Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Method and apparatus for chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with a carrier and membrane

Method and apparatus for chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with a carrier and membrane

Номер патента: US6872131B2
Опубликовано: 29-03-2005
Автор(ы): Nathan R. Brown
Принадлежит: Micron Technology Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Method and apparatus for chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with a carrier and membrane

Номер патента: US20010039173A1. Автор: Nathan Brown. Владелец: BROWN NATHAN R.. Дата публикации: 2001-11-08.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240042574A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11945073B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230381917A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing and method of operation

Номер патента: WO2023229658A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-30.

Carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6165058A. Автор: Hung Chen,Steven Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-12-26.

Operation of clamping retainer for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230381915A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Configurable pressure design for multizone chemical mechanical planarization polishing head

Номер патента: WO2015199815A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Samuel Chu-Chiang Hsu,Gautam Shashank Dandavate. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-12-30.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US11344991B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-05-31.

Retaining ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20050014452A1. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuus Inc. Дата публикации: 2005-01-20.

Retainiing ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: WO2005009679A2. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuu's Inc., Dba Kamet. Дата публикации: 2005-02-03.

Multi-action chemical mechanical planarization device and method

Номер патента: US6514129B1. Автор: David G. Halley. Владелец: Strasbaugh Inc. Дата публикации: 2003-02-04.

Retaining ring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US8556684B2. Автор: William B. Sather,Adam W. Manzonie. Владелец: SPM Technology Inc. Дата публикации: 2013-10-15.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US20160158910A1. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Ditch type floating ring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020086536A1. Автор: Wei-Chieh Hsu. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US09827647B2. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: WO2024049890A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US20240075584A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Magnetic carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US5989103A. Автор: Manoocher Birang,John Prince,James Nystrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-11-23.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing of substrates

Номер патента: EP1307320A1. Автор: Jason Melvin,Hilario L. Oh,Nam P. Suh. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2003-05-07.

Carrier heads, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20050266778A1. Автор: Daniel Custer,Aaron Ward. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-12-01.

A carrier head with a flexible membrane for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW434107B. Автор: Steven Zuniga,Hung-Chr Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-05-16.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11806835B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11986926B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

An apparatus for and method of polishing a semiconductor wafer using chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2008023288A2. Автор: Eoin O'dea. Владелец: Eoin O'dea. Дата публикации: 2008-02-28.

Chemical mechanical planarization methods and apparatus

Номер патента: US20080318494A1. Автор: Tien-Chen Hu,Chun-Chin Huang,Jung-Sheng Hou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2008-12-25.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415297A1. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11833637B2. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6352466B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-05.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6827630B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-12-07.

Detecting the presence of a workpiece relative to a carrier head

Номер патента: WO2009088609A1. Автор: Toru Akasako. Владелец: NOVELLUS SYSTEMS, INC.. Дата публикации: 2009-07-16.

Pad support apparatus for chemical mechanical planarization

Номер патента: US6602121B1. Автор: David G. Halley. Владелец: Strasbaugh Inc. Дата публикации: 2003-08-05.

Wafer carrier structure for chemical-mechanical polisher

Номер патента: US20020173253A1. Автор: Chi-Feng Cheng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6083089A. Автор: Matthew J. Prince,Joseph R. Breivogel,Christopher E. Barns. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2000-07-04.

Wafer holder for chemical-mechanical planarization apparatus

Номер патента: KR100306824B1. Автор: 주준용. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2001-11-30.

Wafer holder for chemical mechanical planarization machine

Номер патента: JP3834444B2. Автор: 浚鎔 朱. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-10-18.

Backing film for chemical mechanical planarization (CMP) of a semiconductor wafer

Номер патента: US6371833B1. Автор: Kai Huckels,Klaus Herlitz. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-04-16.

Wafer Holder for Chemical Mechanical Planarization Machine

Номер патента: KR19990084451A. Автор: 주준용. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 1999-12-06.

Method and apparatus for supporting a polishing pad during chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20010006879A1. Автор: Michael Walker,Karl Robinson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-05.

Web lift system for chemical mechanical planarization

Номер патента: US7008303B2. Автор: John M. White,Sasson Somekh,Phillip R. Sommer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-03-07.

End-point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: US20020061713A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-05-23.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US20030057185A1. Автор: Gundu Sabde,Jim Hofmann,Scott Moore,Stephen Kramer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-27.

Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20030060140A1. Автор: David Carlson. Владелец: Carlson David W.. Дата публикации: 2003-03-27.

Apparatus and method for conditioning and monitoring media used for chemical-mechanical planarization

Номер патента: EP1222056A1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-07-17.

Customized polish pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20100273398A1. Автор: Pradip K. Roy,Sudhanshu Misra. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-10-28.

Chip customized polish pads for chemical mechanical planarization (cmp)

Номер патента: EP1610929A1. Автор: Pradip K. Roy. Владелец: Neopad Technologies Corp. Дата публикации: 2006-01-04.

Spherical drive assembly for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2002060643A9. Автор: David G Halley. Владелец: STRASBAUGH. Дата публикации: 2003-09-12.

Apparatus for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US7479206B2. Автор: Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-01-20.

Method and apparatus for endpointing mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6046111A. Автор: Karl M. Robinson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-04-04.

Magnetorheological-elastomer polishing pad for chemical mechanical polishing of semiconductor wafer, preparation method and application thereof

Номер патента: US12083647B1. Автор: Qiang XIONG,Da Hu,Jiabin LU,Haotian Long,Yuhang Jin. Владелец: GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-10.

Wafer support for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2002053320A9. Автор: David G Halley. Владелец: STRASBAUGH. Дата публикации: 2004-03-04.

Run-to-run control for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20130267148A1. Автор: Patrick David Noll,Madhu Sudan RAMAVAJJALA,Prakash Lakshmikanthan. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2013-10-10.

Apparatus and method for conditioning a fixed abrasive polishing pad in a chemical mechanical planarization process

Номер патента: US6361414B1. Автор: Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich,Don E. Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-03-26.

Chemical-mechanical planarization pad including patterned structural domains

Номер патента: EP2382651A1. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,Anoop Mathew,Oscar K. Hsu. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2011-11-02.

Method for chemical-mechanical finishing of surface

Номер патента: RU2290291C2. Автор: Марк Д. МИЧОД,Гари СРОКА,Лэйн Уилль м УИНКЕЛМАНН,Лэйн Уилльям УИНКЕЛМАНН. Владелец: Рем Текнолоджиз, Инк.. Дата публикации: 2006-12-27.

Seal for use with a chemical mechanical planarization apparatus

Номер патента: US20020086626A1. Автор: Andrew Yednak,Phillip Rayer. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Polishing pad for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing apparatus inluding the same, and method of fabricating semiconductor device using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20230211456A1. Автор: Sang Kyun Kim,Bo Un Yoon,Byung Keun Hwang,Bo yun KIM,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Method and apparatus for stopping mechanical and chemical-mechanical planarization of substrates at desired endpoints

Номер патента: US5855804A. Автор: Michael A. Walker. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-01-05.

Method and apparatus for stopping mechanical and chemical mechanical planarization of substrates at desired endpoints

Номер патента: US6206769B1. Автор: Michael A. Walker. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-03-27.

Multi-layered chemical-mechanical planarization pad

Номер патента: US09796063B2. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,John Erik Aldeborgh,Anoop Mathew,Scott Xin Qiao,Oscar K. Hsu,Marc C. Jin. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: WO2003057405A8. Автор: Xu Cangshan. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2003-10-30.

Chemical Mechanical Planarization Tool

Номер патента: US20230271298A1. Автор: Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Kao-Feng Liao,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Hsin-ying Ho,Chih Hung Chen,Fu-Ming HUANG,Michael Yen,Chun-Wen Hsiao,Sheng-Chao Chuang,Peng-Chung Jangjian,Ji James Cui. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Chemical mechanical planarization tool

Номер патента: US12030159B2. Автор: Kei-Wei Chen,Tung-Kai Chen,Hui-Chi Huang,Wan-Chun Pan,Shang-Yu Wang,Zink Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Method of grooving a chemical-mechanical planarization pad

Номер патента: US8758659B2. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,John Erik Aldeborgh,Anoop Mathew,Oscar K. Hsu,Marc C. Jin. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-24.

Method for shaping features of a semiconductor structure using chemical mechanical planarization (CMP)

Номер патента: US5302233A. Автор: Scott Meikle,Sung C. Kim. Владелец: Micron Semiconductor Inc. Дата публикации: 1994-04-12.

Chemical Mechanical Planarization Tool

Номер патента: US20230321789A1. Автор: Kei-Wei Chen,Tung-Kai Chen,Hui-Chi Huang,Wan-Chun Pan,Shang-Yu Wang,Zink Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: EP1469971A4. Автор: Xu Cangshan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-01-12.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: US20030139124A1. Автор: Cangshan Xu. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-07-24.

Methods and systems for chemical mechanical polish cleaning

Номер патента: US09966281B2. Автор: Hui-Chi Huang,Chien-Ping Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Modular method for chemical mechanical planarization

Номер патента: AU2003296430A1. Автор: David G. Halley. Владелец: Strasbaugh Inc. Дата публикации: 2004-07-29.

Polishing head pressure control device and method for chemical mechanical planarization device

Номер патента: CN110883680B. Автор: 朱铭,蔡宁远. Владелец: Hangzhou Zhonggui Electronic Technology Co ltd. Дата публикации: 2021-08-10.

Method and apparatus for chemical mechanical polishing a workpiece

Номер патента: JP2005523579A. Автор: ウルリッヒ・イジング,マルク・ライヒマン,トーマス・ケラー. Владелец: ペーター・ヴォルタース・サーフェステクノロジーズ ゲーエムペーハー ウント コー・カーゲー. Дата публикации: 2005-08-04.

Device for chemical-mechanical planarization

Номер патента: DE60030601T2. Автор: Samit Sengupta,F. Charles DRILL. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2006-12-14.

Tool for chemical-mechanical planarization with multiple spindles

Номер патента: DE102012215909A1. Автор: Mahadevaiyer Krishnan,Michael F. Lofaro,Michael A. Cobb,Dennis G. Manzer. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2013-03-21.

Method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR100840128B1. Автор: 한경수. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2008-06-19.

Parallel alignment method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6935934B2. Автор: Thomas Walsh. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-08-30.

Modular method for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2004060609A1. Автор: David G. Halley. Владелец: Strasbaugh, Inc.. Дата публикации: 2004-07-22.

Polishing head pressure control device and method for chemical mechanical planarization device

Номер патента: WO2021120635A1. Автор: 朱铭,蔡宁远. Владелец: 杭州众硅电子科技有限公司. Дата публикации: 2021-06-24.

Methods and apparatuses for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies on planarizing pads

Номер патента: US20010024935A1. Автор: Scott Meikle,Dinesh Chopra. Владелец: Meikle Scott G.. Дата публикации: 2001-09-27.

Polishing pads and planarizing machines for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies, and methods for making and using such pads and machines

Номер патента: US6361832B1. Автор: Scott G. Meikle,Vishnu K. Agarwal. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

Active acoustic monitoring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20220281058A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,Nicholas A. Wiswell,Sohrab POURMAND. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-09-08.

Polishing pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20030027500A1. Автор: David James,Peter Burke,Arun Vishwanathan,David Shidner,Lee Cook. Владелец: David Shidner. Дата публикации: 2003-02-06.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240342855A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024215780A2. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-17.

Slurry dispenser for chemical mechanical polishing (CMP) apparatus and method

Номер патента: US8277286B2. Автор: Huang Soon Kang,Zin-Chang Wei,Kun-Ku Hung,Chyi-Shyuan Chern. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-10-02.

Polishing pad including an acoustic window for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4366911A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian,Nicholas A. Wiswell,Jason Garcheung Fung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US6135868A. Автор: Madhavi Chandrachood,Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-24.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: WO1999041038A1. Автор: Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom,Madhayi Chandrachood. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1999-08-19.

Apparatus and method for front side chemical mechanical planarization (cmp) of semiconductor workpieces

Номер патента: US20030143930A1. Автор: Uldis Ziemins,Raymond Khoury,Jose Ocasio. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2003-07-31.

Apparatus and method for endpoint detection and monitoring for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: WO2004002680A1. Автор: Karl E. Mautz. Владелец: Freescale Semiconductor, Inc.. Дата публикации: 2004-01-08.

Pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230347470A1. Автор: Joseph So,Matthew R. Gadinski,Donna M. Alden. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-02.

Device and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11772227B2. Автор: Chi-Ming Yang,He Hui Peng,James Jeng-Jyi Hwang,Jiann Lih Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Chemical-mechanical planarization tool force calibration method and system

Номер патента: US20060205322A1. Автор: Thomas Walsh,William Kalenian. Владелец: Strasbaugh Inc. Дата публикации: 2006-09-14.

Chemical-mechanical planarization tool force calibration method and system

Номер патента: WO2006081477A1. Автор: William Kalenian,Thomas A. Walsh. Владелец: STRASBAUGH. Дата публикации: 2006-08-03.

Chemical mechanical planarization pads via vat-based production

Номер патента: US11845157B2. Автор: Lin Fu,Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer,Justin Stewart,Carlos Barros,William Michael SPITZIG. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-19.

Method and/or system for chemical mechanical planarization (CMP)

Номер патента: US09997420B2. Автор: Cheng Yen-Wei,Jong-I Mou,Yen-Di Tsen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Systems and methods for chemical mechanical planarization with photo-current detection

Номер патента: US09754845B2. Автор: I-Shuo Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Web-format planarizing machines and methods for planarizing microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US20020016138A1. Автор: Michael Walker,Scott Moore. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-07.

Systems, methods and apparatus for post-chemical mechanical planarization substrate cleaning

Номер патента: US09844800B2. Автор: Brian J. Brown,Steven M. Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

In situ monitoring technique and apparatus for chemical/mechanical planarization endpoint detection

Номер патента: CA2036102C. Автор: Gabriel Lorimer Miller,Eric Richard Wagner. Владелец: American Telephone and Telegraph Co Inc. Дата публикации: 1995-04-04.

End point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: EP1399294A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina A. Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-03-24.

Method and apparatus for in-situ monitoring of chemical mechanical planarization (cmp) processes

Номер патента: EP4355528A2. Автор: Daniel Ray TROJAN,Jessica BRINDLEY. Владелец: AXUS Tech LLC. Дата публикации: 2024-04-24.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6739955B2. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-05-25.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic device substrate assemblies

Номер патента: US6361413B1. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

Optical coupler hub for chemical-mechanical-planarization polishing pads with an integrated optical waveguide.

Номер патента: US20030190866A1. Автор: Stephan Wolf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-09.

Chemical Mechanical Planarization Pad Having Polishing Layer with Multi-lobed Embedded Features

Номер патента: US20240009798A1. Автор: Bainian Qian,Donna M. Alden,Sheng-Huan Tseng. Владелец: Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holidngs Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Guanidinium-based polyionic liquids and their use as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: WO2024073211A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-04-04.

Chemical mechanical planarization membrane

Номер патента: US11850702B2. Автор: Chien-Wei Chang,Tzi-Yi Shieh,Ren-Dou Lee,Cheng-Ping Chen,Tsung-Lung Lai,Sheng-Tai Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Chemical mechanical polishing system for a workpiece, arithmetic system, and method of producing simulation model for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230043639A1. Автор: Norikazu Suzuki,Yoshihiro Mochizuki,Hozumi Yasuda,Yohei Hashimoto. Владелец: Kanazawa University NUC. Дата публикации: 2023-02-09.

Mega-sonic vibration assisted chemical mechanical planarization

Номер патента: US12036636B2. Автор: Kei-Wei Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang,Ching-hsiang Tsai,Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Mega-sonic vibration assisted chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230219188A1. Автор: Kei-Wei Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang,Ching-hsiang Tsai,Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Polishing slurry and method for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US20020098700A1. Автор: James Alwan,Craig Carpenter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Apparatus and method for chemically mechanically polishing

Номер патента: US20200306929A1. Автор: Bo-I Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

System and method for chemical mechanical polishing pad replacement

Номер патента: US20230009839A1. Автор: Shih-Chung Chen,Ching-Wen Cheng,Chun Yan Chen,Wei-Kang TU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-01-12.

Method and apparatus for electrically endpointing a chemical-mechanical planarization process

Номер патента: US6190494B1. Автор: Daniel B. Dow. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-02-20.

Method and apparatus for electrically endpointing a chemical-mechanical planarization process

Номер патента: US6319420B1. Автор: Daniel B. Dow. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-11-20.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: AU5903299A. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-03-21.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6702647B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-03-09.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6786799B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-09-07.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6547639B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-04-15.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US20020019194A1. Автор: Scott Moore. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-14.

METHODS AND APPARATUS USING ENERGIZED FLUIDS TO CLEAN CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION POLISHING PADS

Номер патента: US20140323017A1. Автор: Osterheld Thomas H.,Menk Gregory E.,Tang Jianshe,Redeker Fred C.. Владелец: . Дата публикации: 2014-10-30.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230381923A1. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

System and Method for Online End Point Detection for use in Chemical Mechanical Planarization

Номер патента: US20060100821A1. Автор: ASHOK KUMAR,Arun SIKDER,Tapas Das,Rajesh Ganesan. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH FLORIDA. Дата публикации: 2006-05-11.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US12017325B2. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical mechanical planarization slurry processing techniques and systems and methods for polishing substrate using the same

Номер патента: WO2022177767A9. Автор: Jason Keleher,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,Katherine WORTMON-OTTO,Abigail LINHART,Kiana A. CAHUE. Владелец: Araca, Inc.. Дата публикации: 2023-05-19.

Chemical mechanical planarization apparatus and methods

Номер патента: US09950405B2. Автор: Wufeng Deng. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Wafer conveying device, chemical mechanical planarization apparatus and wafer conveying method

Номер патента: US20230201995A1. Автор: Zhipeng ZHOU,Yuansi YANG. Владелец: Hangzhou Sizone Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2023-06-29.

Chemical mechanical planarization (cmp) pad conditioner and method of making

Номер патента: EP2652773A2. Автор: Srinivasan Ramanath,Jianhui Wu,Arup K. Khaund,Eric M. Schulz. Владелец: Saint Gobain Abrasifs SA. Дата публикации: 2013-10-23.

Chemical mechanical planarization slurry processing techniques and systems and methods for polishing substrate using the same

Номер патента: EP4272241A1. Автор: Jason Keleher,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,Abigail LINHART,Kiana A. CAHUE,Katherine WORTMAN-OTTO. Владелец: Araca Inc. Дата публикации: 2023-11-08.

Polishing pads and planarizing machines for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US20010029157A1. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Dinesh Chopra. Дата публикации: 2001-10-11.

Apparatuses for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6986700B2. Автор: Vishnu K. Agarwal. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-01-17.

Planarizing machines and methods for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6833046B2. Автор: David Q. Wright. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-12-21.

Apparatuses and methods for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US7229338B2. Автор: Vishnu K. Agarwal. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-06-12.

Planarizing machines and methods for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20020069967A1. Автор: David Wright. Владелец: Wright David Q.. Дата публикации: 2002-06-13.

Porous material air bearing platen for chemical mechanical planarization

Номер патента: US6939212B1. Автор: Xuyen Pham. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-09-06.

Method and apparatus for planarizing microelectronic substrates and conditioning planarizing media

Номер патента: US6083085A. Автор: David Lankford. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-07-04.

Method and apparatus for supporting and cleaning a polishing pad for chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20010019937A1. Автор: Jason Elledge. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-06.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1128932A1. Автор: Andrew J. Nagengast,Anthony Meyer,Michael Labunsky,Glenn W. Travis,Tac Huynh. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-09-05.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2000027585A1. Автор: Andrew J. Nagengast,Anthony Meyer,Michael Labunsky,Glenn W. Travis,Tac Huynh. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2000-05-18.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1128932A4. Автор: Anthony Meyer,Michael Labunsky,Andrew J Nagengast,Tac Huynh,Glenn W Travis. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2007-01-10.

Apertured conditioning brush for chemical mechanical planarization systems

Номер патента: WO2007047996A3. Автор: Stephen J Benner. Владелец: Tbw Ind Inc. Дата публикации: 2007-10-04.

Membrane coating compound for chemical mechanical polishing process, membrane including the same, and polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240189960A1. Автор: Sangkyun Kim,Yearin BYUN,Inkwon KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-13.

