikura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2001-07-19.

Method of production of composited particle, composited particle produced by this method and aqueous dispersion for chemical mechanical polishing containing this composited particle, and method of production of aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6582761B1. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Kazuo Nishimoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2003-06-24.

Electrostatic microelectromechanical generator for chemical current source charging

Номер патента: RU2717333C1. Автор: Валерий Павлович Драгунов,Родион Евгеньевич Синицкий,Дмитрий Иванович Остертак. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Образования "Новосибирский Государственный Технический Университет". Дата публикации: 2020-03-23.

Electrostatic microelectromechanical generator for chemical current source charging

Номер патента: RU2702981C1. Автор: Валерий Павлович Драгунов,Родион Евгеньевич Синицкий,Дмитрий Иванович Остертак. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Образования "Новосибирский Государственный Технический Университет". Дата публикации: 2019-10-14.

Electrostatic microelectromechanical generator for chemical current source charging

Номер патента: RU2692092C1. Автор: Валерий Павлович Драгунов,Родион Евгеньевич Синицкий,Дмитрий Иванович Остертак. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Образования "Новосибирский Государственный Технический Университет". Дата публикации: 2019-06-21.

Electrostatic microelectromechanical generator for chemical current source charging

Номер патента: RU2716813C1. Автор: Валерий Павлович Драгунов,Родион Евгеньевич Синицкий,Дмитрий Иванович Остертак. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Образования "Новосибирский Государственный Технический Университет". Дата публикации: 2020-03-17.

System integration module for chemical, biological, radiation, nuclear and explosive substance detectors

Номер патента: RU2419879C2. Автор: Дэвид Л. ФРЭНК. Владелец: Инновейтив Американ Текнолоджи, Инк.. Дата публикации: 2011-05-27.

Process and apparatus for chemically treating articles in a contained chamber, with sealed-door access to the chamber

Номер патента: CA1276096C. Автор: James J. Ash. Владелец: Chemcut Corp. Дата публикации: 1990-11-13.

Device and method for chemically and electrolytically treating work pieces

Номер патента: EP1761658B1. Автор: Reinhard Schneider. Владелец: Atotech Deutschland GmbH and Co KG. Дата публикации: 2010-08-18.

Bottom leads chemical mechanical planarization for tmr magnetic sensors

Номер патента: WO2021040806A1. Автор: Ming Jiang,Ronghui ZHOU,Yuankai Zheng,Ming Mao,Chih-Ching Hu,Yung-Hung Wang,Chen-Jung Chien. Владелец: WESTERN DIGITAL TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2021-03-04.

Computer-implemented method and system for providing dynamic endpoints for performing data transactions

Номер патента: EP4086766A1. Автор: Sai Nikhil Chennoor. Владелец: VISA INTERNATIONAL SERVICE ASSOCIATION. Дата публикации: 2022-11-09.

Techniques for registering an internet protocol (IP) endpoint for emergency services calling

Номер патента: US11736903B2. Автор: Daniel Pereira,Larry Reeder,Lydia Runnels,Adam Covati. Владелец: Bandwidth Inc. Дата публикации: 2023-08-22.

Virtual network endpoints for internet of thinigs (iot) devices

Номер патента: US20200412569A1. Автор: Lei Zhang,MING Chen,Dahai Ren,Matthew J. Threefoot. Владелец: VERIZON PATENT AND LICENSING INC. Дата публикации: 2020-12-31.

Computer-implemented method and system for providing dynamic endpoints for performing data transactions

Номер патента: US11954517B2. Автор: Sai Nikhil Chennoor. Владелец: VISA INTERNATIONAL SERVICE ASSOCIATION. Дата публикации: 2024-04-09.

Techniques for Registering An Internet Protocol (IP) Endpoint For Emergency Services Calling

Номер патента: US20230232188A1. Автор: Daniel Pereira,Larry Reeder,Lydia Runnels,Adam Covati. Владелец: Bandwidth Inc. Дата публикации: 2023-07-20.

Liquid with trivalent chromium for chemical conversion treatment of a base from zinc or zinc alloy and a chemical conversion treatment method using

Номер патента: RU2698874C1. Автор: Манабу ИНОУЕ,Рёудзи ИВАНАГА,Томитака ЯМАМОТО,Такахиро ФУДЗИНО. Владелец: Дипсол Кемикалз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-08-30.

Extraction method of liquid chemical products in equipment for chemical production

Номер патента: RU2357798C2. Автор: Ясуюки САКАКУРА,Йосиро СУЗУКИ,Ясуси ОГАВА,Сухеи ЯДА. Владелец: Мицубиси Кемикал Корпорейшн. Дата публикации: 2009-06-10.

Process and apparatus for chemical looping redox combustion with control of heat exchange

Номер патента: RU2678862C2. Автор: Флоран ГИЛЛУ,Тьери ГОТЬЕ,Махди ЯЗДАНПАНАХ. Владелец: Тоталь Раффинаж Шими. Дата публикации: 2019-02-04.

Method for preparing samples of metal-containing materials for chemical analysis

Номер патента: RU2763886C1. Автор: Евгений Александрович Милохин,Татьяна Викторовна Прохорова,Антон Владимирович Карпов. Владелец: Публичное Акционерное Общество "Новолипецкий металлургический комбинат". Дата публикации: 2022-01-11.

Method and device for chemical cyclic combustion (clc) to obtain nitrogen of high degree of purity

Номер патента: RU2707224C2. Автор: Стефан БЕРТОЛЭН,Флоран ГИЛЛУ,Махди ЯЗДАНПАНАХ. Владелец: Тоталь Раффинаж Шими. Дата публикации: 2019-11-25.

Method of producing magnesium hydride for chemical generator of hydrogen

Номер патента: RU2686898C1. Автор: Сергей Николаевич Потапов,Владимир Андреевич Беляев,Илья Алексеевич Гвоздков. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ХитЛаб". Дата публикации: 2019-05-06.

Methods and device for chemicals feed in process flow

Номер патента: RU2428534C2. Автор: Томми ЯКОБСОН,Мика САЛОНЕН,Мартти ЛАТВА,Томми ЯКОБСОН (FI),Мика САЛОНЕН (FI),Мартти ЛАТВА (FI). Владелец: Налко Компани. Дата публикации: 2011-09-10.

Forming tool and installation for chemical infiltration of fibrous billets in the gas phase

Номер патента: RU2751708C2. Автор: Адриен ДЕЛЬКАМ,Симон ТИБО,Себастьян БЕРТРАН,Стефан ГУЙАР. Владелец: Сафран Серамикс. Дата публикации: 2021-07-16.

Tube bundle sheet for chemical reactors

Номер патента: RU2293272C2. Автор: Лоренцо БАРБЬЕРИ,Андреа РОНКЬЕРИ,Джузеппе БАЧЧОЛИ,Лоренцо ПЬЕРУЧЧИ,Сильвано БЕРТОЛИНИ,Джузеппе БАЧЧОЛИ (IT),Лоренцо БАРБЬЕРИ (IT),Андреа РОНКЬЕРИ (IT),Лоренцо ПЬЕРУЧЧИ (IT),Сильвано БЕРТОЛИНИ (IT). Владелец: Нуово Пиньоне Холдинг С.П.А.. Дата публикации: 2007-02-10.

Method for the control of the response time of a sensor for chemical substances

Номер патента: EP1831681A1. Автор: Aldo Di Carlo,Corrado Di Natale,Andrea REALE,Massimiliano Lucci,Roberto Paolesse,Maria Letizia Terranova,Arnaldo D'amico. Владелец: Universita degli Studi di Roma Tor Vergata. Дата публикации: 2007-09-12.

Method for the control of the response time of a sensor for chemical substances

Номер патента: EP1831681B1. Автор: Aldo Di Carlo,Corrado Di Natale,Andrea REALE,Massimiliano Lucci,Roberto Paolesse,Maria Letizia Terranova,Arnaldo D'amico. Владелец: Universita degli Studi di Roma Tor Vergata. Дата публикации: 2010-10-13.

Method for the control of the response time of a sensor for chemical substances

Номер патента: WO2006070420A1. Автор: Aldo Di Carlo,Corrado Di Natale,Andrea REALE,Massimiliano Lucci,Roberto Paolesse,Maria Letizia Terranova,Arnaldo D'amico. Владелец: Universita' Degli Studi Di Roma 'tor Vergata'. Дата публикации: 2006-07-06.

System for chemical transformation of 3d state materials

Номер патента: EP3833469A1. Автор: Anna Tampieri,Simone Sprio,Andrea Ruffini,Lorenzo Giuseppe Pradella,Alberto Ballardini,Lorenzo Santi. Владелец: Greenbone Ortho Srl. Дата публикации: 2021-06-16.

System for chemical transformation of 3d state materials

Номер патента: CA3108367A1. Автор: Anna Tampieri,Simone Sprio,Andrea Ruffini,Lorenzo Giuseppe Pradella,Alberto Ballardini,Lorenzo Santi. Владелец: Greenbone Ortho SpA. Дата публикации: 2020-02-13.

System for chemical transformation of 3D state materials

Номер патента: AU2019320452A1. Автор: Anna Tampieri,Simone Sprio,Andrea Ruffini,Lorenzo Giuseppe Pradella,Alberto Ballardini,Lorenzo Santi. Владелец: Greenbone Ortho SpA. Дата публикации: 2021-03-11.

System for chemical transformation of 3d state materials

Номер патента: WO2020030442A1. Автор: Anna Tampieri,Simone Sprio,Andrea Ruffini,Lorenzo Giuseppe Pradella,Alberto Ballardini,Lorenzo Santi. Владелец: GreenBone Ortho S.r.l.. Дата публикации: 2020-02-13.

Quantum dot—polymer nanocomposite sensor array for chemical vapor sensing

Номер патента: US09599564B1. Автор: Sichu Li. Владелец: Mitre Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Micro-fluidic partitioning between polymeric sheets for chemical amplification and processing

Номер патента: US09550186B2. Автор: Brian L. Anderson. Владелец: Lawrence Livermore National Security LLC. Дата публикации: 2017-01-24.

Multi-structured reactor made of monolithic adjacent thermoconductive bodies for chemical processes with high heat exchange

Номер патента: RU2656482C2. Автор: Мауро ФАВАРЕТТО,Марко ПАТУРЦО,Марцио ПЬЯЦЦА,Пио Форцатти,Джанпьеро Гроппи,Лука Льетти,Энрико Тронкони,Карло Джордже ВИСКОНТИ. Владелец: Эни С.П.А.. Дата публикации: 2018-06-05.

Plate-type heat exchanger for chemical reactors with automatically welded headers

Номер патента: RU2707237C2. Автор: Энрико РИЦЦИ. Владелец: Касале Са. Дата публикации: 2019-11-25.

Method for chemical purification of natural quartz material, apparatus for realizing the method and grain obtained according to the method

Номер патента: RU2705950C1. Автор: Нина Ивановна Кузьмина. Владелец: Кузьмин Вадим Георгиевич. Дата публикации: 2019-11-12.

Float valve for chemical reactor

Номер патента: RU2707034C2. Автор: Эмир Захирович,Клаус РИСБЙЕРГ ЙАРЛКОВ,Флемминг ПЛОУГСТРУП НИЛЬСЕН. Владелец: ХАЛЬДОР ТОПСЕЭ А/С. Дата публикации: 2019-11-21.

Oxygen carriers for chemical looping

Номер патента: US20240307843A1. Автор: Kyle O'Malley. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-19.

Tri-metallic ferrite oxygen carriers for chemical looping combustion

Номер патента: US09797594B1. Автор: Ranjani V. Siriwardane,Yueying Fan. Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 2017-10-24.

Air filters containing polymer sorbents for chemically active gases

Номер патента: RU2704211C1. Автор: Майкл С. ВЕНДЛАНД,Нил А. РАКОВ,Дерек М. МААНУМ,Майкл У. КОБЕ,Остин Д. ГРОТ. Владелец: 3М Инновейтив Пропертиз Компани. Дата публикации: 2019-10-24.

Reactor for chemical reactions in three-phase systems

Номер патента: RU2153928C2. Автор: Винченцо ПИККОЛО,Джузеппе Белмонте. Владелец: Аджип Петроли С.П.А.. Дата публикации: 2000-08-10.

Micro-chip for chemical reaction

Номер патента: CA2371767C. Автор: Michifumi Tanga. Владелец: Toyo Kohan Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-08.

Method for chemical polish for metal pieces

Номер патента: US20220372633A1. Автор: Maho Yasuda. Владелец: Arkema France SA. Дата публикации: 2022-11-24.

System for chemical and biological decontamination

Номер патента: US20030175179A1. Автор: David Neumann,Jason Brasseur,Thomas Henshaw. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-18.

System for chemical and biological decontamination

Номер патента: US7217935B2. Автор: Jason K. Brasseur,David K. Neumann,Thomas L. Henshaw. Владелец: Neumann Information Systems Inc. Дата публикации: 2007-05-15.

Multi-stage extraction and recycling device and process for chemical polishing effluents

Номер патента: NL2033940B1. Автор: Li Haiyang,Ma Lin,Zhang Zhijie,Wu Wenming,Mu Hai,Li Shuyan,Ding Baoqiang,Zhang Junnan. Владелец: Zhongxin Lianke Environmental Tech Anhui Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-24.

Method for chemically reducing carbon dioxide with red mud catalyst composition

Номер патента: US11981615B1. Автор: Syed Ahmed Ali,Akolade Idris BAKARE,Aniz Chennampilly Ummer,Galal Atef Ahmed Nasser,Mohammed Ahmed Yahya Sanhoob. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2024-05-14.

Method for chemical modification of a graphene edge, graphene with a chemically modified edge and devices including the graphene

Номер патента: US09988274B2. Автор: Byung Hee Hong,JaeYoung Choi,Won Mook Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-06-05.

Quantum dot-polymer nanocomposite sensor array for chemical vapor sensing

Номер патента: US09970939B1. Автор: Sichu Li. Владелец: Mitre Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Method for producing a tube or semi-finished tube and tube or semi-finished tube for chemical apparatus construction

Номер патента: US09470355B2. Автор: Achim Litzenburger. Владелец: Simona AG. Дата публикации: 2016-10-18.

Device for particle separation for chemical combustion loop

Номер патента: RU2568017C2. Автор: Тьерри ГОТЬЕ,Флоран ГИЛЛУ,Али ОТЕИТ,Себастьен Риффлар. Владелец: Тоталь С.А.. Дата публикации: 2015-11-10.

