METHODS OF ENHANCING SURFACE TOPOGRAPHY ON A SUBSTRATE FOR INSPECTION
Номер патента: US20200066538A1
Опубликовано: 27-02-2020
Автор(ы): Chun-Chih Lin, Han-Wen LIAO, Jun Xiu Liu
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-02-2020
Автор(ы): Chun-Chih Lin, Han-Wen LIAO, Jun Xiu Liu
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor device and method of forming the same
Номер патента: US09972678B2. Автор: Chia-Lin Wang,Chih-Chung Wang,Shih-Yin Hsiao,Wen-Fang Lee,Ping-Hung Chiang,Chang-Po Hsiung,Shih-Chieh Pu,Nien-Chung Li. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-05-15.