Method and apparatus for measuring a change in the thickness of polishing pads used in chemical-mechanical planarization of semiconductor wafers

Номер патента: US5609718A. Автор: Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1997-03-11.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20200376523A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-12-03.

Hot water generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4334083A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-13.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20240307928A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Method and system for chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20230274929A1. Автор: Yi-Chang Liu,Chih-I Peng,Hsiu-Ming Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Endpointing detection for chemical mechanical polishing based on spectrometry

Номер патента: US9583405B2. Автор: Dominic J. Benvegnu,Jeffrey Drue David,Boguslaw A. Swedek. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Method and apparatus for electromechanically and/or electrochemically-mechanically removing conductive material from a microelectronic substrate

Номер патента: AU2003262996A1. Автор: Scott G. Meikle,Whonchee Lee,Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-03-19.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection and monitoring for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: EP1419853A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Grigory Pyatigorsky,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-19.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220388041A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-12-08.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US12030093B2. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Coated compressive subpad for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP3221085A1. Автор: Diane Scott,Paul Andre Lefevre. Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2017-09-27.

Endpoint detection apparatus, planarizing machines with endpointing apparatus, and endpointing methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6206754B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-03-27.

Endpoint detection apparatus, planarizing machines with endpointing apparatus, and endpointing methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-substrate assemblies

Номер патента: US6364746B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-04-02.

Endpoint detection apparatus, planarizing machines with endpointing apparatus, and endpointing methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6234878B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-05-22.

Method and apparatus for heating polishing pad

Номер патента: EP1497076A4. Автор: Ren Zhou,Linda Jiang,Tuan Nguyen,David Wei,Xuyen Pham,Tony Luong,Sridharan Srivatsan,Anjun Jerry Jin,Katgenhalli Y Ramanujam,Joseph P Simon. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2008-07-16.

Method and apparatus for heating polishing pad

Номер патента: EP1497076A1. Автор: Ren Zhou,Linda Jiang,Tuan Nguyen,David Wei,Xuyen Pham,Tony Luong,Joseph P. Simon,Sridharan Srivatsan,Katgenhalli Y. Ramanujam,Anjun Jerry Jin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-01-19.

Method and apparatus for chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with selected planarizing liquids

Номер патента: US6533893B2. Автор: Whonchee Lee,Gundu M. Sabde,Michael J. Joslyn,James J. Hofmann. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-03-18.

Methods and apparatuses for making and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6652764B1. Автор: Guy T. Blalock. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-11-25.

Methods and apparatuses for making and using planarizing pads for mechanical and chemical mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6746317B2. Автор: Guy T. Blalock. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-06-08.

Methods and apparatuses for making and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US7037179B2. Автор: Guy T. Blalock. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-05-02.

Methods and apparatuses for making and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6758735B2. Автор: Guy T. Blalock. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-07-06.

Methods and apparatuses for making and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20020127958A1. Автор: Guy Blalock. Владелец: Blalock Guy T.. Дата публикации: 2002-09-12.

Method for planarizing workpieces in a chemical-mechanical planarization process, method for chemical-mechanical planarization of a substrate, and apparatus for planarizing a surface on a workpiece

Номер патента: TW422754B. Автор: Jeremy K Stephens. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2001-02-21.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6492273B1. Автор: Stephen J. Kramer,Scott E. Moore,Gundu M. Sabde,Jim Hofmann. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-12-10.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6354930B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-12.

Methods and apparatuses for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6520834B1. Автор: Brian Marshall. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-02-18.

Methods and apparatuses for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6974364B2. Автор: Brian Marshall. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-12-13.

Methods and apparatuses for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20060160470A1. Автор: Brian Marshall. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-07-20.

Methods and apparatuses for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20030096559A1. Автор: Brian Marshall. Владелец: Brian Marshall. Дата публикации: 2003-05-22.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US7261832B2. Автор: Stephen J. Kramer,Scott E. Moore,Gundu M. Sabde,Jim Hofmann. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-08-28.

Method and apparatus for mechanical and chemical mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: JP3774367B2. Автор: スコット イー． モーア，. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-05-10.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6720266B2. Автор: Stephen J. Kramer,Scott E. Moore,Gundu M. Sabde,Jim Hofmann. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-04-13.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US20030219962A1. Автор: Gundu Sabde,Jim Hofmann,Scott Moore,Stephen Kramer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-11-27.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20010006875A1. Автор: Scott Moore. Владелец: Moore Scott E.. Дата публикации: 2001-07-05.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6464824B1. Автор: Stephen J. Kramer,Gundu M. Sabde,James J. Hofmann,Michael James Joslyn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-10-15.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US7625495B2. Автор: Stephen J. Kramer,Scott E. Moore,Gundu M. Sabde,Jim Hofmann. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-12-01.

System, control method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230390882A1. Автор: Kei-Wei Chen,Shich-Chang Suen,Te-Chien Hou,Wen-Pin Liao,Chen-Chi Tang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Method and apparatus for improved chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1799402A1. Автор: Rajeev Bajaj. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-06-27.

Methods and apparatuses for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies on planarizing pads

Номер патента: US6250994B1. Автор: Dinesh Chopra,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-06-26.

Method and apparatus for releasably attaching polishing pads to planarizing machines in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6439970B1. Автор: Michael A. Walker. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-08-27.

Methods and apparatuses for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies on planarizing pads

Номер патента: US6652364B2. Автор: Dinesh Chopra,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-11-25.

Method for analyzing effective polishing frequency and effective polishing times for chemical mechanical planarization polishing wafers with different polishing pad profiles

Номер патента: US20060240745A1. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2006-10-26.

Method for analyzing effective polishing frequency and effective polishing times for chemical mechanical planarization polishing wafers with different polishing pad profiles

Номер патента: US7299107B2. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2007-11-20.

Methods and apparatus for post-chemical mechanical planarization substrate cleaning

Номер патента: US09711381B2. Автор: Sen-Hou Ko,Lakshmanan Karuppiah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Method and apparatuses for making and using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6407000B1. Автор: Guy F. Hudson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-06-18.

Planarizing machines and alignment systems for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6447369B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-09-10.

Method and apparatuses for making and using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6794289B2. Автор: Guy F. Hudson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-09-21.

PADS FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION TOOLS, CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION TOOLS, AND RELATED METHODS

Номер патента: US20200246937A1. Автор: Bresson James. Владелец: . Дата публикации: 2020-08-06.

Method for Manufacturing Conditioner for Chemical Mechanical Planarization Pad and Conditioner for Chemical Mechanical Planarization Pad

Номер патента: KR100889288B1. Автор: 이주한,윤소영,방준석. Владелец: 이화다이아몬드공업 주식회사. Дата публикации: 2009-03-17.

Slurry recycling for chemical mechanical planarization system

Номер патента: US20230256563A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6210257B1. Автор: David W. Carlson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-04-03.

Planarizing pads, planarizing machines and methods for making and using planarizing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic device substrate assemblies

Номер патента: US6498101B1. Автор: Dapeng Wang. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-12-24.

Methods for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US7182668B2. Автор: Brian Marshall. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-02-27.

Apparatus for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies and methods for making and using same

Номер патента: US6213845B1. Автор: Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-04-10.

Method for chemical mechanical planarization (CMP) and chemical mechanical cleaning (CMC) of a work piece

Номер патента: US20040229550A1. Автор: Yakov Epshteyn,Marie Mitchel,John Shartel. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2004-11-18.

Apparatus for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies and methods for making and using same

Номер патента: US20010044261A1. Автор: Jason Elledge. Владелец: Elledge Jason B.. Дата публикации: 2001-11-22.

Planarizing pads, planarizing machines, and methods for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6428386B1. Автор: Aaron T. Bartlett. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-08-06.

Method for analyzing effective polishing frequency and times for chemical mechanical planarization polishing wafer with different polishing pad profile

Номер патента: TW200638477A. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: Univ Nat Taiwan Science Tech. Дата публикации: 2006-11-01.

Methods and apparatus for the chemical mechanical planarization of electronic devices

Номер патента: GB2329601A. Автор: Clinton O Fruitman. Владелец: Speedfam Corp. Дата публикации: 1999-03-31.

Method for chemical-mechanical planarization of stop-on-feature semiconductor wafers

Номер патента: US5893754A. Автор: Karl M. Robinson,Michael A. Walker. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-04-13.

Method for chemical-mechanical planarization of stop-on-feature semiconductor wafers

Номер патента: US5981396A. Автор: Karl M. Robinson,Michael A. Walker. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-11-09.

Apparatuses for making and using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20040198195A1. Автор: Guy Hudson. Владелец: Hudson Guy F.. Дата публикации: 2004-10-07.

Method for chemical-mechanical planarization of stop-on-feature semiconductor wafers

Номер патента: EP0907460B1. Автор: Karl M. Robinson,Michael A. Walker. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-03-26.

Method and apparatus for fixed-abrasive substrate manufacturing and wafer polishing in a single process path

Номер патента: EP1268132A1. Автор: John M. Boyd. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-01-02.

Method and apparatus for fixed-abrasive substrate manufacturing and wafer polishing in a single process path

Номер патента: WO2001074537A9. Автор: John M Boyd. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2002-12-27.

Methods for predicting polishing parameters of polishing pads, and methods and machines for planarizing microelectronic substrate assemblies in mechanical or chemical-mechanical planarization

Номер патента: US6350180B2. Автор: Scott A. Southwick. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-02-26.

Methods for predicting polishing parameters of polishing pads, and methods and machines for planarizing microelectronic substrate assemblies in mechanical or chemical-mechanical planarization

Номер патента: US20010044257A1. Автор: Scott Southwick. Владелец: Southwick Scott A.. Дата публикации: 2001-11-22.

In-situ endpoint detection and process monitoring method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2001089765A1. Автор: Rajeev Bajaj,Manoocher Birang,Boguslaw A. Swedek,Nils Johansson,Fritz C. Redeker,Hiroji Hanawa. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2001-11-29.

Field end point detection and process monitoring method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: JP5778110B2. Автор: ハナワ，　ヒロジ,マヌーチャ ビラング，,ヒロジ ハナワ，,ニルズ ジョハンソン，,ボグスロー， エー． スウェデク，,ボグスロー， エー． スウェデク，,フリッツ， シー． レデカー，,フリッツ， シー． レデカー，,ラジーヴ バジャジュ，. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-09-16.

Process for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030064594A1. Автор: Alfred Kersch,Johannes Baumgartl,Stephanie Delage. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-04-03.

Composition for chemical-mechanical polishing and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US12104087B2. Автор: Pengyu Wang,Yasutaka Kamei,Norihiko Sugie,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Composition for chemical mechanical polishing and method for polishing

Номер патента: US20230203344A1. Автор: Kouhei Yoshio,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

SYSTEM, CONTROL METHOD AND APPARATUS FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING

Номер патента: US20190160625A1. Автор: Chen Chien-Chih,CHENG Mu-Han,Chen Tzu-Shin,Huang Chun-Hai,Hu Hsiang-Chu,Tseng Yu-Chin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2019-05-30.

Polishing pad for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20190224810A1. Автор: Kei-Wei Chen,Ying-Lang Wang,Chih Hung Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-07-25.

3D-PRINTED POLISHING PAD FOR CHEMICAL-MECHANICAL PLANARIZATION (CMP)

Номер патента: US20160354896A1. Автор: Lewis Jennifer A.,Compton Brett G.. Владелец: President and Fellows of Harvard College. Дата публикации: 2016-12-08.

Materials and methods for chemical-mechanical planarization

Номер патента: US6910951B2. Автор: Sudhakar Balijepalli,Dale J. Aldrich,Laura A. Grier. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2005-06-28.

Materials and methods for chemical-mechanical planarization

Номер патента: TWI316887B. Автор: Sudhakar Balijepalli,Dale J Aldrich,Laura A Grier. Владелец: DOW GLOBAL TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2009-11-11.

Method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1362670B8. Автор: Takashi Fujita,Toshiro Doi. Владелец: Tokyo Seimitsu Co Ltd. Дата публикации: 2009-11-04.

Method and apparatus for chemical mechanical polishing including first and second polishing

Номер патента: US7799689B2. Автор: Chih-Min Wen,Chen-Hsiang Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2010-09-21.

Methods, apparatus and slurries for chemical mechanical planarization

Номер патента: US6623355B2. Автор: Joseph M. Desimone,James B. McClain. Владелец: MiCell Technologies Inc. Дата публикации: 2003-09-23.

Methods, apparatus and slurries for chemical mechanical planarization

Номер патента: US6743078B2. Автор: Joseph M. Desimone,James B. McClain. Владелец: MiCell Technologies Inc. Дата публикации: 2004-06-01.

Methods, apparatus and slurries for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20030194953A1. Автор: James McClain,Joseph DeSimone. Владелец: Desimone Joseph M.. Дата публикации: 2003-10-16.

Synthesis of a functionally graded pad for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2005000529A1. Автор: Pradip K. Roy,Manish Deopura,Sudhanshu Misra. Владелец: Neopad Technologies Corporation. Дата публикации: 2005-01-06.

Systems and methods for chemical mechanical planarization with fluorescence detection

Номер патента: US9305851B2. Автор: Hui-Chi Huang,I-Shuo Liu,Jung-Tsan TSAI,Chien-Ping Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-04-05.

Method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20080119116A1. Автор: Chih-Min Wen,Chen-Hsiang Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2008-05-22.

Pad constructions for chemical mechanical planarization applications

Номер патента: WO2004062849A1. Автор: Jeffrey S. Kollodge,Christopher N. Loesch. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2004-07-29.

Pad constructions for chemical mechanical planarization applications

Номер патента: AU2003297539A1. Автор: Jeffrey S. Kollodge,Christopher N. Loesch. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2004-08-10.

Polishing pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US6860802B1. Автор: Peter A. Burke,Lee Melbourne Cook,David B. James,Arun Vishwanathan,David Shidner. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-03-01.

Hydrolytically stable grooved polishing pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US6749485B1. Автор: Peter A. Burke,Lee Melbourne Cook,Joseph K. So,John V. H. Roberts,David B. James,Arun Vishwanathan,David Shidner. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2004-06-15.

Systems for making and using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20040229551A1. Автор: Guy Hudson. Владелец: Hudson Guy F.. Дата публикации: 2004-11-18.

Methods for using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US7122475B2. Автор: Guy F. Hudson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-10-17.

Methods for using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20040198194A1. Автор: Guy Hudson. Владелец: Hudson Guy F.. Дата публикации: 2004-10-07.

Polishing pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20050020082A1. Автор: David James,Peter Burke,Arun Vishwanathan,David Shidner,Lee Cook. Владелец: David Shidner. Дата публикации: 2005-01-27.

Methods and apparatus for chemical-mechanical polishing utilizing low suspended solids polishing compositions

Номер патента: US20100144245A1. Автор: Shei-Kai Chang,Theodore Myers. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2010-06-10.

Method and apparatus for chemical-mechanical polishing (cmp) using upstream and downstream fluid dispensing means

Номер патента: WO2002051589A1. Автор: Hoang V. Nguyen,Albert J. Hof,Herma Van Kranenburg,Pierre H. Woerlee. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2002-07-04.

Method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR100443330B1. Автор: 이규홍,이용벽,강상원. Владелец: 쎄미콘테크 주식회사. Дата публикации: 2004-08-09.

Fixed abrasive pad with surfactant for chemical mechanical planarization

Номер патента: CN102892553A. Автор: 小吉米·R·巴兰,朱莉·Y·乾. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2013-01-23.

Systems And Methods For Chemical Mechanical Planarization With Fluorescence Detection

Номер патента: CN104647194B. Автор: 黄惠琪,李健平,刘翼硕,蔡荣赞. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-24.

Pad constructions for chemical mechanical planarization applications

Номер патента: KR101018942B1. Автор: 제프리 에스. 콜로지,크리스토퍼 엔. 로에쉬. Владелец: 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니. Дата публикации: 2011-03-02.

Multi-step, in-situ pad conditioning system for chemical mechanical planarization

Номер патента: CN101817162A. Автор: 斯蒂文·J·贝纳. Владелец: TBW Industries Inc. Дата публикации: 2010-09-01.

Method and apparatus for chemical/mechanical polishing

Номер патента: KR100390247B1. Автор: 마사카즈 무로야마,마사요시 사사키. Владелец: 소니 가부시끼 가이샤. Дата публикации: 2003-09-26.

Conditioner for chemical mechanical planarization pad

Номер патента: KR100804277B1. Автор: 이주한,안정수,곽경국. Владелец: 이화다이아몬드공업 주식회사. Дата публикации: 2008-02-18.

Method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1362670A2. Автор: Takashi Fujita,Toshiro Doi. Владелец: Tokyo Seimitsu Co Ltd. Дата публикации: 2003-11-19.

Method, apparatus and slurry for chemical mechanical planarization

Номер патента: JP2004521484A. Автор: デシモーネ，ジョゼフ・エム,マクレイン，ジェイムズ・ビー. Владелец: マイセル・テクノロジーズ，インコーポレイテッド. Дата публикации: 2004-07-15.

Polishing pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2001091971A1. Автор: Peter A. Burke,Lee Melbourne Cook,Joseph K. So,John V. H. Roberts,David B. James,Arun Vishwanathan,David Shidner. Владелец: Rodel Holdings, Inc.. Дата публикации: 2001-12-06.

Wafer polishing control system for chemical mechanical planarization machines

Номер патента: US20050221736A1. Автор: Christopher Smith,Bausan Yuan,Hiroshi Arai,Takeshi Soma,Yi-Ping Hsin,Yutaka Uda,Gabor Szoboszlay. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2005-10-06.

Systems and methods for chemical mechanical planarization with fluorescence detection

Номер патента: KR101583154B1. Автор: 이수어 리우,후에이치 황,롱짠 차이,치엔핑 리. Владелец: 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2016-01-07.

Apparatus and method for conditioning and monitoring media used for chemical-mechanical planarization

Номер патента: US6755718B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-06-29.

Polishing pads for chemical mechanical planarization and/or other polishing methods

Номер патента: TWI516340B. Автор: 麥可Ｒ 奧立佛. Владелец: 諾發沛拉納科技公司. Дата публикации: 2016-01-11.

Pad quick release device for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2002034471A1. Автор: David G. Halley. Владелец: Strasbaugh Inc. Дата публикации: 2002-05-02.

Method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6558236B2. Автор: Gopalakrishna B. Prabhu,Winston Y. Su,Timothy James Donohue,Declan Liam Brett. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-05-06.

Polishing pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: KR100571449B1. Автор: 쿡리멜버른,비슈와나탄아런,제임스데이빗비.,버크피터에이.,시드너데이빗,소조셉케이.,로버츠존브이.에이치.. Владелец: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머티리얼스 씨엠피 홀딩스 인코포레이티드. Дата публикации: 2006-04-17.

Conditioning tools and techniques for chemical mechanical planarization

Номер патента: KR101140243B1. Автор: 토마스 푸타난가디,태욱 황,스리니바산 라마나스,제이. 게리 발도니,에릭 슐츠,서게이-토미슬라브 불잔,찰스 딘-응곡. Владелец: 생-고벵 아브라시프. Дата публикации: 2012-04-26.

Synthesis of a functionally graded pad for chemical mechanical planarization

Номер патента: KR101108024B1. Автор: 수단슈 미스라,프라딥 케이. 로이,마니쉬 데오푸라. Владелец: 넥스플래너 코퍼레이션. Дата публикации: 2012-01-25.

Pad constructions for chemical mechanical planarization applications

Номер патента: MY136868A. Автор: Jeffrey Scott Kollodge,Christopher Nicholas Loesch. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2008-11-28.

Method and apparatus for chemical-mechanical polishing of semiconductor wafers

Номер патента: DE19929929B4. Автор: Jiun-Fang Wang,Champion Chu-Tung Chen Yi,Joseph Tung. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2005-02-17.

Method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6315641B1. Автор: Sang Won Kang,Kyu Hong Lee,Yong Byouk Lee. Владелец: Semicontect Corp. Дата публикации: 2001-11-13.

Article suitable for chemical mechanical planarization processes

Номер патента: US6612916B2. Автор: Jeffrey S. Kollodge,Robert P. Messner. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2003-09-02.

Multi-step, in-situ pad conditioning system and method for chemical mechanical planarization

Номер патента: US7040967B2. Автор: Stephen J. Benner. Владелец: TBW Industries Inc. Дата публикации: 2006-05-09.

