Method of clamping a substrate and clamp preparation unit using capillary clamping force
Номер патента: US09460954B2
Опубликовано: 04-10-2016
Автор(ы): Hendrik Jan De Jong, Marco Jan-Jaco Wieland
Принадлежит: Mapper Lithopraphy IP BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 04-10-2016
Автор(ы): Hendrik Jan De Jong, Marco Jan-Jaco Wieland
Принадлежит: Mapper Lithopraphy IP BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of applying a pattern to a substrate
Номер патента: US09658541B2. Автор: Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Bearrach Moest,Willem Jurrianus Venema,Vasco Miguel MATIAS SERRAO,Cedran Bomhof. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-05-23.