Fluorescent porous organic nanosheets for chemical sensing

Номер патента: SG11201908741QA. Автор: Dan Zhao,Jinqiao DONG. Владелец: Nat Univ Singapore. Дата публикации: 2019-10-30.

System for chemical transformation of 3d state materials

Номер патента: US20210316263A1. Автор: Anna Tampieri,Simone Sprio,Andrea Ruffini,Lorenzo Giuseppe Pradella,Alberto Ballardini,Lorenzo Santi. Владелец: Greenbone Ortho SpA. Дата публикации: 2021-10-14.

System for chemical transformation of 3d state materials

Номер патента: PH12021550247A1. Автор: Anna Tampieri,Simone Sprio,Andrea Ruffini,Lorenzo Giuseppe Pradella,Alberto Ballardini,Lorenzo Santi. Владелец: Greenbone Ortho S P A. Дата публикации: 2021-11-03.

Method, device and kit for chemical species separation

Номер патента: WO2002016928A1. Автор: Gregory P. Miller. Владелец: New Mexico Technical Research Foundation. Дата публикации: 2002-02-28.

Process for chemical etching of parts fabricated by sterolithography

Номер патента: CA2538322C. Автор: Benli Luan. Владелец: NATIONAL RESEARCH COUNCIL OF CANADA. Дата публикации: 2013-10-22.

Process and apparatus for chemical conversion

Номер патента: WO1996014726A1. Автор: Wayne Ernest Conrad,Helmut Gerhard Conrad,Richard Stanley Phillips,Andrew Richard Henry Phillips. Владелец: T I Properties, Inc.. Дата публикации: 1996-05-17.

Composite membrane for chemical synthesis

Номер патента: WO1995030474A1. Автор: James A. Mcintyre,Steven P. Webb. Владелец: The Dow Chemical Company. Дата публикации: 1995-11-16.

Adjustable dispenser unit for chemical reagents in heating systems

Номер патента: EP3915948A1. Автор: Pasquale Musacchia. Владелец: Aquamax San Srl. Дата публикации: 2021-12-01.

Methods for chemical recycling of condensation polymers

Номер патента: US20240182665A1. Автор: Muhammad RABNAWAZ,Muhammad Naveed,Ajmir Khan,Zahra Aayanifard. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2024-06-06.

Plate with wells for chemical or biological reactions, and method for multiple imaging of such a plate by means of an imaging system

Номер патента: EP3909679A1. Автор: Michael Zeder. Владелец: F Hoffmann La Roche AG. Дата публикации: 2021-11-17.

Test tube rack for chemical experiments

Номер патента: AU2020102239A4. Автор: Min Zheng,Xitong CHENG,Changshui HUANG. Владелец: Suzhou Zeman Biotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-29.

Membrane inlet for chemical analysis with continuous flow sample degassing

Номер патента: US20230364608A1. Автор: Ryan Bell. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-11-16.

Plate with wells for chemical or biological reactions, and method for multiple imaging of such a plate by means of an imaging system

Номер патента: US20180045641A1. Автор: Michael Zeder. Владелец: Roche Molecular Systems Inc. Дата публикации: 2018-02-15.

Pilot plant for chemical looping hydrogen generation using single-column packed bed and hydrogen generation method

Номер патента: US20180002173A1. Автор: Zhou Xia,Wei Wang,Xiuning HUA. Владелец: TSINGHUA UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-01-04.

Compact dispenser for chemicals and other concentrated liquids

Номер патента: US20160361731A1. Автор: Amram Levy. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-12-15.

Portioning device for chemical granular material

Номер патента: US12085435B2. Автор: Stefan Jan Johannaber,Stephan Teckemeyer,Florenz Hilbert,Thomas Wien,Florian Stein,Jan-Henrik BREUER,Mario Wessels. Владелец: Amazonen Werke H Dreyer SE and Co KG. Дата публикации: 2024-09-10.

Systems and methods for preparing samples for chemical analysis using a cooled digestion zone

Номер патента: US09844782B2. Автор: Ron J. Emburgh,Ravi K. Kanipayor. Владелец: Coldblock Technologies Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

Method for chemical destroying of magnetic data carriers

Номер патента: US09700867B2. Автор: Janusz Iwaniec,Waldemar Maliszewski,Kazimierz Szyszka. Владелец: Bossg & Eit and Technologies Spolka Z Ograniczona Odpowiedzialnoscia. Дата публикации: 2017-07-11.

Compact dispenser for chemicals and other concentrated liquids

Номер патента: US09573100B2. Автор: Amram Levy. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-02-21.

Methods and compositions for chemical drying and producing struvite

Номер патента: US09334166B2. Автор: Keith E. Bowers. Владелец: Multiform Harvest Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Composition of reagents for chemical conversion of heavy oil when pumping steam

Номер патента: RU2725624C1. Автор: Виктор Иванович Дарищев,Данис Карлович Нургалиев,Константин Анатольевич Бугаев,Ирек Изаилович Мухаматдинов,Сергей Андреевич Ситнов,Алексей Владимирович Вахин,Ольга Владимировна Славкина,Фирдавс Абдусамиевич Алиев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Российская инновационная топливно-энергетическая компания" (ООО "РИТЭК"). Дата публикации: 2020-07-03.

Masking compositions for chemical milling and method for applying the same

Номер патента: CA1331898C. Автор: Fred D. Hawker,Victor E. Pietryga,Robert W. Byrd. Владелец: Desoto Aerospace Coatings Inc. Дата публикации: 1994-09-06.

Method and an agent for chemical purification of water by means of chemical precipitation and magnetic sludge separation

Номер патента: CA1114080A. Автор: Carl-Johan S. Hellestam. Владелец: Boliden Ab. Дата публикации: 1981-12-08.

Scalable preparation of oxygen carriers for chemical looping

Номер патента: US11925917B2. Автор: Kyle O′Malley. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-03-12.

Methods and compositions for chemical looping ammonia synthesis at low pressure

Номер патента: WO2023164163A2. Автор: Jianli Hu,Yuxin Wang,Brandon Robinson,Sean W. BROWN,Sarojini TIWARI. Владелец: West Virginia University Board of Governors on behalf of West Virginia University. Дата публикации: 2023-08-31.

Methods and compositions for chemical looping ammonia synthesis at low pressure

Номер патента: WO2023164163A3. Автор: Jianli Hu,Yuxin Wang,Brandon Robinson,Sean W. BROWN,Sarojini TIWARI. Владелец: West Virginia University Board of Governors on behalf of West Virginia University. Дата публикации: 2023-10-05.

Method for chemical modification of a graphene edge, graphene with a chemically modified edge and devices including the graphene

Номер патента: US20100178464A1. Автор: Byung Hee Hong,JaeYoung Choi,Won Mook Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-07-15.

Thin-bed reactor with static bed for chemical treatment of finely-ground solid catalyst

Номер патента: RU2472577C2. Автор: Дамьен ДУЗЬЕШ,Жилль КОСС,Эрик КАПРАНИ,Жан-Кристоф ВИГИ,Жан-Марк ШВАЙТЦЕР,Анн ФОРРЕ. Владелец: Ифп. Дата публикации: 2013-01-20.

Method for chemical protection of current-conducting metal structures from electrostatic filters for wet gas cleaning of sulphuric acid mist

Номер патента: RU2585150C2. Автор: Владимир Алексеевич Лукьянчиков,Федор Павлович Головко,Андрей Олегович Балаганов,Андрей Федорович Валентович,Юрий Евгеньевич Кувыкин. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Челябинский цинковый завод". Дата публикации: 2016-05-27.

Portioning apparatus for chemical granulate

Номер патента: CA3143890A1. Автор: Stefan Jan Johannaber,Stephan Teckemeyer,Florenz Hilbert,Thomas Wien,Florian Stein,Jan-Henrik BREUER,Mario Wessels. Владелец: Amazonen Werke H Dreyer SE and Co KG. Дата публикации: 2020-12-30.

A block for chemically dosing a stream of fluid and an apparatus for housing the block

Номер патента: CA2664226C. Автор: Grant Mitchell,Andrew Geue,Periklis Christodoulou. Владелец: QUIK CORP FIRE PTY LTD. Дата публикации: 2016-04-05.

Systems and methods for preparing samples for chemical analysis

Номер патента: CA2779758C. Автор: Ron J. Emburgh,Ravi K. Kanipayor. Владелец: Coldblock Technologies Inc. Дата публикации: 2019-09-24.

Liquid distribution system for chemical engineering apparatuses

Номер патента: US4561461A. Автор: Jean-Michel Bauer,Jean-Marie Hubert,Raif Abouchar. Владелец: Carbone Lorraine SA. Дата публикации: 1985-12-31.

Method for chemically activating molecules or protecting active molecules

Номер патента: EP1817101A1. Автор: Ties Van Bommel,Paulus C. Duineveld,Hendrik R. Stapert,Michel M. J. Decre. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2007-08-15.

Method, apparatus and article for microfluidic control via electrowetting, for chemical, biochemical and biological assays and the like

Номер патента: CA2472029C. Автор: James D. Sterling. Владелец: KECK GRADUATE INSTITUTE OF APPLIED LIFE SCIENCES. Дата публикации: 2014-04-15.

Systems and methods for preparing samples for chemical analysis using a cooled digestion zone

Номер патента: CA2916133C. Автор: Ron J. Emburgh,Ravi K. Kanipayor. Владелец: Coldblock Technologies Inc. Дата публикации: 2020-07-21.

Method, apparatus and article for microfluidic control via electrowetting, for chemical, biochemical and biological assays and the like

Номер патента: CA2472029A1. Автор: James D. Sterling. Владелец: James D. Sterling. Дата публикации: 2003-06-05.

Method for chemically activating molecules or protecting active molecules

Номер патента: WO2006056948A1. Автор: Ties Van Bommel,Paulus C. Duineveld,Hendrik R. Stapert,Michel M. J. Decre. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2006-06-01.

Tube plate for tube bundles for chemical reactors and heat exchangers in general

Номер патента: CA2363331C. Автор: Lorenzo Barbieri,Andrea Ronchieri,Giuseppe Baccioli,Lorenzo Pierucci,Silvano Bertolini. Владелец: Nuovo Pignone Holding SpA. Дата публикации: 2008-01-29.

Membrane inlet for chemical analysis with sample degassing

Номер патента: US20230364610A1. Автор: Ryan Bell. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-11-16.

Method for chemical upcycling of resins containing ester bonds

Номер патента: US20230357533A1. Автор: Tao Xie,Zenghe Liu,Ning Zheng,Jingjun Wu,Zizheng Fang. Владелец: Zhejiang University ZJU. Дата публикации: 2023-11-09.

Can for chemical-pharmaceutical-food use, particulary for containing pressurized aerosol solutions

Номер патента: EP3772473A1. Автор: Davide BOMBINI,Francesco BOMBINI. Владелец: Can B Power Srl. Дата публикации: 2021-02-10.

Apparatus and method for chemically reducing waste materials

Номер патента: WO2004091820A3. Автор: Robert L Hahn,Gordon I Kaye,Kevin A Morris,Peter B Weber,Joseph H Wilson. Владелец: Waste Reduction By Waste Reduc. Дата публикации: 2005-08-11.

Apparatus and method for chemically reducing waste materials

Номер патента: EP1578545A2. Автор: Joseph H. Wilson,Gordon I. Kaye,Peter B. Weber,Kevin A. Morris,Robert L. Hahn. Владелец: Waste Reduction by Waste Reduction Inc. Дата публикации: 2005-09-28.

Systems and methods for chemical catalytic processing

Номер патента: WO2024086300A1. Автор: Branko Zugic,Kurt VAN ALLSBURG,Zachary MODEST. Владелец: Lydian Labs, Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Method for chemical separation of cannabinoids

Номер патента: US20210205732A1. Автор: Alex GOODNOUGH. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-07-08.

A process for chemical and/or biological transformation

Номер патента: WO2015050491A1. Автор: Knut Irgum,Uwe Bornscheuer,Emil BYSTRÖM,Henrik Scherman. Владелец: NORDIC CHEMQUEST AB. Дата публикации: 2015-04-09.

Method for recycling organic ruthenium compound for chemical vapor deposition

Номер патента: US20150087851A1. Автор: Masayuki Saito,Ryosuke Harada,Toshiyuki Shigetomi,Shunichi Nabeya. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2015-03-26.

A process for chemical and/or biological transformation

Номер патента: EP3052227A1. Автор: Knut Irgum,Uwe Bornscheuer,Emil BYSTRÖM,Henrik Scherman. Владелец: Spinchem AB. Дата публикации: 2016-08-10.

Non-chemical, mechanical procedure for the devulcanization of scrap rubber and/or elastomers and apparatus therefor

Номер патента: US20130023639A1. Автор: Harald Rust. Владелец: Entex Rust and Mitschke GmbH. Дата публикации: 2013-01-24.

Chemical-mechanical process to reduce the contamination caused by gases and products resulting from the combustion of fossil fuels, petroleum and its by-products

Номер патента: CA2397221A1. Автор: Rafael Vidal Fernandez. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-09.

Non-chemical, mechanical procedure for the devulcanization of scrap rubber and/or elastomers and apparatus therefor

Номер патента: US20150191578A1. Автор: Harald Rust. Владелец: Entex Rust and Mitschke GmbH. Дата публикации: 2015-07-09.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US09718991B2. Автор: Song Yuan Chang,Ming Hui Lu,Ming Che Ho,Wen Cheng Liu,Yi Han Yang. Владелец: Uwiz Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Semiconductor Chemical Mechanical Polishing Sludge Recycling Device

Номер патента: US20240317621A1. Автор: Shao-Hua Hu,Hsin-Hui Chou,Ya-Min Hsieh,Wen-Ming Cheng,Hsing-Wen HSIEH,Chin-An KUAN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-26.

Negatively charged silica particles, method of producing such particles, compositions comprising such particles, and a method of chemical-mechanical polishing using such particles

Номер патента: WO2023180216A1. Автор: Eric Jacquinot,Frédéric GUILLAUD. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-09-28.

Brush for cleaning wafers after chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20240180324A1. Автор: Liqing Wen,Le Lu,Jhih-Fong Lin,Deng-Gao Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Amphiphilic abrasive particles and their use for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024129435A1. Автор: Gerhard Jonschker. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-06-20.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240158251A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-05-16.