Spherical drive assembly for chemical mechanical planarization

Номер патента: US6511368B1. Автор: David G. Halley. Владелец: Strasbaugh Inc. Дата публикации: 2003-01-28.

Method and apparatus for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US6340434B1. Автор: Osamu Kinoshita,Hiroshi Mizuno,Akihisa Ueno,Tetsuaki Murohashi,Yoshifumi Sakuma,Kostas Amberiadis. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2002-01-22.

Multi-step, in-situ pad conditioning system and method for chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1715979A4. Автор: Stephen J Benner. Владелец: TBW Industries Inc. Дата публикации: 2010-03-31.

Method for analyzing effective polishing frequency and times for chemical mechanical planarization polishing wafer with different polishing pad profile

Номер патента: TWI261878B. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: Univ Nat Taiwan Science Tech. Дата публикации: 2006-09-11.

Materials and methods for chemical-mechanical planarization

Номер патента: KR20050107454A. Автор: 서드하카르 발리제팔리,대일 제이. 알드리치,로라 에이. 그리어. Владелец: 다우 글로벌 테크놀로지스 인크.. Дата публикации: 2005-11-11.

Methods, apparatus and slurries for chemical mechanical planarization

Номер патента: KR20030042478A. Автор: 맥클래인제임스비.,드시몬조셉엠.. Владелец: 미셀 테크놀로지즈, 인코포레이티드. Дата публикации: 2003-05-28.

Apparatus and method for conditioning and monitoring media used for chemical-mechanical planarization

Номер патента: US20030060128A1. Автор: Scott Moore. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-27.

Slurry recycling for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220355441A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Wafer support for chemical mechanical planarization

Номер патента: TW531468B. Автор: David G Halley. Владелец: Strasbaugh Inc. Дата публикации: 2003-05-11.

Multiprobe detection system for chemical-mechanical planarization tool

Номер патента: AU2002224378A1. Автор: Malcolm Grief,Thomas Laursen,Paul Holzapfel,Robert Eaton,Matthew Weldon,Mark A. Meloni. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2002-04-29.

High oxide film removal rate shallow trench (STI) chemical mechanical planarization (CMP) polishing

Номер патента: US12091581B2. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Mark Leonard O'Neill,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-17.

Composition for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and method for manufacturing particles for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2021124771A1. Автор: 達也 山中,鵬宇 王,康二 中西. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2021-06-24.

High Oxide Removal Rates Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Planarization Compositions

Номер патента: US20240297049A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-05.

Chemical mechanical planarization for shallow trench isolation

Номер патента: WO2024173029A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,LU Gan,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-08-22.

Pad-in-a-bottle (pib) technology for copper and through-silicon via (tsv) chemical-mechanical planarization (cmp)

Номер патента: US20230287242A1. Автор: Xiaobo Shi,Ara Philipossian,Mark O'Neill,Yasa Sampurno,John Langan. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-09-14.

Soft polysiloxane core-shell abrasives for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024191746A1. Автор: Gerhard Jonschker,Matthias Stender. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-09-19.

Slurry composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230104949A1. Автор: Sangkyun Kim,Hyosan Lee,Sanghyun Park,Yearin BYUN,Inkwon KIM,Wonki HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-06.

Chemical mechanical planarization system and a method of using the same

Номер патента: US11806833B2. Автор: Fang-Yi Su. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Method and apparatus for endpoint detection for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2000054935A9. Автор: John A Adams,Robert A Eaton,Thomas Frederick Allen J Bibby. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2002-06-20.

Method and apparatus for forming and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6592443B1. Автор: Stephen J. Kramer,Michael J. Joslyn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-07-15.

Method and apparatus for forming and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US7192336B2. Автор: Stephen J. Kramer,Michael J. Joslyn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-03-20.

Method and apparatus for forming and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20060194523A1. Автор: Michael Joslyn,Stephen Kramer. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-08-31.

Method and apparatus for forming and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20060194522A1. Автор: Michael Joslyn,Stephen Kramer. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-08-31.

Method and apparatus for predicting process characteristics of polyurethane pads

Номер патента: WO1996024839A3. Автор: Guy F Hudson,Scott G Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1996-09-26.

Method and apparatus for predicting process characteristics of polyurethane pads

Номер патента: WO1996024839A2. Автор: Guy F. Hudson,Scott G. Meikle. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 1996-08-15.

Method and apparatus for coupling two wheeled vehicles

Номер патента: US09937603B2. Автор: Ron Yagur,Patrick Pollitt. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-04-10.

Planarizing solutions, planarizing machines, and methods for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6376381B1. Автор: Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-04-23.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: EP3793772A1. Автор: Rajesh Tiwari,Patrick Doering,Bruce Arrington,Conrad SURIAGA,Andrew Allan GALPIN. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2021-03-24.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: WO2019222302A1. Автор: Rajesh Tiwari,Patrick Doering,Bruce Arrington,Conrad SURIAGA,Andrew Allan GALPIN. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2019-11-21.

Planarizing machines and control systems for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6922253B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-07-26.

Method for forming and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US7223154B2. Автор: Stephen J. Kramer,Michael J. Joslyn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-05-29.

Planarizing machines and control systems for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20040012795A1. Автор: Scott Moore. Владелец: Moore Scott E.. Дата публикации: 2004-01-22.

Method and equipment for performing cmp process

Номер патента: US20190164771A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-05-30.

Methods and apparatus for chemical mechanical planarization using a microreplicated surface

Номер патента: US6497613B1. Автор: Stuart L. Meyer. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2002-12-24.

Improved methods and apparatus for chemical mechanical planarization (cmp) of a semiconductor wafer

Номер патента: KR19990077604A. Автор: 마이클엘. 와이즈,제레미케이. 스티븐스,수리지. 헤지. Владелец: 피터 토마스. Дата публикации: 1999-10-25.

Manufacturing methode of membrane for chemical mechanical polishing and membrane for chemical mechanical polishing using the same

Номер патента: KR101221853B1. Автор: 이두현,박기웅,정구찬. Владелец: 주식회사리온. Дата публикации: 2013-01-15.

Method and apparatus for insitu adjustment of wafer slip detection during work piece polishing

Номер патента: US11904431B2. Автор: Daniel Ray TROJAN. Владелец: AXUS Tech LLC. Дата публикации: 2024-02-20.

Method and apparatus for insitu adjustment of wafer slip detection during work piece polishing

Номер патента: EP4007676A1. Автор: Daniel Ray TROJAN. Владелец: AXUS Tech LLC. Дата публикации: 2022-06-08.

Planarizing solutions, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6402884B1. Автор: Karl M. Robinson,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-06-11.

Planarizing solutions, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6599836B1. Автор: Karl M. Robinson,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-07-29.

In situ monitoring technique and apparatus for chemical/mechanical planarization endpoint detection

Номер патента: US5081421A. Автор: Gabriel L. Miller,Eric R. Wagner. Владелец: AT&T Bell Laboratories Inc. Дата публикации: 1992-01-14.

Planarizing solutions, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6805615B1. Автор: Karl M. Robinson,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-10-19.

Planarizing solutions, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US7276446B2. Автор: Karl M. Robinson,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-10-02.

Planarizing solutions, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20050107010A1. Автор: Scott Meikle,Karl Robinson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-05-19.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: EP3793772A4. Автор: Rajesh Tiwari,Patrick Doering,Bruce Arrington,Conrad SURIAGA,Andrew Allan GALPIN. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2022-03-16.

METHOD AND/OR SYSTEM FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION (CMP)

Номер патента: US20150187662A1. Автор: Mou Jong-I,Tsen Yen-Di,Yen-Wei Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited. Дата публикации: 2015-07-02.

METHODS AND SYSTEMS FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION ENDPOINT DETECTION USING AN ALTERNATING CURRENT REFERENCE SIGNAL

Номер патента: US20150371912A1. Автор: BELLO Abner,Wedlake Michael. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-24.

Method and apparatus for endpoint detection for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6106662A. Автор: John A. Adams,Christopher E. Barns,Thomas Frederick Allen Bibby, Jr.,Robert A. Eaton,Charles Hannes. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2000-08-22.

Acquisition method and system for chemical mechanical planarization white light end point detection

Номер патента: CN114952597A. Автор: 邓耀敏. Владелец: Hangzhou Zhonggui Electronic Technology Co ltd. Дата публикации: 2022-08-30.

Composition and Method Used for Chemical Mechanical Planarization of Metals

Номер патента: US20160079084A1. Автор: Tamboli Dnyanesh Chandrakant,EVANS MARK,Chang Song Y.,Hymes Stephen W.. Владелец: AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.. Дата публикации: 2016-03-17.

Method for chemical-mechanical planarization of a substrate on a fixed-abrasive polishing pad

Номер патента: US5972792A. Автор: Guy F. Hudson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-10-26.

Tungsten chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a tungsten layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: US6206756B1. Автор: Dinesh Chopra,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-03-27.

Method for Chemical Mechanical Planarization of Chalcogenide Materials

Номер патента: US20090057834A1. Автор: James Allen Schlueter,Bentley J. Palmer. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2009-03-05.

Method for chemical mechanical planarization of chalcogenide materials

Номер патента: US7678605B2. Автор: James Allen Schlueter,Bentley J. Palmer. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2010-03-16.

Tungsten chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a tungsten layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: US6273786B1. Автор: Dinesh Chopra,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-08-14.

Method for chemical mechanical planarization of chalcogenide materials

Номер патента: TW200910445A. Автор: James Allen Schlueter,Bentley J Palmer. Владелец: Dupont Air Products Nano Materials Llc. Дата публикации: 2009-03-01.

Method for chemical mechanical planarization of chalcogenide materials

Номер патента: KR101069472B1. Автор: 제임스 알렌 슐루에터,벤트레이 제이. 팔머. Владелец: 듀퐁 에어 프로덕츠 나노머티어리얼즈 엘엘씨. Дата публикации: 2011-09-30.

Method for chemical-mechanical planarization of a substrate on a fixed-abrasive polishing pad

Номер патента: WO1998018159A1. Автор: Guy F. Hudson. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 1998-04-30.

Tungsten chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a tungsten layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: WO2000028585A1. Автор: Dinesh Chopra,Scott G. Meikle. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2000-05-18.

Method for chemical-mechanical planarization of a substrate on a fixed-abrasive polishing pad

Номер патента: EP0946979A1. Автор: Guy F. Hudson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-10-06.

Method for chemical-mechanical planarization of a substrate on a fixed-abrasive polishing pad

Номер патента: KR100489458B1. Автор: 허드슨구이에프.. Владелец: 마이크론 테크놀로지 인코포레이티드. Дата публикации: 2005-05-16.

Tungsten chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a tungsten layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: KR100443458B1. Автор: 디네쉬 코프라,스코트지. 메이클. Владелец: 미크론 테크놀로지,인코포레이티드. Дата публикации: 2004-08-09.

Devices and methods for in-situ control of mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6290572B1. Автор: Jim Hofmann. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-09-18.

Method and apparatus for improving planarity of chemical-mechanical planarization operations

Номер патента: US5232875A. Автор: Trung T. Doan,Gurtej S. Sandhu,Mark E. Tuttle,Angus C. Fox,Hugh E. Stroupe. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1993-08-03.

Method and apparatus for endpoint detection for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO1999064205A8. Автор: John A Adams,Thomas F A Bibby Jr,Robert A Eaton,Christopher E Barns. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2000-03-09.

Method and apparatus for endpoint detection for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO1999064205A9. Автор: John A Adams,Thomas F A Bibby Jr,Robert A Eaton,Christopher E Barns. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2000-04-27.

SYSTEMS AND METHODS FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION WITH PHOTOLUMINESCENCE QUENCHING

Номер патента: US20160005667A1. Автор: Liu I-Shuo. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-07.

Composite Abrasive Particles for Chemical Mechanical Planarization Composition and Method of Use Thereof

Номер патента: US20200115590A1. Автор: Shi Xiaobo,"ONeill Mark Leonard",Tamboli Dnyanesh Chandrakant,Machado Reinaldo Mario,Murella Krishna P.,Zhou Hongjun,Hughes John Edward Quincy,Winchester Steven Charles,Dodd Andrew J.,Schwartz Jo-Ann Theresa,Grief Malcolm. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2020-04-16.

Systems and methods for chemical mechanical planarization with photoluminescence quenching

Номер патента: US20150162209A1. Автор: I-Shuo Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-06-11.

SYSTEMS AND METHODS FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION WITH PHOTO-CURRENT DETECTION

Номер патента: US20150162210A1. Автор: Liu I-Shuo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited. Дата публикации: 2015-06-11.

Method and apparatus for chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20190157071A1. Автор: Yi-Chang Liu,Chih-I Peng,Hsiu-Ming Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Method and apparatus for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US20140272472A1. Автор: Eric Walter Singleton,Shaun Eric McKinlay,Stacey Christine Wakeham. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2014-09-18.

METAL OXIDE-POLYMER COMPOSITE PARTICLES FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION

Номер патента: US20160319160A1. Автор: Fomitchev Dmitry,Prevo Brian G.,Hampden-smith Mark J.,Kutsovsky Yakov E.. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-03.

CONDITIONER FOR CHEMICAL-MECHANICAL-PLANARIZATION PAD AND RELATED METHODS

Номер патента: US20190351527A1. Автор: Tiwari Rajesh,Doering Patrick,SURIAGA Conrad,Arrington Bruce,GALPIN Andrew Allan. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-21.

ADHESIVES FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION APPLICATIONS

Номер патента: US20180362810A1. Автор: Hseih Dong-Tsai,BOGNER Josh M.. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-20.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polish, kit for formulating the aqueous dispersion, chemical mechanical polishing method and method for producing semiconductor device

Номер патента: TW200714697A. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Nobuyuki Kurashima,Susumu Yamamoto,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Masayuki Hattori. Владелец: Toshiba Kk. Дата публикации: 2007-04-16.

In situ conductivity monitoring technique for chemical/mechanical planarization endpoint detection

Номер патента: US4793895A. Автор: Michael A. Leach,Carter W. Kaanta. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1988-12-27.

Method and apparatus for chemical mechanical polishing of semiconductor substrates

Номер патента: US20030022501A1. Автор: Feng Liu,Shijian Li,Lizhong Sun,Stan Tsai,Ratson Morad,Liang-Yuh Chen,Rashid Mavliev,Daniel Carl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-01-30.

Method and apparatus for chemical mechanical polishing of semiconductor substrates

Номер патента: US7060606B2. Автор: Shijian Li,Lizhong Sun,Ratson Morad,Feng Q. Liu,Stan D. Tsai,Liang-Yuh Chen,Rashid Mavliev,Daniel A. Carl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-06-13.

Method and apparatus for chemical mechanical polishing of semiconductor substrates

Номер патента: US20050282380A1. Автор: Feng Liu,Shijian Li,Lizhong Sun,Stan Tsai,Ratson Morad,Liang-Yuh Chen,Rashid Mavliev,Daniel Carl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-12-22.

Method and apparatus for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US8947834B2. Автор: Eric Walter Singleton,Shaun Eric McKinlay,Stacey Christine Wakeham. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2015-02-03.

System, control method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR102251153B1. Автор: 치엔-치 첸,에이치 씨 후,유 친 쳉,춘-하이 후앙,무-한 쳉,츠-신 첸. Владелец: 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2021-05-14.

Systems and methods for chemical mechanical planarization with photo-current detection

Номер патента: US9153452B2. Автор: I-Shuo Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-10-06.

Systems and methods for chemical mechanical planarization with photoluminescence quenching

Номер патента: US9666496B2. Автор: I-Shuo Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Electrochemically generated reactants for chemical mechanical planarization

Номер патента: US6689258B1. Автор: Jeremy S. Lansford,Christopher H. Lansford. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2004-02-10.

System and method for chemical mechanical planarization

Номер патента: CN114695104A. Автор: 许峻维. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-07-01.

Method for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20040238493A1. Автор: Yehiel Gotkis,Rod Kistler,Aleksandar Owczarz. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-12-02.

Method and apparatus for chemical-mechanical polishing

Номер патента: KR20140111961A. Автор: 숀 에릭 맥킨레이,에릭 월터 싱글턴,스테이시 크리스틴 웨이크햄. Владелец: 시게이트 테크놀로지 엘엘씨. Дата публикации: 2014-09-22.

Multizone carrier with process monitoring system for chemical-mechanical planarization tool

Номер патента: US20020098777A1. Автор: Thomas Laursen,Daniel Trojan. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2002-07-25.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: TWI720485B. Автор: 雷傑西 提沃瑞,康瑞德 瑟瑞佳,布魯斯 艾靈頓,派翠克 道寧,安德魯 艾倫 賈爾頻. Владелец: 美商恩特葛瑞斯股份有限公司. Дата публикации: 2021-03-01.

Apertured conditioning brush for chemical mechanical planarization systems

Номер патента: WO2007047996A2. Автор: Stephen J. Benner. Владелец: Tbw Industries Inc.. Дата публикации: 2007-04-26.

Conditioners and related methods for chemical mechanical planarization pads

Номер патента: KR102447622B1. Автор: 콘래드 수리아가,패트릭 두어링,라제시 티와리,브루스 알링턴,앤드류 앨런 갤핀. Владелец: 엔테그리스, 아이엔씨.. Дата публикации: 2022-09-28.

Apertured conditioning brush for chemical mechanical planarization systems

Номер патента: IL190944A0. Автор: . Владелец: Tbw Ind Inc. Дата публикации: 2009-09-22.

Optical view port for chemical mechanical planarization endpoint detection

Номер патента: TW442362B. Автор: John M Boyd,Stephan H Wolf,Randolph E Treur. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2001-06-23.

Detection method and detection apparatus for polishing pad of chemical mechanical polishing device

Номер патента: US20210146501A1. Автор: Hsien-Ming Lee,Chun-Chen Chen,Po-Ching Huang,Ching-Tang Hsueh. Владелец: Ta Liang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: EP1218143A1. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-07-03.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: US6595833B2. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-07-22.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: EP1218143A4. Автор: Scott Meikle,Gundu M Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2008-03-19.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: US6485356B2. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-11-26.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: US6589101B2. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-07-08.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: AU7474500A. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-03-26.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: KR100814267B1. Автор: 사브데군두엠.,마이클스코트. Владелец: 마이크론 테크놀로지 인코포레이티드. Дата публикации: 2008-03-18.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: WO2001015855A1. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2001-03-08.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: TW516988B. Автор: Scott Meikle,Gundu M Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-01-11.

Method and device for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: DE10084939T1. Автор: Scott Meikle,Gundu M Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-08-29.

Slurries for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies, and methods and apparatuses for making and using such slurries

Номер патента: US6124207A. Автор: Karl M. Robinson,Michael Andreas. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-09-26.

Stopper for chemical mechanical planarization, method for manufacturing same, and chemical mechanical planarization method

Номер патента: US20070151951A1. Автор: Norihiko Ikeda,Eiji Hayashi,Mutsuhiko Yoshioka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-07-05.

Stopper for chemical mechanical planarization, method for manufacturing same, and chemical mechanical planarization method

Номер патента: TW200420687A. Автор: Norihiko Ikeda,Eiji Hayashi,Mutsuhiko Yoshioka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-10-16.

Slurries for mechanical or chemical-mechanical planar polishing of microelectronic device substrate assemblies, and methods and apparatus for making and using such slurries

Номер патента: JP4083386B2. Автор: カール エム ロビンソン,マイケル アンドレアス. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2008-04-30.

Method and apparatus for chemically, mechanically, and/or electrolytically removing material from microelectronic substrates

Номер патента: US7192335B2. Автор: Scott G. Meikle,Whonchee Lee. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-03-20.

Method and apparatus for chemically, mechanically, and/or electrolytically removing material from microelectronic substrates

Номер патента: US20050020192A1. Автор: Scott Meikle,Whonchee Lee. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-01-27.

Method and apparatus for chemically, mechanically, and/or electrolytically removing material from microelectronic substrates

Номер патента: CN100432178C. Автор: 沃恩集·李,斯科特·G·米克尔. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2008-11-12.

Method and apparatus for chemically, mechanically, and/or electrolytically removing material from microelectronic substrates

Номер патента: EP1532222A1. Автор: Scott G. Meikle,Whonchee Lee. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-05-25.

Method and apparatus for chemically, mechanically, and/or electrolytically removing material from microelectronic substrates

Номер патента: WO2004020545A1. Автор: Scott G. Meikle,Whonchee Lee. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2004-03-11.

