Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Nanometer-scale lithography using extreme ultraviolet/soft x-ray laser interferometry

Nanometer-scale lithography using extreme ultraviolet/soft x-ray laser interferometry

Номер патента: US7705332B2
Опубликовано: 27-04-2010
Автор(ы): Carmen S. Menoni, Jorge J. Rocca, Mario C. Marconi, Przemyslaw W. Wachulak
Принадлежит: COLORADO STATE UNIVERSITY RESEARCH FOUNDATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Extreme ultraviolet/soft x-ray laser nano-scale patterning using the demagnified talbot effect

Номер патента: US20150251441A1. Автор: Mario C. Marconi,Jorge J. Rocca,Artak Isoyan,Lukasz Urbanski. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2015-09-10.

Extreme ultraviolet/soft X-ray laser nano-scale patterning using the demagnified Talbot effect

Номер патента: US9216590B2. Автор: Mario C. Marconi,Jorge J. Rocca,Artak Isoyan,Lukasz Urbanski. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2015-12-22.

Device for producing periodic structures by laser interference lithography using laser with tunable wavelength

Номер патента: RU2629542C2. Автор: Игорь Сергеевич Балашов,Андрей Анатольевич Грунин,Андрей Анатольевич Федянин,Артем Вячеславович Четвертухин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова" (МГУ). Дата публикации: 2017-08-29.

Lithography using quantum entangled particles

Номер патента: US20010053608A1. Автор: Colin Williams,Jonathan Dowling. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2001-12-20.

Lithography using quantum entangled particles

Номер патента: US6630290B2. Автор: Colin Williams,Giovanni Della Rossa,Jonathan Dowling. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2003-10-07.

Device for the manufacture of periodic structures by laser interference lithography using a laser with a tunable wavelength

Номер патента: RU2015148270A. Автор: Игорь Сергеевич Балашов,Андрей Анатольевич Грунин,Андрей Анатольевич Федянин,Артем Вячеславович Четвертухин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова" (МГУ). Дата публикации: 2017-05-12.

Lithography using controlled polarization

Номер патента: US7084960B2. Автор: Richard Schenker,Kevin Huggins. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2006-08-01.

Method for laser interference lithography using diffraction grating

Номер патента: WO2009051366A1. Автор: Jae-Jin Kim,Tae-Su Kim,Hyun-Woo Shin. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2009-04-23.

Lithography using quantum entangled particles

Номер патента: EP1203265A1. Автор: Colin Williams,Jonathan Dowling,Giovanni Della Rosa. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2002-05-08.

Lithography using quantum entangled particles

Номер патента: WO2000075730A1. Автор: Colin Williams,Jonathan Dowling,Giovanni Della Rosa. Владелец: California Institute of Technology. Дата публикации: 2000-12-14.

Optical lithography using both photomask surfaces

Номер патента: EP1599762A4. Автор: Mark C Peterman. Владелец: Leland Stanford Junior University. Дата публикации: 2006-08-09.

Optical lithography using both photomask surfaces

Номер патента: EP1599762A2. Автор: Mark C. Peterman. Владелец: Leland Stanford Junior University. Дата публикации: 2005-11-30.

Maskless lithography using spatial light modulators

Номер патента: EP1482366A2. Автор: Arno Bleeker,Wenceslao A. Cebuhar,Jason D. Hintersteiner,Andrew W. Mc Cullough,Solomon S. Wassermann. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2004-12-01.

Methods for Improving Process Window and Resolution for Digital Lithography Using Assist Features

Номер патента: KR20230066471A. Автор: 토마스 엘. 라이딕,장 펑 첸,치-밍 차이,더글라스 요셉 반 덴 브로케. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2023-05-15.

Optical lithography using both photomask surfaces

Номер патента: US20040223206A1. Автор: Mark Peterman. Владелец: Leland Stanford Junior University. Дата публикации: 2004-11-11.

Method for forming resist pattern by using extreme ultraviolet light and method for forming pattern by using the resist pattern as mask

Номер патента: US20240045336A1. Автор: Chan Hwang,Sookyung Kim,Jonghyun JUNG,Moosong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-08.

Phase shift mask for performing exposure process using extreme ultra-violet light source and method for manufacturing the its

Номер патента: KR20070071628A. Автор: 김석균. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-07-04.

Method for exposure using extreme ultra violet with tungsten halogen lamp

Номер патента: KR20090113715A. Автор: 김용대. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2009-11-02.

METHOD OF EXPOSURE USING EXTREME ULTRAVIOLET AND METHOD OF MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20220070992A1. Автор: Jang Sungho,Kim Yoonjae,SHIN HYUCK,LEE DONGHYUB,INN KUL. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-03.

Lithography apparatus using extreme uv radiation and having a volatile organic compounds sorbing member comprising a getter material

Номер патента: KR101429440B1. Автор: 안드레아 콘테,파올로 마니니. Владелец: 사에스 게터스 에스.페.아.. Дата публикации: 2014-08-12.

Lithography apparatus using extreme uv radiation and having a volatile organic compounds absorbing member comprising a getter material

Номер патента: CN101971098B. Автор: P·玛尼尼,A·孔特. Владелец: SAES Getters SpA. Дата публикации: 2013-07-10.

Mirror for use in projection lens of projection exposure plant for imaging reticule in image plane using extreme UV radiations during microlithography process, has layer arrangement with layers e.g. barrier layers, made of graphene

Номер патента: DE102010041502A1. Автор: Rolf Freimann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-03-29.

Lithography apparatus using extreme UV radiation and having a volatile organic compounds sorbing member comprising a getter material

Номер патента: TW200951628A. Автор: Andrea Conte,Paolo Manini. Владелец: Getters Spa. Дата публикации: 2009-12-16.

LITHOGRAPHIC DEVICE USING EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION SOURCE AND SPECTRALLY BROADBAND MULTILAYER MIRRORS IN THIS FIELD

Номер патента: FR2802311A1. Автор: Daniele Babonneau,Remy Marmoret,Laurence Bonnet. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique CEA. Дата публикации: 2001-06-15.

Lithography apparatus using extreme uv radiation and having a volatile organic compounds sorbing member comprising a getter material

Номер патента: US20100309446A1. Автор: Andrea Conte,Paolo Manini. Владелец: SAES Getters SpA. Дата публикации: 2010-12-09.

Automatic defect analyzer for nanoimprint lithography using image analysis

Номер патента: US20200201190A1. Автор: Teresa Perez Estrada,Kathryn Brenda Bean. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-06-25.

Software-controlled maskless optical lithography using fluorescence feedback

Номер патента: WO2009005808A1. Автор: Ioannis Kymissis. Владелец: Ioannis Kymissis. Дата публикации: 2009-01-08.

Methods and devices for lithography using electromagnetic radiation with short wavelengths

Номер патента: US20070154817A1. Автор: Leonardus Leunissen,Roel Gronheid. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2007-07-05.

Multilayer graphene direct growth method and method for manufacturing pellicle for extreme ultraviolet lithography using the same

Номер патента: EP4002007A1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hye Young Kim,Hyun Mi Kim. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2022-05-25.

Multiple patterning lithography using spacer and self-aligned assist patterns

Номер патента: TW201232185A. Автор: Duan-Fu Stephen Hsu,Xiaoyang Li. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-08-01.

Near-field photo-lithography using nano light emitting diodes

Номер патента: US20070078613A1. Автор: Juanita Kurtin. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2007-04-05.

Euv lithography using polymer crystal based reticle

Номер патента: EP4419967A1. Автор: Thomas John Farrell Wallin,Sandeep Rekhi,Pradip Sairam Pichumani. Владелец: Meta Platforms Technologies LLC. Дата публикации: 2024-08-28.

Method and system for immersion lithography using high pH immersion fluid

Номер патента: TW200606593A. Автор: Horng-Huei Tseng,Chao-Hsiung Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2006-02-16.

System and method for parallel two-photon lithography using a metalens array

Номер патента: US12130407B2. Автор: Eyal FEIGENBAUM,Xiaoxing XIA. Владелец: Lawrence Livermore National Security LLC. Дата публикации: 2024-10-29.

Free form fracturing method for electronic or optical lithography using resist threshold control

Номер патента: US09891519B2. Автор: Luc Martin,Serdar Manakli. Владелец: Aselta Nanographics SA. Дата публикации: 2018-02-13.

Maskless lithography using an array of diffractive focusing elements

Номер патента: WO2004010228A3. Автор: David Carter,Rajesh Menon,George Barbastathis,Dario Gil,Henry I Smith. Владелец: Massachussets Inst Of Technolo. Дата публикации: 2004-06-03.

Lithography using a phase-shifting reticle with reduced transmittance

Номер патента: US5354632A. Автор: Giang T. Dao,Eng T. Gaw,Kenny K. H. Toh,Rajeev R. Singh. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 1994-10-11.

Software-controlled maskless optical lithography using fluorescence feedback

Номер патента: US7955766B2. Автор: Ioannis Kymissis. Владелец: Columbia University in the City of New York. Дата публикации: 2011-06-07.

Software-controlled maskless optical lithography using fluorescence feedback

Номер патента: US20100248099A1. Автор: Ioannis Kymissis. Владелец: Columbia University in the City of New York. Дата публикации: 2010-09-30.

Reticle gripper barrier system for lithography use

Номер патента: US20060023196A1. Автор: Stephen Roux,Richard Lenox. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2006-02-02.

MULTILAYER GRAPHENE DIRECT GROWTH METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PELLICLE FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY USING THE SAME

Номер патента: US20220146928A1. Автор: KIM Hyeong Keun,Kim Seul Gi,Kim Hyun Mi,KIM Hye Young. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-12.

SIMULATION OF LITHOGRAPHY USING MULTIPLE-SAMPLING OF ANGULAR DISTRIBUTION OF SOURCE RADIATION

Номер патента: US20180120709A1. Автор: Hsu Duan-Fu Stephen,HOWELL Rafael C.,JIA Jianjun. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2018-05-03.

AUTOMATIC DEFECT ANALYZER FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY USING IMAGE ANALYSIS

Номер патента: US20200201190A1. Автор: Estrada Teresa Perez,Bean Kathryn Brenda. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-25.

FREE FORM FRACTURING METHOD FOR ELECTRONIC OR OPTICAL LITHOGRAPHY USING RESIST THRESHOLD CONTROL

Номер патента: US20160252807A1. Автор: Manakli Serdar,MARTIN Luc. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-01.

Cleanup method for optics in immersion lithography using object on wafer holder in place of wafer

Номер патента: US9958786B2. Автор: Douglas C. Watson,Hidemi Kawai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Lithography using controlled polarization

Номер патента: US20050213072A1. Автор: Richard Schenker,Kevin Huggins. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2005-09-29.

Cleanup method for optics in immersion lithography using sonic device

Номер патента: US8085381B2. Автор: Hidemi Kawai,Douglas C Watson,W Thomas Novak. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-12-27.

Cleanup method for optics in immersion lithography using bubbles

Номер патента: US8670103B2. Автор: Hidemi Kawai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-03-11.

Method of manufacturing Pellicle for EUV Lithography using Photosensitive glass

Номер патента: KR101860987B1. Автор: 이승민,김정환,안진호. Владелец: 한양대학교 산학협력단. Дата публикации: 2018-05-29.

Fine metal mask and method of manufacturing pellicle for EUV lithography using the same

Номер патента: KR102207851B1. Автор: 김경수,서경원,문성용,김지강,유장동. Владелец: 주식회사 에프에스티. Дата публикации: 2021-01-26.

Simulation of Lithography Using Multi-Sampling of Angle Distribution of Source Radiation

Номер патента: KR102063229B1. Автор: 라파엘 씨. 호웰,두안-푸 스테픈 수,지안준 지아. Владелец: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.. Дата публикации: 2020-01-07.

Exposure method for optical projection lithography used in integrated circuit mfr. - applying imaged structure to non-planar surface of exposure mask to increase image sharpness

Номер патента: DE4232844A1. Автор: Hanno Dipl Phys Melzner,Stefan Dipl Phys Auer. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1994-03-31.

Projection lithography using a phase shift aperture.

Номер патента: JP3872015B2. Автор: シュレーダー，パウル,モノ，トビアス. Владелец: インフィネオン テクノロジーズ ノース アメリカ コーポレイション. Дата публикации: 2007-01-24.

