Silane composition and cured film thereof, and method for forming negative resist pattern using same
Номер патента: US09411231B2
Опубликовано: 09-08-2016
Автор(ы): Junya Nakatsuji, Kazuhiro Yamanaka, Tsuyoshi Ogawa
Принадлежит: Central Glass Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 09-08-2016
Автор(ы): Junya Nakatsuji, Kazuhiro Yamanaka, Tsuyoshi Ogawa
Принадлежит: Central Glass Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Curable resin composition, cured film, multilayered object, imaging device, semiconductor device, method for producing multilayered object, and method for producing element having junction electrode
Номер патента: EP4455223A1. Автор: Kenichiro Sato,Hidenobu Deguchi,Tokushige Shichiri,Taro Shiojima,Hayate Nomoto. Владелец: Sekisui Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-30.