Method and apparatus for chemically, mechanically, and/or electrolytically removing material from microelectronic substrates

Номер патента: AU2003265767A1. Автор: Scott G. Meikle,Whonchee Lee. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-03-19.

Methods and compositions for chemical mechanical planarization of ruthenium

Номер патента: US6869336B1. Автор: Vishwas V. Hardikar. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2005-03-22.

Methods and compositions for chemical mechanical planarization of ruthenium

Номер патента: US20050064798A1. Автор: Vishwas Hardikar. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2005-03-24.

Composition and Method Used for Chemical Mechanical Planarization of Metals

Номер патента: US20170372918A9. Автор: Song Y. Chang,Mark Evans,Stephen W. Hymes,Dnyanesh Chandrakant Tamboli. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2017-12-28.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: WO2004063301A1. Автор: Song Y. Chang,Mark Evans,Dnyanesh Tamboli,Stephen W. Hymes. Владелец: AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.. Дата публикации: 2004-07-29.

Method for chemical mechanical planarization of a tungsten-containing substrate

Номер патента: TW201131020A. Автор: Rachel Dianne Mcconnell,Ann Marie Meyers,Xiaobo Shi. Владелец: Dupont Air Products Nano Materials Llc. Дата публикации: 2011-09-16.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: US20040175942A1. Автор: Mark Evans,Dnyanesh Tamboli,Song Chang,Stephen Hymes. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2004-09-09.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: KR101366879B1. Автор: 송 와이. 창,마크 에반스,니야네쉬 탬볼리,스티븐 더블류. 하이메스. Владелец: 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드. Дата публикации: 2014-02-24.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: AU2003303677A1. Автор: Song Y. Chang,Mark Evans,Dnyanesh Tamboli,Stephen W. Hymes. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2004-08-10.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: TWI348492B. Автор: Mark Evans,Dnyanesh Tamboli,Song Y Chang,Stephen W Hymes. Владелец: Air Prod & Chem. Дата публикации: 2011-09-11.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: US20080254629A1. Автор: Song Y. Chang,Mark Evans,Dnyanesh Tamboli,Stephen W. Hymes. Владелец: Hymes Stephen W. Дата публикации: 2008-10-16.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: US10373842B2. Автор: Song Y. Chang,Mark Evans,Stephen W. Hymes,Dnyanesh Chandrakant Tamboli. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2019-08-06.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: TW200508373A. Автор: Mark Evans,Dnyanesh Tamboli,Song Y Chang,Stephen W Hymes. Владелец: Air Prod & Chem. Дата публикации: 2005-03-01.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: US6276996B1. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-08-21.

Method for chemical mechanical planarization of chalcogenide materials

Номер патента: US7915071B2. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2011-03-29.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20090302266A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Masatoshi Ikeda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-12-10.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR101276026B1. Автор: 노리히꼬 이께다,도미까즈 우에노. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2013-06-19.

Method for Chemical Mechanical Planarization of Chalcogenide Materials

Номер патента: US20090057661A1. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2009-03-05.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR101406642B1. Автор: 히로따까 시다,아끼히로 다께무라,마사또시 이께다. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-06-11.

Method for chemical mechanical planarization of chalcogenide materials

Номер патента: KR101031446B1. Автор: 주나이드 아메드 시디퀴,사이피 유에스마니. Владелец: 듀퐁 에어 프로덕츠 나노머티어리얼즈 엘엘씨. Дата публикации: 2011-04-26.

Method for chemical mechanical planarization of a tungsten-containing substrate

Номер патента: KR101192742B1. Автор: 지아오보 시,레이첼 다이안느 맥코넬,앤 마리 메이어스. Владелец: 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드. Дата публикации: 2012-10-26.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP2006891A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Masatoshi Ikeda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-12-24.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP2006891A4. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Masatoshi Ikeda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-02-23.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: WO2000028586A2. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2000-05-18.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: US6676484B2. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-01-13.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: WO2000028586A3. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-10-12.

Method for chemical mechanical planarization of a tungsten-containing substrate

Номер патента: US8858819B2. Автор: Rachel Dianne Mcconnell,Xiaobo Shi,Ann Marie Hurst. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2014-10-14.

Method for chemical mechanical planarization of a tungsten-containing substrate

Номер патента: EP2357059B1. Автор: Rachel Dianne Mcconnell,Ann Marie Meyers,Xiaobo Shi. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2021-08-04.

Method for chemical mechanical planarization of a tungsten-containing substrate

Номер патента: EP2357059A3. Автор: Rachel Dianne Mcconnell,Ann Marie Meyers,Xiaobo Shi. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2017-06-21.

Method for chemical mechanical planarization of a tungsten-containing substrate

Номер патента: EP2357059A2. Автор: Rachel Dianne Mcconnell,Ann Marie Meyers,Xiaobo Shi. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2011-08-17.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1962334A1. Автор: Norihiko Ikeda,Tomikazu Ueno. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-08-27.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1962334A4. Автор: Norihiko Ikeda,Tomikazu Ueno. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-11-17.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: US20010016469A1. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-23.

Polishing pad for chemical mechanical planarization of substrates such as semiconductor wafer, comprises polymeric matrix dispersed with microspheres and formed from water-based polymer or its blends, applied on substrate

Номер патента: DE102006042674A1. Автор: Chau H. Newark Duong. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2007-03-22.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: EP1138069A2. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-10-04.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, kit for chemical mechanical polishing, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20090124172A1. Автор: Dai Fukushima,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Yuuichi Hashiguchi,Gaku Minamihara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-05-14.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, kit for chemical mechanical polishing, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP2006890A4. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Yuuichi Hashiguchi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-02-16.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, kit for chemical mechanical polishing, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR101330960B1. Автор: 히로유끼 야노,가꾸 미나미하바,가즈히또 우찌꾸라,히로따까 시다,유우이찌 하시구찌,다이 후꾸시마,요시꾸니 다떼야마. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2013-11-18.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, kit for chemical mechanical polishing, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20110250756A1. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Yuuichi Hashiguchi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-10-13.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, kit for chemical mechanical polishing, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW200801168A. Автор: Yano Hiroyuki,Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,TATEYAMA Yoshikuni,Yuuichi Hashiguchi. Владелец: Toshiba Kk. Дата публикации: 2008-01-01.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, kit for chemical mechanical polishing, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP2006890A2. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Yuuichi Hashiguchi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-12-24.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, kit for chemical mechanical polishing, and kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP2006890A9. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Hiroyuki Yano,Yoshikuni Tateyama,Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Yuuichi Hashiguchi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-07-22.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and cmp pads made therewith

Номер патента: US20180148537A1. Автор: Michael E. Mills,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-05-31.

Fabrication of a Polishing Pad for Chemical Mechanical Polishing

Номер патента: US20230347471A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Ming-Shiuan She,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

TREATMENT COMPOSITION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD, AND CLEANING METHOD

Номер патента: US20180086943A1. Автор: NISHIGUCHI Naoki,MITSUBOSHI Ran,MITSUMOTO Kiyotaka,IIDA Masashi,HAYAMA Takahiro,Kamo Satoshi,KAMEI Yasutaka. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2018-03-29.

TREATMENT COMPOSITION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD, AND CLEANING METHOD

Номер патента: US20180111248A1. Автор: Yamanaka Tatsuya,MITSUMOTO Kiyotaka,KAWAMOTO Tatsuyoshi,ARAKAWA Megumi,KUNITANI Eiichirou,IIDA Masashi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2018-04-26.

Composite Abrasive Particles For Chemical Mechanical Planarization Composition And Method Of Use Thereof

Номер патента: US20170133236A1. Автор: Hongjun Zhou,Dnyanesh Chandrakant Tamboli,Krishna P. Murella. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2017-05-11.

Composite Abrasive Particles For Chemical Mechanical Planarization Composition and Method of Use Thereof

Номер патента: US20160200944A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Dnyanesh Chandrakant Tamboli,Mark Leonard O'Neill,Malcolm Grief,Krishna P. Murella,John Edward Quincy Hughes,Jo-Ann Theresa Schwartz,Reinaldo Mario Machado,Andrew J. Dodd,Steven Charles Winchester. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2016-07-14.

Surface modified colloidal abrasives, including stable bimetallic surface coated silica sols for chemical mechanical planarization

Номер патента: US7077880B2. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2006-07-18.

Surface modified colloidal abrasives, including stable bimetallic surface coated silica sols for chemical mechanical planarization

Номер патента: US7429338B2. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2008-09-30.

Treatment composition for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and cleaning method

Номер патента: WO2016170942A1. Автор: 英一郎 國谷,達也 山中,達慶 河本,清孝 三ツ元,愛 荒川,雅史 飯田. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2016-10-27.

Composite abrasive particles for chemical mechanical planarization compositions and methods of use thereof

Номер патента: JP6581198B2. Автор: マーク　レオナルド　オニール,レオナルド オニール マーク,ホーンジュン ジョウ,テリーサ シュワルツ ジョ−アン,テリーサ シュワルツ ジョ−アン,グリーフ マルコルム,シ シャオボー,ピー．ムレッラ クリシュナ,チャールズ ウィンチェスター スティーブン,チャールズ ウィンチェスター スティーブン,エドワード クインシー ヒューズ ジョン,エドワード クインシー ヒューズ ジョン,ジェイ．ドッド アンドリュー,チャンドラカント タンボリ ドンヤネシュ,チャンドラカント タンボリ ドンヤネシュ,マリオ マチャド レイナルド,マリオ マチャド レイナルド. Владелец: バーサム マテリアルズ ユーエス，リミティド ライアビリティ カンパニー. Дата публикации: 2019-09-25.

Surface modified colloidal abrasives, including stable bimetallic surface coated silica sols for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20050155296A1. Автор: Junaid Siddiqui. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2005-07-21.

Surface modified colloidal abrasives, including stable bimetallic surface coated silica sols for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20060255015A1. Автор: Junaid Siddiqui. Владелец: DA Nanomaterials LLC. Дата публикации: 2006-11-16.

Metal oxide-polymer composite particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: US9982166B2. Автор: Mark J. Hampden-Smith,Yakov E. Kutsovsky,Brian G. Prevo,Dmitry Fomitchev. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Metal oxide-polymer composite particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2015095154A1. Автор: Mark J. Hampden-Smith,Yakov E. Kutsovsky,Brian G. Prevo,Dmitry Fomitchev. Владелец: CABOT CORPORATION. Дата публикации: 2015-06-25.

Composite abrasive particles for chemical mechanical planarization composition and method of using same

Номер патента: KR102240249B1. Автор: 크리쉬나 피. 무렐라,시아오보 쉬,레이날도 마리오 마차도,말콤 그리프,홍준 조우,조-안 테레사 슈바르츠,스티븐 찰스 윈체스터,존 에드워드 퀸시 휴즈,마크 레오나드 오네일,앤드류 제이. 도드,드니아네쉬 찬드라칸트 탐볼리. Владелец: 버슘머트리얼즈 유에스, 엘엘씨. Дата публикации: 2021-04-13.

Treatment composition for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method, and cleaning method

Номер патента: KR101731523B1. Автор: 키요타카 미츠모토,마사시 이이다,타츠요시 가와모토,타츠야 야마나카,메구미 아라카와,에이이치로우 구니타니. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2017-04-28.

Composite abrasive particles for chemical mechanical planarization composition and method of use thereof

Номер патента: US10109493B2. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Dnyanesh Chandrakant Tamboli,Mark Leonard O'Neill,Malcolm Grief,Krishna P. Murella,John Edward Quincy Hughes,Jo-Ann Theresa Schwartz,Reinaldo Mario Machado,Andrew J. Dodd,Steven Charles Winchester. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2018-10-23.

Method for Manufacturing a Conditioner for Chemical Mechanical Planarization Pad

Номер патента: KR101072384B1. Автор: 이종재,윤소영. Владелец: 이화다이아몬드공업 주식회사. Дата публикации: 2011-10-11.

Composite abrasive particles for chemical-mechanical planarizing compositions and methods of use thereof

Номер патента: JP7130608B2. Автор: ホーンジュン ジョウ,グリーフ マルコルム,シ シャオボー,ピー．ムレッラ クリシュナ,チャールズ ウィンチェスター スティーブン,エドワード クインシー ヒューズ ジョン,ジェイ．ドッド アンドリュー,チャンドラカント タンボリ ドンヤネシュ,マリオ マチャド レイナルド,レオナルド オニール マーク,テリーサ シュワルツ ジョ－アン. Владелец: バーサム マテリアルズ ユーエス，リミティド ライアビリティ カンパニー. Дата публикации: 2022-09-05.

Slurries for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: AU5783199A. Автор: Karl M. Robinson,Michael Andreas. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-03-21.

Slurries for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: KR100563018B1. Автор: 로빈슨칼엠.,안드레아스마이클. Владелец: 마이크론 테크놀로지 인코포레이티드. Дата публикации: 2006-03-22.

Phosphonium Based Polymers And Copolymers As Additives For Chemical Mechanical Planarization Slurries

Номер патента: US20240261931A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Stender,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-08.

Suspension for chemical mechanical planarization (cmp) and method employing the same

Номер патента: EP4314179A1. Автор: Sridevi R. ALETY,Mark CYFFKA,Niraj Mahadev. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-02-07.

Target power transmission amount changing method and power transmitting apparatus for implementing same

Номер патента: US20230311700A1. Автор: Min Ho Shin. Владелец: Industry Academy Cooperation Foundation of Myongji University. Дата публикации: 2023-10-05.

Method and a packaging apparatus for forming sealed packages

Номер патента: US12065279B2. Автор: Yutaka Kaneko,Nicola Garuti,Daniele Anzaldi,David Arturo FUGA MARTIN. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2024-08-20.

Device, method and movable joining apparatus for thermal joining respectively two adjacent material sheets over a connecting piece

Номер патента: US20240239051A1. Автор: Roger BÜRGLER,Silvan Horand. Владелец: LEISTER TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2024-07-18.

A method and a manufacturing apparatus for manufacturing a fiber preform

Номер патента: WO2004094325A1. Автор: Markku Rajala,Kauko Janka,Harri Valkonen,Tomi Forsblom. Владелец: Liekki Oy. Дата публикации: 2004-11-04.

Methods and fuel processing apparatuses for upgrading a pyrolysis oil stream and a hydrocarbon stream

Номер патента: EP2880128A1. Автор: Paolo Palmas,Sathit Kulprathipanja,Lance Awender Baird. Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 2015-06-10.

Improvements in building structures and in methods and and apparatus for constructing same

Номер патента: GB644890A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1950-10-18.

Methods and fuel processing apparatuses for upgrading a pyrolysis oil stream and a hydrocarbon stream

Номер патента: CA2878917C. Автор: Paolo Palmas,Sathit Kulprathipanja,Lance Awender Baird. Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 2017-10-17.

Shaving processing method and shaving processing apparatus for gear

Номер патента: US20210187643A1. Автор: Ryoichi Ueno,Yoshihiro Teramoto. Владелец: Mazda Motor Corp. Дата публикации: 2021-06-24.

Shaving processing method and shaving processing apparatus for gear

Номер патента: US11192198B2. Автор: Ryoichi Ueno,Yoshihiro Teramoto. Владелец: Mazda Motor Corp. Дата публикации: 2021-12-07.

Charging control method and charging control apparatus for battery system

Номер патента: EP4290648A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-13.

Method and a packaging apparatus for forming sealed partially-filled packages

Номер патента: US11912448B2. Автор: Yutaka Kaneko,Nicola Garuti,Daniele Anzaldi,David Arturo FUGA MARTIN. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2024-02-27.

Method and transmission control apparatus for operating a multiple-speed vehicle transmission

Номер патента: US11773967B2. Автор: Ralf Beck. Владелец: ZF FRIEDRICHSHAFEN AG. Дата публикации: 2023-10-03.

Charging control method and charging control apparatus for battery system

Номер патента: EP4290648A8. Автор: Wei Ye,Yongchao Li,Shichang Zhang,Jihai XIE,Zhaolei Cui. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Method and laser processing apparatus for producing a bipolar plate

Номер патента: US20240082953A1. Автор: Martin Stambke,Jan-Patrick Hermani. Владелец: Trumpf Laser Gmbh. Дата публикации: 2024-03-14.

Method and automatic charging apparatus for filling carbonated drinks into bottles

Номер патента: WO2004002874A1. Автор: Laszlo Schlotthauer. Владелец: Schlotthauer Laszlo. Дата публикации: 2004-01-08.

Method and extruding die apparatus for producing a plastic closure strip

Номер патента: US4540537A. Автор: Ewald A. Kamp. Владелец: Union Carbide Corp. Дата публикации: 1985-09-10.

Aiming adjustment method and aiming adjustment apparatus for vehicle lamp

Номер патента: US11835661B2. Автор: Mitsuharu Mano. Владелец: Koito Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Aiming adjustment method and aiming adjustment apparatus for vehicle lamp

Номер патента: US20210055395A1. Автор: Mitsuharu Mano. Владелец: Koito Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Press forming method and press forming apparatus for outer panel of automobile

Номер патента: US20230390820A1. Автор: Yasuhiro Kishigami. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Method and transmission control apparatus for operating a multiple-speed vehicle transmission

Номер патента: US20230184327A1. Автор: Ralf Beck. Владелец: ZF FRIEDRICHSHAFEN AG. Дата публикации: 2023-06-15.

Method and transmission control apparatus for operating a multiple-speed vehicle transmission

Номер патента: US11773966B2. Автор: Ralf Beck. Владелец: ZF FRIEDRICHSHAFEN AG. Дата публикации: 2023-10-03.

Method and 3d printing apparatus for production of a luminaire, and a luminaire

Номер патента: WO2022028860A1. Автор: Rifat Ata Mustafa Hikmet,Wilhelmus Cornelis Keur,Hendrikus Hubertus Petrus Gommans. Владелец: SIGNIFY HOLDING B.V.. Дата публикации: 2022-02-10.

LASER WELDING METHOD AND LASER WELDING APPARATUS FOR Si-CONTAINING STEEL SHEETS

Номер патента: US20240033852A1. Автор: Yasushi Kitani,Asato HARA. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Method and order-picking apparatus for assembling consumable materials in the form of portions and packages

Номер патента: AU2022400992A1. Автор: Christoph Hellenbrand. Владелец: Becton Dickinson Rowa Germany GmbH. Дата публикации: 2024-05-30.

Method and 3d printing apparatus for production of a luminaire, and a luminaire

Номер патента: EP4189282A1. Автор: Rifat Ata Mustafa Hikmet,Wilhelmus Cornelis Keur,Hendrikus Hubertus Petrus Gommans. Владелец: Signify Holding BV. Дата публикации: 2023-06-07.

Method and 3d printing apparatus for production of a luminaire, and a luminaire

Номер патента: US20230294362A1. Автор: Rifat Ata Mustafa Hikmet,Wilhelmus Cornelis Keur,Hendrikus Hubertus Petrus Gommans. Владелец: SIGNIFY HOLDING B.V.. Дата публикации: 2023-09-21.

Method and automatic brazing apparatus for flame brazing control in copper-aluminum welding

Номер патента: US20240173788A1. Автор: KANG Xu,Qiang Liang,Kan CAO,Shuiqing WANG,Xiyun WANG,Yinbin LOU. Владелец: Zhejiang Xinrui Brazing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Traction control method and traction control apparatus for vehicle

Номер патента: US12017653B2. Автор: Jae Min Yun,Sung Keun Lim,Yoon Seong JEON,Chung Hee HAN. Владелец: Kia Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Remote control method and remote control apparatus for autonomous vehicle

Номер патента: US11853056B2. Автор: GAO Yu,SHI Hu,Jingjing Xue. Владелец: Apollo Intelligent Driving Technology Beijing Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Method and multiple-tool apparatus for surface flaming of stone or stone-like products

Номер патента: EP2105275A3. Автор: Claudio Lovato. Владелец: MAEMA Srl. Дата публикации: 2012-01-25.

Apparatus for controlling a machine tool during the machining of a first workpiece to be matched with a second workpiece already machined

Номер патента: US4274230A. Автор: Gerhard Thalheim. Владелец: SIDCO. Дата публикации: 1981-06-23.