Chemical-mechanical polishing solution

Номер патента: US11898063B2. Автор: Wenting Zhou. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Chemical-mechanical polishing particle and polishing slurry composition comprising same

Номер патента: US11787974B2. Автор: Jae Hyun Kim,Jong Dai Park,Min Gun Lee,Sung Hoon Jin,Jae Hong Yoo,Kyu Soon SHIN,Goo Hwa LEE,Weoun Gyuen MOON,Gyeong Sook CHO. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Chemical-mechanical polishing particle and polishing slurry composition comprising same

Номер патента: US20210340405A1. Автор: Jae Hyun Kim,Jong Dai Park,Min Gun Lee,Sung Hoon Jin,Jae Hong Yoo,Kyu Soon SHIN,Goo Hwa LEE,Weoun Gyuen MOON,Gyeong Sook CHO. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4305121A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-01-17.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4304984A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-01-17.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240158250A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-05-16.

Chemical-mechanical-planarization (cmp) slurry quality control process and particle size distribution measuring systems

Номер патента: WO1999056106A9. Автор: Todd A Cerni,Scott Waisanen,Dennis Knowlton. Владелец: Particle Measuring Syst. Дата публикации: 2000-01-27.

Chemical-mechanical-planarization (cmp) slurry quality control process and particle size distribution measuring systems

Номер патента: EP1076814A1. Автор: Todd A. Cerni,Scott Waisanen,Dennis Knowlton. Владелец: Particle Measuring Systems Inc. Дата публикации: 2001-02-21.

System for chemical injection into well, oil well for oil product extraction (variants) and oil well operation method

Номер патента: RU2258805C2. Автор: Джордж Лео СТЕДЖЕМЕЙЕР,Харолд Дж. ВАЙНГАР,Роберт Рекс БЕРНЕТТ,Вилль м Маунтджой СЕВЕДЖ,Вилльям Маунтджой Севедж,Джон Мишель ХЕРШ,Фредерик Гордон Мл КАРЛ. Владелец: Шелл Интернэшнл Рисерч Маатсхаппий Б.В.. Дата публикации: 2005-08-20.

Methods for chemical synthesis of phyllyrine

Номер патента: RU2667917C2. Автор: Ли ФУ,Хунюй ФАНЬ. Владелец: Ли ФУ. Дата публикации: 2018-09-25.

Solution for chemical nickeling of metal products

Номер патента: RU2762733C1. Автор: Тигран Ашотович Ваграмян,Юрий Иванович Капустин,Денис Александрович Жирухин,Евгений Андреевич Архипов,Артём Валерьевич Арзамасов,Венера Халитовна Алешина,Роман Владимирович Графушин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева" (РХТУ им. Д.И. Менделеева). Дата публикации: 2021-12-22.

Valve for chemically aggressive media

Номер патента: RU2742630C1. Автор: Андрей Петрович Ладыгин,Михаил Иванович Синиченко,Александр Васильевич Гордеев,Александр Анатольевич Логанов,Зоя Александровна Кузнецова. Владелец: Акционерное общество "Информационные спутниковые системы" имени академика М.Ф. Решетнёва". Дата публикации: 2021-02-09.

Method for chemical coating of nickel-copper-phosphorus alloy

Номер патента: RU2756620C1. Автор: Евгений Геннадьевич Винокуров,Владимир Дмитриевич Скопинцев,Гульназ Мунировна Мухаметова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева" (РХТУ им. Д.И. Менделеева). Дата публикации: 2021-10-04.

Method for chemical-thermal treatment of parts made from titanium

Номер патента: RU2605029C1. Автор: Аскар Джамилевич Мингажев,Николай Константинович Криони,Алиса Аскаровна Мингажева,Раис Калимуллович Давлеткулов,Наиля Фёдоровна Измайлова,Евгения Вадимовна Бахтиарова. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет". Дата публикации: 2016-12-20.

Glass for chemical strengthening, chemically strengthened glass, and method for manufacturing chemically strengthened glass

Номер патента: US09926220B2. Автор: Shuji Yamazaki,Junichiro Kase,Seiki Ohara,Shusaku AKIBA,Junko MIYASAKA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Anode for chemical source of current, method to manufacture anode, chemical source of current

Номер патента: RU2444093C1. Автор: Сергей Владимирович Алексеенко,Пётр Сергеевич Галкин,Сергей Михайлович Харламов,Дмитрий Маркович Маркович. Владелец: Учреждение Российской Академии наук Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения РАН (ИТ СО РАН). Дата публикации: 2012-02-27.

Method of obtaining xylose and cellulose for chemical recycling

Номер патента: RU2512339C2. Автор: Хейкки ХЕЙККИЛЯ,Яри ЛЕВАНДОВСКИ,Мирья ЛИНДРООС,Пиа СААРИ. Владелец: ДюПон НЬЮТРИШН БАЙОСАЙЕНСИЗ АпС. Дата публикации: 2014-04-10.

Method of preparation of samples of metallurgical slags for chemical analysis

Номер патента: RU2263151C2. Автор: Т.Ф. Ким,Т.А. Курган,Н.В. Сукинова,Н.С. Игнатьева. Владелец: Открытое акционерное общество "Магнитогорский металлургический комбинат". Дата публикации: 2005-10-27.

Chemical-analysis device integrated with metallic-nanofinger device for chemical sensing

Номер патента: US09594022B2. Автор: Zhiyong Li,R. Stanley Williams. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2017-03-14.

Thermally emissive sensing materials for chemical spectroscopy analysis

Номер патента: US09964494B1. Автор: Paul R. OHODNICKI,Zsolt Poole. Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 2018-05-08.

Solution for chemical conversion treatment and steel sheet subjected to chemical conversion treatment

Номер патента: RU2643023C2. Автор: Йосихару ИВАМИДЗУ,Ацуо СИМИДЗУ,Масанори МАЦУНО,Масая ЯМАМОТО. Владелец: Ниссин Стил Ко., Лтд.. Дата публикации: 2018-01-29.

Method for chemical decomposition of yperite

Номер патента: RU2203118C1. Автор: Рамеш Чандра МАЛХОТРА,Балвант Сингх БАТРА,Кумаран ГАНЕСАН,Рамамуртхи Ваидьянатха СВАМИ. Владелец: Дзе Чиф Контроллер, Резерч Энд Дивелопмент, Дифенс Резерч Энд Дивелопмент Организейшн Оф Министри Оф Дифенс. Дата публикации: 2003-04-27.

Method for chemical modification of microalgae lipids, method of producing soap and soap containing fatty acid salts of saponified microalgae lipids

Номер патента: RU2542374C2. Автор: Энтони Г. ДЕЙ,Хариссон Филдз ДИЛЛОН,Джеффри БРУКС,Скотт ФРАНКЛИН. Владелец: Солазим, Инк.. Дата публикации: 2015-02-20.

Process and composition for chemical recycling of polymers having reduced silicon content

Номер патента: WO2024115136A1. Автор: Patrick Elisabeth Luc Voets,Maria Soliman,Carolus WILSENS,Nicolas GOYHENEIX,Johan PASTWA,Safa FARAJZADEH BIBALAN,Gerardus Theodorus Cornelis KWAKKENBOS. Владелец: Sabic Global Technologies B.V.. Дата публикации: 2024-06-06.

Process and composition for chemical recycling of polymers having reduced nitrogen and oxygen content

Номер патента: WO2024115134A1. Автор: Patrick Elisabeth Luc Voets,Maria Soliman,Carolus WILSENS,Nicolas GOYHENEIX,Johan PASTWA,Safa FARAJZADEH BIBALAN,Gerardus Theodorus Cornelis KWAKKENBOS. Владелец: Sabic Global Technologies B.V.. Дата публикации: 2024-06-06.

Process and composition for chemical recycling of polymers having reduced phosphorus content

Номер патента: WO2024115135A1. Автор: Patrick Elisabeth Luc Voets,Maria Soliman,Carolus WILSENS,Nicolas GOYHENEIX,Johan PASTWA,Safa FARAJZADEH BIBALAN,Gerardus Theodorus Cornelis KWAKKENBOS. Владелец: Sabic Global Technologies B.V.. Дата публикации: 2024-06-06.

Process and composition for chemical recycling of polymers having reduced oxygen content

Номер патента: WO2024115133A1. Автор: Patrick Elisabeth Luc Voets,Maria Soliman,Carolus WILSENS,Nicolas GOYHENEIX,Johan PASTWA,Safa FARAJZADEH BIBALAN,Gerardus Theodorus Cornelis KWAKKENBOS. Владелец: Sabic Global Technologies B.V.. Дата публикации: 2024-06-06.

Glass for chemical strengthening and chemical strengthened glass, and manufacturing method of glass for chemical strengthening

Номер патента: US09963378B2. Автор: Hiroyuki Yamamoto. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Glass for chemical tempering and chemically tempered glass

Номер патента: US09896374B2. Автор: Shigeki Sawamura,Yusuke Kobayashi,Hiroyuki Ohkawa,Tetsuya Nakashima,Shusaku AKIBA,Kazutaka Ono,Suguru MURAYAMA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Glass for chemical tempering and chemically tempered glass

Номер патента: US09656906B2. Автор: Shigeki Sawamura,Yusuke Kobayashi,Hiroyuki Ohkawa,Tetsuya Nakashima,Shusaku AKIBA,Kazutaka Ono,Suguru MURAYAMA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Method for chemical-thermal treatment of parts made from nickel-based alloy

Номер патента: RU2605395C1. Автор: Аскар Джамилевич Мингажев,Николай Константинович Криони,Алиса Аскаровна Мингажева,Раис Калимуллович Давлеткулов,Наиля Фёдоровна Измайлова,Евгения Вадимовна Бахтиарова. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет". Дата публикации: 2016-12-20.

Means for chemical cleaning metal surfaces

Номер патента: RU2644157C1. Автор: Евгений Александрович Курко. Владелец: Евгений Александрович Курко. Дата публикации: 2018-02-08.

Method for preparing the solution for chemical nickel plating

Номер патента: RU2753813C1. Автор: Аслан Юсупович Цивадзе,Евгений Геннадьевич Винокуров,Владимир Дмитриевич Скопинцев,Гульназ Мунировна Мухаметова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физической химии и электрохимии им. А.Н. Фрумкина Российской академии наук (ИФХЭ РАН). Дата публикации: 2021-08-23.

Composition for chemical silvering

Номер патента: RU2689340C1. Автор: Евгений Александрович Павлов,Руслан Фаатович Мулагалеев,Анастасия Евгеньевна Афанасьева. Владелец: Открытое акционерное общество "Красноярский завод цветных металлов имени В.Н. Гулидова". Дата публикации: 2019-05-27.

Additive compatible with clay for chemicals applicable in construction industry

Номер патента: RU2632868C2. Автор: Йоахим ДЕНГЛЕР,Барбара МИТТЕРМАЙЕР. Владелец: Констракшн Рисёрч Энд Текнолоджи Гмбх. Дата публикации: 2017-10-11.

Substrate for chemical vapour deposition (cvd) of diamond and method for obtaining thereof

Номер патента: RU2577638C2. Автор: Евгений А. ЛЕВАШОВ,Екатерина В. АЗАРОВА,Виктор Г. РАЛЬЧЕНКО,Андрей БОЛЬШАКОВ,Евгений Э. АШКИНАЗИ,Хироси ИСИДЗУКА,Сатору ХОСОМИ. Владелец: Томеи Дайамонд Ко., Лтд.. Дата публикации: 2016-03-20.

Electrolyte for chemical source of current

Номер патента: RU2340982C1. Автор: Евгений Игоревич Фролов,Иван Кириллович Гаркушин,Татьяна Валерьевна Губанова,Тать на Валерьевна Губанова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Самарский государственный технический университет. Дата публикации: 2008-12-10.

Raman spectrometer with micro- and macro-modes combination for chemical and structural analysis of substances

Номер патента: RU2672792C1. Автор: Константин Евгеньевич Мочалов,Владимир Александрович Олейников,Дарья Олеговна Соловьева,Антон Владленович Залыгин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки институт биоорганической химии им. академиков М.М. Шемякина и Ю.А. Овчинникова Российской академии наук (ИБХ РАН). Дата публикации: 2018-11-19.

Composition for chemical silvering of ceramic materials

Номер патента: RU2644462C1. Автор: Тигран Ашотович Ваграмян,Владимир Николаевич Грунский,Микаэл Давидович Гаспарян,Наум Аронович Аснис,Неля Сетраковна Григорян,Алексей Александрович Абрашов,Иван Олегович Спешилов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский химико-технологический университет имени Д. И. Менделеева (РХТУ им. Д. И. Менделеева). Дата публикации: 2018-02-12.

Electrolyte for chemical source of current

Номер патента: RU2410799C1. Автор: Валерий Вячеславович Захаров,Евгений Игоревич Фролов,Иван Кириллович Гаркушин,Галина Александровна Филиппова,Татьяна Валерьевна Губанова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Самарский государственный технический университет. Дата публикации: 2011-01-27.

Substrate holding and locking system for chemical and/or electrolytic surface treatment

Номер патента: EP3854915A1. Автор: Markus Gersdorff,Andreas GLEISSNER,Herbert Ötzlinger,Georg Höfer,Thomas WIRNSBERGER,Oliver Knoll,Raoul Schröder. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2021-07-28.

Substrate holding and locking system for chemical and/or electrolytic surface treatment

Номер патента: WO2021148149A1. Автор: Markus Gersdorff,Andreas GLEISSNER,Herbert Ötzlinger,Georg Höfer,Thomas WIRNSBERGER,Oliver Knoll,Raoul Schröder. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2021-07-29.

Shield body system for a process fluid for chemical and/or electrolytic surface treatment of a substrate

Номер патента: EP3929332A1. Автор: Herbert Ötzlinger. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2021-12-29.

Shield body system for a process fluid for chemical and/or electrolytic surface treatment of a substrate

Номер патента: EP3929332A8. Автор: Andreas GLEISSNER,Harald Okorn-Schmidt,Herbert Ötzlinger,Marianne Kolitsch. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2022-04-13.

Glass for chemical strengthening

Номер патента: US12024464B2. Автор: Akio Koike,Suguru MURAYAMA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Distribution system for a process fluid for chemical and/or electrolytic surface treatment of a rotatable substrate

Номер патента: US20230193503A1. Автор: Andreas GLEISSNER,Franz Markut. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2023-06-22.

Silver halide emulsion and method for chemical sensitization thereof

Номер патента: US20030082491A1. Автор: Masafumi Mizuno. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-05-01.

Silver halide emulsion and method for chemical sensitization thereof

Номер патента: US6664037B2. Автор: Masafumi Mizuno. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-12-16.