Gettering members, methods of forming the same, and methods of performing immersion lithography using the same

Номер патента: US20080131817A1. Автор: Hyun-Woo Kim,Chan Hwang,Jin-Young Yoon,Yun-Kyeong Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-06-05.

Projection lithography using a phase shift aperture

Номер патента: DE60141602D1. Автор: Uwe Paul Schroeder,Tobias Mono. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2010-04-29.

Simulation of lithography using multiple-sampling of angular distribution of source radiation

Номер патента: US11506984B2. Автор: Duan-Fu Stephen Hsu,Rafael C. Howell,Jianjun JIA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-11-22.

Apparatus of electron lithography using patterned emitter

Номер патента: KR100493162B1. Автор: 김동욱,유인경,문창욱. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2005-06-02.

TiO2-containing silica glass and optical member for EUV lithography using the same

Номер патента: CN101959812A. Автор: 小池章夫,岩桥康臣,菊川信也,桔优子. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-26.

Method of optical lithography using phase shift masking

Номер патента: CN1115876A. Автор: 克里斯托弗·A·斯彭斯. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 1996-01-31.

Gray-tone lithography using optical diffusers

Номер патента: WO2009048896A1. Автор: Marc Christophersen,Bernard Phlips. Владелец: The Government of the United States of America, as represented by the Secretary of the Navy. Дата публикации: 2009-04-16.

Gray-tone lithography using optical diffusers

Номер патента: US8372578B2. Автор: Marc Christophersen,Bernard Phlips. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2013-02-12.

Projection lithography using a servo control

Номер патента: EP1014198A3. Автор: Reinder Teun Plug,Harry Henrikus Herman Marie Cox. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2002-10-16.

Method of lithography using vacuum ultraviolet radiation

Номер патента: US6369398B1. Автор: Barry Gelernt. Владелец: Barry Gelernt. Дата публикации: 2002-04-09.

Method of opticlal lithography using phase shift masking

Номер патента: KR100382043B1. Автор: 크리스토퍼에이.스펜스. Владелец: 아드밴스트 마이크로 디이바이시스 인코포레이티드. Дата публикации: 2003-07-04.

System and method for maskless lithography using an array of sources and an array of focusing elements

Номер патента: AU2003274903A1. Автор: David Carter,Henry I. Smith,Rajesh Menon,George Barbastathis,Dario Gil. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2004-02-23.

Gray-tone lithography using optical diffusers

Номер патента: US20090092934A1. Автор: Marc Christophersen,Bernard Phlips. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2009-04-09.

Extreme ultraviolet (euv) lithography using an intervening layer or a multi-layer stack with varying mean free paths for secondary electron generation

Номер патента: WO2020232329A1. Автор: Akhil Singhal,Andrew Liang,Gregory BLACHUT,Arpan Pravin Mahorowala,Dustin Zachary Austin,Jr. Nader SHAMMA,Rich Wise. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-11-19.

Free form fracturing method for electronic or optical lithography using resist threshold control

Номер патента: WO2015063006A1. Автор: Luc Martin,Serdar Manakli. Владелец: ASELTA NANOGRAPHICS. Дата публикации: 2015-05-07.

Multilayer graphene direct growth method and method for manufacturing pellicle for extreme ultraviolet lithography using the same

Номер патента: EP4002007B1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hye Young Kim,Hyun Mi Kim. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2023-10-18.

Method,computer-readable medium,and integrated wafer processing and metrology system for determining position accuracy of double exposure lithography using optical metrology

Номер патента: TWI378233B. Автор: Youxian Wen,Shifang Li. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-12-01.

System and method for parallel two-photon lithography using a metalens array

Номер патента: WO2022169811A1. Автор: Eyal FEIGENBAUM,Xiaoxing XIA. Владелец: Lawrence Livermore National Security, LLC. Дата публикации: 2022-08-11.

System and method for maskless lithography using an array of sources and an array of focusing elements

Номер патента: US20050181314A1. Автор: David Carter,Henry Smith,Rajesh Menon,George Barbastathis,Dario Gil. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-08-18.

System and method for maskless lithography using an array of sources and an array of focusing elements

Номер патента: AU2003274903A8. Автор: David Carter,Rajesh Menon,George Barbastathis,Dario Gil,Henry I Smith. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2004-02-23.

Extreme ultraviolet (euv) lithography using an intervening layer or a multi-layer stack with varying mean free paths for secondary electron generation

Номер патента: SG11202112490QA. Автор: Nader Shamma,Akhil Singhal,Andrew Liang,Gregory BLACHUT,Arpan Mahorowala,Rich Wise,Dustin Austin. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2021-12-30.

Interference lithography using holey fibers

Номер патента: WO2002069051A2. Автор: Daniel P. Resler,Adam F. Kelsey,Mark A. Leclerc. Владелец: Optical Switch Corporation. Дата публикации: 2002-09-06.

Determining position accuracy of double exposure lithography using optical metrology

Номер патента: TW200821570A. Автор: you-xian Wen,shi-fang Li. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-05-16.

Extreme ultraviolet (euv) lithography using an intervening layer or a multi-layer stack with varying mean free paths for secondary electron generation

Номер патента: US20220197147A1. Автор: Nader Shamma,Akhil Singhal,Andrew Liang,Gregory BLACHUT,Arpan Pravin Mahorowala,Dustin Zachary Austin,Rich Wise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-06-23.

EXTREME ULTRAVIOLET/SOFT X-RAY LASER NANO-SCALE PATTERNING USING THE DEMAGNIFIED TALBOT EFFECT

Номер патента: US20140023973A1. Автор: Isoyan Artak,Marconi Mario C.,Urbankski Lukasz,Rocca Jorge J.. Владелец: . Дата публикации: 2014-01-23.

Extreme ultraviolet soft x-ray projection lithographic method and mask devices

Номер патента: EP1218796A1. Автор: Robert Sabia,Claude L. Davis,Kenneth E. Hrdina. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2002-07-03.

Extreme ultraviolet soft x-ray projection lithographic method system and lithography elements

Номер патента: KR100648355B1. Автор: 클라우드 엘. 주니어 데이비스,케네쓰 이. 허디나. Владелец: 코닝 인코포레이티드. Дата публикации: 2006-11-23.

Extreme ultraviolet soft x-ray projection lithographic method system and lithography elements

Номер патента: WO2001008163A1. Автор: Kenneth E. Hrdina,Claude L. Davis, Jr.. Владелец: CORNING INCORPORATED. Дата публикации: 2001-02-01.

Extreme ultraviolet soft x-ray projection lithographic method and mask devices

Номер патента: US20030017402A1. Автор: Robert Sabia,Claude Davis,Kenneth Hrdina,Harrie Stevens. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-23.

Extreme ultraviolet soft x-ray projection lithographic method system and lithography elements

Номер патента: EP1214718A4. Автор: Kenneth E Hrdina,Claude L Davis Jr. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2006-08-23.

Deep ultraviolet soft X-ray projection lithography method and mask apparatus

Номер патента: JP3770542B2. Автор: エル デイヴィス，クロード,イー ハーディナ，ケネス,サビア，ロバート. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2006-04-26.

Method for Patterning a Substrate Using Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US20170090290A1. Автор: Anton J. deVilliers. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

一种用于mSAP高精度产品的DI曝光对位制程

Номер патента: CN114710880. Автор: 李齐良. Владелец: Baicheng Nantong Microelectronics Technology Co ltd. Дата публикации: 2022-07-05.

一种用于mSAP高精度产品的DI曝光对位制程

Номер патента: CN114710880A. Автор: 李齐良. Владелец: Baicheng Nantong Microelectronics Technology Co ltd. Дата публикации: 2022-07-05.

X-ray laser microscopy system and method

Номер патента: US20160329119A1. Автор: Michael Chang,Roger Kim,Zhuotong Xian,Katherine Han,Yiying Cao. Владелец: Rising Star Pathway A California Corp. Дата публикации: 2016-11-10.

X-ray laser microscopy system and method

Номер патента: US09943272B2. Автор: Vincent Huang,Yiming Wang,Hanjie Zou,Eileen Guo,Ruibo Wu,Zhuotong Xian. Владелец: Rising Star Pathway A California Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

X-ray laser microscopy system and method

Номер патента: US09583229B2. Автор: Michael Chang,Roger Kim,Zhuotong Xian,Katherine Han,Yiying Cao. Владелец: Rising Star Pathway A California Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

X-ray laser microscopy sample analysis system and method

Номер патента: US09859029B2. Автор: Jingyi Zhang,Yuhao Wang,Zhuotong Xian,Allison Sihan JIA,Muzhi Liu,Kevin Shaokang You. Владелец: Rising Star Pathway A California Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Method and apparatus for X-ray laser interrogation

Номер патента: US09440289B1. Автор: Kalin Spariosu,James A. Wurzbach. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2016-09-13.

Method and apparatus for exposing photosensitive material

Номер патента: WO1984002781A1. Автор: James Jones Cowan. Владелец: Polaroid Corp. Дата публикации: 1984-07-19.

Methods for optical proximity correction in the design and fabrication of integrated circuits using extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US09651855B2. Автор: Lei Sun,Wenhui Wang,Ryan Ryoung-Han Kim. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Method for Patterning a Substrate Using Extreme Ultraviolet Lithography

Номер патента: US20170090290A1. Автор: deVilliers Anton J.. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-30.

METHODS FOR OPTICAL PROXIMITY CORRECTION IN THE DESIGN AND FABRICATION OF INTEGRATED CIRCUITS USING EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY

Номер патента: US20160162624A1. Автор: Wang Wenhui,Sun Lei,Kim Ryan Ryoung-Han. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-09.

Manufacturing method of semiconductor element by using extreme ultra violet

Номер патента: US20230411155A1. Автор: Jaehong Lim,Sanghyun Lim,Seok Heo,Youngho HWANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-21.

Alignment control in nanoimprint lithography using feedback and feedforward control

Номер патента: US20210181622A1. Автор: Takahiro Yoshida,Byung-Jin Choi,Jeffrey D. Klein,Mingji Lou,Steven T. Jenkins. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-06-17.

Method for multicolor lithography using mechanical force

Номер патента: WO2023192962A1. Автор: Maxwell J. Robb,Anna OVERHOLTS. Владелец: California Institute of Technology. Дата публикации: 2023-10-05.

Method for Multicolor Lithography Using Mechanical Force

Номер патента: US20230312779A1. Автор: Maxwell J. Robb,Anna OVERHOLTS. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2023-10-05.

Parallelized 3D Lithography Using Multi-Beam, Multi-Color Light-Induced Polymerization

Номер патента: US20240198581A2. Автор: Patrick Müller,Martin Wegener,Vincent Hahn,Eva Blasco. Владелец: Karlsruher Institut fuer Technologie KIT. Дата публикации: 2024-06-20.

Lithography using photoresist with photoinitiator and photoinhibitor

Номер патента: US09599895B2. Автор: Seth Adrian Miller. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2017-03-21.

Apparatus and method for liquid transfer imprint lithography using a roll stamp

Номер патента: US09527235B2. Автор: Jae-Jong Lee,Kee-Bong Choi,Gee-Hong Kim,Hyung-Jun Lim. Владелец: Korea Institute of Machinery and Materials KIMM. Дата публикации: 2016-12-27.

Resist composition used for lithography using electron beam, X-ray or EUV light

Номер патента: JPWO2009011364A1. Автор: 崇 佐々木,佐々木　崇,正紀 澤口,修 横小路. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2010-09-24.

Resist composition used for lithography using electron beam, X-ray or EUV light

Номер патента: JPWO2008044741A1. Автор: 崇 佐々木,佐々木　崇,修 横小路. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2010-02-18.

Thermally reactive resist material, laminated body for thermal lithography using the material, and mold manufacturing method using the material and the laminated body

Номер патента: CN102187276A. Автор: 前田雅俊,中川义清,三田村哲理,古谷一之. Владелец: Asahi Kasei Kogyo KK. Дата публикации: 2011-09-14.

Thermally reactive resist material, laminate for thermal lithography using the same, and method for producing a mold using them

Номер патента: JP5600339B2. Автор: 義清 中川,哲理 三田村,一之 古谷,雅俊 前田. Владелец: Asahi Kasei E Materials Corp. Дата публикации: 2014-10-01.

Thermally reactive resist material, laminated body for thermal lithography using the material, and mold manufacturing method using the material and the laminated body

Номер патента: TW201427928A. Автор: Masatoshi Maeda,Kazuyuki Furuya,Yoshimichi Mitamura,Norikiyo Nakagawa. Владелец: Asahi Kasei E Materials Corp. Дата публикации: 2014-07-16.