Method and apparatus for treatment, sorting and recycling of oil-containing discharged catalyst

Номер патента: RU2748501C1. Автор: Фэй Ван,Лицюань ЛИ,Цянь ЦЗЭН,Чунган ЧЭНЬ,Цзяньпин ЛИ,Хуалинь ВАН,Ин ЧЖАО,Пэнбо ФУ,Чжаохуэй ХУАН,Айбинь ХУАН,Чэн ХУАН,Цзяньхуай СУНЬ,Илинь ФАН,Ся ЦЗЯН. Владелец: Шанхай Хуачан Энвайронментал Протекшн Ко., Лтд. Дата публикации: 2021-05-26.

Method and apparatus for bonding protection film onto silicon wafer

Номер патента: US6773536B2. Автор: Masahiro Lee. Владелец: Teikoku Taping System Co Ltd. Дата публикации: 2004-08-10.

Door frame assembly for a microwave oven and method and device for controlling a door frame assembly

Номер патента: RU2661933C2. Автор: Те ЛЮ,Мэннань ВАН,Цзичен ЛУО. Владелец: Бейдзин Сяоми Мобайл Софтвэр Ко., Лтд.. Дата публикации: 2018-07-23.

Method and apparatus for impregnating a lining module provided with a resin-absorbing layer

Номер патента: US20100108238A1. Автор: Andreas Bichler,Michael Mühlin. Владелец: Trelleborg Pipe Seals Duisburg GmbH. Дата публикации: 2010-05-06.

Method and apparatus for impregnating a lining module provided with a resin-absorbing layer

Номер патента: US8043656B2. Автор: Andreas Bichler,Michael Mühlin. Владелец: Trelleborg Pipe Seals Duisburg GmbH. Дата публикации: 2011-10-25.

Method and apparatus for passive mixing of multiphase fluids

Номер патента: WO2019198095A1. Автор: Jitendra SANGWAI,Chirag KHALDE,Vivek Ranade. Владелец: The Queen's University Of Belfast. Дата публикации: 2019-10-17.

Method and system for autonomous body interaction

Номер патента: US20240208057A1. Автор: Matthew DICICCO,Eric A. LITMAN,David N. WALSH,Charles Paul Pace. Владелец: Aescape Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Method and apparatus for stabilizing fire suppression agents in situ

Номер патента: EP3725375A1. Автор: Adam Chattaway,Terry Simpson. Владелец: Kidde Technologies Inc. Дата публикации: 2020-10-21.

Method and apparatus for cleaning particle filters in exhaust gas systems of combustion engines

Номер патента: CA2707878A1. Автор: Friedrich Spruegel,Alfons Urban. Владелец: Tunap Industrie Chemie GmbH and Co Produktions KG. Дата публикации: 2010-12-19.

Method and apparatus for carrying out a reference measurement on a sensor of an internal combustion engine

Номер патента: US09702314B2. Автор: Thomas Kirstaetter. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2017-07-11.

Method and apparatus for identifying a product

Номер патента: US09589227B2. Автор: Uwe Beck,Andreas Hertwig,Dirk HÖNIG,Ralph Domnick. Владелец: Bundesanstalt fuer Materialforschung und Pruefung BAM. Дата публикации: 2017-03-07.

Production method and production apparatus for magnetic recording medium

Номер патента: US20040175510A1. Автор: Mitsuru Takai,Kazuhiro Hattori,Takahiro Suwa. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2004-09-09.

Method and apparatus for separating carbon dioxide and for utilizing carbon dioxide

Номер патента: EP4177530A1. Автор: Ari Piispanen. Владелец: Soletair Power Oy. Дата публикации: 2023-05-10.

Powder and coating formation method and apparatus

Номер патента: EP1497061A2. Автор: Isaac Tsz Hong Chang. Владелец: METAL NANOPOWDERS Ltd. Дата публикации: 2005-01-19.

Method and apparatus for chamfering and deburring gear cut workpieces

Номер патента: US09993887B2. Автор: Thomas Zeller. Владелец: Liebherr Verzahntechnik GmbH. Дата публикации: 2018-06-12.

Package formation method and MEMS package

Номер патента: US09751754B2. Автор: Hideki Takagi,Atsuhiko Maeda,Yuuichi KURASHIMA. Владелец: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST. Дата публикации: 2017-09-05.

Feeding method and apparatus

Номер патента: US12043430B2. Автор: Davide Parazza,Luca Federici. Владелец: GD SpA. Дата публикации: 2024-07-23.

Method and apparatus for transferring granular material to a mould

Номер патента: WO2006095249A2. Автор: Carlo Antonio Camorani. Владелец: Mira Di Algeri Maris. Дата публикации: 2006-09-14.

Manufacturing method and manufacturing apparatus for calcium formate

Номер патента: US20240109784A1. Автор: HYUN Choi,JUNG Hyun Jin,Sung Ho Yoon,Hae Won Jung,Cheol Hyun Kim,Ha Young YOON. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Chung Ang University. Дата публикации: 2024-04-04.

Method and apparatus for projecting images on surfaces

Номер патента: US20240242643A1. Автор: Jouni JUNES,Claudio STUPPI,Markus HAUTAKORPI,Michihito Mizutani,Tero KÖNÖNEN. Владелец: Kone Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Method and apparatus for projecting images on surfaces

Номер патента: EP4427454A1. Автор: Jouni JUNES,Claudio STUPPI,Markus HAUTAKORPI,Michihito Mizutani,Tero KÖNÖNEN. Владелец: Kone Corp. Дата публикации: 2024-09-11.

Method and apparatus for recognizing a towing operation of a vehicle

Номер патента: US20240359689A1. Автор: Bruno Kartmann,Micheal Egert. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2024-10-31.

Method and apparatus for separating particulate composition carried by a gaseous stream

Номер патента: US11986765B2. Автор: Cesare Saccani,Augusto BIANCHINI. Владелец: Universita di Bologna. Дата публикации: 2024-05-21.

Rapid material synthesis reactor systems, methods, and devices

Номер патента: WO2024229139A1. Автор: Richard K. Holman,Adrian Pullen,Kim Tran,Gregory M. WROBEL,Darrin LIAU. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2024-11-07.

Rapid material synthesis reactor systems, methods, and devices

Номер патента: US20240367139A1. Автор: Richard K. Holman,Adrian Pullen,Kim Tran,Gregory M. WROBEL,Darrin LIAU. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-11-07.

Method and apparatus for a controlled delivery of particles

Номер патента: US09817012B2. Автор: Frank Görgen,Torsten Sehlinger. Владелец: Bluestone Technology GmbH. Дата публикации: 2017-11-14.

Cleaning method and cleaning apparatus for a mask

Номер патента: US09724735B2. Автор: Youyuan Kuang. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Autonomous driving system capable of swapping application assemblies, corresponding swapping method and apparatus

Номер патента: EP4405875A1. Автор: Eric Lemaire,Junhong Li,Guangrong Fang. Владелец: Valeo Powertrain Nanjing Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Multi-polar chuck for processing of microelectronic workpieces

Номер патента: US20210175108A1. Автор: Melvin VERBAAS. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-10.

System and method of dosing a polymer mixture with a first solvent, device, system and method of extracting solvent from at least one polymeric yarn, system and method of mechanical pre-recovery of at least one liquid in at least one polymeric yarn, and continuous system and method for producing at least one polymeric yarn

Номер патента: US12031234B2. Автор: Marcos Roberto Paulino Bueno,André PENAQUIONI,Alessandro Bernardi,Sérgio Luiz Dias Almeida,Leandro Ohara Oliveira Santa Rosa,Patrícia Freitas Oliveira Fialho,Daniela Zaira Rauber. Владелец: Braskem America Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Process and apparatus for preparation of a no-jam vending machine plastic card

Номер патента: US20050202165A1. Автор: Dennis Jaynes. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-15.

A method and an apparatus for reducing the heat loss in a heated workpiece

Номер патента: CA2834768C. Автор: Per-Arne Mattsson. Владелец: Automation Press and Tooling AP&T AB. Дата публикации: 2019-02-26.

Energy transfer method and system

Номер патента: SG11201900487RA. Автор: Tanya CLARKE. Владелец: Hydrogen Universe Ltd. Дата публикации: 2019-02-27.

Automated slug removing method and device

Номер патента: US20240316696A1. Автор: William P. Payne,Jerone Spencer Anderson. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2024-09-26.

Battery energy processing device and method, and vehicle

Номер патента: US12132182B2. Автор: Lei Yan,Hua PAN,Yubo Lian,Heping Ling,Feiyue Xie. Владелец: BYD Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

SYSTEMS AND METHODS FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION WITH FLUORESCENCE DETECTION

Номер патента: US20150140691A1. Автор: HUANG Hui-Chi,Liu I-Shuo,TSAI Jung-Tsan,Lee Chien-Ping. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited. Дата публикации: 2015-05-21.

Raspberry-type metal oxide nanostructures coated with ceo2 nanoparticles for chemical mechanical planarization (cmp)

Номер патента: US20160280963A1. Автор: Yuzhuo Li,Michael Lauter,Bir Darbar Mehta,Zhihua Zhang,Vaibhav Dalvi,Andreas Fechtenkoetter. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2016-09-29.

Contact release capsule useful for chemical mechanical planarization slurry

Номер патента: US8980122B2. Автор: Robin Ihnfeldt. Владелец: GENERAL ENGINEERING & RESEARCH LLC. Дата публикации: 2015-03-17.

RASPBERRY-TYPE METAL OXIDE NANOSTRUCTURES COATED WITH CeO2 NANOPARTICLES FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION (CMP)

Номер патента: KR101760529B1. Автор: 유주오 리,지후아 장,바이브하브 달비,비르 다르바르 메히타,안드레아스 페치텐쾨터,미카엘 로테르. Владелец: 바스프 에스이. Дата публикации: 2017-07-21.

Contact release capsule useful for chemical mechanical planarization slurry

Номер патента: US9334422B2. Автор: Robin Ihnfeldt. Владелец: GENERAL ENGINEERING & RESEARCH LLC. Дата публикации: 2016-05-10.

RASPBERRY-TYPE METAL OXIDE NANOSTRUCTURES COATED WITH CeO2 NANOPARTICLES FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION (CMP)

Номер патента: WO2010139603A1. Автор: Yuzhuo Li,Michael Lauter,Bir Darbar Mehta,Andreas FECHTENKÖTTER,Zhihua Zhang,Vaibhav Dalvi. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2010-12-09.

Raspberry-type metal oxide nanostructures coated with CeO2 nanoparticles for chemical mechanical planarization (CMP)

Номер патента: TW201043686A. Автор: Yuzhuo Li,Michael Lauter,Bir Darbar Mehta,Vaibhav Dalvi,zhi-hua Zhang,Andreas Fechtenkoetter. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2010-12-16.

Suspension for chemical mechanical planarization (cmp) and method employing the same

Номер патента: WO2022212155A1. Автор: Sridevi R. ALETY,Mark CYFFKA,Niraj Mahadev. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2022-10-06.

Blind rivet, method and device for installation of such rivet

Номер патента: RU2435994C2. Автор: Уве ФРАНК,Марсель ШТРОБЕЛЬ. Владелец: Адольф Вюрт Гмбх & Ко. Кг. Дата публикации: 2011-12-10.

Method and equipment for detecting the location and speed of a railway vehicle

Номер патента: US20240212197A1. Автор: Héctor Barrio Crespo. Владелец: Ostirion Slu. Дата публикации: 2024-06-27.

Method and device for upgrading tpms diagnostic tool

Номер патента: US12036826B2. Автор: Tao Wang. Владелец: Autel Intelligent Technology Corp Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Amphiphilic abrasive particles and their use for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024129435A1. Автор: Gerhard Jonschker. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-06-20.

Tri azole- and/or tri azoli um-based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: EP4408944A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Matthias Stender,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-07.

Chemical-mechanical-planarization (cmp) slurry quality control process and particle size distribution measuring systems

Номер патента: WO1999056106A9. Автор: Todd A Cerni,Scott Waisanen,Dennis Knowlton. Владелец: Particle Measuring Syst. Дата публикации: 2000-01-27.

Chemical-mechanical-planarization (cmp) slurry quality control process and particle size distribution measuring systems

Номер патента: EP1076814A1. Автор: Todd A. Cerni,Scott Waisanen,Dennis Knowlton. Владелец: Particle Measuring Systems Inc. Дата публикации: 2001-02-21.

Tri azole- and/or tri azoli um-based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: WO2023056324A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Matthias Stender,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-04-06.

Phosphonium based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: EP4352120A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Stender,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-04-17.

Chemical mechanical planarization polishing for shallow trench isolation

Номер патента: EP4413088A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-14.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing inorganic particles and polymer particles

Номер патента: RU2579597C2. Автор: Южуо ЛИ,Виджай Иммануэль РАМАН,Михаэль ЛАУТЕР,Шиям Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Даниэль Кво-Хунг ШЕН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-04-10.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C9. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-03-16.

Chemical mechanical planarization using amino-polyorganosiloxane-coated abrasives

Номер патента: WO2023178286A1. Автор: Gerhard Jonschker,Matthias Stender,René LUTZ. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-09-21.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C2. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-02-02.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing non-ionic surfactant and aromatic compound containing acid group

Номер патента: RU2636511C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-11-23.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates having polysilicon and silicon oxide dielectric films

Номер патента: RU2573672C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Вей Лан Уиллиам ЧИУ,Харви Уэйн ПИНДЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-01-27.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, having structured or unstructured dielectric layers with low dielectric constant

Номер патента: RU2589482C2. Автор: Виджай Иммануэль РАМАН,Франк РИТТИГ,Юйчжо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Composition for chemical-mechanical polishing containing polyvinyl phosphon acid and derivatives thereof

Номер патента: RU2598046C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН,Виджай Иммануил РАМАН,Южио ЛИ,Кристиан ШАДЕ,Исон Ю-Шен СУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-09-20.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing protein

Номер патента: RU2631875C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Михаэль ЛАУТЕР,Роланд ЛАНГЕ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-09-28.

Polishing etchant composition for chemical-mechanical polishing of cadmium-zinc telluride

Номер патента: RU2627711C1. Автор: Алексей Сергеевич Кашуба,Медина Рефатовна Лакманова,Анна Владимировна Погожева. Владелец: Акционерное общество "НПО "Орион". Дата публикации: 2017-08-10.

Pad-in-a-bottle and single platen chemical mechanical-planarization for back-end applications

Номер патента: EP4430655A1. Автор: Xiaobo Shi,Mark Leonard O'Neill,Robert Vacassy,John G. LANGAN,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,James A. Schlueter. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-18.

Process for chemical-mechanical polishing of iii-v semiconductor materials

Номер патента: CA1044580A. Автор: Robert J. Walsh. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1978-12-19.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, containing film based on silicon oxide dielectric and based on polycrystalline silicon

Номер патента: RU2588620C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Исон Юй-Шен СУ,Аренд Йоукэ КИНГМА,Бастиан Мартен НОЛЛЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Slurry for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20040021125A1. Автор: Yasuaki Tsuchiya,Shin Sakurai,Kenichi Aoyagi,Toshiji Taiji,Tomoyuki Ito. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-02-05.

Method for improving Uniformity of Chemical-Mechanical Planarization Process

Номер патента: US20130273669A1. Автор: Tao Yang,Chao Zhao,Junfeng Li. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2013-10-17.

Stable chemical mechanical planarization polishing compositions and methods for high rate silicon oxide removal

Номер патента: WO2023178003A1. Автор: LU Gan,Maitland GRAHAM,Ramon BERNASCONI,Maxwell WARNEKE. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-09-21.

Tungsten chemical mechanical planarization (CMP) with low dishing and low erosion topography

Номер патента: US11884859B2. Автор: Agnes Derecskei,Matthias Stender,Bradley J. Brennan. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-01-30.

Carbon and boron implantation for backside chemical mechanical planarization control

Номер патента: US20240266175A1. Автор: Yan Zhang,Jae Young Lee,Naushad Variam,Johannes M. van Meer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Pad-ln-a-bottle chemical mechanical planarization polishing with cost-effective non-porous solid polishing pads

Номер патента: EP4430134A1. Автор: Xiaobo Shi,Mark Leonard O'Neill,Robert Vacassy,John G. LANGAN,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,James A. Schlueter. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-18.

Methods for reducing scratch defects in chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230377898A1. Автор: William Weilun HONG,Ying-Tsung Chen,Wan-Chun Pan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Chemical Mechanical Planarization (CMP) For Copper And Through-Silicon Via (TSV)

Номер патента: US20240006189A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Rung-Je Yang,Robert Vacassy,Keh-Yeuan LI,Ming Shih Tsai. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-01-04.

Polycationic polymer or copolymer having different cation types for slurries in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2023201189A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-10-19.

Bottom Leads Chemical Mechanical Planarization for TMR Magnetic Sensors

Номер патента: US20210057638A1. Автор: Ming Jiang,Ronghui ZHOU,Yuankai Zheng,Ming Mao,Chih-Ching Hu,Yung-Hung Wang,Chen-Jung Chien. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2021-02-25.

Bottom leads chemical mechanical planarization for tmr magnetic sensors

Номер патента: WO2021040806A1. Автор: Ming Jiang,Ronghui ZHOU,Yuankai Zheng,Ming Mao,Chih-Ching Hu,Yung-Hung Wang,Chen-Jung Chien. Владелец: WESTERN DIGITAL TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2021-03-04.

Modified water-soluble polysaccharides having different cation types for slurries in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024073209A1. Автор: Xiaobo Shi,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI,Sana MA. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-04-04.

Chemical mechanical planarization (cmp) for copper and through-silicon via (tsv)

Номер патента: EP4259736A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Rung-Je Yang,Robert Vacassy,Keh-Yeuan LI,Ming Shih Tsai. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-10-18.

Method and apparatus for transmitting and receiving a signal through a relay node in a wireless communication system in which a carrier aggregation method is applied

Номер патента: US09750002B2. Автор: Suckchel Yang,Hanbyul Seo,Hakseong Kim. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2017-08-29.

Method and magnetic resonance apparatus for suppressing undesired coherence pathways

Номер патента: US20150293202A1. Автор: Thorsten Feiweier. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2015-10-15.

Method and magnetic resonance apparatus for suppressing undesired coherence pathways

Номер патента: US09952302B2. Автор: Thorsten Feiweier. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2018-04-24.

Filtering method and filtering control apparatus for load cell

Номер патента: US20240280400A1. Автор: Shenhui Wang,Song Zhang,Qin Sun,Qi WAN,Along WEI. Владелец: Mettler Toledo Changzhou Precision Instruments Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Method and morphologically adaptable apparatus for altering the charge distribution upon living membranes with functional stabilization of the membrane physical electrical integrity

Номер патента: US09764154B2. Автор: William Farone. Владелец: GRADIENT TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2017-09-19.

A method and image capturing apparatus for minimising error in ambient light corrected images

Номер патента: EP4305589A1. Автор: Rieko Verhagen,Yannyk Parulian Julian Bourquin,Jonathan Alambra PALERO,Michel Jozef Agnes ASSELMAN,Mathivanan Damodaran. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2024-01-17.

A method and image capturing apparatus for minimising error in ambient light corrected images

Номер патента: US20240107178A1. Автор: Rieko Verhagen,Yannyk Parulian Julian Bourquin,Jonathan Alambra PALERO,Michel Jozef Agnes ASSELMAN,Mathivanan Damodaran. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2024-03-28.

Ice machine, fault handling method and fault handling apparatus for ice machine, and refrigeration device

Номер патента: US11747080B2. Автор: Yang Shao,Zengqiang SI,Jincai WANG,Guangqing YANG,Yabing WU. Владелец: Hefei Hualing Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Heat treatment method and heat treatment apparatus for semiconductor substrate

Номер патента: US09991119B2. Автор: Masami Shibagaki,Yasuko Shinoda. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

Heat treatment method and heat treatment apparatus for heating substrate by irradiating substrate with light

Номер патента: US09920993B2. Автор: Tatsufumi Kusuda,Kazuyuki Hashimoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Method and medical imaging apparatus for determining at least one patient-specific safety parameter for a medical imaging examination

Номер патента: US20170000446A1. Автор: Gerhard Brinker,Stephan Nufer,Daniel NIEDERLOEHNER,Anja Jaeger,Jens Thoene. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2017-01-05.

Operating method and operation control apparatus for gasification-melting furnace

Номер патента: EP2322855A3. Автор: Tadashi Ito,Hiroyuki Hosoda,Koji Minakawa,Hiroo Nikaido. Владелец: Kobelco Eco Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2011-08-31.