Measuring electrode and measuring system for chemical liquid

Номер патента: US09784705B2. Автор: Koji Ueda,Kazuhiro Miyamura. Владелец: Horiba Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Device for chemical care of forest

Номер патента: RU2690471C1. Автор: Евгений Михайлович Царев,Сергей Евгеньевич Анисимов,Татьяна Анатольевна Конюхова,Юлия Андреевна Коновалова,Никита Сергеевич Анисимов,Илья Сергеевич Анисимов,Андрей Вячеславович Кренев,Владимир Михайлович Заболотский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Поволжский государственный технологический университет". Дата публикации: 2019-06-03.

Method for chemical heat treatment of parts made from cobalt-based alloy

Номер патента: RU2605394C1. Автор: Аскар Джамилевич Мингажев,Николай Константинович Криони,Алиса Аскаровна Мингажева,Раис Калимуллович Давлеткулов,Наиля Фёдоровна Измайлова,Евгения Вадимовна Бахтиарова. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет". Дата публикации: 2016-12-20.

Device for chemical forest care

Номер патента: RU2633793C1. Автор: Евгений Михайлович Царев,Сергей Евгеньевич Анисимов,Андрей Вячеславович Кренев,Денис Петрович Матвеенко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Поволжский государственный технологический университет". Дата публикации: 2017-10-18.

Method for chemical infiltration or vapor deposition

Номер патента: RU2738718C2. Автор: Стефан ГУЖАР,Адриен ДЕЛЬКАМ,Седрик ДЕСКАМ. Владелец: Сафран Серамикс. Дата публикации: 2020-12-15.

Anode for chemical current supply, method for its manufacture, and chemical current supply

Номер патента: RU2262159C1. Автор: А.И. Русин,Л.Н. Сысоева,В.В. Никольский,В.В. Кароник,Ю.М. Мухин,В.Е. Колесниченко. Владелец: Кароник Валерий Владимирович. Дата публикации: 2005-10-10.

Electrolyte for chemical current source

Номер патента: RU2489776C1. Автор: Александр Владимирович Колядо,Иван Кириллович Гаркушин,Татьяна Валерьевна Губанова,Александра Валерьевна Мальцева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный технический университет". Дата публикации: 2013-08-10.

Method for fabrication of nickel fibre electrode base with developed fibre surface for chemical current sources and nickel fibre electrode base fabricated using such method

Номер патента: RU2475896C2. Автор: Альберт Харисович Гильмутдинов,Михаил Валерьевич Морозов. Владелец: Михаил Валерьевич Морозов. Дата публикации: 2013-02-20.

Glass for chemical strengthening, chemically strengthened glass, and method for manufacturing chemically strengthened glass

Номер патента: EP3124446A1. Автор: Shuji Yamazaki,Junichiro Kase,Seiki Ohara,Shusaku AKIBA,Junko MIYASAKA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-01.

Control and monitoring system for chemical treatment of an oilfield well

Номер патента: CA2293686C. Автор: Michael H. Johnson,Alan Clemmit. Владелец: Baker Hughes Inc. Дата публикации: 2008-07-29.

Apparatus for chemical treatment of lignocellulosic materials

Номер патента: CA1309889C. Автор: Kwei-Nam Law. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-11-10.

Methods and systems for managing print device supplies using cloud administration system configured for chemical signature tracking

Номер патента: US8711413B2. Автор: Robert William Burke, JR.. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2014-04-29.

Methods and systems for managing print device supplies using cloud administration system configured for chemical signature tracking

Номер патента: US20130215452A1. Автор: Robert William Burke, JR.. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2013-08-22.

Stationary Assembly for Chemical Injection, Atomization, and Sacrificial Probe Corrosion Monitoring

Номер патента: US20170261420A1. Автор: George Patterson Bellis, SR.. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-09-14.

Distribution system for chemical and/or electrolytic surface treatment of simultaneously at least two substrates

Номер патента: EP4379096A1. Автор: Andreas GLEISSNER,Philipp Engesser,Harald Okorn-Schmidt,Herbert Ötzlinger,Marianne KOLITSCH MATALN. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2024-06-05.

Method and system for determining technical limit well spacing for chemical flooding for heavy-oil reservoir

Номер патента: US20210319153A1. Автор: ZHEN Wang,Zhongwei Wu,Chuanzhi CUI,Tongyu YAO,Yingfei Sui,Wenqian Zheng,Yangwen Zhu,Fuqing Yuan,Haijun Fan. Владелец: Shengli Oilfield Branch Of China Petrochemical Corp. Дата публикации: 2021-10-14.

Chemically strengthened glass, and glass for chemical strengthening

Номер патента: US11767252B2. Автор: Qing Li,Seiki Ohara,Shusaku AKIBA,Suguru MURAYAMA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Light-driven system and methods for chemical modification of an organic substrate

Номер патента: EP3322802A1. Автор: Claus Felby,David Cannella,Klaus Benedikt Möllers. Владелец: KOBENHAVNS UNIVERSITET. Дата публикации: 2018-05-23.

Light-driven system and methods for chemical modification of an organic substrate

Номер патента: US20180208908A1. Автор: Claus Felby,David Cannella,Klaus Benedikt Möllers. Владелец: KOBENHAVNS UNIVERSITET. Дата публикации: 2018-07-26.

Substituted cycloalkene new copper precursors for chemical vapor deposition of copper metal thin films

Номер патента: WO2002086189A1. Автор: David R. Evans,Sheng Teng Hsu,Tue Nguyen,Wei-Wei Zhuang,Lawrence J. Charneski. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2002-10-31.

Substituted cycloalkene new copper precursors for chemical vapor deposition of copper metal thin films

Номер патента: EP1387898A1. Автор: David R. Evans,Sheng Teng Hsu,Tue Nguyen,Wei-Wei Zhuang,Lawrence J. Charneski. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2004-02-11.

Equipment for chemical analysis

Номер патента: WO2004040292A1. Автор: Tautgirdas Ruzgas,Jan Krejci,Jan Kupka. Владелец: Bvt Technologies, S.R.O.. Дата публикации: 2004-05-13.

Particle counter for chemical solution

Номер патента: US09823190B2. Автор: Tomonobu Matsuda,Takashi Minakami,Masaki SHIMMURA. Владелец: Rion Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Systems and methods for chemically testing a sample and sampling probes therefor

Номер патента: US09658144B1. Автор: Colin Davies,Paul Danilchik,Steve Gunther. Владелец: Brooks Rand Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Use of salts as accelerators in an epoxy resin compound for chemical fastening

Номер патента: AU2019343453B2. Автор: Alexander Bornschlegl,Nicole Behrens,Armin Pfeil. Владелец: Hilti AG. Дата публикации: 2024-08-01.

Endoscope and a method for chemical modification of the members thereof

Номер патента: US09510733B2. Автор: Men-Luh Yen,Hsu-Hsien Chang,Yu-Shin Wang,Tai-Horng Young. Владелец: National Taiwan University NTU. Дата публикации: 2016-12-06.

Method for chemical enrichment of uranium with light isotopes

Номер патента: RU2756277C1. Автор: Анатолий Павлович Серебров,Владимир Георгиевич Зиновьев,Дарья Антоновна Румянцева,Иван Андреевич Митропольский,Петр Алексеевич Сушков,Татьяна Михайловна Тюкавина,Георгий Иванович Шуляк,Игорь Сергеевич Окунев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Петербургский институт ядерной физики им. Б.П. Константинова Национального исследовательского центра "Курчатовский институт". Дата публикации: 2021-09-30.

Solution for chemical etching of copper

Номер патента: RU2729265C1. Автор: Владимир Иванович Егоров,Александра Александровна Косенко,Евгений Иванович Остапенко,Тадеуш Иосифович Сороко. Владелец: Закрытое акционерное общество "ЭЛЕКТРОТЯГА". Дата публикации: 2020-08-05.

Nonwoven microporous material for chemical power supply separators and method for its production

Номер патента: RU2307428C2. Автор: Юрий Николаевич Филатов,Богдан Феодосиевич Садовский,Александр Константинович Будыка,н Арам Арташесович Захарь,Арам Арташесович Захарьян,н Сурен Григорьевич Саак,Сурен Григорьевич Саакян. Владелец: ООО "Нанотехнологические материалы БАЛТИКА". Дата публикации: 2007-09-27.

Melted electrolyte for chemical current source

Номер патента: RU2506668C1. Автор: Иван Кириллович Гаркушин,Татьяна Валерьевна Губанова,Екатерина Вячеславовна Золотухина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный технический университет". Дата публикации: 2014-02-10.

Methods and systems for chemical vapour sensing

Номер патента: EP3194956A1. Автор: John Thomas Huberts,Karl David Pavey,Nicholas John Fitzgerald,Craig Jason Stevens,Anthony Andrew Pahl,Igor Henricus Van de Griendt. Владелец: Commonwealth of Australia. Дата публикации: 2017-07-26.

Identification method for chemical neurotoxicity based on neuroethology

Номер патента: NL2029306B1. Автор: Wang Jun,Guo Min,Shi Lili,Ji Guixiang,Gu Aihua. Владелец: Nanjing Institute Of Environmental Sciences Mini Of Ecological And Environment. Дата публикации: 2021-12-07.

Fast screening method for chemical neurotoxicity by using transgenic zebrafish model

Номер патента: NL2029305B1. Автор: Wang Jun,Gu Jie,Guo Min,Shi Lili,Ji Guixiang,Gu Aihua. Владелец: Nanjing Institute Of Environmental Sciences Mini Of Ecological And Environment. Дата публикации: 2022-11-29.

Process for chemical recycling of post consumption poly(ethylene terephthalate) and equipment for chemical recycling of post consumption poly(ethylene terephthalate)

Номер патента: EP1934163A1. Автор: Luiz Alberto Jermolovicius,Edmilson Renato De Castro. Владелец: Braskem SA. Дата публикации: 2008-06-25.

Method for chemical processing of mixtures of gaseous c1-c6 hydrocarbons (alkanes) to c2-c3 olefins (ethylene and propylene)

Номер патента: RU2435830C1. Автор: Владимир Сергеевич Арутюнов,Павел Андреевич Шафрановский. Владелец: Закрытое акционерное общество "ШАГ". Дата публикации: 2011-12-10.

Lachrymal fluid obtaining method for chemical analysis

Номер патента: RU2743330C1. Автор: Евгения Львовна Атькова,Василий Дмитриевич Ярцев,Зоя Борисовна Хесина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Научно-исследовательский институт глазных болезней". Дата публикации: 2021-02-17.

Binder for chemical agents

Номер патента: CA1230191A. Автор: Richard R. Lattime,Michael R. Ambler,Edward Wanca. Владелец: Goodyear Tire and Rubber Co. Дата публикации: 1987-12-08.

An apparatus for chemical analysis and a method of adjusting the same

Номер патента: WO2023214258A1. Автор: Enrico Marchini,Giovanni Marchini. Владелец: Hta S.R.L.. Дата публикации: 2023-11-09.

Process and composition for chemical recycling of polymers having reduced chlorine content.

Номер патента: WO2024115058A1. Автор: Patrick Elisabeth Luc Voets,Maria Soliman,Carolus WILSENS,Nicolas GOYHENEIX,Johan PASTWA,Safa FARAJZADEH BIBALAN,Gerardus Theodorus Cornelis KWAKKENBOS. Владелец: Sabic Global Technologies B.V.. Дата публикации: 2024-06-06.

Generation of codes for chemical structures from nmr spectroscopy data

Номер патента: US20220189587A1. Автор: Djörk-Arné CLEVERT,Jan Robin Winter. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2022-06-16.

Method for chemical and heat treatment of articles of steel and alloys

Номер патента: RU2245939C2. Автор: ков Михаил Никифорович Бос,Михаил Никифорович Босяков,Дмитрий Владимирович Жук,Петр Александрович Матусевич. Владелец: Белорусско-американское предприятие общество с ограниченной ответственностью "Авиценна Интернешнл". Дата публикации: 2005-02-10.

Acid composition for chemical treatment and filter cake removal of well bore zone of reservoir

Номер патента: RU2677525C1. Автор: Мунавир Хадеевич Мусабиров,Алина Юрьевна Дмитриева,Ильшат Маратович Насибулин. Владелец: Публичное акционерное общество "Татнефть" имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2019-01-17.

Submersable dosing unit for chemical reagent

Номер патента: RU2633460C1. Автор: Дмитрий Михайлович Большаков,Али Тельман оглы Нагиев,Владимир Васильевич Жеребцов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Дрим Ойл". Дата публикации: 2017-10-12.

Molten electrolyte for chemical current source

Номер патента: RU2489777C1. Автор: Иван Кириллович Гаркушин,Татьяна Валерьевна Губанова,Юрий Васильевич Мощенский,Александра Валерьевна Мальцева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный технический университет". Дата публикации: 2013-08-10.

Electrolyte for chemical current source

Номер патента: RU2453014C1. Автор: Евгений Игоревич Фролов,Иван Кириллович Гаркушин,Татьяна Валерьевна Губанова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Самарский государственный технический университет. Дата публикации: 2012-06-10.

Electrolyte for chemical current source

Номер патента: RU2399994C1. Автор: Николай Николаевич Баталов,Евгений Игоревич Фролов,Иван Кириллович Гаркушин,Галина Александровна Филиппова,Татьяна Валерьевна Губанова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Самарский государственный технический университет. Дата публикации: 2010-09-20.

Device for chemical forest care

Номер патента: RU2635578C1. Автор: Евгений Михайлович Царев,Сергей Евгеньевич Анисимов,Андрей Вячеславович Кренев,Владислав Викторович Микрюков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Поволжский государственный технологический университет". Дата публикации: 2017-11-14.

Compositions and methods for chemical cleavage and removal of protection for surface-bound oligonucleotides

Номер патента: RU2766688C2. Автор: Уэйн Н. ДЖОРДЖ,Сяолинь У,Рэндалл СМИТ,Пейтон ШИЕХ,Джон М. БЕЙЕРЛ,Эллиот Джон ЛОУРЕНС,Цзе МАО,Сяохай ЛЮ. Владелец: Иллумина Кембридж Лимитед. Дата публикации: 2022-03-15.

Method for chemical enrichment of polymetallic manganese containing ore

Номер патента: RU2583224C1. Автор: Ольга Ивановна Нохрина,Оксана Юрьевна Кичигина,Ирина Дмитриевна Рожихина,Мария Сергеевна Костюк,Павел Дмитриевич Кравченко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирский государственный индустриальный университет". Дата публикации: 2016-05-10.