Thermally reactive resist material, laminated body for thermal lithography using the material, and mold manufacturing method using the material and the laminated body

Номер патента: CN103123443B. Автор: 前田雅俊,中川义清,三田村哲理,古谷一之. Владелец: Asahi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-26.

Thermally reactive resist material, laminated body for thermal lithography using the material, and mold manufacturing method using the material and the laminated body

Номер патента: TW201026638A. Автор: Masatoshi Maeda,Kazuyuki Furuya,Yoshimichi Mitamura,Norikiyo Nakagawa. Владелец: Asahi Chemical Ind. Дата публикации: 2010-07-16.

Immersion lithography using hafnium-based nanoparticles

Номер патента: EP2263121A2. Автор: Paul A. Zimmerman,Carita Simons. Владелец: Sematech Inc. Дата публикации: 2010-12-22.

Immersion lithography using hafnium-based nanoparticles

Номер патента: WO2009114253A2. Автор: Paul A. Zimmerman,Jeffrey Byers (Deceased). Владелец: SEMATECH, INC.. Дата публикации: 2009-09-17.

Alignment control in nanoimprint lithography using feedback and feedforward control

Номер патента: WO2021118698A1. Автор: Takahiro Yoshida,Byung-Jin Choi,Jeffrey D. Klein,Mingji Lou,Steven T. Jenkins. Владелец: Canon Nanotechnologies, Inc.. Дата публикации: 2021-06-17.

Optical lithography using graphene contrast enhancement layer

Номер патента: US20120263921A1. Автор: Thomas A. Yager,Seth Adrian Miller. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-10-18.

OPTICAL LITHOGRAPHY USING GRAPHENE CONTRAST ENHANCEMENT LAYER

Номер патента: US20130309462A1. Автор: Yager Thomas A.,Miller Seth Adrian. Владелец: Empire Technology Development, LLC. Дата публикации: 2013-11-21.

LITHOGRAPHY USING PHOTORESIST WITH PHOTOINITIATOR AND PHOTOINHIBITOR

Номер патента: US20140038103A1. Автор: Miller Seth Adrian. Владелец: Empire Technology Development, LLC. Дата публикации: 2014-02-06.

Mold structure and method of imprint lithography using the same

Номер патента: US20140166615A1. Автор: Hokyun Ahn,Zin Sig Kim. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2014-06-19.

ALIGNMENT CONTROL IN NANOIMPRINT LITHOGRAPHY USING FEEDBACK AND FEEDFORWARD CONTROL

Номер патента: US20210181622A1. Автор: LOU MINGJI,Choi Byung-Jin,Yoshida Takahiro,JENKINS Steven T.,Klein Jeffrey D.. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-17.

PLASMONIC LITHOGRAPHY USING PHASE MASK

Номер патента: US20150177619A1. Автор: Kobrin Boris,Barnard Edward. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-25.

Stamp for micro/nanoimprint lithography using diamond-like carbon and method of fabricating the same

Номер патента: KR100772639B1. Автор: 김기돈,정준호,최대근,이응숙,심영석. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2007-11-02.

Two-dimensional hierarchical nanopatterning by colloidal lithography using photocrosslinkable particles

Номер патента: KR100746332B1. Автор: 양승만,문준혁,임종민,장세규. Владелец: 한국과학기술원. Дата публикации: 2007-08-03.

Alignment system for nano imprint lithography and Method of imprint lithography using the same

Номер патента: KR100647314B1. Автор: 최상준,이정현,이석원,이문구. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2006-11-23.

Mold structure and method of imprint lithography using the same

Номер патента: KR20140076947A. Автор: 김진식,안호균. Владелец: 한국전자통신연구원. Дата публикации: 2014-06-23.

Electron projection lithography using secondary electron

Номер патента: KR100513720B1. Автор: 김동욱,유인경,문창욱. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2005-09-07.

Direct imprint lithography using laser

Номер патента: JP4276087B2. Автор: チョー，スティーヴン，ワイ．. Владелец: プリンストン ユニヴァーシティ. Дата публикации: 2009-06-10.

Lithography using self-assembled polymers

Номер патента: WO2012031818A3. Автор: Emiel Peeters,Johan Dijksman,Sander Wuister,Roelof Koole. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2012-06-07.

Base material for lithography and resist material for lithography using the same

Номер патента: JP3436843B2. Автор: 充 佐藤,克実 大森,文武 金子,悦子 井口,清 石川. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2003-08-18.

Fabrication of seamless large area master templates for imprint lithography using step and repeat tools

Номер патента: TWI570771B. Автор: 道格拉斯Ｊ 瑞斯尼克,麥可Ｎ 米勒,法蘭克Ｙ 徐. Владелец: 分子壓模公司. Дата публикации: 2017-02-11.

Method for determining optical properties of a photomask for semiconductor lithography using a flexible lighting unit

Номер патента: DE102019103118A1. Автор: Thomas Frank,Holger Seitz,Thomas Thaler,Ulrich Matejka. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-08-13.

Stamp for micro/nano imprint lithography using diamond-like carbon and method of fabricating the same

Номер патента: EP1785770A2. Автор: Jun-Ho Jeong,Young-Suk Sim,Kin-Don Kim,Dae-Geun Choi,Eung-Sug Lee. Владелец: Korea Institute of Machinery and Materials KIMM. Дата публикации: 2007-05-16.

Pellicle for extreme ultraviolet lithography using metal carbide nanowire

Номер патента: KR20230077095A. Автор: 김슬기,조진우,김형근,김현미,김혜영,김용경,전준혁. Владелец: 한국전자기술연구원. Дата публикации: 2023-06-01.

Nanometer-level mix-and-match scanning tip and electron beam lithography using global backside position reference marks

Номер патента: US20080055607A1. Автор: Euclid Moon. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2008-03-06.

Pattern transfer method of nanoimprint lithography using shadow evaportation and nanotransfer printing

Номер патента: KR101022506B1. Автор: 이재종,이승우. Владелец: 한국기계연구원. Дата публикации: 2011-03-16.

Fabrication of seamless large area master templates for imprint lithography using step and repeat tools

Номер патента: US9452574B2. Автор: Michael N. Miller,Frank Y. Xu,Douglas J. Resnick. Владелец: Canon Nanotechnologies Inc. Дата публикации: 2016-09-27.

Method of Forming a Relief Pattern by E-Beam Lithography Using Chemical Amplification, and Derived Articles

Номер патента: US20110045387A1. Автор: Qinghuang Lin,Ratnam Sooriyakumaran,Alshakim Nelson,Robert D. Allen,Phillip Brock,Luisa Bozano. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2011-02-24.

Photoresist polymer resins for ultraviolet lithography using continuous flow reaction process, and preparation method thereof

Номер патента: KR20230055531A. Автор: 최승연,권기영,이진균,우지훈,김명웅,여지영. Владелец: 인하대학교 산학협력단. Дата публикации: 2023-04-26.

Direct imprint lithography using laser

Номер патента: JP2005521243A. Автор: チョー，スティーヴン，ワイ．. Владелец: プリンストン ユニヴァーシティ. Дата публикации: 2005-07-14.

Immersion lithography using hafnium-based nanoparticles

Номер патента: WO2009114253A3. Автор: Jeffrey Byers,Paul A. Zimmerman,Carita Simons. Владелец: SEMATECH, INC.. Дата публикации: 2009-12-10.

Optical lithography using graphene contrast enhancement layer

Номер патента: US20130309462A1. Автор: Thomas A. Yager,Seth Adrian Miller. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2013-11-21.

Optical lithography using graphene contrast enhancement layer

Номер патента: US8773636B2. Автор: Thomas A. Yager,Seth Adrian Miller. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2014-07-08.

Method for lithography using middle layer with porous top surface

Номер патента: US20230314949A1. Автор: Ching-Yu Chang,Yuan Chih LO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Imprinting lithography using the liquid/solid transition of metals and their alloys

Номер патента: EP1756669A2. Автор: Yong Chen. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2007-02-28.

Lithography using photoresist with photoinitiator and photoinhibitor

Номер патента: US20120107743A1. Автор: Seth Miller. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2012-05-03.

Parallelized 3D lithography using multi-beam, multi-color light-induced polymerization

Номер патента: US11999098B2. Автор: Patrick Müller,Martin Wegener,Vincent Hahn,Eva Blasco. Владелец: Karlsruher Institut fuer Technologie KIT. Дата публикации: 2024-06-04.

Imprinting lithography using the liquid/solid transition of metals and their alloys

Номер патента: US20050282388A1. Автор: Yong Chen. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2005-12-22.

Capillary discharge x-ray laser

Номер патента: WO2006127147A2. Автор: Jorge J. Rocca. Владелец: COLORADO STATE UNIVERSITY RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2006-11-30.

X-ray laser microscopy system and method

Номер патента: US20180020996A1. Автор: Vincent Huang,Yiming Wang,Hanjie Zou,Eileen Guo,Ruibo Wu,Zhuotong Xian. Владелец: Rising Star Pathway A California Corp. Дата публикации: 2018-01-25.

X-RAY LASER MICROSCOPY SAMPLE ANALYSIS SYSTEM AND METHOD

Номер патента: US20170169910A1. Автор: Wang Yuhao,Xian Zhuotong,ZHANG Jingyi,Jia Allison Sihan,Liu Muzhi,You Kevin Shaokang. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-15.

X-RAY LASER MICROSCOPY SYSTEM AND METHOD

Номер патента: US20160329119A1. Автор: Chang Michael,Xian Zhuotong,Kim Roger,Han Katherine,Cao Yiying. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-10.

PLASMA X-RAY LASER

Номер патента: FR2466119A2. Автор: Georges Robert Pierre Marie. Владелец: France Etat. Дата публикации: 1981-03-27.

Plasma x-ray laser

Номер патента: JPS56153787A. Автор: Robaato Pieeru Mari Jiyooji. Владелец: ETAT FRANCAIS. Дата публикации: 1981-11-27.

EXTREME ULTRAVIOLET/SOFT X-RAY LASER NANO-SCALE PATTERNING USING THE DEMAGNIFIED TALBOT EFFECT

Номер патента: US20150251441A1. Автор: Isoyan Artak,Marconi Mario C.,Rocca Jorge J.,Urbanski Lukasz. Владелец: . Дата публикации: 2015-09-10.

Nanometer-scale ablation using focused, coherent extreme ultraviolet/soft x-ray light

Номер патента: US20110042353A1. Автор: Oscar Hemberg,Georgiy Vaschenko,Scott Bloom,Carmen S. Menoni,Jorge J. Rocca,Erik H. Anderson,Weilun Chao. Владелец: Jmar Technologies Inc. Дата публикации: 2011-02-24.

Method and apparatus for synchronized starting of soft x-ray lasers

Номер патента: WO2012007778A2. Автор: Gábor ALMÁSI,Imre Santa,Sandor Szatmari,Mátyás KISS,Szergej Kuhlevszkij,János SZÁSZ. Владелец: University of Pécs. Дата публикации: 2012-01-19.

Apparatus for and method of generating X-ray laser

Номер патента: US5832007A. Автор: Toshio Sata,Tamio Hara,Naohiro Yamaguchi. Владелец: Toyota School Foundation. Дата публикации: 1998-11-03.

Resonantly photo-pumped nickel-like erbium X-ray laser

Номер патента: US4977572A. Автор: Joseph Nilsen. Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 1990-12-11.

Method and apparatus for synchronized starting of soft x-ray lasers

Номер патента: WO2012007778A3. Автор: Gábor ALMÁSI,Imre Santa,Sandor Szatmari,Mátyás KISS,Szergej Kuhlevszkij,János SZÁSZ. Владелец: University of Pécs. Дата публикации: 2012-08-09.

X-ray laser

Номер патента: US3823325A. Автор: L Wood. Владелец: US Atomic Energy Commission (AEC). Дата публикации: 1974-07-09.

X-ray Laser打码一体机

Номер патента: CN115610120. Автор: 谢欢. Владелец: Suzhou Noc Intelligent Technology Co ltd. Дата публикации: 2023-01-17.

X-ray Laser打码一体机

Номер патента: CN115610120A. Автор: 谢欢. Владелец: Suzhou Noc Intelligent Technology Co ltd. Дата публикации: 2023-01-17.

