Wet strip process for an antireflective coating layer
Номер патента: US09460934B2
Опубликовано: 04-10-2016
Автор(ы): Javier J. Perez, Martin Glodde, Seiichiro Tachibana, Takeru Watanabe, Takeshi Kinsho, Tsutomu Ogihara, Wu-Song Huang
Принадлежит: Globalfoundries Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 04-10-2016
Автор(ы): Javier J. Perez, Martin Glodde, Seiichiro Tachibana, Takeru Watanabe, Takeshi Kinsho, Tsutomu Ogihara, Wu-Song Huang
Принадлежит: Globalfoundries Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of removing an inorganic antireflective coating from a semiconductor substrate
Номер патента: US5883011A. Автор: Henry Lee,Xi-Wei Lin,Satyendra Sethi. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1999-03-16.