Apparatus for wafer inspection
Номер патента: US20080144025A1
Опубликовано: 19-06-2008
Автор(ы): Alexander Buettner, Christof Krampe-Zadler, Wolfgang Vollrath
Принадлежит: VISTEC SEMICONDUCTOR SYSTEMS GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 19-06-2008
Автор(ы): Alexander Buettner, Christof Krampe-Zadler, Wolfgang Vollrath
Принадлежит: VISTEC SEMICONDUCTOR SYSTEMS GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method and apparatus for polarized light wafer inspection
Номер патента: WO2017172624A1. Автор: Guoheng Zhao,Sheng Liu. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2017-10-05.