Soft X-ray laser using pumping of 3P and 4P levels of He-like and H-like ions

Номер патента: US4660203A. Автор: Peter L. Hagelstein. Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 1987-04-21.

X-ray laser with enhanced x-ray gain through photodepopulation

Номер патента: US4942580A. Автор: Raymond C. Elton. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1990-07-17.

Pellicle for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: EP4075195A1. Автор: Hyeong Keun Kim,Seul Gi Kim,Hyun Mi Kim,Jin Woo Cho,Ki Hun Seong. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2022-10-19.

Optical pattern generator or repeating projector or the like

Номер патента: US3722996A. Автор: W Fox. Владелец: ELECTROMASK Inc. Дата публикации: 1973-03-27.

Method Of Critical Dimension Control By Oxygen And Nitrogen Plasma Treatment In Euv Mask

Номер патента: US20240264520A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Chun-Fu Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Method and program product for designing source and mask for lithography

Номер патента: US09857676B2. Автор: Masaharu Sakamoto,Alan E. Rosenbluth,David O. Melville,Tadanobu Inoue,Kehan Tian. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Method Of Critical Dimension Control By Oxygen And Nitrogen Plasma Treatment In Euv Mask

Номер патента: US20230280645A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Chun-Fu Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Method of critical dimension control by oxygen and nitrogen plasma treatment in EUV mask

Номер патента: US11960201B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Chun-Fu Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Long sweep length DUV microlithographic beam scanning acousto-optical deflector and optics design

Номер патента: US11947241B2. Автор: Andrzej KARAWAJCZYK. Владелец: Mycronic AB. Дата публикации: 2024-04-02.

Long sweep length duv microlithographic beam scanning acousto-optical deflector and optics design

Номер патента: US20220197108A1. Автор: Andrzej KARAWAJCZYK. Владелец: Mycronic AB. Дата публикации: 2022-06-23.

Mask for high resolution optical lithography

Номер патента: EP1116071A1. Автор: Juan R. Maldonado. Владелец: Etec Systems Inc. Дата публикации: 2001-07-18.

Mask for high resolution optical lithography

Номер патента: WO2001007968A1. Автор: Juan R. Maldonado. Владелец: Etec Systems, Inc.. Дата публикации: 2001-02-01.

Method and program product for designing source and mask for lithography

Номер патента: US20160103389A1. Автор: Masaharu Sakamoto,Alan E. Rosenbluth,David O. Melville,Tadanobu Inoue,Kehan Tian. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-04-14.

Method for forming pattern

Номер патента: US7883834B2. Автор: Takuya Hagiwara. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2011-02-08.

Method for forming pattern

Номер патента: US20090092932A1. Автор: Takuya Hagiwara. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2009-04-09.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20230367211A1. Автор: Masaki Ohashi,Seiichiro Tachibana,Shun Kikuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Reflective exposure mask, method of manufacturing reflective exposure mask, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20110117479A1. Автор: Takashi Kamo,Osamu Suga. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2011-05-19.

Programmable nanolithography mask

Номер патента: US11868051B2. Автор: Geoffrey S. D. Beach,Aik Jun Tan,Mantao Huang. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2024-01-09.

Anti-slippery stamp landing ring

Номер патента: EP4281832A1. Автор: JING Jiang,Amita Joshi,Vivian HSU,Suraj Yadav. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Anti-slippery stamp landing ring

Номер патента: US20220229370A1. Автор: JING Jiang,Amita Joshi,Vivian HSU,Suraj Yadav. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-07-21.

Method for measuring a substrate for semiconductor lithography

Номер патента: US11880145B2. Автор: Sven Martin,Oliver Jaeckel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-23.

Nano-lithography using squeezed atomic and molecular states

Номер патента: US6891152B2. Автор: Eliyahu Averbukh. Владелец: Yeda Research and Development Co Ltd. Дата публикации: 2005-05-10.

Method for fabricating dual damascene structures using photo-imprint lithography, methods for fabricating imprint lithography molds for dual damascene structures, materials for imprintable dielectrics and equipment for photo-imprint lithography used in dual damascene patterning

Номер патента: US20080305197A1. Автор: Matthew E. Colburn,Kenneth Raymond Carter,Gary M. McClelland,Dirk Pfeiffer. Владелец: Mcclelland Gary M. Дата публикации: 2008-12-11.

Atomic lithography using squeezed atomic states

Номер патента: IL143538A0. Автор: . Владелец: Yeda Res & Dev. Дата публикации: 2002-04-21.

Determination of a tube pressure by means of laser interferometry and apparatus herefor

Номер патента: US20220299311A1. Автор: Robert Lindemann,Jonas Hellhund,David HANNES. Владелец: Fresenius Medical Care AG and Co KGaA. Дата публикации: 2022-09-22.

Bestimmung eines schlauchdrucks mittels laser-interferometrie sowie vorrichtung hierfür

Номер патента: WO2021032880A1. Автор: Robert Lindemann,Jonas Hellhund,David HANNES. Владелец: Fresenius Medical Care AG & Co. KGaA. Дата публикации: 2021-02-25.

Bestimmung eines schlauchdrucks mittels laser-interferometrie sowie vorrichtung hierfür

Номер патента: EP4018156A1. Автор: Robert Lindemann,Jonas Hellhund,David HANNES. Владелец: Fresenius Medical Care AG and Co KGaA. Дата публикации: 2022-06-29.

Method for identifying and screening high-quality wheat using extreme expansion values of bread necks

Номер патента: LU504999B1. Автор: Aifeng LIU. Владелец: Crop Res Institute Of Shandong Academy Of Agricultural Sciences. Дата публикации: 2024-02-27.

Methods and apparatus for producing soft x-ray laser in a capillary discharge plasma

Номер патента: US4937832A. Автор: Jorge J. Rocca. Владелец: COLORADO STATE UNIVERSITY RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 1990-06-26.

Device and method for synchronous starting of soft x-ray laser

Номер патента: HU1000368D0. Автор: . Владелец: PÉCSI TUDOMÁNYEGYETEM. Дата публикации: 2010-09-28.

Device and method for synchronous starting of soft x-ray laser

Номер патента: HUP1000368A2. Автор: Mátyás KISS,János SZÁSZ,Gabor Dr Almasi,Szergej Dr Kuhlevszkij,Imre Dr Santa,Sandor Dr Szatmari. Владелец: PÉCSI TUDOMÁNYEGYETEM. Дата публикации: 2012-01-30.

METHOD AND APPARATUS FOR SYNCHRONIZED STARTING OF SOFT X-RAY LASERS

Номер патента: US20130215913A1. Автор: Almási Gábor,Kiss Mátyás,Kuhlevszkij Szergej,Sánta Imre,Szatmári Sándor,Szász János. Владелец: . Дата публикации: 2013-08-22.

Linear x-ray laser generator

Номер патента: EP1933430A4. Автор: Hironari Yamada. Владелец: PHOTON PRODUCTION LAB Ltd. Дата публикации: 2009-11-11.

Linear x-ray laser generator

Номер патента: EP1933430A1. Автор: Hironari Yamada. Владелец: PHOTON PRODUCTION LABORATORY Ltd. Дата публикации: 2008-06-18.

X-ray laser

Номер патента: US5107508A. Автор: Melvin A. Piestrup. Владелец: Adelphi Technology Inc. Дата публикации: 1992-04-21.

Photonic pressure drive mechanism for vehicles of every type like satellites, space ships or aircraft absorbs electromagnetic radiation from gamma rays, X-rays, lasers, light or microwaves

Номер патента: DE102004004513A1. Автор: Josef Boehm,Anna Maria Boehm. Владелец: Bohm Josef. Дата публикации: 2005-08-11.

Resonator for an x-ray laser

Номер патента: CA921615A. Автор: Karube Norio,Yamaka Eizo. Владелец: Eizo Yamaka. Дата публикации: 1973-02-20.

Optical waveguide forming method, optical waveguide forming apparatus, electron accelerator, X-ray laser irradiation apparatus, scattered X-ray generator

Номер патента: GB201721197D0. Автор: . Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2018-01-31.

Device and method for detecting radiographic object using extremal data

Номер патента: EP4383207A1. Автор: Jung Min Lee,June Sung Seo,Gung Hul PARK,Seong Sik KO. Владелец: Doosan Enerbility Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Device and method for detecting radiographic object using extremal data

Номер патента: US20240169683A1. Автор: Jung Min Lee,June Sung Seo,Gung Hul PARK,Seong Sik KO. Владелец: Doosan Enerbility Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Method and system for buried land mine detection through derivative analysis of laser interferometry

Номер патента: US09671521B2. Автор: Eric M. LOUCHARD. Владелец: BAE Systems Information and Electronic Systems Integration Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Laser equipped multipurpose sensor for geological research - measures gravity using laser levitation method and homogeneity using laser interferometry

Номер патента: FR2314490A1. Автор: . Владелец: MORAND CHRISTIAN. Дата публикации: 1977-01-07.

Long-stroke vibration table guide rail bending correction method for low-frequency vibration calibration by laser interferometry

Номер патента: CN109612569B. Автор: 杨明,刘志华,蔡晨光. Владелец: National Institute of Metrology. Дата публикации: 2021-04-09.

METHOD FOR IMAGING LASER INTERFEROMETRY.

Номер патента: DE3779362D1. Автор: Joachim Pelka,Hans Betz,Hermann Mader. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 1992-07-02.

Laser interferometry system and method

Номер патента: CN114521227A. Автор: J·J·达波雷. Владелец: NDC Technologies Inc. Дата публикации: 2022-05-20.

Laser noise reduction for laser interferometry

Номер патента: US11960042B2. Автор: Ezra Ip,Yue-Kai Huang,Fatih Yaman. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Determination of an outlier score using extreme value theory (evt)

Номер патента: WO2024076438A1. Автор: Kiran Rama,Laurent BOUÉ. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Determination of an outlier score using extreme value theory (evt)

Номер патента: US20240112053A1. Автор: Kiran Rama,Laurent BOUÉ. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2024-04-04.

Phase-compensated cube corner in laser interferometry

Номер патента: US20050128589A1. Автор: Lawrence Lee,John Bockman. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2005-06-16.

METHOD AND SYSTEM FOR BURIED LAND MINE DETECTION THROUGH DERIVATIVE ANALYSIS OF LASER INTERFEROMETRY

Номер патента: US20160054270A1. Автор: LOUCHARD Eric M.. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-25.

LASER INTERFEROMETRY SYSTEMS AND METHODS

Номер патента: US20210088320A1. Автор: DAPORE Jerome Joseph. Владелец: NDC Technologies Inc.. Дата публикации: 2021-03-25.

DETERMINATION OF A TUBE PRESSURE BY MEANS OF LASER INTERFEROMETRY AND APPARATUS HEREFOR

Номер патента: US20220299311A1. Автор: LINDEMANN Robert,HELLHUND Jonas,HANNES David. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-22.

Laser interferometry measurement device.

Номер патента: FR2712691A1. Автор: Fondeur Bernard. Владелец: Fondeur Bernard. Дата публикации: 1995-05-24.

LASER INTERFEROMETRY MEASURING DEVICE

Номер патента: FR2612628B1. Автор: . Владелец: Fondeur Bernard. Дата публикации: 1993-09-10.

Process and apparatus for measuring distance by laser interferometry with two wavelengths

Номер патента: EP0027763A1. Автор: Gilbert Louis Jacques Bourdet,Michel Alain Fernand Franco. Владелец: Agence National de Valorisation de la Recherche ANVAR. Дата публикации: 1981-04-29.

METHOD AND APPARATUS FOR LASER INTERFEROMETRY WITH TWO WAVE LENGTHS

Номер патента: FR2468099A1. Автор: Gilbert Louis Jacques Bourdet,Michel Alain Fernand Franco. Владелец: Agence National de Valorisation de la Recherche ANVAR. Дата публикации: 1981-04-30.

common path movement distance measuring apparatus using laser interferometry

Номер патента: KR101441109B1. Автор: 이석순. Владелец: 경상대학교산학협력단. Дата публикации: 2014-10-30.

Continuous frequency Sweep Laser Unit for Laser Interferometry

Номер патента: FR2753276A1. Автор: Pierre Pfeiffer,Abdeslam Hafidi,Patrick Meyrueis,Edouard SCHMIDTLIN. Владелец: Universite Louis Pasteur Strasbourg I. Дата публикации: 1998-03-13.