Installation for chemical purification of titanium tetrachloride from admixtures

Номер патента: RU2540515C1. Автор: Сергей Борисович Игнатьев,Сергей Иванович Потеха,Леонид Александрович Щепин,Дмитрий Викторович Щепотин. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Корпорация Всмпо-Ависма". Дата публикации: 2015-02-10.

Method to produce cathode material for chemical current sources

Номер патента: RU2482571C1. Автор: Валентин Иванович Сергиенко,Сергей Васильевич Гнеденков,Сергей Леонидович Синебрюхов,Александр Константинович Цветников,Денис Павлович Опра,Людмила Александровна Матвиенко. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт химии Дальневосточного отделения Российской академии наук (ИХ ДВО РАН). Дата публикации: 2013-05-20.

Method and apparatus for chemical analysis of specimens

Номер патента: CA1126140A. Автор: Franco Bognin,Bruno Colombo. Владелец: Carlo Erba Strumentazione SpA. Дата публикации: 1982-06-22.

Binder for chemical agents

Номер патента: US4539346A. Автор: Richard R. Lattime,Michael R. Ambler,Edward Wanca. Владелец: Goodyear Tire and Rubber Co. Дата публикации: 1985-09-03.

Use of diether compounds for chemically cleaning textile, leather or fur goods

Номер патента: CA2763392C. Автор: Cord Meyer,Manfred Seiter,Helmut Eigen. Владелец: Chemische Fabrik Kreussler and Co GmbH. Дата публикации: 2015-02-24.

Seal plates for chemical vapor infiltration & deposition chambers

Номер патента: US20230407463A1. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Shield body system for a process fluid for chemical and/or electrolytic surface treatment of a substrate

Номер патента: US20230313407A1. Автор: Andreas GLEISSNER,Harald Okorn-Schmidt,Herbert Ötzlinger,Marianne KOLITSCH-MATALN. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2023-10-05.

Method and formulation for chemical peeling

Номер патента: MY173734A. Автор: Paoli Ambrosi Mr Gianfranco De. Владелец: Paoli Ambrosi Mr Gianfranco De. Дата публикации: 2020-02-18.

Mandril assembly for chemical injection in oil wells

Номер патента: US11788381B2. Автор: Mario Germino Ferreira Da Silva,Giselle Maria Lopes Leite Da Silva. Владелец: Petroleo Brasileiro SA Petrobras. Дата публикации: 2023-10-17.

Seal plates for chemical vapor infiltration and deposition chambers

Номер патента: US11788186B2. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Culture system for chemically inducing generation of pluripotent stem cells and chemical reprogramming method using same

Номер патента: US20210047624A1. Автор: Jing Liu,Jing Ye,Dongwei Li,Duanqing Pei,Jiekai Chen,Shangtao CAO,Shengyong YU. Владелец: Guangzhou Institute of Biomedicine and Health of CAS. Дата публикации: 2021-02-18.

Manufacturing method for chemically strengthened glass

Номер патента: US20220274868A1. Автор: Hiroki Takahashi,Izuru Kashima,Kaname Sekiya. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-01.

Seal plates for chemical vapor infiltration & deposition chambers

Номер патента: EP3882373A1. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2021-09-22.

Glass composition for chemical strengthening and chemically strengthened glass article

Номер патента: US20230373844A1. Автор: Junji Kurachi,Akira Kitayama. Владелец: Nippon Sheet Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Green solvents for chemical reactions

Номер патента: US20240228507A1. Автор: Jeremy Luterbacher,Anastasiia KOMAROVA. Владелец: Ecole Polytechnique Federale de Lausanne EPFL. Дата публикации: 2024-07-11.

Glass sheet for chemical strengthening, manufacturing method of strengthened glass sheet, and glass sheet

Номер патента: US20240228371A9. Автор: Shigeyoshi Ito,Masashi Kosugi. Владелец: Nippon Electric Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Ion-gated nanochannel catalytic membrane reactor and methods/process for chemicals and fuels production

Номер патента: WO2024064224A3. Автор: Ren SHOUJIE. Владелец: E2H2Nano, Llc.. Дата публикации: 2024-04-25.

A method for chemical pulp production in a multi-stage process

Номер патента: WO2023059256A1. Автор: Michael Bergmann,Ari Hannimaki,Jussi Piira,Ola Larsson,Vesa Kaipainen,Hannu Pyykönen,Samuli Kinnunen. Владелец: Andritz AB. Дата публикации: 2023-04-13.

A method for chemical pulp production in a multi-stage process

Номер патента: CA3232872A1. Автор: Michael Bergmann,Ari Hannimaki,Jussi Piira,Ola Larsson,Vesa Kaipainen,Hannu Pyykönen,Samuli Kinnunen. Владелец: Andritz AB. Дата публикации: 2023-04-13.

Glass for chemical tempering

Номер патента: US20150307388A1. Автор: Jun Endo,Shigeki Sawamura,Shusaku AKIBA,Kazutaka Ono. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-29.

Wearable device and system for chemically repelling sharks

Номер патента: US20170013824A1. Автор: William H. Jackson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-01-19.

Two-component material for chemical fixing means

Номер патента: AU1380600A. Автор: Christian Weber,Jürgen Grün,Andreas Kiefer,Joachim Schatzle. Владелец: Fischerwerke Artur Fischer GmbH and Co KG. Дата публикации: 2000-06-05.

System and method for preparing multiple samples for chemical analysis using a common heat source

Номер патента: AU2023224518A1. Автор: Thomas Wong,Ravi Kanipayor,Kirill PEREVERZEV. Владелец: Coldblock Tech Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Diffractive device for chemical and biological analysis

Номер патента: CA3144564A1. Автор: Angel MAQUIEIRA CATALÁ,Pascual Muñoz Muñoz,Miguel Vicente Andres Bou,José Miguel AVELLÀ OLIVER,Augusto Miguel Juste Dolz,María Estrella FERNÁNDEZ SÁNCHEZ,Daniel Pastor Abellán,Martina Delgado Pinar. Владелец: UNIVERSITAT DE VALENCIA. Дата публикации: 2021-01-21.

Diffractive device for chemical and biological analysis

Номер патента: AU2020312756A1. Автор: Angel MAQUIEIRA CATALÁ,Pascual Muñoz Muñoz,Miguel Vicente Andres Bou,José Miguel AVELLÀ OLIVER,Augusto Miguel Juste Dolz,María Estrella FERNÁNDEZ SÁNCHEZ,Daniel Pastor Abellán,Martina Delgado Pinar. Владелец: UNIVERSITAT DE VALENCIA. Дата публикации: 2022-02-03.

Diffractive device for chemical and biological analysis

Номер патента: US20220349819A1. Автор: Angel MAQUIEIRA CATALÁ,Pascual Muñoz Muñoz,Miguel Vicente Andres Bou,José Miguel AVELLÀ OLIVER,Augusto Miguel Juste Dolz,María Estrella FERNÁNDEZ SÁNCHEZ,Daniel Pastor Abellán,Martina Delgado Pinar. Владелец: UNIVERSITAT DE VALENCIA. Дата публикации: 2022-11-03.

Method for chemically modifying a specific polymeric part in order to give it flame-retardant properties or to improve the latter, involving a covalent reaction with at least one specific flame-retardant compound

Номер патента: WO2023148356A1. Автор: Aurelien Auger,Jerome Delmas. Владелец: Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate holding and locking system for chemical and/or electrolytic surface treatment

Номер патента: US20230053226A1. Автор: Markus Gersdorff,Andreas GLEISSNER,Herbert Ötzlinger,Georg Höfer,Thomas WIRNSBERGER,Oliver Knoll,Raoul Schröder. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2023-02-16.

Process for chemically treating surfaces to increase wettability

Номер патента: US20240068108A1. Автор: Ana P. Lambert. Владелец: Tech Etch Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Process for chemically modifying a specific polymeric part in order to impart flame retardant properties thereto or to improve these properties

Номер патента: US20230357521A1. Автор: Aurelien Auger,Jerome Delmas,Isabelle Rougeaux,Jérémie AUVERGNIOT. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2023-11-09.

Dual cure system for chemically fastening anchoring means in a drill hole

Номер патента: AU2021380785A1. Автор: Armin Pfeil,Christian Slugovc,Christina Wappl. Владелец: Hilti AG. Дата публикации: 2023-05-04.

A method for chemical pulp production in a multi-stage process

Номер патента: EP4413200A1. Автор: Michael Bergmann,Ari Hannimaki,Jussi Piira,Ola Larsson,Vesa Kaipainen,Hannu Pyykönen,Samuli Kinnunen. Владелец: Andritz AB. Дата публикации: 2024-08-14.

Method for chemically synthesizing Helicobacter pylori core lipopolysaccharide oligosaccharide antigen carbohydrate chain

Номер патента: US12018306B2. Автор: Jian Yin,Jing Hu,Xiaopeng ZOU. Владелец: JIANGNAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-06-25.

Solid source and method for the synthesis of silicon-containing precursors for chemical vapor deposition

Номер патента: US09944532B2. Автор: Mihai Scarlete,Cetin Aktik. Владелец: SOCPRA Sciences et Genie SEC. Дата публикации: 2018-04-17.

Conduit slider for chemical and petrochemical systems

Номер патента: US09777845B2. Автор: Stefan Krieger,Metin Gerceker,Roland Travnicek. Владелец: Z&J Technologies GmbH. Дата публикации: 2017-10-03.

Sensor for continuous, real-time monitoring of carbon dioxide for chemical contaminants

Номер патента: US09772279B2. Автор: Robert E. Jones,Ruoya Wang,Daniel P. Campbell,Jayme Caspall,Janet COBB-SULLIVAN,Kenneth E. Johnson,Larry Starr,Michael Slawson. Владелец: Coca Cola Co. Дата публикации: 2017-09-26.

Glass composition, glass composition for chemical strengthening, strengthened glass article, and cover glass for display

Номер патента: US09764980B2. Автор: Junji Kurachi,Yutaka Senshu. Владелец: Nippon Sheet Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Glass composition, glass composition for chemical strengthening, strengthened glass article, and cover glass for display

Номер патента: US09688565B2. Автор: Junji Kurachi,Yutaka Senshu. Владелец: Nippon Sheet Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Float glass composition adapted for chemical strengthening

Номер патента: US09630873B2. Автор: Zhaoyu Wang,Kevin R. Fulton,Glenn A. Cerny,Samuel Olson,Kirk McMENAMIN. Владелец: Guardian Industries Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Systems and methods to distribute gas in reactor for chemical deposition from steam phase

Номер патента: RU2499081C2. Автор: Вэньцзюнь ЦИНЬ. Владелец: ДжиТиЭйТи Корпорейшн. Дата публикации: 2013-11-20.

Method for chemically treating a single side of a workpiece

Номер патента: US4165252A. Автор: Stephen R. Gibbs. Владелец: Burroughs Corp. Дата публикации: 1979-08-21.

Solutions for chemically polishing surfaces of copper and its alloys

Номер патента: CA1052674A. Автор: Harry Ericson,Carl O. Fredriksson. Владелец: Nordnero Ab. Дата публикации: 1979-04-17.

Method and apparatus for chemical heat treatment of steel parts utilizing a continuous electric furnace

Номер патента: US4455177A. Автор: Vladimir I. Filippov,Nikolai I. Parshin,Igor V. Barabanov,Eduard N. Marmer,Alexandr F. Puzanov,Alexandr B. Lobanov,Jury P. Usaty,Vladimir I. Gerasimov,Arkady K. Tikhonov,Viktor N. Turulin. Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-06-19.

Oiling frame for chemical fibre machines

Номер патента: US5324358A. Автор: Ching K. Tseng. Владелец: Individual. Дата публикации: 1994-06-28.

Improved charges for chemical fire extinguishers

Номер патента: GB170390A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1921-10-19.

Nondestructive method for chemically machining crucibles or molds from their enclosed ingots and castings

Номер патента: US5035769A. Автор: Herbert W. Newkirk,Norman D. Stout. Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 1991-07-30.

Process for chemically hardening wood and treatment solution therefor

Номер патента: CA1290909C. Автор: John Gordy. Владелец: Individual. Дата публикации: 1991-10-22.

Light-driven system and methods for chemical modification of an organic substrate

Номер патента: US11680250B2. Автор: Claus Felby,David Cannella,Klaus Benedikt Möllers. Владелец: KOBENHAVNS UNIVERSITET. Дата публикации: 2023-06-20.

Use of blend of waste plastic with bio feed for chemicals preparation

Номер патента: WO2024011261A1. Автор: Hye-Kyung C. Timken,Joel E. SCHMIDT,Tengfei Liu. Владелец: Chevron U.S.A. INC.. Дата публикации: 2024-01-11.

Use of blend of waste plastic with bio feed for chemicals preparation

Номер патента: US20240010940A1. Автор: Hye-Kyung C. Timken,Joel E. SCHMIDT,Tengfei Liu. Владелец: Chevron USA Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Compositions and methods for chemical synthesis

Номер патента: EP4251632A1. Автор: Cole SEIFERT. Владелец: Sederma SA. Дата публикации: 2023-10-04.

Organoruthenium compound for chemical deposition and chemical deposition process using the organoruthenium compound

Номер патента: US20110318488A1. Автор: Masayuki Saito,Kazuharu Suzuki,Shunichi Nabeya. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2011-12-29.

Analysis method for chemical and/or biological samples

Номер патента: WO2008009666A1. Автор: Karsten Kottig. Владелец: Evotec Technologie Gmbh. Дата публикации: 2008-01-24.

Epoxide-acrylate hybrid molecules and their use for chemical anchoring

Номер патента: EP4370576A1. Автор: Alexander Bornschlegl,Beate GNAß,Georg NICKERL,Ana-Maria Martin-Lasanta,Ursula Peschke. Владелец: Hilti AG. Дата публикации: 2024-05-22.

Energy supply system for chemical rock breaking system

Номер патента: WO2024123258A1. Автор: Yusuf Vasfi Ozalp. Владелец: Amity Ham Petrol Ve Doğal Gaz Arama Ve Üreti̇m Anoni̇m Şi̇rketi̇. Дата публикации: 2024-06-13.

Epoxide-acrylate hybrid molecules and their use for chemical anchoring

Номер патента: CA3219678A1. Автор: Alexander Bornschlegl,Beate GNAß,Georg NICKERL,Ana-Maria Martin-Lasanta,Ursula Peschke. Владелец: Hilti AG. Дата публикации: 2023-01-19.