Method and magnetic resonance apparatus for correction of a B0 map for chemical shifts

Номер патента: US09830711B2. Автор: Rainer Schneider,Michael Koehler,Rene Gumbrecht. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2017-11-28.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US09817316B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-14.

Method and magnetic resonance apparatus for echo planar imaging with data entry into k-space along a zigzag trajectory

Номер патента: US09739857B2. Автор: David Andrew Porter,Robin Heidemann. Владелец: Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV. Дата публикации: 2017-08-22.

Method and search platform apparatus for processing search queries directed at a database containing medical sample data and/or samples

Номер патента: US20240004887A1. Автор: Heiko Zimmermann,Andreas Kurtz,Antonie FUHR. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2024-01-04.

Method and magnetic resonance apparatus for acquiring magnetic resonance dataset with reduced susceptibility artifacts in the reconstruction image

Номер патента: US20170248672A1. Автор: Thorsten Feiweier,Josef Pfeuffer,Daniel Nico Splitthoff. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2017-08-31.

Fuel control method and fuel control apparatus for gas turbine and gas turbine

Номер патента: US20140190176A1. Автор: Akihiko Saito,Shinsuke Nakamura,Makoto Kishi,Satoshi Tanimura,Takashi Sonoda,Shinji Akamatsu,Sosuke Nakamura. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2014-07-10.

Method and magnetic resonance apparatus for determination of magnetic resonance angiography images using time-of-flight angiography

Номер патента: US09782106B2. Автор: Michael Zenge. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2017-10-10.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20190204756A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-07-04.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20200096877A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-03-26.

Heater control method and heater control apparatus for gas sensor

Номер патента: US9386633B2. Автор: Hiroyuki Hayashi,Ai IGARASHI,Kaoru HISADA,Tomohisa Terui. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-05.

Heater control method and heater control apparatus for gas sensor

Номер патента: US20140238973A1. Автор: Hiroyuki Hayashi,Ai IGARASHI,Kaoru HISADA,Tomohisa Terui. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-28.

Method and magnetic resonance apparatus for accelerate acquisition of magnetic resonance data of an examination object by undersampling the acquired magnetic resonance data

Номер патента: US10203384B2. Автор: David Grodzki,Bjoern Heismann. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2019-02-12.

Method and sputter deposition apparatus for depositing a material on a substrate

Номер патента: WO2024227509A1. Автор: Thomas Werner ZILBAUER,Daniel Severin. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-11-07.

Method and magnetic resonance apparatus for determination of excitation profiles from excitation pulses

Номер патента: US09933497B2. Автор: David Grodzki. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2018-04-03.

A method and data-processing apparatus for teaching

Номер патента: WO2016080907A1. Автор: Zhizhong Neo. Владелец: Beautyful Minds Educations Pte Ltd. Дата публикации: 2016-05-26.

Image forming method and image forming apparatus for forming an image by setting various pixels of an exposure pattern as a non-exposure pixel group or a high-output exposure pixel group

Номер патента: US09933722B2. Автор: Hiroyuki Suhara,Yuichi Ueno,Hiroto Tachibana. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US09665006B2. Автор: Volker Graeschus,Toralf Gruner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-05-30.

Recording method and a recording apparatus for internal information of image equipment

Номер патента: US20090080859A1. Автор: Takehiko Nagano,Tomohiko Shigeoka. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2009-03-26.

A recording method and a recording apparatus for internal information of image equipment

Номер патента: EP2043368A3. Автор: Takehiko c/o Hitachi Ltd. Intellectual Property Group Nagano,Tomohiko c/o Hitachi Ltd. Intellectual Property Group Shigeoka. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2011-08-10.

Method and data processing apparatus for restructuring input data to be stored in a multi-level nand flash memory

Номер патента: US20240329851A1. Автор: Sami ALSALAMIN. Владелец: HYPERSTONE GMBH. Дата публикации: 2024-10-03.

Use of stop layer for chemical mechanical polishing of CU damascene

Номер патента: US6051496A. Автор: Syun-Ming Jang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-04-18.

Method and image processing apparatus for image-based object feature description

Номер патента: US09996755B2. Автор: Chi-Yi Tsai,Hsien-Chen Liao. Владелец: Tamkang University. Дата публикации: 2018-06-12.

Method and magnetic resonance apparatus for establishing a resonant frequency

Номер патента: US20150309138A1. Автор: Kuan Jin Lee. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2015-10-29.

A method and a mri apparatus for obtaining images of a target volume of a human and/or animal subject using magnetic resonance imaging (mri)

Номер патента: US20200241097A1. Автор: Alard ROEBROECK,Benedikt Poser,Francisco LAGOS FRITZ. Владелец: UNIVERSITEIT MAASTRICHT. Дата публикации: 2020-07-30.

A method and a mri apparatus for obtaining images of a target volume of a human and/or animal subject using magnetic resonance imaging (mri)

Номер патента: EP3698156A1. Автор: Alard ROEBROECK,Benedikt Poser,Francisco LAGOS FRITZ. Владелец: UNIVERSITEIT MAASTRICHT. Дата публикации: 2020-08-26.

A method and a mri apparatus for obtaining images of a target volume of a human and/or animal subject using magnetic resonance imaging (mri)

Номер патента: WO2019076782A1. Автор: Alard ROEBROECK,Benedikt Poser,Francisco LAGOS FRITZ. Владелец: UNIVERSITEIT MAASTRICHT. Дата публикации: 2019-04-25.

Method and image processing apparatus for video coding

Номер патента: US11431971B2. Автор: Ching-Chieh Lin,Chang-Hao YAU,Bing-Jung Fuh. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2022-08-30.

Cooling control method and cooling control apparatus for generator of wind turbine

Номер патента: US20240328395A1. Автор: Liquan Chen,Liangnian LV. Владелец: Beijing Goldwind Science and Creation Windpower Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Charging control method and charging control apparatus for lithium-ion battery

Номер патента: EP4451415A1. Автор: Qian Liu,Jingxuan Sun,Yonghuang YE,Xiaofu XU,Jianfu Pan,Yibo SHANG. Владелец: Contemporary Amperex Technology Hong Kong Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Lesion detecting method and lesion detecting apparatus for breast image in rotating manner

Номер патента: US09886757B2. Автор: Hong-Hao Chen,Hsin-Hung Lai,Ruey-Feng Chang,Rong-Tai Chen,Jen-Feng Hsu,You-Wei Wang. Владелец: Taihao Medical Inc. Дата публикации: 2018-02-06.

Method and magnetic resonance apparatus for image acquisition

Номер патента: US09696399B2. Автор: David Grodzki. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2017-07-04.

Data transfer method and data transfer apparatus for image reading apparatus and image reading apparatus with data transfer apparatus

Номер патента: US5751438A. Автор: Akio Suzuki,Yoshio Tabata,Keiichi Saito,Yukako Murai,Tamio Amagai. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1998-05-12.

Method and magnetic resonance apparatus for the acquisition of mr data of a slice within a subject

Номер патента: US20150268322A1. Автор: Dominik Paul. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2015-09-24.

Method and magnetic resonance apparatus for determination of radio-frequency pulses

Номер патента: US20150234025A1. Автор: Rainer Schneider. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2015-08-20.

Method and magnetic resonance apparatus for different degrees of excitation of two different nuclear spin types

Номер патента: US10641856B2. Автор: Thorsten Feiweier,Markus Klarhoefer. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2020-05-05.

Method and magnetic resonance apparatus for different degrees of excitation of two different nuclear spin types

Номер патента: US20180231630A1. Автор: Thorsten Feiweier,Markus Klarhoefer. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2018-08-16.

Method and magnetic resonance apparatus for establishing a measurement protocol of a magnetic resonance data acquisition

Номер патента: US09915716B2. Автор: Heiko Meyer. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2018-03-13.

Operational method and control switching apparatus for monitoring the starting-cycle circuit of electric high-voltage motors with asynchronous start-up

Номер патента: CA1310688C. Автор: Werner Hirmke,Jurgen Bredthauer. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1992-11-24.

Chemical mechanical planarization slurry and method of polishing a substrate

Номер патента: WO2023240260A1. Автор: Lin Fu,Renjie Zhou,Stephen BOTTIGLIERI,Chun-Lung Kuan. Владелец: SAINT-GOBAIN CERAMICS & PLASTICS, INC.. Дата публикации: 2023-12-14.

Chemical mechanical planarization slurry and method of polishing a substrate

Номер патента: US20230399543A1. Автор: Lin Fu,Renjie Zhou,Stephen BOTTIGLIERI,Chun-Lung Kuan. Владелец: Saint Gobain Ceramics and Plastics Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Packet collection method and packet collection apparatus for virtualization core network session management

Номер патента: US20240179165A1. Автор: Gu Min NAM,Hyun Jong SEO. Владелец: WINS Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Image pre-processing method and image processing apparatus for fundoscopic image

Номер патента: US20220301111A1. Автор: Ming-Ke Chen,Yi-Jin Huang,Chin-Han Tsai. Владелец: Acer Medical Inc. Дата публикации: 2022-09-22.

Image pre-processing method and image processing apparatus for fundoscopic image

Номер патента: US11954824B2. Автор: Ming-Ke Chen,Yi-Jin Huang,Chin-Han Tsai. Владелец: Acer Medical Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Resource allocation method and resource management apparatus for performing the same

Номер патента: US09655126B2. Автор: Ki-Ho Lee,Yong-Gyoo LEE,Yung-Ha JI. Владелец: KT Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Method and magnetic resonance apparatus for recording a magnetic resonance data set

Номер патента: US10371778B2. Автор: Lars Lauer. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2019-08-06.

Method and magnetic resonance apparatus for recording a magnetic resonance data set

Номер патента: US20170261579A1. Автор: Lars Lauer. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2017-09-14.

Conveyance system, conveyance method and vacuum holding apparatus for object to be processed, and centering method for water

Номер патента: US20040046545A1. Автор: Shuji Akiyama,Toshihiko Iijima,Hiroki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2004-03-11.

Method and magnetic resonance apparatus for determining diffusion parameters

Номер патента: US20180306885A1. Автор: Thorsten Feiweier,Stefan Huwer. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2018-10-25.

Method and magnetic resonance apparatus for determining diffusion parameters

Номер патента: US10613183B2. Автор: Thorsten Feiweier,Stefan Huwer. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2020-04-07.

Method and magnetic resonance apparatus for maxwell compensation in simultaneous multislice data acquisitions

Номер патента: US20170123029A1. Автор: Himanshu Bhat,Uvo Hoelscher,Mario Zeller. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2017-05-04.

Apparatus for erecting and fixing a set of elements for the practice of games in courts with a net

Номер патента: US20030130075A1. Автор: Pablo Brosens. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-10.

Method and morphologically adaptable apparatus for altering the charge distribution upon living membranes with functional stabilization of the membrane physical electrical integrity

Номер патента: US20100048981A1. Автор: William Farone. Владелец: GRADIENT TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2010-02-25.

Method and medical imaging apparatus for generating a favorites set of protocols for controlling the medical imaging apparatus

Номер патента: US20180060486A1. Автор: Miriam Keil. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2018-03-01.

Shared Data Induced Quality Control For A Chemical Mechanical Planarization Process

Номер патента: US20230325751A1. Автор: Hongjun Zhou,Joseph Rose,Rung-Je Yang,LU Gan,Krishna Murella,Ryan Clarke,Cesar Clavero,Anupama Mallikarjunan,Hieu Pham,Vid Gopal,Esmeralda Yitamben,Shirley Lin. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-10-12.

Method and medical imaging apparatus for supporting a preparation of a patient for a medical imaging investigation

Номер патента: US11540741B2. Автор: Mario Zeller. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2023-01-03.

Method and magnetic resonance apparatus for automatic interaction with a patient

Номер патента: US20220171003A1. Автор: Maria KROLL. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2022-06-02.

Method and magnetic resonance apparatus for determining a phase describing map by a min-cut/max-flow

Номер патента: US20160169995A1. Автор: Marcel Dominik Nickel. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2016-06-16.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20180136565A1. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-17.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: WO2015049319A1. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-04-09.

Method and multi-purpose apparatus for dispensing and circulating fluid in wellbore casing

Номер патента: CA2267778C. Автор: Donald E. Mosing,David L. Sipos,Samuel P. Hawkins. Владелец: Franks International LLC. Дата публикации: 2005-11-22.

Method and an associated apparatus for calibrating a color digital hardcopy device

Номер патента: US5053866A. Автор: Stephen E. Johnson. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1991-10-01.

Method and spectroscopic measuring apparatus for measuring a spectral response of a sample

Номер патента: EP4308893A1. Автор: Oliver H. Heckl,Ioachim Pupeza. Владелец: Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV. Дата публикации: 2024-01-24.

Method and magnetic resonance apparatus for acquiring magnetic resonance data of an examination object

Номер патента: US20150234023A1. Автор: David Grodzki,Bjoern Heismann. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2015-08-20.

Method and data processing apparatus for generating real-time alerts about a patient

Номер патента: US20220051796A1. Автор: David Clifton,Tingting ZHU,Peter Watkinson,Farah SHAMOUT. Владелец: Oxford University Innovation Ltd. Дата публикации: 2022-02-17.

Method and data processing apparatus for generating real-time alerts about a patient

Номер патента: WO2020115487A1. Автор: David Clifton,Tingting ZHU,Peter Watkinson,Farah SHAMOUT. Владелец: OXFORD UNIVERSITY INNOVATION LIMITED. Дата публикации: 2020-06-11.

Method and data processing apparatus for generating real-time alerts about a patient

Номер патента: EP3891760A1. Автор: David Clifton,Tingting ZHU,Peter Watkinson,Farah SHAMOUT. Владелец: Oxford University Innovation Ltd. Дата публикации: 2021-10-13.

Electronic-mail receipt processing method and portable communication apparatus for practising the same

Номер патента: GB2388219A. Автор: Akimasa Matsushita. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2003-11-05.

Method and magnetic resonance apparatus for quiet echo-planar imaging

Номер патента: US20180259605A1. Автор: Robin Heidemann,Patrick Liebig. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2018-09-13.

Method and magnetic resonance apparatus for determining dephasing factors in mr multiecho techniques

Номер патента: US20170082709A1. Автор: Marcel Dominik Nickel. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2017-03-23.

Method and magnetic resonance apparatus for avoiding acquisition of data in examination regions exhibiting high distortion

Номер патента: US20190079156A1. Автор: Christof Krellmann. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2019-03-14.

Information Recording Method and Information Recording Apparatus for Recording Medium

Номер патента: US20080212445A1. Автор: Takenori Maehasi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-09-04.

Storage medium, system, setting method, and information processing apparatus, for changing notification settings relating to a plurality of devices

Номер патента: US11968161B2. Автор: Takuya Ushinohama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-04-23.

Method and magnetic resonance apparatus for acquiring diagnostic measurement data of a heart

Номер патента: US10663546B2. Автор: Edgar Mueller,Christoph Forman,Jens Wetzl,Michaela Schmidt. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2020-05-26.

Method and pellicle mounting apparatus for reducing pellicle induced distortion

Номер патента: US20100271612A1. Автор: Chia-Wei Chang,Chien-Chao Huang,Cheng-Ming Lin,Jong-Yuh Chang,Boming Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2010-10-28.

Method and magnetic resonance apparatus for monitoring a cooling system of the magnetic resonance apparatus

Номер патента: US20190072624A1. Автор: Stephan Biber. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2019-03-07.

Method and magnetic resonance apparatus for monitoring a cooling system of the magnetic resonance apparatus

Номер патента: US10823791B2. Автор: Stephan Biber. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2020-11-03.

Method and magnetic resonance apparatus for determination of excitation profiles from excitation pulses

Номер патента: US20150091565A1. Автор: David Grodzki. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2015-04-02.

Method and magnetic resonance apparatus for acquiring diagnostic measurement data of a heart

Номер патента: US20180217215A1. Автор: Edgar Mueller,Christoph Forman,Jens Wetzl,Michaela Schmidt. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2018-08-02.

Information management method and image forming apparatus for obtaining evaluation of user for optional function of the image forming apparatus

Номер патента: US11997243B2. Автор: Kikuo UENO. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-05-28.

Mouthfeel evaluation method and mouthfeel evaluation apparatus for orally disintegrating test object

Номер патента: US20190154647A1. Автор: Masatoshi Nakatani,Masaru Sugita,Hiroaki Kikuoka,Nobuaki IKEJI. Владелец: Sawai Pharmaceutical Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Method and light microscopy apparatus for producing an image of a sample

Номер патента: US9389404B2. Автор: Jonas Folling. Владелец: Leica Microsystems CMS GmbH. Дата публикации: 2016-07-12.

Lubrication method and lubrication controlling apparatus for clutchless compressor

Номер патента: CA2184488C. Автор: Masahiro Kawaguchi,Masanori Sonobe,Tomohiko Yokono,Masahiko Okada,Ken Suitou,Takashi Michiyuki. Владелец: Toyoda Jidoshokki Seisakusho KK. Дата публикации: 2000-07-04.

Method and module system apparatus for improving video

Номер патента: EP1550295A4. Автор: Karol Freed,Randy Burnworth. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-08-22.

Methods and systems for presenting a gaming-related message to a gamer in an area proximate to a beacon associated with a casino

Номер патента: AU2023203931A1. Автор: Ryan Christopher Johnson,Lawrence Acosta Hysler III. Владелец: Video Gaming Technologies Inc. Дата публикации: 2023-07-13.

Method and module system apparatus for improving video

Номер патента: EP1550295A2. Автор: Karol Freed,Randy Burnworth. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-07-06.

Method and core barrel apparatus for obtaining and retrieving subterranean formation samples

Номер патента: CA1097328A. Автор: Charles W. Spehrley, Jr.,Charles M. Thompson,Charles T. Thompson. Владелец: American Coldset Corp. Дата публикации: 1981-03-10.

Illuminating method and illuminating apparatus for carrying out the same, and projection exposure method and projection exposure apparatus for carrying out the same

Номер патента: US5016149A. Автор: Minoru Tanaka,Yoshitada Oshida,Tetsuzo Tanimoto,Yasuhiro Yoshitake. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1991-05-14.

Closure for pharmaceutical preparations and method and rotary deposition apparatus for manufacturing therefor

Номер патента: WO2024051936A1. Автор: NEIL Morrison,Jose Manuel Dieguez-Campo,Vibhas SINGH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-14.

Method and x-ray apparatus for interferometric 2D x-ray imaging

Номер патента: US10363005B2. Автор: Thomas Weber,Peter Bartl,Sven-Martin Sutter,Marcus Radicke,Martino Leghissa. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2019-07-30.

Filtering method and filtering control apparatus for load cell

Номер патента: WO2023274285A1. Автор: Shenhui Wang,Song Zhang,Qin Sun,Qi WAN,Along WEI. Владелец: Mettler-Toledo (Changzhou) Measurement Technology Ltd.. Дата публикации: 2023-01-05.

Filtering method and filtering control apparatus for load cell

Номер патента: EP4363812A1. Автор: Shenhui Wang,Song Zhang,Qin Sun,Qi WAN,Along WEI. Владелец: Mettler Toledo Changzhou Precision Instruments Ltd. Дата публикации: 2024-05-08.

Wafer scheduling method and wafer scheduling apparatus for etching equipment

Номер патента: US20230059538A1. Автор: Jianping Wang,Chien-Hung Chen,Jinjin CAO. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-02-23.

Design aid method and design aid apparatus for integrated circuits

Номер патента: US5367468A. Автор: Kunihiko Yamagishi,Masatoshi Sekine,Takayuki Fukasawa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1994-11-22.

Method and user equipment apparatus for radio resource management in a mobile communication system

Номер патента: WO2008136590A1. Автор: Kyeong-In Jeong,Soeng-Hun Kim,Gert Jan Van Lieshout. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2008-11-13.

Method and medical examination apparatus for editing a film clip produced by medical imaging

Номер патента: US20060269275A1. Автор: Uwe-Erik Martin,Mihaela-Cristina Krause. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2006-11-30.

Electronic device, camera device, and anti-shake method and anti-shake apparatus for camera device

Номер патента: US20230328376A1. Автор: Wei Wu,Kun AN. Владелец: Vivo Mobile Communication Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Method and magnetic resonance apparatus for image acquisition control with administration of contrast agent

Номер патента: US20140364724A1. Автор: Peter Schmitt,Andre De Oliveira,Manuela Rick. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2014-12-11.