LASER INTERFEROMETRY MEASURING DEVICE

Номер патента: DE3808779A1. Автор: Bernard Fondeur. Владелец: Dea Digital Electronic Automation SpA Moncalieri It. Дата публикации: 1988-10-06.

Velocity meter for fluid flow - uses laser interferometry via interferometer arms of different length and phase shift

Номер патента: FR2353067A1. Автор: Gunter Smeets. Владелец: Institut Franco Allemand de Recherches de Saint Louis ISL. Дата публикации: 1977-12-23.

Device for measuring physical quantity using pulsed laser interferometry

Номер патента: US6168310B1. Автор: Shuzo Fujimura,Jun Kikuchi,Ryo Kurosaki,Haruhiko Serizawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2001-01-02.

Optical navigation based on laser feedback or laser interferometry

Номер патента: US7492351B2. Автор: Gary B. Gordon,Gregory D. VanWiggeren,Douglas M. Baney. Владелец: Avago Technologies ECBU IP Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2009-02-17.

Improvements to devices for measuring the absolute value of gravity acceleration by laser interferometry

Номер патента: FR1528925A. Автор: Michel Lacombat,Georges Pircher. Владелец: Compagnie Francaise Thomson Houston SA. Дата публикации: 1968-06-14.

High-stability four-optical-path laser interferometry system

Номер патента: CN110174054B. Автор: 李强,任冬梅,兰一兵,段小艳. Владелец: Beijing Changcheng Institute of Metrology and Measurement AVIC. Дата публикации: 2020-12-11.

Phase-compensated cube corner in laser interferometry

Номер патента: US7165850B2. Автор: John J. Bockman,Lawrence Hakchu Lee. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2007-01-23.

Laser noise reduction for laser interferometry

Номер патента: WO2021231339A1. Автор: Ezra Ip,Yue-Kai Huang,Fatih Yaman. Владелец: NEC Laboratories America, Inc.. Дата публикации: 2021-11-18.

Method and system for buried land mine detection through derivative analysis of laser interferometry

Номер патента: US20160054270A1. Автор: Eric M. LOUCHARD. Владелец: BAE Systems Information and Electronic Systems Integration Inc. Дата публикации: 2016-02-25.

Providing method of diagnostic information on alzheimer's disease using extreme learning machine

Номер патента: KR102486723B1. Автор: 권구락. Владелец: 조선대학교산학협력단. Дата публикации: 2023-01-09.

Linear variable displacement transformer (lvdt) with improved linearity using extreme end booster winding

Номер патента: US20170352464A1. Автор: John Jerred,Subramanian Esakki,Aaron Daniels,Paresh Sanchihar,Murgesh R. Sajjan. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2017-12-07.

Providing method of diagnostic information on alzheimer's disease using extreme learning machine

Номер патента: KR20220160261A. Автор: 권구락. Владелец: 조선대학교산학협력단. Дата публикации: 2022-12-06.

METHOD FOR REINFORCING OPTICAL SIGNALS BY USING EXTREMELY BROADBAND ERBIUM DOTED MATERIALS

Номер патента: DE60027731D1. Автор: Hiroshi Noguchi,M Fejer,J Digonnet. Владелец: Leland Stanford Junior University. Дата публикации: 2006-06-08.

EXTRACTION OF IMAGING PARAMETERS FOR COMPUTATIONAL LITHOGRAPHY USING A DATA WEIGHTING ALGORITHM

Номер патента: US20130254724A1. Автор: PARIKH ASHESH. Владелец: TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED. Дата публикации: 2013-09-26.

EXTRACTION OF IMAGING PARAMETERS FOR COMPUTATIONAL LITHOGRAPHY USING A DATA WEIGHTING ALGORITHM

Номер патента: US20130254725A1. Автор: PARIKH ASHESH. Владелец: TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED. Дата публикации: 2013-09-26.

COMPOUND, RESIN, COMPOSITION, AND FILM FORMING MATERIAL FOR LITHOGRAPHY USING THE SAME

Номер патента: US20210003921A1. Автор: ECHIGO Masatoshi,MAKINOSHIMA Takashi. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-07.

Swellable Film Forming Composition and Method of Nanoimprint Lithography Using It

Номер патента: KR101907337B1. Автор: 데이비드 비 올슨,존 티 스트랜드. Владелец: 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니. Дата публикации: 2018-10-11.

Calcium flouride crystal, optical article and exposure apparatus for photo-lithography using the same

Номер патента: US20010008540A1. Автор: Toshio Ichizaki,Tomoru Oba. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-19.

Imprint lithography using multi-layer coating architecture

Номер патента: US20240045216A1. Автор: Frank Y. Xu,Vikramjit Singh,Marlon Edward Menezes. Владелец: Magic Leap Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Compound, resin, composition and film-forming material for lithography using same

Номер патента: EP3760611A1. Автор: Masatoshi Echigo,Takashi Makinoshima. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2021-01-06.

Imprint lithography using multi-layer coating architecture

Номер патента: EP4327142A1. Автор: Frank Y. Xu,Vikramjit Singh,Marlon Edward Menezes. Владелец: Magic Leap Inc. Дата публикации: 2024-02-28.

Method and apparatus for disease diagnosis and screening using extremely low frequency electromagnetic fields

Номер патента: CA2771260C. Автор: Mark L. Faupel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-04-25.

Composition and Method of Manufacturing and Using Extremely Rheopectic Sulfonate-Based Greases

Номер патента: US20230340354A1. Автор: J. Andrew WAYNICK,Alisha Farrington,Deon Copeland. Владелец: NCH Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Laser processing system for processing workpiece - uses movable clamping element controlled by laser interferometry, and tilting mirrors to process large surface area of workpiece

Номер патента: NL1002402C2. Автор: Gerrit Bootsman. Владелец: Bootsman Holding Bv. Дата публикации: 1996-09-11.

Laser interferometry endpoint detection with windowless polishing pad for chemical mechanical polishing process

Номер патента: US6565416B2. Автор: Samuel Vance Dunton,Yizhi Xiong. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2003-05-20.

Endpoint detection using laser interferometry

Номер патента: US20050087515A1. Автор: Deana Delp. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-04-28.

COMPUTING DEVICES USING EXTREMELY HIGH FREQUENCY (EHF) ELECTROMAGNETIC COMMUNICATION

Номер патента: US20190182179A1. Автор: ISAAC Roger Dwain,Pak Edward T.. Владелец: . Дата публикации: 2019-06-13.

Method for determination of maximal braking power of anti-lock braking system, using extreme local data

Номер патента: DE102005001770A1. Автор: Ralf Dr. Schwarz,Peter E. Dr. Rieth,Rolf Prof. Dr. Isermann,Sascha Semmler. Владелец: Continental Teves AG and Co oHG. Дата публикации: 2005-09-15.

Composition and method of manufacturing and using extremely rheopectic sulfonate-based greases

Номер патента: WO2021163185A8. Автор: Andrew J. Waynick. Владелец: NCH Corporation. Дата публикации: 2021-09-30.

Lithography using high selectivity spacers for pitch reduction

Номер патента: US09773676B2. Автор: Shau-Lin Shue,Tien-I Bao,Ming-Feng Shieh,Cheng-Hsiung Tsai,Chung-Ju Lee,Ru-Gun Liu,Hsiang-Huan Lee,Hai-Ching Chen,Tsai-Sheng Gau,Yung-Hsu WU,Yu-Sheng CHANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

INTEGRATED CIRCUITS (ICS) MADE USING EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) PATTERNING AND METHODS FOR FABRICATING SUCH ICS

Номер патента: US20200006122A1. Автор: RIM Kern,BADAROGLU Mustafa. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-02.

Composition and Method of Manufacturing and Using Extremely Rheopectic Sulfonate-Based Greases

Номер патента: US20210246393A1. Автор: Waynick J. Andrew. Владелец: . Дата публикации: 2021-08-12.

HIGH EFFICIENCY BIOFUEL PRODUCTION USING EXTREMELY THERMOPHILIC BACTERIA

Номер патента: US20140342425A1. Автор: Curvers Simon,Svetlichnyi Vitaly. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-20.

COMPUTING DEVICES USING EXTREMELY HIGH FREQUENCY (EHF) ELECTROMAGNETIC COMMUNICATION

Номер патента: US20200252349A1. Автор: ISAAC Roger Dwain,Pak Edward T.. Владелец: . Дата публикации: 2020-08-06.

Single-step bioconversion of lignocellulosic biomass to biofuels using extreme thermophilic bacteria

Номер патента: US20140363869A1. Автор: Simon Curvers,Vitaly SVETLICHNYI. Владелец: DIREVO INDUSTRIAL BIOTECHNOLOGY GmbH. Дата публикации: 2014-12-11.

Method for performing lignocelluloses raw material high-temperature diluted acid pretreatment by using extremely small amount of water

Номер патента: CN102010882A. Автор: 张建,鲍杰,王修胜,楚德强,张怀庆. Владелец: EAST CHINA UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2011-04-13.

Method and apparatus for disease diagnosis and screening using extremely low frequency electromagnetic fields

Номер патента: CA2771260A1. Автор: Mark L. Faupel. Владелец: Mark L. Faupel. Дата публикации: 2010-02-25.

ENGINE AND MINIMUM HEIGHT ASSEMBLY USING EXTREME ALUMINUM SHIELDS

Номер патента: MX166454B. Автор: John Garrett Lewis. Владелец: EMERSON ELECTRIC CO. Дата публикации: 1993-01-11.

Method and Apparatus for Disease Diagnosis and Screening Using Extremely Low Frequency Electromagnetic Fields

Номер патента: US20100049078A1. Автор: Mark L. Faupel. Владелец: Faupel Mark L. Дата публикации: 2010-02-25.

Surface layer disruption and ionization using extreme ultraviolet radiation source

Номер патента: CN111630624A. Автор: 乌多·H·维尔凯克,弗拉迪米尔·罗曼诺夫,艾利森·詹宁斯,汉·T·莱,阿兰·霍普金森. Владелец: Rapiscan Systems Inc. Дата публикации: 2020-09-04.

Composition and method of manufacturing and using extremely rheopectic sulfonate-based greases

Номер патента: WO2021163185A1. Автор: Waynick J. Andrew. Владелец: NCH Corporation. Дата публикации: 2021-08-19.

By the cell device of electronic cigarette and the associated device assembled using extremity piece

Номер патента: CN107743363A. Автор: 蒂埃里·卡伊. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-02-27.

Cryopreservation of cell materials e.g. stem cells, semen, ejaculate, embryos, blastocysts, blood and its components and organic/chemical substances e.g. proteins, using extremely high cooling rates without cryoprotectors

Номер патента: DE102008019842A1. Автор: . Владелец: KARLY ANDREA. Дата публикации: 2010-05-12.

Method and system for lithography using phase-change material

Номер патента: US20040110094A1. Автор: Chih-Yuan Lu,Yi-Chou Chen,Hsiang-Lan Lung,Li-Hsin Chuang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-10.

Tio2-containing silica glass and optical member for lithography using the same

Номер патента: EP2247544A1. Автор: Yasutomi Iwahashi,Akio Koike,Shinya Kikugawa. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-10.

Tio2-containing silica glass and optical member for euv lithography using high energy densities as well as special temperature controlled process for its manufacture

Номер патента: EP2247546A1. Автор: Yasutomi Iwahashi,Akio Koike,Shinya Kikugawa,Kenta Saito,Long Shao. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-10.

Apparatus and methods for electron beam lithography using array cathode

Номер патента: US09715995B1. Автор: Keith Standiford,Alan D. Brodie,Paul F. Petric. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-07-25.

Lithography using interface reaction

Номер патента: US09564326B2. Автор: Kangguo Cheng,Pouya Hashemi,Alexander Reznicek,Ali Khakifirooz. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-02-07.

Tio2-containing silica glass and optical member for euv lithography using high energy densities as well as special temperature controlled process for its manufacture

Номер патента: US20100323871A1. Автор: Yasutomi Iwahashi,Akio Koike,Shinya Kikugawa,Kenta Saito,Long Shao. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2010-12-23.

LITHOGRAPHY USING SELF-ASSEMBLED POLYMERS

Номер патента: US20130140272A1. Автор: DIJKSMAN Johan Frederik,Wuister Sander Frederik,Koole Roelof,Peeters Emiel. Владелец: . Дата публикации: 2013-06-06.