Methods and intermediates for chemical synthesis of polypeptides and proteins

Номер патента: WO2009032181A3. Автор: Zheng Xin Dong,Sun H Kim. Владелец: Sod Conseils Rech Applic. Дата публикации: 2009-04-23.

Compositions and methods for chemical synthesis

Номер патента: US12024537B2. Автор: Cole SEIFERT. Владелец: Sederma SA. Дата публикации: 2024-07-02.

Process for the production of low-concentration ethylene for chemical use

Номер патента: CA2724590A1. Автор: Michel Strebelle,Dominique Balthasart,Hans-Dieter Winkler,Joachim Kötter,Michel Lempereur,Peter Mews. Владелец: SOLVAY SA. Дата публикации: 2009-12-10.

Composition and process for chemically stripping metallic deposits

Номер патента: CA1137396A. Автор: Lillie C. Tomaszewski. Владелец: Oxy Metal Industries Corp. Дата публикации: 1982-12-14.

Conduit slider for chemical and petrochemical systems

Номер патента: US20170102079A1. Автор: Stefan Krieger,Metin Gerceker,Roland Travnicek. Владелец: Z&J Technologies GmbH. Дата публикации: 2017-04-13.

Epoxide-acrylate hybrid molecules and their use for chemical anchoring

Номер патента: AU2022309804A1. Автор: Alexander Bornschlegl,Beate GNAß,Georg NICKERL,Ana-Maria Martin-Lasanta,Ursula Peschke. Владелец: Hilti AG. Дата публикации: 2023-12-14.

Metal compound, material for chemical vapor phase growth, and process for forming metal-containing thin film

Номер патента: US20100247765A1. Автор: Naoki Yamada,Senji Wada,Atsuya Yoshinaka. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2010-09-30.

Electrolyte for chemical source of current

Номер патента: RU2499334C1. Автор: Иван Кириллович Гаркушин,Татьяна Валерьевна Губанова,Александра Валерьевна Мальцева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный технический университет". Дата публикации: 2013-11-20.

Method for chemical cleaning of textile materials

Номер патента: RU2404315C2. Автор: Франк-Петер ЛАНГ. Владелец: Клариант Продукте (Дойчланд) Гмбх. Дата публикации: 2010-11-20.

Electrolyte for chemical current source

Номер патента: RU2484556C2. Автор: Николай Николаевич Баталов,Иван Кириллович Гаркушин,Татьяна Валерьевна Губанова,Елена Игоревна Малышева. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Самарский государственный технический университет. Дата публикации: 2013-06-10.

Process and apparatus for chemically removing ash from coal

Номер патента: CA1169800A. Автор: Takanobu Watanabe,Yasumi Kamino,Shigenori Onitsuka,Katsuyuki Yano. Владелец: Hitachi Zosen Corp. Дата публикации: 1984-06-26.

Method of manufacturing an injector for chemical vapor deposition processing

Номер патента: US5935647A. Автор: Jay B. DeDontney,Nicholas M. Gralenski,Adam Q. Miller. Владелец: WJ Semiconductor Equipment Group Inc. Дата публикации: 1999-08-10.

Comfort liners for chemical protective and other impermeable polymer gloves

Номер патента: CA2385442C. Автор: Julie Tremblay-Lutter. Владелец: Minister of National Defence of Canada. Дата публикации: 2007-07-03.

Herbicidal composition for chemically hoeing fields and cultivated land

Номер патента: CA1142769A. Автор: Claude Denninger,Georges Bonjour. Владелец: Rhodic. Дата публикации: 1983-03-15.

Precursor for chemical vapor deposition and thin film formation process using the same

Номер патента: US20040086643A1. Автор: Hiroki Sato,Kazuhisa Onozawa. Владелец: Asahi Denka Kogyo KK. Дата публикации: 2004-05-06.

Reference electrode for chemical sensors

Номер патента: CA2043613A1. Автор: Klemens Mathauer,Albrecht Vogel,Gerhard Wegner,Stefan Schwiegk,Bernd F. W. Hoffmann. Владелец: Individual. Дата публикации: 1991-12-03.

Method for chemical decontamination of the surface of a metal component in a nuclear reactor

Номер патента: CA1321128C. Автор: Horst-Otto Bertholdt,Rainer Gassen,Klaus Zeuch. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1993-08-10.

Apparatus for chemical vapor deposition (CVD) with showerhead

Номер патента: US8298370B2. Автор: Chul Soo Byun. Владелец: Piezonics Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-30.

Process and an apparatus for chemical reduction of phosphate content of water by adding at least one reagent which forms a crystalline difficulty soluble salt, and contacting the liquid with a seed material promoting the crystallisation

Номер патента: CA1125932A. Автор: Christiaan C. M. Trentelman,Johannes H. C. M. Oomen,Johannis C. Van Dijk. Владелец: DHV Raadgevend Ingenieursbureau BV. Дата публикации: 1982-06-15.

System for chemically digesting low level radioactive, solid waste material

Номер патента: US4313845A. Автор: Richard G. Cowan,Albert G. Blasewitz. Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 1982-02-02.

Process for chemically bonding a dyestuff to a polymeric substrate

Номер патента: US3854946A. Автор: A Sayigh,H Ulrich,F Stuber. Владелец: Upjohn Co. Дата публикации: 1974-12-17.

Vapour generator for chemical vapour deposition systems

Номер патента: CA2110647C. Автор: Daniele Bertone. Владелец: CSELT Centro Studi e Laboratori Telecomunicazioni SpA. Дата публикации: 1997-09-30.

Mortar mixture unit for chemical attachment of anchoring means in boreholes

Номер патента: US5730557A. Автор: Lutz Achim Sager,Roman Skupien,Frich Leibhard. Владелец: Hilti AG. Дата публикации: 1998-03-24.

Method for Chemically Synthesizing Helicobacter pylori Core Lipopolysaccharide Oligosaccharide Antigen Carbohydrate Chain

Номер патента: US20240068001A1. Автор: Jian Yin,Jing Hu,Xiaopeng ZOU. Владелец: JIANGNAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-02-29.

System and method for chemical looping

Номер патента: WO2018133968A3. Автор: Frederic Vitse,David Turek. Владелец: General Electric Technology GmbH. Дата публикации: 2018-08-30.

Device and method for chemical looping combustion, having a particle separator provided with an inclined intake duct

Номер патента: US11913640B2. Автор: Florent Guillou,Benjamin Amblard,Airy Tilland,Sina Tebianian,Ann Cloupet,Stephane Bertholin,Mahdi Yazdanpanah. Владелец: Total Raffinage Chimie SAS. Дата публикации: 2024-02-27.

Process for chemical synthesis of ergothioneine and methods of use

Номер патента: WO2023201707A1. Автор: Xi Zhu,Ying Zhu,Kylin LIAO,Dongdong YU,Yongxiao ZHU. Владелец: Nanjing Nutrabuilding Bio-Tech Co., Ltd.. Дата публикации: 2023-10-26.

Dispensing device for chemical products for households

Номер патента: WO2022146136A3. Автор: Mile MILANOVIKJ. Владелец: Green Future Dooel. Дата публикации: 2022-10-20.

System and method for preparing multiple samples for chemical analysis using a common heat source

Номер патента: WO2023159302A1. Автор: Thomas Wong,Ravi Kanipayor,Kirill PEREVERZEV. Владелец: Coldblock Technologies Inc.. Дата публикации: 2023-08-31.

Quantitative pooled-sample testing method and apparatus for chemical test items of consumer product

Номер патента: US20240118296A1. Автор: Qing Zhang,Lina Huang,Lezhou YI,Xiaoxia MAI,Weiqiang HUO. Владелец: Technology Center Of Guangzhou Customs. Дата публикации: 2024-04-11.

Float glass composition adapted for chemical strengthening

Номер патента: US20160272533A1. Автор: Zhaoyu Wang,Kevin R. Fulton,Glenn A. Cerny,Samuel Olson,Kirk McMENAMIN. Владелец: Guardian Industries Corp. Дата публикации: 2016-09-22.

Float glass for chemical strengthening

Номер патента: US20170121214A1. Автор: Akio Koike,Daisuke Kobayashi,Yusuke Fujiwara,Kazuhiko Yamanaka,Masanobu SHIRAI,Ryoji Akiyama,Yosuke Amino. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-04.

Diffractive device for chemical and biological analysis

Номер патента: US11815455B2. Автор: Angel MAQUIEIRA CATALÁ,Pascual Muñoz Muñoz,Miguel Vicente Andres Bou,José Miguel AVELLÀ OLIVER,Augusto Miguel Juste Dolz,María Estrella FERNÁNDEZ SÁNCHEZ,Daniel Pastor Abellán,Martina Delgado Pinar. Владелец: UNIVERSITAT DE VALENCIA. Дата публикации: 2023-11-14.

Glass for chemical strengthening

Номер патента: US11827560B2. Автор: Eriko Maeda,Suguru MURAYAMA,Kazuki Kanehara. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Glass plate for chemical reinforcement, method for manufacturing reinforced glass plate, and glass plate

Номер патента: EP4317092A1. Автор: Shigeyoshi Ito,Masashi Kosugi. Владелец: Nippon Electric Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Extractant and extraction method for removing color-expressing foreign substances from colored polymer containing ester functional group, and method for chemically selecting polymer containing ester functional group from colored polymer mixture

Номер патента: EP4317280A1. Автор: Joungmo CHO,Thi Hong Ngan LE,Ye Rim Jo. Владелец: Korea Research Institute of Chemical Technology KRICT. Дата публикации: 2024-02-07.

Preparation For Chemical Treatment Of Glass, Ceramic And Stone Surfaces

Номер патента: US20110217470A1. Автор: Cleo Kosanovic,Boris Subotic. Владелец: RUDJER BOSKOVIC INSTITUTE. Дата публикации: 2011-09-08.

Float glass for chemical strengthening

Номер патента: US9714193B2. Автор: Yuichi Suzuki,Tetsuya Nakashima,Jun Sasai. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Float glass for chemical strengthening

Номер патента: US20160023945A1. Автор: Yuichi Suzuki,Tetsuya Nakashima,Jun Sasai. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-28.

A method for chemical pulp production in a multi-stage process

Номер патента: FI130616B. Автор: Michael Bergmann,Ari Hannimaki,Jussi Piira,Ola Larsson,Vesa Kaipainen,Hannu Pyykönen,Samuli Kinnunen. Владелец: Andritz AB. Дата публикации: 2023-12-14.

Glass sheet for chemical strengthening, manufacturing method of strengthened glass sheet, and glass sheet

Номер патента: US20240132399A1. Автор: Shigeyoshi Ito,Masashi Kosugi. Владелец: Nippon Electric Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Green solvents for chemical reactions

Номер патента: EP4326725A1. Автор: Jeremy Luterbacher,Anastasiia KOMAROVA. Владелец: Ecole Polytechnique Federale de Lausanne EPFL. Дата публикации: 2024-02-28.

Substrate holding and locking system for chemical and/or electrolytic surface treatment

Номер патента: US11965263B2. Автор: Markus Gersdorff,Andreas GLEISSNER,Herbert Ötzlinger,Georg Höfer,Thomas WIRNSBERGER,Oliver Knoll,Raoul Schröder. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2024-04-23.

Comprehensive hazard evaluation system and method for chemicals and products

Номер патента: EP2441022A1. Автор: John A. Hall,Johnny R. Sanders, JR.,Denise A. Tuck,Cliff Paterson,Patrick Jack Finlay. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2012-04-18.

Comprehensive hazard evaluation system and method for chemicals and products

Номер патента: WO2010142937A1. Автор: John A. Hall,Johnny R. Sanders, JR.,Denise A. Tuck,Cliff Paterson,Patrick Jack Finlay. Владелец: Halliburton Enrgy Services, Inc.. Дата публикации: 2010-12-16.

Brick powder as a filler in multi-component systems for chemical fastening

Номер патента: CA3231488A1. Автор: Memet-Emin Kumru,Thomas Bürgel,Beate GNAß,Georg NICKERL. Владелец: Hilti AG. Дата публикации: 2023-05-19.

System and method for chemical looping

Номер патента: WO2018133968A2. Автор: Frederic Vitse,David Turek. Владелец: General Electric Technology GmbH. Дата публикации: 2018-07-26.

Device and methods for chemical vapor deposition

Номер патента: US20230257882A1. Автор: Chyi-Tsong Ni,Chih-Tsung Lee,Kuang-Wei Cheng,Yung-Tsun LIU,Sung-Ju Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Green solvents for chemical reactions

Номер патента: CA3215288A1. Автор: Jeremy Luterbacher,Anastasiia KOMAROVA. Владелец: Ecole Polytechnique Federale de Lausanne EPFL. Дата публикации: 2022-10-27.

Ion-gated nanochannel catalytic membrane reactor and methods/process for chemicals and fuels production

Номер патента: US20240092713A1. Автор: Shoujie Ren. Владелец: E2h2nano LLC. Дата публикации: 2024-03-21.

Float glass composition adapted for chemical strengthening

Номер патента: EP3271299A1. Автор: Zhaoyu Wang,Kevin R. Fulton,Glenn A. Cerny,Samuel Olson,Kirk McMENAMIN. Владелец: Guardian Glass LLC. Дата публикации: 2018-01-24.

Preparation for chemical treatment of glass, ceramic and stone surfaces

Номер патента: WO2010131057A3. Автор: Cleo Kosanovic,Boris Subotic. Владелец: RUDJER BOSKOVIC INSTITUTE. Дата публикации: 2011-08-11.

Preparation for chemical treatment of glass, ceramic and stone surfaces

Номер патента: EP2429964A2. Автор: Cleo Kosanovic,Boris Subotic. Владелец: Boskovic Rudjer Institute. Дата публикации: 2012-03-21.

Ion-gated nanochannel catalytic membrane reactor and methods/process for chemicals and fuels production

Номер патента: WO2024064224A2. Автор: Ren SHOUJIE. Владелец: E2H2Nano, Llc.. Дата публикации: 2024-03-28.

A process for chemically recycling polylactic acid (pla)

Номер патента: EP4381006A2. Автор: Jan Jager,Johan Albert Frans Kunst,Jorn Ekkehart BEHAGE,Marco BRONS. Владелец: Arapaha BV. Дата публикации: 2024-06-12.

Chemical-mechanical starch conversion

Номер патента: CA1117107A. Автор: Thomas L. Small,Richard D. Harvey,Thomas L. Gallaher,Raymond L. Mullikin. Владелец: Grain Processing Corp. Дата публикации: 1982-01-26.