Method and magnetic resonance apparatus for image acquisition control with administration of contrast agent

Номер патента: US9772389B2. Автор: Peter Schmitt,Andre De Oliveira,Manuela Rick. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2017-09-26.

A method and an electronic apparatus for acquiring a floor map of a room layout

Номер патента: EP4298610A1. Автор: Jie Chen,JUAN Liu,Huasin WANG,Sukun YOON,Longhai WU. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-03.

Method and magnetic resonance apparatus for quality control in planning radiotherapy of a patient

Номер патента: US20170021195A1. Автор: Bernd Schweizer. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2017-01-26.

Method and magnetic resonance apparatus for quality control in planning radiotherapy of a patient

Номер патента: US9878178B2. Автор: Bernd Schweizer. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2018-01-30.

Method and voice assistance apparatus for providing an intelligence response

Номер патента: US11741954B2. Автор: Ravibhushan B. TAYSHETE,Sourabh Tiwari,Vinay Vasanth Patage. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-08-29.

Fault detection method and fault detection apparatus for photovoltaic assembly

Номер патента: EP3840218A1. Автор: Jianqiang Wang,Yanzhong ZHANG,Yongbing GAO,Xinyu Yu,Song WAN. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-23.

Method and magnetic resonance apparatus for determining basic shim settings of the magnetic resonance apparatus

Номер патента: US10197650B2. Автор: Andrew Dewdney. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2019-02-05.

Method and voice assistance apparatus for providing an intelligence response

Номер патента: US20230386463A1. Автор: Ravibhushan B. TAYSHETE,Sourabh Tiwari,Vinay Vasanth Patage. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Method and image processing apparatus for video coding

Номер патента: US20200404264A1. Автор: Ching-Chieh Lin,Chang-Hao YAU,Bing-Jung Fuh. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2020-12-24.

Method and image processing apparatus for the segmentation of image data and computer program product

Номер патента: US20210142482A1. Автор: Alexander Gemmel,Holger Kunze,Sarina Thomas,Klaus Maier-Hein. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2021-05-13.

Method and magnetic resonance apparatus for avoidance of artifacts in the acquisition of magnetic resonance measurement data

Номер патента: US20180081015A1. Автор: Mario Zeller,Matthias Gebhardt. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2018-03-22.

Method and magnetic resonance apparatus for determining a shim setting

Номер патента: US10429465B2. Автор: Ralf Ladebeck,Daniel NIEDERLOEHNER,Johann Sukkau. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2019-10-01.

Method and magnetic resonance apparatus for determining a shim setting

Номер патента: US20170293004A1. Автор: Ralf Ladebeck,Daniel NIEDERLOEHNER,Johann Sukkau. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2017-10-12.

Method and magnetic resonance apparatus for acquiring a magnetic resonance dataset with correction of gradient impulse response functions

Номер патента: US20180329010A1. Автор: David Grodzki,Thomas Kluge. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2018-11-15.

Method and magnetic resonance apparatus for determination of patient movement during data acquisition

Номер патента: US20080214923A1. Автор: Arne Littmann,Gunnar Krueger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-09-04.

Method and magnetic resonance apparatus for creating at least two image data sets

Номер патента: US9995809B2. Автор: Peter Speier. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2018-06-12.

Image Processing Method and Image Processing Apparatus for Registering Additional Information of Image Information

Номер патента: US20160171161A1. Автор: Masahiro Abe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-06-16.

Image processing method and image processing apparatus for registering additional information of image information

Номер патента: US20050203954A1. Автор: Masahiro Abe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-09-15.

Guide device for a turbine with a guide-blade carrier and method for producing the guide device

Номер патента: US5984633A. Автор: Werner Bachinger,Peter Clement. Владелец: ABB Patent GmbH. Дата публикации: 1999-11-16.

Method and apparatus for controlling interference based on carrier aggregation for small base station

Номер патента: US9479992B2. Автор: Sung Hyun Moon,Nam Hoon Park,Kyung Sook Kim,Young Jick Bahg,Byung Han RYU,Sang Chul Oh,Seung Que LEE. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2016-10-25.

Method for allocating resources for multicast and broadcast service data transmission in wireless communication system and apparatus therefor

Номер патента: RU2548039C2. Автор: Чон Ки КИМ,Ён Хо КИМ,Хи Чон ЧО,Ён Су ЮК. Владелец: Эл Джи Электроникс Инк.. Дата публикации: 2015-04-10.

Beam switching antenna system and method and apparatus for controlling the same

Номер патента: US20070285313A1. Автор: Hyo Lee. Владелец: LG Telecom Ltd. Дата публикации: 2007-12-13.

Method for producing foamed pressure-sensitive adhesive tape or sheet and apparatus for producing the same

Номер патента: EP1008638A3. Автор: Takayuki c/o Nitto Denko Corporation Yamamoto,Tomohiro C/O Nitto Denko Corporation Taruno,Tomohide c/o Nitto Denko Corporation Bamba,Mitsuhiro c/o Nitto Denko Corporation Kanada,Yoshihiro c/o Nitto Denko Corporation Minamizaki. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2000-11-08.

Method and apparatus for calibrating multiple antennas

Номер патента: EP2951935A1. Автор: Chang Liu. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2015-12-09.

Management layer method and apparatus for dynamic assignment of remote computer resources

Номер патента: WO2008115947A1. Автор: David Crosbie,Geoffrey Crawshaw. Владелец: Leostream Corp.. Дата публикации: 2008-09-25.

Management layer method and apparatus for dynamic assignment of remote computer resources

Номер патента: EP2137619A1. Автор: David Crosbie,Geoffrey Crawshaw. Владелец: Leostream Corp. Дата публикации: 2009-12-30.

Method and apparatus for operating an internal combustion engine

Номер патента: US20120101709A1. Автор: HUI Li,Martin Brandt,Joachim Engelmann,Jürgen FRITSCH,Manfred Gaul,Gonzalo Medina-Sanchez. Владелец: Continental Automotive GmbH. Дата публикации: 2012-04-26.

Method and apparatus for interactive scheduling of vliw assembly code

Номер патента: US20090172584A1. Автор: Ahmad Hassan,Mohammad Ayub Khan,Haroon-Ur Rashid,Mazhar Iqbal. Владелец: Streaming Networks Inc. Дата публикации: 2009-07-02.

Method and Apparatus for Deterring Unauthorized Mounting of a Motorcycle.

Номер патента: US20210161280A1. Автор: Paul Batushansky. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-06-03.

Method and apparatus for transmitting and receiving feedback information in a mobile communication system

Номер патента: US09838103B2. Автор: Hyo-jin Lee,Youn-Sun Kim,Ki-Il KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-12-05.

Method and apparatus for calibrating multiple antennas

Номер патента: US09755707B2. Автор: Chang Liu. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2017-09-05.

Method and apparatus for performing and providing domain service

Номер патента: RU2535477C2. Автор: Дзи-Йоунг КВАХК,Хиунг-Рае ЧО,Сун-Ае КИМ,Хиун-дзоо ОХ. Владелец: САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС КО., ЛТД.. Дата публикации: 2014-12-10.

Methods and apparatus for processing a substrate

Номер патента: US12046449B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo,Katsumasa Kawasaki,Nicolas John BRIGHT. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Method and apparatus for configuring sidelink discontinuous reception in a wireless communication system

Номер патента: EP4013182A1. Автор: Li-Chih Tseng,Li-Te Pan,Ming-Chi Li. Владелец: ASUSTeK Computer Inc. Дата публикации: 2022-06-15.

Methods and apparatus for processing a substrate

Номер патента: US11749505B2. Автор: Kartik Ramaswamy,John POULOSE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Method and apparatus for the creation of mobile software applications

Номер патента: WO2002067114A1. Автор: Scott Gross,Nathanial X. Freitas,Will Meyer,Jonathan Oakes,Shane Connely,James Venturi,Evan Simeone. Владелец: Thinairapps, Inc.. Дата публикации: 2002-08-29.

Method and apparatus for constructing deterministic routing, and storage medium

Номер патента: EP4432622A1. Автор: Aihua Liu,Quan XIONG,Shaofu Peng. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2024-09-18.

Method and apparatus for generating image filter

Номер патента: US09959484B2. Автор: Zhijun CHEN,Wendi Hou,Baichao Wang. Владелец: Xiaomi Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Method and apparatus for content presentation in association with a telephone call

Номер патента: US09913118B1. Автор: Wendell D. Brown. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-03-06.

Method and apparatus for content presentation in association with a telephone call

Номер патента: US09794422B2. Автор: Wendell D. Brown. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-10-17.

Methods and apparatus for an analog-to-digital converter

Номер патента: US09787320B1. Автор: Akinobu ONISHI. Владелец: Semiconductor Components Industries LLC. Дата публикации: 2017-10-10.

Method and apparatus for transmitting and receiving feedback information in a mobile communication system

Номер патента: US09762305B2. Автор: Hyo-jin Lee,Youn-Sun Kim,Ki-Il KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-09-12.

An image forming method and apparatus

Номер патента: EP1478979A2. Автор: Torbjörn Sandström. Владелец: Micronic Laser Systems AB. Дата публикации: 2004-11-24.

Method and apparatus for content boundary detection and scaling

Номер патента: WO2010135583A1. Автор: Jason B. Kenagy. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2010-11-25.

Methods and apparatus for optimizing cell broadcast service message processing

Номер патента: WO2013116672A1. Автор: Srinivasarao Pasumarthi. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2013-08-08.

Method and apparatus for correcting drift during automated FIB processing

Номер патента: US20060138356A1. Автор: Yuji Hasegawa,Ryoichi Ichikawa,Naohito Inoue,Kazutomo Shimizu,Akihiko Haraguchi. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2006-06-29.

Signal acquisition and processing method and apparatus for magnetic resonance imaging

Номер патента: WO2010114744A3. Автор: Raju Viswanathan. Владелец: TURSIOP TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2011-01-13.

Method and apparatus for presenting real-time video information in a call

Номер патента: US20240152953A1. Автор: Wendell D. Brown. Владелец: Vusura Technology LLC. Дата публикации: 2024-05-09.

Methods and Apparatus of Decoding Process for Palette Syntax

Номер патента: US20180014034A1. Автор: Jing Ye,Shan Liu,Jungsun Kim,Tzu-Der Chuang,Wang-lin LAI. Владелец: MediaTek Inc. Дата публикации: 2018-01-11.

Method and apparatus for content presentation in association with a telephone call

Номер патента: US20240078575A1. Автор: Wendell D. Brown. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-03-07.

Method and apparatus for presenting multimedia content

Номер патента: US20240289837A1. Автор: Wendell D. Brown. Владелец: Vusura Technology LLC. Дата публикации: 2024-08-29.

Method and apparatus for presenting multimedia content

Номер патента: US20240281846A1. Автор: Wendell D. Brown. Владелец: Vusura Technology LLC. Дата публикации: 2024-08-22.

Signal acquisition and processing method and apparatus for magnetic resonance imaging

Номер патента: EP2413795A2. Автор: Raju Viswanathan. Владелец: TURSIOP TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2012-02-08.

Signal acquisition and processing method and apparatus for magnetic resonance imaging

Номер патента: WO2010114744A2. Автор: Raju Viswanathan. Владелец: TURSIOP TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2010-10-07.

Method And Apparatus For Enhanced Uplink General Rake Channel Estimation

Номер патента: US20130216011A1. Автор: Reza Mardani,Patrice Saintot,Gurudutt Hosangadi. Владелец: Alcatel Lucent USA Inc. Дата публикации: 2013-08-22.

Method and apparatus for content presentation in association with a telephone call

Номер патента: US09819812B2. Автор: Wendell D. Brown. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-11-14.

Methods and apparatus for synchronized viewing experience across multiple devices

Номер патента: US09743368B2. Автор: Kenneth Gould,Niem Dang,Joseph Forehand. Владелец: Time Warner Cable Enterprises LLC. Дата публикации: 2017-08-22.

Method and apparatus for content presentation in association with a telephone call

Номер патента: US09723157B2. Автор: Wendell D. Brown. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-01.

Apparatus for measuring the elongation of the penis under the impact of a discretely increasing force

Номер патента: RU2754496C1. Автор: Дмитрий Анатольевич Хубезов,Александр Иванович Улитенко,Андрей Анатольевич Фефелов,Алексей Николаевич Стрелков,Николай Семенович Потапов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Рязанский государственный медицинский университет имени академика И.П. Павлова" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2021-09-02.

Method and apparatus of most probable mode list unification in video coding system

Номер патента: WO2024131931A1. Автор: Yu-Cheng Lin,Yu-Wen Huang,Tzu-Der Chuang,Yi-Wen Chen,Chih-Wei Hsu,Ching-Yeh Chen. Владелец: MEDIATEK INC.. Дата публикации: 2024-06-27.

Method and apparatus for non-invasive breathing assist

Номер патента: EP1390092A1. Автор: Jason A. Demers,David McGill. Владелец: Deka Products LP. Дата публикации: 2004-02-25.

Method and apparatus for estimating and compensating timing advance

Номер патента: US12063614B2. Автор: YANG Hu,Mats Åhlander,Wenling Bai,Ruiping Wei,Juan Serrato Vital. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2024-08-13.

Methods and apparatus for information management systems

Номер патента: EP2060066A2. Автор: Joesph Bryan Lail. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2009-05-20.

Methods and apparatus for information management systems

Номер патента: WO2008024900A9. Автор: Joesph Bryan Lail. Владелец: Joesph Bryan Lail. Дата публикации: 2008-04-10.

Methods and apparatus for information management systems

Номер патента: WO2008024900A2. Автор: Joesph Bryan Lail. Владелец: Raytheon Company. Дата публикации: 2008-02-28.

Method and apparatus for time-staggered generation of identifying signals

Номер патента: US20030037186A1. Автор: Joachim Ebermann,Horst Stiehler,Dieter Schwarzbach. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2003-02-20.

Method and Apparatus for Estimating a Mechanical Property

Номер патента: US20090315572A1. Автор: Lennart Thegel,Sten Linder. Владелец: ABB AB. Дата публикации: 2009-12-24.

Method and apparatus for estimating a mechanical property

Номер патента: EP1949089A1. Автор: Lennart Thegel,Sten Linder. Владелец: ABB AB. Дата публикации: 2008-07-30.

Methods and apparatus of decoding process for palette syntax

Номер патента: US09900624B2. Автор: Jing Ye,Shan Liu,Jungsun Kim,Tzu-Der Chuang,Wang-lin LAI. Владелец: MediaTek Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Method and apparatus for separated connections of uplink and downlink

Номер патента: US09681474B2. Автор: Kwang Soon Kim,Hyung Yeol Lee. Владелец: Intellectual Discovery Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Method and apparatus for harvesting of backmeat of a carcass or carcass part of slaughtered poultry

Номер патента: US09648886B2. Автор: Pieter Willem Vonk,Ferdinand Allard De Vos. Владелец: Meyn Food Processing Technology BV. Дата публикации: 2017-05-16.

Method and apparatus for transmitting reference signals in communication systems

Номер патента: US09565664B2. Автор: Joon-Young Cho,Aris Papasakellariou. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-02-07.

Method and apparatus for manufacturing graphene

Номер патента: US20140367891A1. Автор: Donald James Dawson,Nijat Shujaat Zamanov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-12-18.

Method and apparatus for integration of non-volatile memory

Номер патента: US20180349057A1. Автор: Paul Blinzer,Nima Osqueizadeh. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2018-12-06.

Method and apparatus for managing amf re-allocation

Номер патента: WO2022092912A1. Автор: Rajavelsamy Rajadurai,Hoyeon Lee,Lalith KUMAR,Danish Ehsan HASHMI,Varini Gupta. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2022-05-05.

Method and apparatus for integration of non-volatile memory

Номер патента: US20180181341A1. Автор: Paul Blinzer. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2018-06-28.

Data transmission scheme and apparatus

Номер патента: WO2018020041A1. Автор: Harald Haas,Dushyantha A. BASNAYAKA. Владелец: THE UNIVERSITY COURT OF THE UNIVERSITY OF EDINBURGH. Дата публикации: 2018-02-01.

Method and apparatus for managing AMF re-allocation

Номер патента: US12137431B2. Автор: Rajavelsamy Rajadurai,Hoyeon Lee,Lalith KUMAR,Danish Ehsan HASHMI,Varini Gupta. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-11-05.

Method for transmitting control information and apparatus therefor, and method for receiving control information and apparatus therefor

Номер патента: US09722757B2. Автор: Joonkui Ahn,Suckchel Yang,Dongyoun Seo,Mingyu Kim. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2017-08-01.

Method and apparatus for a non-nutritive suck entrainment pulse generator

Номер патента: WO2010033252A1. Автор: David L. Stalling,Mike Litscher. Владелец: KC BioMediX, Inc.. Дата публикации: 2010-03-25.

Method for cell processing and apparatus for cell processing using the same

Номер патента: EP1788755B1. Автор: Dezhi Huawei Administration Bldg. Tang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2009-06-24.

Methods and apparatus for common excitation of frequency generators

Номер патента: US11749504B2. Автор: Gary Leray. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Method and apparatus for a non-nutritive suck entrainment pulse generator

Номер патента: EP2349178A1. Автор: David L. Stalling,Mike Litscher. Владелец: KC Biomedix Inc. Дата публикации: 2011-08-03.

Methods and apparatuses for reducing passive intermodulation distortion in transmission lines

Номер патента: US12107313B2. Автор: Frantisek Ondrácek,Jirí Kasík,Tomas Ther. Владелец: Outdoor Wireless Networks LLC. Дата публикации: 2024-10-01.

Method and apparatus for controlling access technology selection

Номер патента: US09813892B2. Автор: Harish Viswanathan,Alistair Urie,Colin Kahn,Venkatesh Rao. Владелец: Alcatel Lucent SAS. Дата публикации: 2017-11-07.

METHODS AND APPARATUS FOR DETERMINING ENDPOINTS FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION IN WAFER-LEVEL PACKAGING APPLICATIONS

Номер патента: US20210057292A1. Автор: LIANTO Prayudi,HUNG Shih-Chao,TOH GEOK SAN. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-25.

Prognostic method and apparatus for a processing apparatus

Номер патента: US20180210991A1. Автор: Chuang-Hua Chueh,Po-Yu Huang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2018-07-26.

System, Method and Apparatus for Integrated Building Operations Management

Номер патента: US20180294995A1. Автор: Thomas Hoffmann,Julien G. Stamatakis,Nathan A. Sacks. Владелец: Senseware Inc. Дата публикации: 2018-10-11.

Method and apparatus for transmitting/receiving broadcast signal for 3-dimensional (3D) broadcast service

Номер патента: US09930382B2. Автор: Jongyeul Suh,Soojin HWANG,Gyoyoon LEE. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2018-03-27.

Method and apparatus for transmitting control information

Номер патента: US09800394B2. Автор: Joonkui Ahn,Suckchel Yang,Dongyoun Seo,Mingyu Kim. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2017-10-24.

Methods and apparatus to search datasets

Номер патента: US20160306851A1. Автор: Kenneth Rabolt,Nagarajan Karuppiah. Владелец: Nielsen Co US LLC. Дата публикации: 2016-10-20.

Method and apparatus for determining the spatial profile of a flux generated by a charged particle beam

Номер патента: WO2016020769A2. Автор: Leonello SERVOLI,Paola TUCCERI. Владелец: ISTITUTO NAZIONALE DI FISICA NUCLEARE. Дата публикации: 2016-02-11.

Method and apparatus for determining the spatial profile of a flux generated by a charged particle beam

Номер патента: WO2016020769A3. Автор: Leonello SERVOLI,Paola TUCCERI. Владелец: ISTITUTO NAZIONALE DI FISICA NUCLEARE. Дата публикации: 2016-04-07.

Information transmission method and apparatus

Номер патента: AU2021407605A9. Автор: Bo Gong,Ming GAN,Chenchen LIU. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Method and apparatus for displaying an image surrounding a video image

Номер патента: US09930268B2. Автор: Hark-Joon Kim,Sung-bin Kuk,Min-Kyu Jung,Seong-hoon Kang,Sung-wook BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-03-27.

Method and apparatus for transreceiving broadcast signal for panorama service

Номер патента: US09894422B2. Автор: Jongyeul Suh,Soojin HWANG,Hyunmook OH. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2018-02-13.