FABRICATION OF SEAMLESS LARGE AREA MASTER TEMPLATES FOR IMPRINT LITHOGRAPHY USING STEP AND REPEAT TOOLS

Номер патента: US20130153534A1. Автор: Xu Frank Y.,Miller Michael N.,Resnick Douglas J.. Владелец: MOLECULAR IMPRINTS, INC.. Дата публикации: 2013-06-20.

METHODS AND APPARATUS FOR LITHOGRAPHY USING A RESIST ARRAY

Номер патента: US20130200498A1. Автор: Mangan Shmuel. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-08-08.

Lithography Using High Selectivity Spacers for Pitch Reduction

Номер патента: US20180012761A1. Автор: Liu Ru-Gun,Shieh Ming-Feng,CHEN Hai-Ching,BAO Tien-I,GAU Tsai-Sheng,Lee Chung-Ju,SHUE Shau-Lin,Lee Hsiang-Huan,Tsai Cheng-Hsiung,Chang Yu-Sheng,Wu Yung-Hsu. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-11.

LITHOGRAPHY USING INTERFACE REACTION

Номер патента: US20160020098A1. Автор: Cheng Kangguo,Reznicek Alexander,Khakifirooz Ali,Hashemi Pouya. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-21.

Lithography using Multilayer Spacer for Reduced Spacer Footing

Номер патента: US20160027658A1. Автор: SHUE Shau-Lin,Peng Chao-Hsien,Lee Hsiang-Huan. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-28.

Lithography Using High Selectivity Spacers for Pitch Reduction

Номер патента: US20160035571A1. Автор: Shau-Lin Shue,Tien-I Bao,Ming-Feng Shieh,Cheng-Hsiung Tsai,Chung-Ju Lee,Ru-Gun Liu,Hsiang-Huan Lee,Hai-Ching Chen,Tsai-Sheng Gau,Yung-Hsu WU,Yu-Sheng CHANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-02-04.

Parallelized 3D Lithography Using Multi-Beam, Multi-Color Light-Induced Polymerization

Номер патента: US20220055290A1. Автор: MULLER Patrick,Hahn Vincent,Blasco Eva,Wegener Martin. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-24.

Lithography using Multilayer Spacer for Reduced Spacer Footing

Номер патента: US20150118850A1. Автор: SHUE Shau-Lin,Peng Chao-Hsien,Lee Hsiang-Huan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2015-04-30.

Lithography Using High Selectivity Spacers for Pitch Reduction

Номер патента: US20150155171A1. Автор: Liu Ru-Gun,Shieh Ming-Feng,CHEN Hai-Ching,BAO Tien-I,GAU Tsai-Sheng,Lee Chung-Ju,SHUE Shau-Lin,Lee Hsiang-Huan,Tsai Cheng-Hsiung,Chang Yu-Sheng,Wu Yung-Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2015-06-04.

APPARATUS AND METHOD FOR LIQUID TRANSFER IMPRINT LITHOGRAPHY USING A ROLL STAMP

Номер патента: US20150266234A1. Автор: LIM Hyung-jun,Lee Jae-Jong,Choi Kee-Bong,Kim Gee-Hong. Владелец: . Дата публикации: 2015-09-24.

Method and Apparatus for Emission Lithography using Patterned Emitter

Номер патента: KR100397605B1. Автор: 유인경. Владелец: 버지니아 테크 인터렉추얼 프라퍼티스, 인크.. Дата публикации: 2003-09-13.

Method for electron beam lithography using photo-enhanced electron emission

Номер патента: KR100438806B1. Автор: 김성훈,이내성,한인택. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2004-07-16.

Reflection lithography using rotating platter

Номер патента: US7566882B1. Автор: Harald F. Hess. Владелец: KLA Tencor Technologies Corp. Дата публикации: 2009-07-28.

Lithography using multilayer spacer for reduced spacer footing

Номер патента: US9892933B2. Автор: Shau-Lin Shue,Chao-Hsien Peng,Hsiang-Huan Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Reflection electron beam projection lithography using an ExB separator

Номер патента: US9355818B2. Автор: Paul F. Petric. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-05-31.

TiO2-containing silica glass and optical member for lithography using the same

Номер патента: CN101959818A. Автор: 小池章夫,岩桥康臣,菊川信也. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-26.

Lithography using high selectivity spacers for pitch reduction

Номер патента: US9177797B2. Автор: Shau-Lin Shue,Tien-I Bao,Ming-Feng Shieh,Cheng-Hsiung Tsai,Chung-Ju Lee,Ru-Gun Liu,Hsiang-Huan Lee,Hai-Ching Chen,Tsai-Sheng Gau,Yung-Hsu WU,Yu-Sheng CHANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-11-03.

Electron lithography using a photocathode

Номер патента: US5395738A. Автор: George R. Brandes,Philip M. Platzman. Владелец: American Telephone and Telegraph Co Inc. Дата публикации: 1995-03-07.

Reflection electron beam projection lithography using an exb separator

Номер патента: TWI459430B. Автор: Paul F Petric. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2014-11-01.

Photosensitive resist exposure method for electron beam lithography uses stepped displacement of substrate in coordinate directions with regulation of electron beam energy after each displacement

Номер патента: DE10011201A1. Автор: Andreas Schubert,Rainer Plontke,Ines Stolberg,Michael Blume. Владелец: Vistec Electron Beam GmbH. Дата публикации: 2001-09-13.

Double patterned lithography using spacer assisted cuts for patterning steps

Номер патента: US11177160B2. Автор: Somnath Ghosh,Robert Robison,Timothy Mathew Philip. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-11-16.

Simplified lithography using ink and water admixtures

Номер патента: AU2008688A. Автор: Thomas A. Fadner,Frank J. Doyle,Eugene Merrill Van Kanegan. Владелец: Rockwell International Corp. Дата публикации: 1989-04-06.

Process for the preparation of octahedral silver chloride-containing emulsions

Номер патента: CA1331303C. Автор: Thomas Peter Tufano. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1994-08-09.

Use of polysaccharide compound in lithography

Номер патента: RU2738112C1. Автор: Артем Константинович Гребенко,Альберт Галийевич Насибулин,Антон Владимирович Бубис. Владелец: Автономная некоммерческая образовательная организация высшего образования «Сколковский институт науки и технологий». Дата публикации: 2020-12-08.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP3650936A1. Автор: Toru Komizo,Norihito Fukugami. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-13.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US20200159106A1. Автор: Toru Komizo,Norihito Fukugami. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Low roughness EUV lithography

Номер патента: US09922839B2. Автор: Nader Shamma,Richard Wise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Composition for forming topcoat layer and resist pattern formation method employing the same

Номер патента: US09804493B2. Автор: Georg Pawlowski,Hyun-Woo Kim,Xiaowei Wang,Tetsuo Okayasu,Yusuke Hama,Cheol Hong Park. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2017-10-31.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US20200218143A1. Автор: Toru Komizo,Norihito Fukugami. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-09.

Composition for forming topcoat layer and resist pattern formation method employing the same

Номер патента: US20150147701A1. Автор: Georg Pawlowski,Hyun-Woo Kim,Xiaowei Wang,Tetsuo Okayasu,Yusuke Hama,Cheol Hong Park. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2015-05-28.

Method for optical proximity correction, design and manufacturing of a reticle using variable shaped beam lithography

Номер патента: WO2010025032A3. Автор: Akira Fujimura,Lance Glasser. Владелец: D2S, INC.. Дата публикации: 2010-06-17.

Patterned organometallic photoresists and methods of patterning

Номер патента: WO2020081483A1. Автор: Michael Kocsis,Michael Greer,Shu-Hao Chang,Peter De Schepper. Владелец: Inpria Corporation. Дата публикации: 2020-04-23.

Patterned organometallic photoresists and methods of patterning

Номер патента: US20200124970A1. Автор: Michael Kocsis,Michael Greer,Shu-Hao Chang,Peter De Schepper. Владелец: Inpria Corp. Дата публикации: 2020-04-23.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP3650935A1. Автор: Toru Komizo,Norihito Fukugami. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-13.

Hybrid optical and euv lithography

Номер патента: US20200159105A1. Автор: Lei Sun,Guillaume Bouche,Geng Han,Jia ZENG. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2020-05-21.

Conductive polymer composition, coated article having antistatic film formed from the composition, and patterning process using the composition

Номер патента: US09558862B2. Автор: Satoshi Watanabe,Toshiya Sawai,Takayuki Nagasawa,Keiichi Masunaga. Владелец: Shin Etsu Polymer Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Polymer, chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US12032289B2. Автор: Masahiro Fukushima,Emiko Ono,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Reflective mask blank, method of manufacturing thereof, and reflective mask

Номер патента: US12050396B2. Автор: Takuro Yamamoto,Shohei Mimura,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Fast nanoimprinting methods using deformable mold

Номер патента: US09533445B2. Автор: Wei Zhang,Lin Hu,Hua Tan,Stephen Y. Chou. Владелец: Nanonex Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Method for optical proximity correction, design and manufacturing of a reticle using variable shaped beam lithography

Номер патента: EP2321840A2. Автор: Akira Fujimura,Lance Glasser. Владелец: D2S Inc. Дата публикации: 2011-05-18.

Substrate for electronic high-resolution lithography and relevant lithography method

Номер патента: RU2632581C2. Автор: Жан-Луи ЭМБЕР,Кристоф КОНСТАНСИА. Владелец: Коммиссариат А Л'Энержи Атомик Э О Энержи Альтернатив. Дата публикации: 2017-10-06.

Combining cut mask lithography and conventional lithography to achieve sub-threshold pattern features

Номер патента: US20140312500A1. Автор: Yang Da,Zhongze Wang,John J. Zhu. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2014-10-23.

Combining cut mask lithography and conventional lithography to achieve sub-threshold pattern features

Номер патента: EP2987034A1. Автор: Yang Da,Zhongze Wang,John J. Zhu. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2016-02-24.

Combining cut mask lithography and conventional lithography to achieve sub-threshold pattern features

Номер патента: WO2014172197A1. Автор: Yang Da,Zhongze Wang,John J. Zhu. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2014-10-23.

Onium salt monomer, polymer, chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20240329527A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Polymer, chemically amplified resist composition and patterning process

Номер патента: US20210096465A1. Автор: Masahiro Fukushima,Emiko Ono,Masayoshi Sagehashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-01.

Method of forming mask for lithography, method of forming mask data for lithography, method of manufacturing back-illuminated solid-state imaging device, back-illuminated solid-state imaging device and electronic device

Номер патента: US20110248373A1. Автор: Keiji Mabuchi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2011-10-13.

Method of forming mask for lithography, method of forming mask data for lithography, method of manufacturing back-illuminated solid-state imaging device, back-illuminated solid-state imaging device and electronic device

Номер патента: US8338212B2. Автор: Keiji Mabuchi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2012-12-25.

Method of forming mask for lithography, method of forming mask data for lithography, method of manufacturing back-illuminated solid-state imaging device, back-illuminated solid-state imaging device and electronic device

Номер патента: US7989253B2. Автор: Keiji Mabuchi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2011-08-02.

Reflective mask blank, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: EP4105718A3. Автор: Hideo Kaneko,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-28.

Sheet-shaped mold, production method therefor, and application therefor

Номер патента: US10118322B2. Автор: Hiroto Miyake,Masaya Omura,Tomoya Mizuta,Takuya OSAKA,Katsuhiro NAKAGUCHI,Arimichi Okumura,Naotaka NISHIO. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2018-11-06.

Molecular resist composition and patterning process

Номер патента: US11953827B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Device for determining characteristics for determining characteristics of scintillation material

Номер патента: RU2694592C2. Автор: Павел Георгиевич Баранов,Корнелис Рейндер РОНДА,Херфрид Карл ВЕЧОРЕК,Ханс-Алоис ВИШМАНН,Гаик АСАТРЯН,Даниил Олегович ТОЛМАЧЕВ. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук. Дата публикации: 2019-07-16.

Normal incidence x-ray reflectors and resonant cavities for supporting laser action using the same

Номер патента: US4317043A. Автор: James M. Forsyth,Alan E. Rosenbluth. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 1982-02-23.

Method of and means for testing a glancing-incidence mirror system of an X-ray telescope

Номер патента: US4063088A. Автор: Carroll C. Dailey. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 1977-12-13.