Chemical-mechanical contouring (CMC) method for forming a contoured surface

Номер патента: US5940956A. Автор: Stephen G. Jordan. Владелец: Aiwa Co Ltd. Дата публикации: 1999-08-24.

Method for production of chemical-mechanical wood mass

Номер патента: RU2401350C2. Автор: Кай Эрик Йоханнес ВИКМАН,Майя ПИТКЯНЕН,Пирита СУОРТАМО,Оле НИКУЛЛ,Аули ЛАУРИЛА-ЛУММЕ. Владелец: М-Риал Ойй. Дата публикации: 2010-10-10.

Method of chemical-mechanical treatment of waste waters from operation of tanneries

Номер патента: WO2010009684A1. Автор: Artur BRODSKΫ,Jan NOVOTNΫ,Vetezslav Mazur,Sosorbaramy Altangerel,Yundendorjiin Enkhbold. Владелец: Eurosound Spol. S.R.O.. Дата публикации: 2010-01-28.

Ditch type floating ring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020086536A1. Автор: Wei-Chieh Hsu. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

POLYURETHANE, COMPOSITION FOR FORMATION OF POLISHING LAYERS THAT CONTAINS SAME, PAD FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD USING SAME

Номер патента: US20140223832A1. Автор: OKAMOTO Takahiro,KUWABARA Rikimaru. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2014-08-14.

Pad break-in method for chemical mechanical polishing tool which polishes with ceria-based slurry

Номер патента: TWI286958B. Автор: Kuo-Chun Wu,Karen Wong. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2007-09-21.

Polishing pad for chemical-mechanical polishing of a semiconductor substrate

Номер патента: US5628862A. Автор: Chris C. Yu,Tat-Kwan Yu. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1997-05-13.

Three-dimensional network for chemical mechanical polishing

Номер патента: US7604529B2. Автор: Gregory P. Muldowney. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2009-10-20.

Apparatus and method for endpoint detection and monitoring for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: WO2004002680A1. Автор: Karl E. Mautz. Владелец: Freescale Semiconductor, Inc.. Дата публикации: 2004-01-08.

EROSION INHIBITOR FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, SLURRY FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD

Номер патента: US20140154884A1. Автор: Kato Shinya,KATO Mitsuru,OKAMOTO Chihiro,TAKEGOSHI Minori. Владелец: KURARAY CO., LTD.. Дата публикации: 2014-06-05.

AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD

Номер патента: US20150344739A1. Автор: Konno Tomohisa,Yamanaka Tatsuya,KAMEI Yasutaka,MIYAZAKI Yoshitaka. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2015-12-03.

Method for establishing copper interconnection chemical mechanically mechanical polishing process model

Номер патента: CN101887467A. Автор: 曾璇,严昌浩,陶俊,冯春阳. Владелец: FUDAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2010-11-17.

ENDPOINT CONTROL DURING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING BY DETECTING INTERFACE BETWEEN DIFFERENT LAYERS THROUGH SELECTIVITY CHANGE

Номер патента: US20120003759A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Chemical - mechanical polishing method

Номер патента: RU2305621C1. Автор: Владимир Николаевич Хмелёв,Андрей Викторович Шалунов,Роман Владиславович Барсуков,Сергей Николаевич Цыганок,Алексей Николаевич Сливин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова" (АлтГТУ). Дата публикации: 2007-09-10.

METAL CONDUCTOR CHEMICAL MECHANICAL POLISH

Номер патента: US20120001262A1. Автор: Yang Chi-Ming,Lin Chin-Hsiang,Jeng Shwang-Ming,Kang Huang Soon,Kuo Han-Hsin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITION FOR ADVANCED NODE FRONT-AND BACK-END OF LINE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING

Номер патента: US20120003901A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: MY137114A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Chemical mechanical polishing pad having wave-shaped grooves

Номер патента: MY137105A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha,Hwang In-Ju. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Slurry composition for use in chemical mechanical polishing of metal wiring

Номер патента: MY140033A. Автор: Hyun Soo Roh,Kil Sung Lee,Jae Seok Lee,Chang Ki Hong,Bo Un Yoon,Won Joong Do,Jong Won Lee,Sang Rok Hah,Joon Sang Park. Владелец: Cheil Ind Inc. Дата публикации: 2009-11-30.

Method for chemical processing of oil and gas wells and device for realization of method

Номер патента: RU2288357C1. Автор: Сергей Федорович Михайлов,Игорь Михайлович Глазков,Сергей Владимирович Абатуров. Владелец: Сергей Владимирович Абатуров. Дата публикации: 2006-11-27.

Indicator flat element for chemical detection of substances (versions)

Номер патента: RU2470292C2. Автор: Геннадий Александрович Голубев,Наталья Николаевна Гаврилова,Николай Дмитриевич Степанов,Владимир Валентинович Громов,Равза Садыковна Балтабекова,Ольга Владимировна Крюкова,Надежда Михайловна Прокофьева,Елена Ивановна Гарнова,Ольга Николаевна Иванькова,Оксана Витальевна Белан. Владелец: Закрытое акционерное общество "Научно-производственная фирма "СЕРВЭК". Дата публикации: 2012-12-20.

Dicationic polymer and copolymer and their use for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024129383A1. Автор: Gregor Larbig,Sana MA. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-06-20.

Procedure for chemical purification of melted magnesium chloride from impurities for electrolytic production of magnesium

Номер патента: RU2427670C1. Автор: Николай Александрович Шундиков,Виктор Иванович Трифонов,Валерий Владимирович Тетерин,Валерий Афанасьевич Колесников,Сергей Михайлович Елин. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Корпорация Всмпо-Ависма". Дата публикации: 2011-08-27.

Ointment for chemical skin burn prevention and method for chemical skin burn prevention with using ointment

Номер патента: RU2429819C1. Автор: Павел Борисович Панов,Владимир Михайлович Золотарев,Ольга Олеговна ВЛАДИМИРОВА,Наталья Александровна Миненко,Роман Камилович Мамедов,Елизавета Петровна Ивантеева. Владелец: Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Военно-медицинская академия им. С.М. Кирова". Дата публикации: 2011-09-27.

Agent for chemical sterilisation and disinfection

Номер патента: RU2337714C1. Автор: Михаил Васильевич Аврамчиков,Наталь Адамовна Сакольчик,Наталья Адамовна Сакольчик. Владелец: Иностранное Частное Унитарное Производственно-Торговое Предприятие "Инкраслав" Фирмы "Вера, О.О.О. Прешов". Дата публикации: 2008-11-10.

Method of producing cathode material for chemical current sources

Номер патента: RU2597607C1. Автор: Валентин Иванович Сергиенко,Сергей Васильевич Гнеденков,Сергей Леонидович Синебрюхов,Александр Александрович Соколов,Александр Константинович Цветников,Денис Павлович Опра,Людмила Александровна Матвиенко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт химии Дальневосточного отделения Российской академии наук (ИХ ДВО РАН). Дата публикации: 2016-09-10.

Method for chemical stabilization of galvanic sludges being for long time on storage

Номер патента: RU2282598C1. Автор: Олег Игоревич Лейбель,Валерий Алексеевич Мишин,Игорь Григорьевич Лейбель,Виктор Валерьевич Семенов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет". Дата публикации: 2006-08-27.

Solution for chemical polishing titanium

Номер патента: RU2260634C1. Автор: В.Л. Котов,М.Г. Донцов,О.И. Невский,А.В. Балмасов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ивановский государственный химико-технологический университет" (ГОУВПО "ИГХТУ"). Дата публикации: 2005-09-20.

Electrolyte for chemical current source (versions)

Номер патента: RU2530893C2. Автор: Иван Кириллович Гаркушин,Татьяна Валерьевна Губанова,Екатерина Вячеславовна Золотухина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный технический университет". Дата публикации: 2014-10-20.

Installation for chemical cleaning of heating systems

Номер патента: RU2317503C1. Автор: Константин Александрович Лаврухин,Евгений Викторович Строганов. Владелец: Евгений Викторович Строганов. Дата публикации: 2008-02-20.

Device for chemical injection in well, surface equipment and method of chemical injection

Номер патента: RU2552276C1. Автор: Станислав Викторович Лялин. Владелец: Станислав Викторович Лялин. Дата публикации: 2015-06-10.

Melted electrolyte for chemical current source

Номер патента: RU2566362C2. Автор: Иван Кириллович Гаркушин,Татьяна Валерьевна Губанова,Екатерина Вячеславовна Дорошева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный технический университет". Дата публикации: 2015-10-27.

Apparatus for chemical purification and drying of articles

Номер патента: RU2580259C1. Автор: Алексей Алексеевич Исаев,Павел Иванович Бойко,Николай Петрович Зубков,Татьяна Петровна Симонова. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Исток" имени А.И. Шокина" (АО "НПП "Исток" им. Шокина"). Дата публикации: 2016-04-10.

Solution for chemical deposition of composite coating

Номер патента: RU2451113C1. Автор: Валерий Владимирович Иванов,Петр Дмитриевич Дерлугян,Федор Петрович Дерлугян,Игорь Николаевич Щербаков,Геннадий Еремеевич Трофимов,Владимир Тихонович Логинов,Максим Юрьевич Шевченко. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие Особое конструкторско-технологическое бюро "ОРИОН". Дата публикации: 2012-05-20.

Piston-free machine for chemical interaction of gas mixtures

Номер патента: RU2325225C1. Автор: Петр Петрович Петров,Александр Петрович Самойлов. Владелец: Закрытое акционерное общество "Метанол и азотные процессы". Дата публикации: 2008-05-27.

Spreader for chemical fertilizers

Номер патента: RU2323563C1. Автор: Юрий Николаевич Волгин,Елена Борисовна Демина. Владелец: Государственное научное учреждение "Всероссийский научно-исследовательский проектно-технологический институт механизации и электрификации сельского хозяйства" (ГНУ ВНИПТИМЭСХ). Дата публикации: 2008-05-10.

Method for chemical modification of elastomers in solution of chlorine-containing hydrocarbon

Номер патента: RU2641273C1. Автор: Анатолий Анатольевич Попов,Юрик Оганесович Андриасян,Игорь Анатольевич Михайлов,Александр Львович Коварский,Ксения Валерьевна Сухарева,Валерий Владимирович Каспаров. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт биохимической физики им. Н.М. Эмануэля Российской академии наук (ИБХФ РАН). Дата публикации: 2018-01-16.

Solution for chemical deposition of composite coating

Номер патента: RU2509176C1. Автор: Валерий Владимирович Иванов,Петр Дмитриевич Дерлугян,Игорь Николаевич Щербаков,Геннадий Еремеевич Трофимов,Владимир Тихонович Логинов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие Особое конструкторско-технологическое бюро "ОРИОН". Дата публикации: 2014-03-10.

Method for chemical treatment of plants and apparatus for performing the same

Номер патента: RU2297140C1. Автор: Адаман Габдинагимович Габдуллин. Владелец: Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт овощеводства (ГНУ ВНИИО). Дата публикации: 2007-04-20.

Device for chemical-dynamical etching of germanium substrates

Номер патента: RU2520955C1. Автор: Борис Николаевич Самсоненко,Олег Михайлович Пишко,Валерий Геннадьевич Захаров. Владелец: Открытое акционерное общество "Сатурн". Дата публикации: 2014-06-27.

Method for chemical sensitizing of photographic emulsion

Номер патента: RU2253144C1. Автор: Е.И. Кагакин,А.В. Петрушина. Владелец: Кемеровский государственный университет (КемГУ). Дата публикации: 2005-05-27.

Electrolyte for chemical current source

Номер патента: RU2505891C1. Автор: Иван Кириллович Гаркушин,Мария Александровна Радзиховская,Елена Григорьевна Данилушкина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный технический университет". Дата публикации: 2014-01-27.

Device for chemical tree surgery

Номер патента: RU2522788C2. Автор: Евгений Михайлович Царев,Андрей Вячеславович Кренев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Поволжский государственный технологический университет. Дата публикации: 2014-07-20.

Reagent preparation method for chemical treatment of drill mud

Номер патента: RU2567574C2. Автор: Алекпер Багир Оглы Сулейманов,Эльчин Ариф Оглы Кязимов,Намиг Мамедкули оглы Алиев,Шахназ Сафар кызы Байрамова. Владелец: Научно-Исследовательский И Проектный Институт Нефти И Газа (Нипинг). Дата публикации: 2015-11-10.

Method for chemical protection of downhole equipment against corrosion, paraffin and salt deposits and against sulfate-reducing bacteria

Номер патента: RU2260677C1. Автор: Ф.Ф. Хасанов,И.Ш. Гарифуллин,Т.М. Вахитов,В.Г. Акшенцев,Н.С. Волочков,М.К. Рогачев,Е.Н. Сафонов,Ф.С. Гарифуллин,П.К. Васильев,М.К. Баймухаметов. Владелец: Открытое акционерное общество "Акционерная нефтяная компания "Башнефть". Дата публикации: 2005-09-20.

Method for chemical removal of impurities from chlorine-magnesium melt

Номер патента: RU2307789C2. Автор: Николай Александрович Шундиков,Валерий Владимирович Тетерин,Илья Николаевич Бездоля,Иль Николаевич Бездол,Владимир Семенович Бабин,Эдуард Федорович Михайлов,Борис Ефимович Батенев. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Корпорация Всмпо-Ависма". Дата публикации: 2007-10-10.

Solution for chemical nickel plating

Номер патента: RU2293137C1. Автор: Владимир Федорович Борбат,Николай Александрович Белых,Валерий Анатольевич Мухин,Марина Анатольевна Носова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Омский государственный университет им. Ф.М. Достоевского". Дата публикации: 2007-02-10.

Device for chemical analysis of molten mass and device for realising said method

Номер патента: RU2397471C1. Автор: Дмитрий Владимирович Мишин,Андрей Алексеевич Ковытин. Владелец: ООО "Нординкрафт-Сенсор". Дата публикации: 2010-08-20.

Method for chemical ablation of hypertrophied myocardium section

Номер патента: RU2568166C1. Автор: Нариман Фаридович Салахутдинов,Давид Сергеевич Сергеевичев,Евгений Анатольевич Покушалов,Владислав Викторович Фоменко,Артем Григорьевич Стрельников,Александр Борисович Романов,Евгений Иванович Кретов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Новосибирский научно-исследовательский институт патологии кровообращения имени академика Е.Н. Мешалкина" Министерства здравоохранения Российской Федерации (ФГБУ "ННИИПК им. акад. Е.Н. Мешалкина" Минздрава России). Дата публикации: 2015-11-10.

