METHOD OF AND SYSTEM FOR EXPOSING A TARGET
Номер патента: US20140042334A1
Опубликовано: 13-02-2014
Автор(ы): WIELAND Marco Jan-Jaco
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 13-02-2014
Автор(ы): WIELAND Marco Jan-Jaco
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Rotatable sputter target base, rotatable sputter target, coating installation, method of producing a rotatable sputter target, target base connection means, and method of connecting a rotatable target base device for sputtering installations to a target base support
Номер патента: SG195563A1. Автор: Oliver Heimel,Lothar Lippert. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2013-12-30.