Novel salt compound, chemically amplified resist composition, and patterning process

Номер патента: US20200159115A1. Автор: Masahiro Fukushima,Emiko Ono,Masayoshi Sagehashi,Yuki Kera. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Method of making silica-titania extreme ultraviolet elements

Номер патента: US20030226377A1. Автор: Bradley Bowden,Claude Davis,Kenneth Hrdina,Michael Robinson,W. Barrett,John Wight,Michael Wasilewski. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2003-12-11.

X-ray device having a co-axial laser aiming system in an opposed configuration

Номер патента: US5661775A. Автор: Li Yuan,Steven Lee Cramer. Владелец: OEC Inc. Дата публикации: 1997-08-26.

Method of treating peripheral vestibulopathies

Номер патента: RU2732879C1. Автор: Виктор Иванович Егоров,Алексей Николаевич Наседкин,Вячеслав Иванович Самбулов,Алексей Васильевич Козаренко,Михаил Петрович Исаев. Владелец: Виктор Иванович Егоров. Дата публикации: 2020-09-24.

Apparatus and method for generating x-rays by laser irradiation of superfluid helium droplets

Номер патента: US20230328868A1. Автор: Michael Schulz,Robert RIEDEL,Tim LAARMANN,Jan Heye BUSS. Владелец: Class 5 Photonics GmbH. Дата публикации: 2023-10-12.

Apparatus and method for generating x-rays by laser irradiation of superfluid helium droplets

Номер патента: WO2022053451A1. Автор: Michael Schulz,Robert RIEDEL,Tim LAARMANN,Jan Heye BUSS. Владелец: Class 5 Photonics GmbH. Дата публикации: 2022-03-17.

Method for determining an eye position

Номер патента: US20240180421A1. Автор: Johannes Meyer,Thomas Alexander Schlebusch,Andreas Petersen,Stefan Gering,Alexander Zimmer. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2024-06-06.

Verfahren zur bestimmung einer augenposition

Номер патента: WO2023285032A1. Автор: Johannes Meyer,Thomas Alexander Schlebusch,Andreas Petersen,Stefan Gering,Alexander Zimmer. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2023-01-19.

Bar-code reading apparatus and bar-code reading method

Номер патента: US20080277471A1. Автор: Tomomi Mashiko. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2008-11-13.

Apparatus for determining quality of optical elements

Номер патента: RU2718139C1. Автор: Станислав Михайлович Шандаров,Виталий Иванович Быков,Константин Петрович Мельник. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники" (ТУСУР). Дата публикации: 2020-03-30.

Extreme Ultraviolet Radiation in Genomic Sequencing and Other Applications

Номер патента: US20200140941A1. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-05-07.

Двухволновый лазерный измеритель перемещений

Номер патента: RU2742694C1. Автор: Евгений Александрович Лавров,Михаил Михайлович Мазур,Владимир Николаевич Шорин,Юрий Александрович СУДДЕНОК. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Федеральное агентство по техническому регулированию и метрологии (РОССТАНДАРТ). Дата публикации: 2021-02-09.

Tracking type laser interferometer for objects with rotational degrees of freedom

Номер патента: US20130329231A1. Автор: Mirko Holler,Jörg Raabe. Владелец: Scherrer Paul Institut. Дата публикации: 2013-12-12.

Extreme ultraviolet radiation in genomic sequencing and other applications

Номер патента: EP3411692A1. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-12-12.

Extreme ultraviolet radiation in genomic sequencing and other applications

Номер патента: US11718871B2. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-08-08.

Tracking type laser interferometer for objects with rotational degrees of freedom

Номер патента: EP2652519A1. Автор: Mirko Holler,Jörg Raabe. Владелец: Scherrer Paul Institut. Дата публикации: 2013-10-23.

Uniform thin films produced by magnetorheological finishing

Номер патента: WO2004013656A2. Автор: William Kordonski,Marc Tricard. Владелец: Qed Technologies, Inc.. Дата публикации: 2004-02-12.

Method and means for assembly of high precision ultra- high speed crystal scanning heads

Номер патента: US20090223634A1. Автор: Matthew David MOORE,Joanna Aleksandra Szydio-Moore. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-09-10.

Tracking type laser interferometer for objects with rotational degrees of freedom

Номер патента: US09417050B2. Автор: Mirko Holler,Jörg Raabe. Владелец: Scherrer Paul Institut. Дата публикации: 2016-08-16.

Systems and methods for displaying and using discrete micro- location identifiers

Номер патента: WO2022125596A1. Автор: S. Lee Hancock,Jordan T. Hastings. Владелец: WGRS Licensing Company, LLC. Дата публикации: 2022-06-16.

Extreme ultraviolet radiation in genomic sequencing and other applications

Номер патента: CA3012825C. Автор: Supriya JAISWAL. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-13.

Polarization change detection

Номер патента: US20200088583A1. Автор: Michael J. DeWeert,Andrew N. Acker. Владелец: BAE Systems Information and Electronic Systems Integration Inc. Дата публикации: 2020-03-19.

Laser measurement system for rapid calibration of machine tools

Номер патента: US5900938A. Автор: Peisen S. Huang. Владелец: Research Foundation of State University of New York. Дата публикации: 1999-05-04.

Polarization change detection

Номер патента: US10620051B2. Автор: Michael J. DeWeert,Andrew N. Acker. Владелец: BAE Systems Information and Electronic Systems Integration Inc. Дата публикации: 2020-04-14.

Extremely randomized bootstrap aggregation systems and methods

Номер патента: US20240070528A1. Автор: Michael Langford. Владелец: Capital One Services LLC. Дата публикации: 2024-02-29.

Extreme Temperature Robust Optical Sensor Designs And Fault-Tolerant Signal Processing

Номер патента: US20090296776A1. Автор: Frank Perez,Nabeel Agha Riza. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-12-03.

Blind source separation of signals having low signal-to-noise ratio

Номер патента: US09991908B2. Автор: Gary A. Ray. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2018-06-05.

Transparent communication devices

Номер патента: US09615054B1. Автор: Steve H. McNelley,Jeffrey Machtig. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-04-04.

Transparent electrode with asymmetric light transmission and method of its manufacturing

Номер патента: RU2710481C1. Автор: Андрей Викторович Вениаминов,Александр Сергеевич Шалин,Иван Сергеевич Мухин,Константин Руфович Симовский. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет ИТМО" (Университет ИТМО). Дата публикации: 2019-12-26.

Optical fiber ribbon imaging guidewire and methods

Номер патента: US20160018593A1. Автор: Michael J. Eberle,Howard Neil Rourke,Diana Margaret Tasker. Владелец: Vascular Imaging Corp. Дата публикации: 2016-01-21.

Optical fiber ribbon imaging guidewire and methods

Номер патента: US20210223470A1. Автор: Michael J. Eberle,Howard Neil Rourke,Diana Margaret Tasker. Владелец: Phyzhon Health Inc. Дата публикации: 2021-07-22.

Method for maintenance of the autonomous undefined underwater apparatus

Номер патента: RU2616446C1. Автор: Игорь Николаевич Бурдинский,Семен Александрович Отческий,Андрей Сергеевич Миронов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Тихоокеанский государственный университет". Дата публикации: 2017-04-17.

Wave form filter pulse detector and method for modulated signal

Номер патента: US4867571A. Автор: Michael Pawlowski,Rex McCarthy,Gene Frick. Владелец: Sensormedics Corp. Дата публикации: 1989-09-19.

Method of Construction Quality Control Monitoring and Reporting

Номер патента: US20190228366A1. Автор: Christopher J. Nash. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-07-25.

Optical fiber ribbon imaging guidewire and methods

Номер патента: EP2972540A2. Автор: Michael J. Eberle,Howard Neil Rourke,Diana Margaret Tasker. Владелец: Vascular Imaging Corp. Дата публикации: 2016-01-20.

Method for Imprinting and Erasing Amorphous Metal Alloys

Номер патента: US20140186648A1. Автор: Hongxing Tang,Jan Schroers,Golden Kumar. Владелец: YALE UNIVERSITY. Дата публикации: 2014-07-03.

Conductive polymer composition, coated article, patterning process and substrate

Номер патента: US09778570B2. Автор: Jun Hatakeyama,Takayuki Nagasawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Automatic focus and deflection correction in E-beam system using optical target height measurements

Номер патента: US4468565A. Автор: Samuel K. Doran,William W. Blair,Guenther O. Langner. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-08-28.

Formation of a hybrid integrated circuit device

Номер патента: WO2009085374A3. Автор: Bernard J. New,Steven P. Young,James Karp,Patrick J. Crotty,Scott S. Nance. Владелец: XILINX, INC.. Дата публикации: 2009-11-19.

Formation of a hybrid integrated circuit device

Номер патента: EP2220682A2. Автор: Bernard J. New,Steven P. Young,James Karp,Patrick J. Crotty,Scott S. Nance. Владелец: Xilinx Inc. Дата публикации: 2010-08-25.

Processing scheme for domain expansion rom media

Номер патента: WO2004040565A3. Автор: Gavin N Phillips. Владелец: Gavin N Phillips. Дата публикации: 2004-12-02.

Method for imprinting and erasing amorphous metal alloys

Номер патента: EP2121992A1. Автор: Hongxing Tang,Jan Schroers,Golden Kumar. Владелец: YALE UNIVERSITY. Дата публикации: 2009-11-25.

Processing scheme for domain expansion rom media

Номер патента: WO2004040566A3. Автор: Gavin N Phillips. Владелец: Gavin N Phillips. Дата публикации: 2004-12-02.

Processing scheme for domain expansion rom media

Номер патента: WO2004040566A2. Автор: Gavin N. Phillips. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2004-05-13.

Processing scheme for domain expansion rom media

Номер патента: EP1561214A2. Автор: Gavin N. Phillips. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2005-08-10.

Processing scheme for domain expansion rom media

Номер патента: EP1563495A2. Автор: Gavin N. Phillips. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2005-08-17.

Rotational actuator or motor based on carbon nanotubes

Номер патента: WO2005008708A3. Автор: Alexander K Zettl,Adam M Fennimore,Thomas D Yuzvinsky. Владелец: Thomas D Yuzvinsky. Дата публикации: 2005-09-29.

Extreme ultraviolet light and plasma combined atomic-scale processing method

Номер патента: EP4197966A1. Автор: Fengzhou Fang. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-06-21.

Sudac, user equipment, base station and sudac system

Номер патента: MY197364A. Автор: Frank Burkhardt,Christian Rohde,Marco Breiling,Wing Kwan Ng,Robert Schober. Владелец: Fraunhofer Ges Forschung. Дата публикации: 2023-06-14.

Downhole hydraulic mining unit

Номер патента: RU2761807C1. Автор: Сергей Николаевич Кошколда,Олег Валерьевич Носов,Егор Денисович Казаков,Дмитрий Владимирович Суслов. Владелец: Сергей Николаевич Кошколда. Дата публикации: 2021-12-13.

3d sound analysis system

Номер патента: EP4420362A1. Автор: Ian Symons. Владелец: 3ds Mike Pty Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

3d sound analysis system

Номер патента: WO2023097377A1. Автор: Ian Symons. Владелец: 3ds Mike Pty Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

3d sound analysis system

Номер патента: CA3238515A1. Автор: Ian Symons. Владелец: 3ds Mike Pty Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Systems and methods for projecting adjustable interference fringes

Номер патента: WO2023215268A1. Автор: Goldie Lynne GOLDSTEIN,Daniel Gene Smith,Takuto TAKEMOTO. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2023-11-09.

Field emission backplate

Номер патента: EP1417695A1. Автор: John Shannon,Mervyn John Rose,Ravi Silva. Владелец: UNIVERSITY OF DUNDEE. Дата публикации: 2004-05-12.

3d sound analysis system

Номер патента: AU2022401059A1. Автор: Ian Symons. Владелец: 3ds Mike Pty Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Portable electro-mechanical cryosurgical device

Номер патента: EP3709917A1. Автор: R. Sam Niedbala,Lincoln C. Young,Philip Michael Formica. Владелец: Cryoconcepts LP. Дата публикации: 2020-09-23.

Portable electro-mechanical cryosurgical device

Номер патента: US20200360070A1. Автор: R. Sam Niedbala,Lincoln C. Young,Philip Michael Formica. Владелец: Cryoconcepts LP. Дата публикации: 2020-11-19.

Acoustic noise suppressing ducted fan propulsor mounting arrangement and treatments

Номер патента: US11767097B2. Автор: Ronald Martin Barrett,John Austin Haug,Joshua Donald Mudd,Dalton Bastiaan Prins,Nicholas Donald Werner,Lauren Nicole Schumacher,Patrick Ian McNamee. Владелец: University of Kansas. Дата публикации: 2023-09-26.

