Method of manufacturing semiconductor devices having improved polycide integrity through introduction of a silicon layer within the polycide structure
Номер патента: US6153452A
Опубликовано: 28-11-2000
Автор(ы): Arun K. Nanda, Hem M. Vaidya, Pradip K. Roy, Sailesh M. Merchant
Принадлежит: Lucent Technologies Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 28-11-2000
Автор(ы): Arun K. Nanda, Hem M. Vaidya, Pradip K. Roy, Sailesh M. Merchant
Принадлежит: Lucent Technologies Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of fabricating a metal gate semiconductor device
Номер патента: US20130260547A1. Автор: Ming Zhu,Bao-Ru Young,Hak-Lay Chuang,Sheng-Chen Chung,Jyun-Ming Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-10-03.