Liquid for chemical polishing of niobium

Номер патента: RU2023751C1. Автор: Александр Михайлович Федоренко,Татьяна Аркадиевна Цыганкова,Светлана Эйвазовна Джафарова. Владелец: Симферопольский государственный университет им.М.В.Фрунзе. Дата публикации: 1994-11-30.

Solution for chemical deposition of nickel-phosphoric coatings

Номер патента: RU2354746C2. Автор: Галина Алексеевна Данюшина,Петр Дмитриевич Дерлугян,Александр Сергеевич Кужаров,Валерий Анатольевич Левинцев,Владимир Тихонович Логинов,Андрей Александрович Кужаров,Наталья Львовна Игнатенко,Юлия Васильевна Демидченко,Галина Алексеевна Данюшина (RU),Александр Сергеевич Кужаров (RU),Владимир Тихонович Логинов (RU),Валерий Анатольевич Левинцев (RU),Андрей Александрович Кужаров (RU),Петр Дмитриевич Дерлугян (RU),Наталья Львовна Игнатенко (RU),Юлия Васильевна Демидченко (RU). Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Особое конструкторско-технологическое бюро "ОРИОН". Дата публикации: 2009-05-10.

Solution for chemical silver-plating of copper alloys

Номер патента: RU2499082C1. Автор: Владислав Алексеевич Трегубов,Светлана Сергеевна Симунова,Татьяна Федоровна Юдина,Татьяна Вениаминовна Ершова,Максим Алексеевич Матюшин. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт приборостроения имени В.В. Тихомирова". Дата публикации: 2013-11-20.

Solution for chemical copper plating of dielectrics

Номер патента: RU2114212C1. Автор: О.И. Ломовский,Е.И. Фадеев. Владелец: Институт химии твердого тела и переработки минерального сырья СО РАН. Дата публикации: 1998-06-27.

Compounds for chemically marking a petroleum hydrocarbon

Номер патента: PH12020050496A1. Автор: Thomas Tiller,Toralf Beitz,Daniel RIEBE,Gejo Juan Lopez,Martin ZšHlke,šNige Laskay. Владелец: SICPA HOLDING SA. Дата публикации: 2022-02-14.

Jet assembly for chemical treatment of bottomhole zone

Номер патента: RU2330995C1. Автор: Аленик Григорьевич Газаров,В чеслав Михайлович Никитин,Вячеслав Михайлович Никитин,Николай Николаевич Хлустиков. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью Когалымский научно-исследовательский и проектный институт нефти (ООО "КогалымНИПИнефть). Дата публикации: 2008-08-10.

Piston-free machine for chemical interaction of gas mixtures

Номер патента: RU2325224C1. Автор: Петр Петрович Петров,Александр Петрович Самойлов. Владелец: Закрытое акционерное общество "Метанол и азотные процессы". Дата публикации: 2008-05-27.

Method of production of sulfate pulp for chemical processing

Номер патента: RU2499857C1. Автор: Александр Дмитриевич Сергеев,Леонид Асхатович Мазитов,Эдуард Львович Аким,Марина Викторовна Коваленко,Юрий Георгиевич Мандре. Владелец: Открытое акционерное общество "Группа "Илим". Дата публикации: 2013-11-27.

Aqueous solution for chemical deposition of tin on copper or copper alloy surface

Номер патента: RU2564190C1. Автор: Владимир Федорович Борбат,Николай Петрович Пахомов. Владелец: Открытое акционерное общество "Омский научно-исследовательский институт приборостроения" (ОАО "ОНИИП"). Дата публикации: 2015-09-27.

High-strength cold-rolled steel sheet suitable for chemical conversion and method of its production

Номер патента: RU2525013C1. Автор: Хидетака КАВАБЕ,Кунихиро СЕНДА,Такеси ЁКОТА. Владелец: ДжФЕ СТИЛ КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2014-08-10.

Solution used for chemical deposition of composite nickel coatings

Номер патента: RU2465374C1. Автор: Валентин Владимирович Сафонов,Сергей Александрович Шишурин,Владимир Сергеевич Сёмочкин. Владелец: Владимир Сергеевич Сёмочкин. Дата публикации: 2012-10-27.

Line for chemical processing of components and drum for it

Номер патента: RU2544723C1. Автор: Сергей Алексеевич Калинин,Владимир Александрович Шмаков,Алексей Сергеевич Фролов. Владелец: Закрытое акционерное общество "Климовский специализированный патронный завод". Дата публикации: 2015-03-20.

Solution for chemical deposition of nickel-boron alloy

Номер патента: RU2463383C1. Автор: Виктор Владимирович Никитин,Андрей Витальевич Сидоров. Владелец: Андрей Витальевич Сидоров. Дата публикации: 2012-10-10.

Composition for chemical treatment of items out of aluminium and its alloys

Номер патента: RU2409702C1. Автор: Светлана Алексеевна Каримова,Татьяна Глебовна Павловская,Татьяна Ивановна Тарараева,Екатерина Сергеевна Чумакова. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает государственный заказчик - Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России). Дата публикации: 2011-01-20.

Method for chemical treatment and deactivation of pressured water-cooled research and power reactor circuits

Номер патента: RU2558732C2. Автор: Игорь Константинович Степанов,Андрей Игоревич Степанов,Александр Брониславович Гелбутовский,Петр Иванович Черемисин. Владелец: Закрытое акционерное общество "Экомет-С". Дата публикации: 2015-08-10.

Composition for chemically treating organic glass articles

Номер патента: RU2229489C1. Автор: А.В. Пестов,В.И. Ирков,Р.П. Келина,О.Ф. Просовский. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Обнинское научно-производственное предприятие "Технология". Дата публикации: 2004-05-27.

Solution for chemically depositing protective coating on powder steels

Номер патента: RU2298594C1. Автор: Сергей Петрович Канюка,Галина Алексеевна Данюшина,Петр Дмитриевич Дерлугян,Владимир Тихонович Логинов,н Петр Дмитриевич Дерлуг,Андрей Александрович Кутьков,Игорь Алексеевич Калабуков. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Особое конструкторско-технологическое бюро "ОРИОН". Дата публикации: 2007-05-10.

Driven reinforced concrete pile for chemical fixation of loose sands and method to fix soil surrounding pile body

Номер патента: RU2492293C2. Автор: Владимир Васильевич Кочерженко,Николай Георгиевич Соколов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Белгородский государственный технологический университет им. В.Г. Шухова". Дата публикации: 2013-09-10.

Solution for chemical deposition of composite nickel coatings

Номер патента: RU2524462C1. Автор: Василий Григорьевич Шишка,Галина Алексеевна Данюшина,Петр Дмитриевич Дерлугян,Юрий Михайлович Бережной,Инна Викторовна Иванова. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие Особое конструкторско-технологическое бюро "ОРИОН". Дата публикации: 2014-07-27.

Method for chemical modification of vinylidene fluoride copolymers

Номер патента: RU2452746C2. Автор: Виктор Андреевич Губанов,Михаил Васильевич Журавлев,Игорь Владимирович Кокотин,Николай Валентинович Лебедев,Олег Владимирович Баринов,Ольга Викториновна Благодатова. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Ордена Ленина и ордена Трудового Красного Знамени научно-исследовательский институт синтетического каучука имени академика С.В. Лебедева" (ФГУП "НИИСК"). Дата публикации: 2012-06-10.

Device for chemical firing of propellant components in liquid-propellant rocket engine

Номер патента: RU2509910C1. Автор: Александр Васильевич Кузнецов,Виктор Дмитриевич Горохов,Дмитрий Владимирович Радько,Дмитрий Николаевич Билевич,Вячеслав Васильевич Сальников. Владелец: Открытое акционерное общество "Конструкторское бюро химавтоматики". Дата публикации: 2014-03-20.

Process and apparatus for chemical conversion

Номер патента: WO1996014726A9. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1996-09-12.

Improvements in Colours for Chemical Printing.

Номер патента: GB190101366A. Автор: Adolf Hoz. Владелец: Individual. Дата публикации: 1901-08-31.

Processes for Heating Carbonaceous Material applicable for Chemical and other Similar Processes

Номер патента: GB190405094A. Автор: . Владелец: L IND VERRIERE ET SES DERIVES. Дата публикации: 1904-08-11.

Improved Packing Pieces for Chemical Absorption, Condensing, and like Towers.

Номер патента: GB190818831A. Автор: Ernest Phelps Peyton. Владелец: Individual. Дата публикации: 1909-06-24.

Improvements in the Manufacture of Earthenware for Chemical, Metallurgical, and other Purposes.

Номер патента: GB189729837A. Автор: William Matthews,Andrew Matthews. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-12-10.

Triode method for chemical and heat treatment in discharge

Номер патента: RU2034094C1. Автор: А.А. Фёдоров. Владелец: Кубанский государственный технологический университет. Дата публикации: 1995-04-30.

Process for chemical and thermal treatment of steel workpiece

Номер патента: CA1253039A. Автор: Viktor F. Shatinsky,Evgeny M. Savitsky,Valery V. Chepkasov,Valentin V. Sulyagin,Evgeny M. Rudkovsky,Nelli B. Gorina,Petr M. Khudyk,Viktoria P. Polyakova,Mikhail S. Goikhman. Владелец: Fiziko-Mekhanichesky Institut Imeni Gv Karpenko Akademii Nauk Ukrainskoi Ssr. Дата публикации: 1989-04-25.

Compounds for chemically marking a petroleum hydrocarbon.

Номер патента: OA19999A. Автор: Thomas Tiller,Toralf Beitz,Ünige LASKAY,Juan Lopez Gejo,Daniel RIEBE,Martin ZÜHKE. Владелец: SICPA HOLDING SA. Дата публикации: 2021-08-31.

Compounds for chemically marking a petroleum hydrocarbon

Номер патента: OA19998A. Автор: Thomas Tiller,Toralf Beitz,Ünige LASKAY,Daniel RIEBE,Martin ZÜHKE,Gejo Lopez. Владелец: SICPA HOLDING SA. Дата публикации: 2021-08-31.

Method for chemical cleaning of body cavities of water-cooled assemblies and components of water cooling system of locomotive diesel from scale and corrosion deposits

Номер патента: RU2550416C1. Автор: Александр Юрьевич Широков,Бадруди Сайфуддинович Джамалханов. Владелец: Бадруди Сайфуддинович Джамалханов. Дата публикации: 2015-05-10.

Machine for chemical finishing hardening processing of parts

Номер патента: RU2519398C1. Автор: Георгий Васильевич Серга,Валерий Александрович Лебедев,Владимир Витальевич Иванов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный аграрный университет". Дата публикации: 2014-06-10.

Method for chemical application of stannic coating onto parts from copper or its alloys

Номер патента: RU2491369C1. Автор: Андрей Анатольевич Усков,Игорь Леонидович Коптелов. Владелец: Игорь Леонидович Коптелов. Дата публикации: 2013-08-27.

Procedure for chemical-thermal treatment of items out of powder materials on base of iron

Номер патента: RU2406782C2. Автор: Алексей Борисович Коростелев,Дарья Александровна Чумак-Жунь,Алексей Борисович Коростелев (RU),Дарья Александровна Чумак-Жунь (RU). Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московский государственный вечерний металлургический институт. Дата публикации: 2010-12-20.

Method for chemical removal of scale and corrosive deposits from internal cavities of heat-exchange equipment

Номер патента: RU2532867C1. Автор: Александр Юрьевич Широков,Бадруди Сайфуддинович Джамалханов. Владелец: Бадруди Сайфуддинович Джамалханов. Дата публикации: 2014-11-10.

Method for chemical processing of birch bark with extraction of such products as betulin and suberin

Номер патента: RU2439093C1. Автор: Евгений Леонидович Мальчиков,Анастасия Евгеньевна Леканова,Евгений Владимирович Фоменко. Владелец: Евгений Владимирович Фоменко. Дата публикации: 2012-01-10.

Automatic line for chemical and electrolytic coating

Номер патента: RU2379382C2. Автор: Владимир Николаевич Хитрун,Сергей Викторович Бузанов. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Научно-Производственное Предприятие "Роботэк Нн". Дата публикации: 2010-01-20.

Method for treating plants at manufacturing plant growing production, composition used in this method for chemical protection in plants

Номер патента: RU2203544C1. Автор: О.И. Квасенков,С.А. Ермоленко. Владелец: Всероссийский научно-исследовательский институт биологической защиты растений. Дата публикации: 2003-05-10.

Method for production of cellulose for chemical processing

Номер патента: RU2018558C1. Автор: Н.В. Балакшина,Н.Р. Богданова. Владелец: Котласский целлюлозно-бумажный комбинат. Дата публикации: 1994-08-30.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, polishing method for chemical mechanical polishing aqueous dispersion, and chemical mechanical polishing method for polishing a wiring layer made of copper or copper alloy provided on a substrate for an electro-optical display device

Номер патента: JP5263484B2. Автор: 和男 西元,智隆 篠田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-08-14.

POLYURETHANE, COMPOSITION FOR FORMATION OF POLISHING LAYERS THAT CONTAINS SAME, PAD FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD USING SAME

Номер патента: US20120083187A1. Автор: OKAMOTO Takahiro,KUWABARA Rikimaru. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2012-04-05.

Estimation method of polishing time for chemical mechanical polishing process

Номер патента: TW450873B. Автор: Ying-Lang Wang,Yu-Gu Lin,Wen-Bin Jang,Huei-Chi Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2001-08-21.

Replaceable polishing pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW422761B. Автор: Shiou-Mei You,Shiue-Jung Chen. Владелец: Ind Tech Res Inst. Дата публикации: 2001-02-21.

Polishing time controlling method and apparatus for chemical mechanical polishing process

Номер патента: TW200505629A. Автор: Alan Su,Jason C S Chu. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2005-02-16.

AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD USING SAME

Номер патента: US20120175550A1. Автор: . Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2012-07-12.

PAD FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND METHOD OF CHEMICAL MECHANICAL POLISHING USING SAME

Номер патента: US20120322348A1. Автор: . Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2012-12-20.

Composition for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JP6819280B2. Автор: 英一郎 國谷,山田　裕也,昌宏 野田,裕也 山田,康平 西村,洋太 石戸,恭兵 渋谷. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-01-27.

Composition for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JP6938910B2. Автор: 英一郎 國谷,山田　裕也,昌宏 野田,裕也 山田,康平 西村,恭兵 渋谷. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-09-22.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.