Oxalic acid as a semiaqueous cleaning product for copper and dielectrics
Номер патента: US20040038840A1
Опубликовано: 26-02-2004
Автор(ы): Robert Small, Shihying Lee
Принадлежит: Individual
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 26-02-2004
Автор(ы): Robert Small, Shihying Lee
Принадлежит: Individual
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Non-plasma etch of titanium-containing material layers with tunable selectivity to alternate metals and dielectrics
Номер патента: US20210057213A1. Автор: Subhadeep Kal,Daisuke Ito,Shinji Irie,Aelan Mosden. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.