Floating equipment for recovering supernatant oily products

Номер патента: AU6919998A. Автор: Giancarlo Abo. Владелец: ARON Srl. Дата публикации: 1998-09-22.

Methods for producing carbon-based chemicals by algal biomass processing

Номер патента: US09920337B2. Автор: Klaudija Milos,Marco KRÄMER. Владелец: DIREVO INDUSTRIAL BIOTECHNOLOGY GmbH. Дата публикации: 2018-03-20.

Method of synthesizing 25-hydroxy cholesterol

Номер патента: US09802977B2. Автор: Bin Sun,Ziqiang Wang,Jiangang Liu,Can JIN,Wenhao XU,Weike Su. Владелец: Hangzhou Xiasha Biochemical Tech Co ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Electromagnetic platform motor (EPM) (EPM-1) (EPM-2)

Номер патента: US09641045B2. Автор: Bill Lewis, SR.. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-05-02.

Junction overlap control in a semiconductor device using a sacrificial spacer layer

Номер патента: US09530864B2. Автор: Chia-Yu Chen,Tenko Yamashita,Michael J. Hargrove,Ryan O. Jung,Steven J. Bentley,Sivanandha K. Kanakasabapathy. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-12-27.

Forming air gap

Номер патента: US20180076082A1. Автор: Naftali E. Lustig,Elbert E. Huang,Griselda Bonilla,Andrew H. Simon,Ronald G. Filippi,Samuel S. Choi. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-03-15.

Norbornyl dimer ester and polyester additives for lubricants and fuels

Номер патента: AU7709787A. Автор: Richard Michael Lange. Владелец: Lubrizol Corp. Дата публикации: 1988-02-10.

Dna valency sorting chromatography

Номер патента: WO2023055998A9. Автор: Haw Yang,Nyssa EMERSON. Владелец: THE TRUSTEES OF PRINCETON UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-08-10.

Pressure-resistant mixer

Номер патента: AU5844586A. Автор: Hubert Eirich,Paul Eirich,Walter Eirich. Владелец: Individual. Дата публикации: 1986-12-11.

Cover-gasket assembly for hard disk device

Номер патента: GB2265904A. Автор: Shinichi Sato,Hirofumi Kishita,Kouichi Yamaguchi,Kazuhiko Tomaru,Noburu Shimamoto. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1993-10-13.

Portable electro-mechanical cryosurgical device

Номер патента: WO2019099878A1. Автор: R. Sam Niedbala,Lincoln C. Young,Philip Michael Formica. Владелец: Cryoconcepts LP. Дата публикации: 2019-05-23.

Pressure-resistant mixer

Номер патента: CA1263376A. Автор: Hubert Eirich,Paul Eirich,Walter Eirich. Владелец: Individual. Дата публикации: 1989-11-28.

Portable ion generator and dust collector

Номер патента: US20030147784A1. Автор: Constantinos Joannou. Владелец: Joannou Constantinos J.. Дата публикации: 2003-08-07.

Acoustic noise suppressing ducted fan propulsor mounting arrangement and treatments

Номер патента: US20230406483A1. Автор: Ronald Martin Barrett,Lauren Nicole Schhumacher,Patrick lan McNamee,John Austin Haug,Joshua Donald Mudd,Dalton Bastiaan Prins,Nicholas Donald Werner. Владелец: University of Kansas. Дата публикации: 2023-12-21.

Amorphous form of tetracyclic compound

Номер патента: US20230339885A1. Автор: Koji Shiraki,Tadanobu Nakayama,Tomoaki Ota. Владелец: Chugai Pharmaceutical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Cryogenic removal of carbon dioxide from the atmosphere

Номер патента: US20230314070A1. Автор: Eric Clarence Peterson,Ruslan NAGIMOV,Benjamin Franklin Cutler. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2023-10-05.

Multi-layer hardmask for defect reduction in euv patterning

Номер патента: US20230343593A1. Автор: Nelson Felix,Dominik Metzler,Bhaskar Nagabhirava,Phillip FRIDDLE,Ekimini Anuja DE SILVA,Jennifer Church. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Cryogenic removal of carbon dioxide from the atmosphere

Номер патента: WO2023191963A1. Автор: Eric Clarence Peterson,Ruslan NAGIMOV,Benjamin Franklin Cutler. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC. Дата публикации: 2023-10-05.

Dna valency sorting chromatography

Номер патента: WO2023055998A3. Автор: Haw Yang,Nyssa EMERSON. Владелец: THE TRUSTEES OF PRINCETON UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-09-14.

Norbornyl dimer ester and polyester additives for lubricants and fuels

Номер патента: WO1988000589A3. Автор: Richard Michael Lange. Владелец: Lubrizol Corp. Дата публикации: 1988-02-25.

Nobornyl dimer ester and polyester additives for lubricants and fuels

Номер патента: SG18992G. Автор: . Владелец: Lubrizol Corp. Дата публикации: 1992-04-16.

Dna valency sorting chromatography

Номер патента: WO2023055998A2. Автор: Haw Yang,Nyssa EMERSON. Владелец: THE TRUSTEES OF PRINCETON UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-04-06.

Method for forming a capacitor in a memory cell in a dynamic random access memory device

Номер патента: US5897983A. Автор: Toshiyuki Hirota,Kazuki Yokota,Masanobu Zenke,Tomomi Kurokawa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1999-04-27.

Method of fabricating a TFT with reduced channel length

Номер патента: US5532180A. Автор: Willem den Boer,Tieer Gu. Владелец: OIS Optical Imaging Systems Inc. Дата публикации: 1996-07-02.

Target device and X-ray laser device

Номер патента: JP3490770B2. Автор: 順 佐々部,正 北原,勝吉 藤田. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2004-01-26.

Wavelength-variable x-ray laser generating apparatus

Номер патента: JPH1022588A. Автор: Tamio Hara,Toshio Sada,Naohiro Yamaguchi,民夫 原,登志夫 佐田,山口　　直洋. Владелец: Toyota Gauken. Дата публикации: 1998-01-23.

Improved x-ray laser

Номер патента: GB8700189D0. Автор: . Владелец: CONTROL LASER Ltd. Дата публикации: 1987-04-15.

Method of treating with using extreme hypoxia and hypercapnia

Номер патента: RU2387463C1. Автор: Юрий Владимирович Катаев,Юрий Владимирович Катаев (RU). Владелец: Юрий Владимирович Катаев. Дата публикации: 2010-04-27.

Product and process for acting on biological organisms using extremely low frequencies

Номер патента: AU2023204283A1. Автор: Luzo DANTAS JUNIOR. Владелец: Dantas Junior Luzo Mr. Дата публикации: 2023-07-27.

Calibration method suitable for oblique laser interferometry lens imaging distortion

Номер патента: CN109887037B. Автор: 杨鹏程,张蒙蒙,肖渊,杨社强,戴雨志. Владелец: Xian Polytechnic University. Дата публикации: 2023-03-14.

A kind of scaling method suitable for the distortion of inclined in type laser interferometry lens imaging

Номер патента: CN109887037A. Автор: 杨鹏程,张蒙蒙,肖渊,杨社强,戴雨志. Владелец: Xian Polytechnic University. Дата публикации: 2019-06-14.

Eye tonometer using laser interferometry and ultrasound

Номер патента: ES2178920A1. Автор: Egana Fco Javier Carreras. Владелец: Egana Fco Javier Carreras. Дата публикации: 2003-01-01.

Double-frequency laser interferometry apparatus

Номер патента: CN101413783B. Автор: 王霁. Владелец: Avic I Beijing Changcheng Institute Of Metrology & Measurement (cimm). Дата публикации: 2012-06-27.

Method of manufacturing printed board using extremely thin copper foil

Номер патента: JPS5446377A. Автор: Kenji Yamamoto,Hitoshi Nakamura,Mitsuo Yamashita,Shinji Umemoto. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1979-04-12.

SEMICONDUCTOR EXPOSURE DEVICE USING EXTREME ULTRA VIOLET RADIATION

Номер патента: US20120256105A1. Автор: MORIYA Masato,Wakabayashi Osamu,Soumagne Georg. Владелец: Komatsu Ltd./Gigaphoton, Inc.. Дата публикации: 2012-10-11.

Knowledge acquiring system using extreme-value history

Номер патента: JPH01123327A. Автор: Shinichi Hashimoto,信一 橋本. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 1989-05-16.

LITHOGRAPHY USING PHOTORESIST WITH PHOTOINITIATOR AND PHOTOINHIBITOR

Номер патента: US20120107743A1. Автор: Miller Seth. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2012-05-03.

Scanning Lithography using point source imaging arrays

Номер патента: US20130065185A1. Автор: Flagello Donis G.. Владелец: . Дата публикации: 2013-03-14.

Room temperature nano-imprint-lithography using SOG

Номер патента: JP4208447B2. Автор: 真二 松井. Владелец: National Institute of Japan Science and Technology Agency. Дата публикации: 2009-01-14.

Antireflective Coatings for Via Fill and Photolithography Applications and Methods of Preparation Thereof

Номер патента: US20120001135A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of research of three-dimensional structures

Номер патента: RU2545471C1. Автор: Антон Евгеньевич Ефимов,Игорь Иванович Агапов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "СНОТРА". Дата публикации: 2015-03-27.

HIGH TEMPERATURE HEAP BIOLEACHING PROCESS

Номер патента: US20120000318A1. Автор: KOHR William J.,SHRADER Vandy,JOHANSSON Chris. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

WIND TURBINE TOWER

Номер патента: US20120000158A1. Автор: Laursen Christian. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

PULSE SIGNAL GENERATION DEVICE

Номер патента: US20120002388A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of measurement of electric pulse parameters

Номер патента: RU2297640C2. Автор: Иван Григорьевич Толстиков. Владелец: Российская Федерация,от имени которой выступает государственный заказчик - Федеральное агентство по атомной энергии - Агентство. Дата публикации: 2007-04-20.

Method for determination of indications for early cataract surgery

Номер патента: RU2366355C1. Автор: Александр Иванович Еременко,Александр Александрович Бойко. Владелец: Александр Александрович Бойко. Дата публикации: 2009-09-10.

SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001179A1. Автор: Yamazaki Shunpei,Takahashi Masahiro,TOCHIBAYASHI Katsuaki,HIROHASHI Takuya,NAKAZAWA Yasutaka,YOKOYAMA Masatoshi. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001170A1. Автор: Yamazaki Shunpei. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Golf Ball Incorporating Thermoplastic Polyurethane

Номер патента: US20120004050A1. Автор: . Владелец: Nike, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus for determining dimensions of parts

Номер патента: RU2158416C1. Автор: А.О. Жирков,Е.В. Леун,В.Е. Загребельный,М.И. Беловолов,А.П. Рыбалко. Владелец: Московский государственный технологический университет "СТАНКИН". Дата публикации: 2000-10-27.

Laser System

Номер патента: US20120002687A1. Автор: . Владелец: CYMER, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20120003585A1. Автор: TSUBAKI Hideaki,Tsuchimura Tomotaka,Yatsuo Tadateru,TSUCHIHASHI Toru,SHIRAKAWA Koji. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003590A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FORMING PATTERN AND DEVELOPER FOR USE IN THE METHOD

Номер патента: US20120003591A1. Автор: Enomoto Yuichiro,Tarutani Shinji,IWATO Kaoru,Kato Keita,Kamimura Sou,FUJII Kana. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Ammonium Fluoroalkanesulfonates and a Synthesis Method Therefor

Номер патента: US20120004447A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

PHOTORESIST AND PATTERNING PROCESS

Номер патента: US20120003582A1. Автор: Wang Chien-Wei,Huang Chun-Ching. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Bioengineering method for remodeling cerebral vascular system

Номер патента: RU2152039C1. Автор: В.И. Шумаков,М.Е. Крашенинников,А.С. Брюховецкий,В.П. Чехонин,В.Ф. Зубрицкий,Т.Б. Дмитриева,Г.Ю. Шараевский,С.М. Козин. Владелец: Козин Сергей Михайлович. Дата публикации: 2000-06-27.

Method for electric reconnaissance

Номер патента: RU2098847C1. Автор: А.И. Человечков,Р.В. Улитин,В.В. Кормильцев. Владелец: Институт геофизики Уральского отделения РАН. Дата публикации: 1997-12-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.