Programming method and apparatus for core routing and switching system

Номер патента: US09882835B2. Автор: Ke Xu,Meng Shen,Youjian Zhao,Yuchao ZHANG. Владелец: TSINGHUA UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-01-30.

Methods and apparatus to search datasets

Номер патента: US09842138B2. Автор: Kenneth Rabolt,Nagarajan Karuppiah. Владелец: Nielsen Co US LLC. Дата публикации: 2017-12-12.

Method for allocating reference signals of a backhaul link in a relay communication system, and method and apparatus for transmitting/receiving data using the same

Номер патента: US09801160B2. Автор: Byoung-Hoon Kim,Han-Byul Seo. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2017-10-24.

Method and apparatus for optimizing power consumption of a terminal in a mobile communication system

Номер патента: US09749957B2. Автор: JUNG Soo Jung,Himke Van Der Velde,Boon Loong Ng,Gert Jan Van Lieshout,Soeng Hun Kim,Kyeong In Jeong,Sang Bum Kim,Joon Young Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-08-29.

Method and apparatus for optimizing power consumption of a terminal in a mobile communication system

Номер патента: US09681385B2. Автор: JUNG Soo Jung,Himke Van Der Velde,Boon Loong Ng,Gert Jan Van Lieshout,Soeng Hun Kim,Kyeong In Jeong,Sang Bum Kim,Joon Young Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-06-13.

Method for power saving in wireless local area network and apparatus for the same

Номер патента: US09655051B2. Автор: Dae Won Lee,Byeong Woo Kang,Yong Ho Seok. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2017-05-16.

Method and apparatus for optimizing power consumption of a terminal in a mobile communication system

Номер патента: US09635615B2. Автор: JUNG Soo Jung,Himke Van Der Velde,Boon Loong Ng,Gert Jan Van Lieshout,Soeng Hun Kim,Kyeong In Jeong,Sang Bum Kim,Joon Young Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-04-25.

Method and apparatus for optimizing power consumption of a terminal in a mobile communication system

Номер патента: US09629087B2. Автор: JUNG Soo Jung,Himke Van Der Velde,Boon Loong Ng,Gert Jan Van Lieshout,Soeng Hun Kim,Kyeong In Jeong,Sang Bum Kim,Joon Young Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-04-18.

Method and apparatus for monitoring cable stranding

Номер патента: EP1425621A1. Автор: Valter Castiglioni,Francesco Becchi,Feliciano Cecchi. Владелец: Pirelli and C SpA. Дата публикации: 2004-06-09.

Method and apparatus for controlling a winemaking process

Номер патента: AU2018319504B2. Автор: Giacomo DELLA TOFFOLA,Yacine AMAMI,Luca Comin. Владелец: Omnia Della Toffola SpA. Дата публикации: 2023-06-15.

Method and apparatus for controlling a winemaking process

Номер патента: WO2019038626A1. Автор: Giacomo DELLA TOFFOLA,Yacine AMAMI,Luca Comin. Владелец: Della Toffola S.P.A.. Дата публикации: 2019-02-28.

Method and apparatus for analysing an image of a microlithographic microstructured component

Номер патента: EP4095810A1. Автор: Mario Laengle,Dmitry Klochkov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-11-30.

Method and apparatus for correcting heliostat

Номер патента: US20110094499A1. Автор: Makoto Kounosu. Владелец: Mitsui Engineering and Shipbuilding Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-28.

Methods and apparatus to measure market statistics

Номер патента: US20150381490A1. Автор: Shi Lu,Albert Perez,Michael F. Younge. Владелец: Nielsen Co US LLC. Дата публикации: 2015-12-31.

Methods and apparatus to measure market statistics

Номер патента: US20200195554A1. Автор: Shi Lu,Albert Perez,Michael F. Younge. Владелец: Citibank NA. Дата публикации: 2020-06-18.

Method and apparatus for detecting coding artifacts in an image

Номер патента: US20110235921A1. Автор: Frank Moesle,Zhichun Lei,Paul Springer,Matthias BRUEGGEMANN. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2011-09-29.

Method and apparatus for setting a metering gap in a developer station

Номер патента: US20020037183A1. Автор: Joseph Knott,Heinrich Schwarz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-28.

Method and apparatus for clearing a wellbore

Номер патента: US09982499B2. Автор: Steven Winkler,Dean Fleischhacker,Mike Mazerolle. Владелец: QUANTUM DOWNHOLE SYSTEMS Inc. Дата публикации: 2018-05-29.

Method and apparatus for processing border of computer figure to be merged into background image

Номер патента: US09959637B2. Автор: Yu-Hsien Li,Chen-Chou Lin. Владелец: Framy Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Intelligent method and apparatus for spectral expansion of an input signal

Номер патента: US09712127B2. Автор: Richard Aylward. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-07-18.

Compositions for chemical-mechanical planarization of noble-metal-featured substrates, associated methods, and substrates produced by such methods

Номер патента: US20030194879A1. Автор: Robert Small,Zhefei Chen. Владелец: EKC Technology Inc. Дата публикации: 2003-10-16.

Compositions for chemical-mechanical planarization of noble-metal-featured substrates, associated methods, and substrates produced by such methods

Номер патента: US20090255903A1. Автор: Robert J. Small,Zhefei J. Chen. Владелец: Chen Zhefei J. Дата публикации: 2009-10-15.

Flare Monitoring and Control Method and Apparatus

Номер патента: US20210278081A1. Автор: Gregory G. Hendrickson,Charles F. Fisher,Lee N. Green,Thomas A. Lessard,Kenneth B. Moore,Daniel W. Peneguy. Владелец: Chevron Phillips Chemical Co LP. Дата публикации: 2021-09-09.

Method and apparatus for implementing batch system calls

Номер патента: EP4276603A1. Автор: Xin Gao,Bin Fang,Hai HE,Yuzhong WEN. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-15.

Tab terminal for electronic component, its manufacturing method, and its manufacturing apparatus

Номер патента: MY135351A. Автор: Shuhei Yoshizawa,Yoshio Yokohama,Futoshi Ishii,Hiroyuki Fujinaka,Kiyoharu Taira. Владелец: Kohoku Kogyo Kk. Дата публикации: 2008-03-31.

Method and system for user account initiation and reconciliation

Номер патента: WO2021173133A1. Автор: Hans P. NIRMAL,Justin R. SIMEONE,Ritesh Kumar SAHAY,Mark N BROWN. Владелец: JPMORGAN CHASE BANK, N.A.. Дата публикации: 2021-09-02.

Mechanical debonding method and system

Номер патента: US9368376B2. Автор: FENG Jiang,Daquan Yu. Владелец: National Center for Advanced Packaging Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-14.

Method and apparatus for analyzing an image of a microlithographic microstructured component

Номер патента: US20220383485A1. Автор: Mario Laengle,Dmitry Klochkov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-12-01.

Amplitude Modulation Apparatus, Amplitude Limiting Method, and Computer-Readable Program

Номер патента: US20080207142A1. Автор: Takayuki Numakunai. Владелец: Mitsumi Electric Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-28.

Method and apparatus for reading a code provided on a code carrier

Номер патента: US5929424A. Автор: Tim Fowler. Владелец: SICK AG. Дата публикации: 1999-07-27.

Method and system for user account initiation and reconciliation

Номер патента: AU2020431128A1. Автор: Mark N. BROWN,Hans P. NIRMAL,Justin R. SIMEONE,Ritesh Kumar SAHAY. Владелец: JPMorgan Chase Bank NA. Дата публикации: 2022-09-01.

Control method and control apparatus of optical device

Номер патента: US20030123782A1. Автор: Hiroshi Miyata,Hiroshi Onaka,Naoki Hashimoto,Hideyuki Miyata,Yoichi Takasu,Tadao Nakazawa,Yutaka Kai. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2003-07-03.

Method and apparatus for discharge of whitewater

Номер патента: US20020112837A1. Автор: Wolfgang Mayer,Ralf Rziha. Владелец: Voith Paper Patent GmbH. Дата публикации: 2002-08-22.

Method and apparatus for vibration compensation in a piston compressor

Номер патента: US12071944B2. Автор: Michael Hartl,Stefan Schneider,Thomas Merkel. Владелец: Knorr Bremse Systeme fuer Schienenfahrzeuge GmbH. Дата публикации: 2024-08-27.

Method and apparatus for acquiring a high-resolution magnetic resonance image dataset of at least one limited body region having at least one anatomical structure of a patient

Номер патента: US09747702B2. Автор: Bjoern Heismann. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2017-08-29.

METHOD AND COMPOSITION FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION OF A METAL OR A METAL ALLOY

Номер патента: US20130102153A1. Автор: Shi Xiaobo,Palmer Bentley J.,Sawayda Rebecca A.. Владелец: AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.. Дата публикации: 2013-04-25.

Method and Composition for Chemical Mechanical Planarization of a Metal-Containing Substrate

Номер патента: US20130153820A1. Автор: Shi Xiaobo. Владелец: AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.. Дата публикации: 2013-06-20.

Method and Composition for Chemical Mechanical Planarization of a Metal

Номер патента: US20130178065A1. Автор: Xiaobo Shi,Bentley J. Palmer,Rebecca A. Sawayda,Fadi Abdallah Coder,Victoria Perez. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2013-07-11.

Combination, Method, and Composition for Chemical Mechanical Planarization of a Tungsten-Containing Substrate

Номер патента: US20130288479A1. Автор: Rachel Dianne Mcconnell,Ann Marie Hurst. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2013-10-31.

Method and composition for chemical mechanical planarization of a metal

Номер патента: US8414789B2. Автор: Xiaobo Shi,Bentley J. Palmer,Rebecca A. Sawayda,Fadi Abdallah Coder,Victoria Perez. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2013-04-09.

Combination, method, and composition for chemical mechanical planarization of a tungsten-containing substrate

Номер патента: US8506831B2. Автор: Dianne Rachel McConnell,Ann Marie Hurst. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2013-08-13.

Method and Composition for Chemical Mechanical Planarization of A Metal

Номер патента: US20100167545A1. Автор: Xiaobo Shi,Bentley J. Palmer,Rebecca A. Sawayda,Fadi Abdallah Coder,Victoria Perez. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2010-07-01.

Method and composition for chemical mechanical planarization of a metal-containing substrate

Номер патента: TW201120165A. Автор: Xiaobo Shi. Владелец: Dupont Air Products Nano Materials Llc. Дата публикации: 2011-06-16.

Compositions for chemical-mechanical planarization of noble-metal-featured substrates, associated methods, and substrates produced by such methods

Номер патента: US8142675B2. Автор: Robert J. Small,Zhefei J. Chen. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2012-03-27.

Combination, method, and composition for chemical mechanical planarization of a tungsten-containing substrate

Номер патента: US8790521B2. Автор: Rachel Dianne Mcconnell,Ann Marie Hurst. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2014-07-29.

Combinations, Methods, and Compositions for Chemical Mechanical Planarization of Tungsten-Containing Substrates

Номер патента: KR101053712B1. Автор: 앤 마리 메이어스,라첼 다이안 믹콘넬. Владелец: 듀퐁 에어 프로덕츠 나노머티어리얼즈 엘엘씨. Дата публикации: 2011-08-02.

Method and composition for chemical mechanical planarization of a metal-containing substrate

Номер патента: KR101144419B1. Автор: 시아오보 시. Владелец: 듀퐁 에어 프로덕츠 나노머티어리얼즈 엘엘씨. Дата публикации: 2012-05-21.

Method and Composition for Chemical Mechanical Planarization of a Metal-Containing Substrate

Номер патента: US20110070735A1. Автор: Xiaobo Shi. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2011-03-24.

Method and composition for chemical mechanical planarization of a metal or a metal alloy

Номер патента: US8697577B2. Автор: Xiaobo Shi,Bentley J. Palmer,Rebecca A. Sawayda. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2014-04-15.

Method and apparatus for modeling deformable body including particles

Номер патента: US20160063152A1. Автор: Hyong Euk Lee,Jiyeon Kim,Nahyup KANG,Hwiryong JUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-03-03.

Communication method and apparatus

Номер патента: EP1119182A3. Автор: Takehiro Yoshida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2001-08-08.

Slurry Compositions For Chemical Mechanical Planarization

Номер патента: US20230058800A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU,Huang-Lin Chao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Processing method and processing apparatus for efficacy of combined drug

Номер патента: US20180276347A1. Автор: Linna LI,Shoujun YUAN,Dexuan YANG. Владелец: Institute of Radiation Medicine of CAMMS. Дата публикации: 2018-09-27.

Method and apparatus in a computer network

Номер патента: WO2001054449A1. Автор: Gunnar Karlsson. Владелец: Gunnar Karlsson. Дата публикации: 2001-07-26.

Method and apparatus to manage per flow state

Номер патента: US20120300633A1. Автор: Eliel Louzoun,Eliezer Tamir,Ben-Zion Friedman,Vladislav Kopzon. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-11-29.

Foundation engineering method and construction apparatus for producing a columnar structure in the ground

Номер патента: US20210230826A1. Автор: Hans Regler. Владелец: BAUER SPEZIALTIEFBAU GMBH. Дата публикации: 2021-07-29.

Method and device for filtering identifier for establishing connection with busy subscriber originating from malicious user and calling side network device for realising said method

Номер патента: RU2510927C1. Автор: Янг ГАО,Шаолян ЧЖАНГ,Йи ХУ,Чонгженг ЧЖАНГ. Владелец: Зте Корпорэйшен. Дата публикации: 2014-04-10.

Method and apparatus for controlling interference based on carrier aggregation for small base station

Номер патента: US20150055629A1. Автор: Sung Hyun Moon,Nam Hoon Park,Kyung Sook Kim,Young Jick Bahg,Byung Han RYU,Sang Chul Oh,Seung Que LEE. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2015-02-26.

Method and apparatus for monitoring the membrane coupling in a pressure measurement system

Номер патента: US20220184291A1. Автор: Pascal Kopperschmidt. Владелец: FRESENIUS MEDICAL CARE DEUTSCHLAND GMBH. Дата публикации: 2022-06-16.

Method and structure for barrier-less plug

Номер патента: US12051592B2. Автор: Sung-Li Wang,Shuen-Shin Liang,Yu-Yun Peng,Chia-Hung Chu,Keng-Chu Lin,Hung-Yi Huang,Mrunal A. Khaderbad. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Method and device for operating a diesel engine with emulsion fuels of variable composition

Номер патента: US09890742B2. Автор: Roman Taniel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-02-13.

Transfer or interrogation of materials by carrier and receiving devices moving independently and simultaneously on multiple axes

Номер патента: US09823264B2. Автор: David K. Matsumoto,Eric J. Rollins,Reed J. Kelso,Benjamin N. Shamah,Antonio M. Lima,Mark R. Sibenac. Владелец: BioNex Solutions Inc. Дата публикации: 2017-11-21.

Element manufacturing method and element manufacturing apparatus utilizing differential pressure for covering a substrate

Номер патента: US09692019B2. Автор: Hiroyoshi Nakajima,Toshihiko Takeda,Takayoshi Nirengi. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-06-27.

Chemical composition for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20080135520A1. Автор: Tao Sun. Владелец: Tao Sun. Дата публикации: 2008-06-12.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method and the kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW200734435A. Автор: Masayuki Motonari,Eiichirou KUNITANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-09-16.

Method and structure for increasing contact area

Номер патента: RU2470398C1. Автор: Кианг ТИАН,Венли ТАН. Владелец: Тбеа Хенгянг Трансформерз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2012-12-20.

Method and apparatus for determining colour purity and convergence correction in an in-line-type colour television tube with a magnetic deflecting means

Номер патента: DE3261424D1. Автор: Erhard Kienle. Владелец: International Standard Electric Corp. Дата публикации: 1985-01-17.

Signal processing method and an evaluation circuit

Номер патента: US20030222207A1. Автор: Frank Bloehbaum. Владелец: SICK AG. Дата публикации: 2003-12-04.

METHODS FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION OF PATTERNED WAFERS

Номер патента: US20130295752A1. Автор: SANCHEZ ERROL ANTONIO C.,HUANG YI-CHIAU,Wood Bingxi,MENK GREGORY. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-07.

Diamond slurry for chemical-mechanical planarization of semiconductor wafers

Номер патента: US6242351B1. Автор: Yuzhuo Li,David Bruce Cerutti,Donald Joseph Buckley, Jr.,Earl Royce Tyre, Jr.,Jason J. Keleher,Richard J. Uriarte,Ferenc Horkay. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-06-05.

Diamond slurry for chemical-mechanical planarization of semiconductor wafers

Номер патента: US6258721B1. Автор: Yuzhuo Li,David Bruce Cerutti,Donald Joseph Buckley, Jr.,Earl Royce Tyre, Jr.,Jason J. Keleher,Richard J. Uriarte,Ferenc Horkay. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-07-10.

Methods for chemical-mechanical planarization of copper

Номер патента: EP2256171A1. Автор: S. V. Babu,Sharath Hedge,Sunil Jha,Udaya B. Patri,Youngki Hong. Владелец: Climax Engineered Materials LLC. Дата публикации: 2010-12-01.

Compositions for chemical mechanical planarization of copper

Номер патента: EP1935954A1. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Rachel Dianne Mcconnell,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2008-06-25.

Compositions for chemical mechanical planarization of copper

Номер патента: US20080148652A1. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Rachel Dianne Mcconnell,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2008-06-26.

Method for chemical mechanical planarization of a copper-containing substrate

Номер патента: US8551887B2. Автор: Xiaobo Shi. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2013-10-08.

Abrasives and compositions for chemical mechanical planarization of tungsten and titanium

Номер патента: US20050214191A1. Автор: Brian Mueller,Charles Yu. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-09-29.

Compositions and methods for chemical mechanical planarization of tungsten and titanium

Номер патента: US20050211952A1. Автор: Brian Mueller,Charles Yu,Timothy Mace. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-09-29.

Slurry and method for chemical-mechanical planarization of copper

Номер патента: US20050026444A1. Автор: Sunil Jha,Youngki Hong,Sharath Hegde,S. Babu,Udaya Patri. Владелец: Climax Engineered Materials LLC. Дата публикации: 2005-02-03.

Compositions for chemical mechanical planarization of copper

Номер патента: KR100956216B1. Автор: 주나이드 아흐메드 시디쿠이,레이첼 다이앤 맥코넬,사이피 우스마니. Владелец: 듀퐁 에어 프로덕츠 나노머티어리얼즈 엘엘씨. Дата публикации: 2010-05-04.

Compositions for chemical mechanical planarization of tantalum and tantalum nitride

Номер патента: US6638326B2. Автор: Robert J. Small,Tuan Truong,Maria Peterson,Melvin Keith Carter,Lily Yao. Владелец: EKC Technology Inc. Дата публикации: 2003-10-28.

Method for Chemical Mechanical Planarization of A Metal-containing Substrate

Номер патента: US20090061630A1. Автор: Ann Marie Meyers,Bentley J. Palmer,Ajoy Zutshi,Suresh Shrauti,Guangying Zhang. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2009-03-05.

Method for chemical mechanical planarization of a copper-containing substrate

Номер патента: TW201124517A. Автор: Xiaobo Shi. Владелец: Dupont Air Products Nano Materials Llc. Дата публикации: 2011-07-16.

Compositions for chemical mechanical planarization of copper

Номер патента: US20030164471A1. Автор: Robert Small,Tuan Truong,Melvin Carter,Maria Peterson,Lily Yao. Владелец: EKC Technology Inc. Дата публикации: 2003-09-04.

Compositions for chemical mechanical planarization of tantalum and tantalum nitride

Номер патента: US7033409B2. Автор: Robert J. Small,Tuan Truong,Maria Peterson,Melvin Keith Carter,Lily Yao. Владелец: DA Nanomaterials LLC. Дата публикации: 2006-04-25.

Composition for chemical mechanical planarization of copper, tantalum and tantalum nitride

Номер патента: US6630433B2. Автор: Fan Zhang,Joseph A. Levert,Daniel L. Towery,Shyama P. Mukherjee. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2003-10-07.

Method for chemical mechanical planarization of a copper-containing substrate

Номер патента: KR101203599B1. Автор: 시아오보 시. Владелец: 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드. Дата публикации: 2012-11-23.

Method for chemical mechanical planarization of a copper-containing substrate

Номер патента: US20110312181A1. Автор: Xiaobo Shi. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2011-12-22.

Method for Chemical-Mechanical Planarization of Copper

Номер патента: US20080277378A1. Автор: Udaya B. Patri,Youngki Hong,Sharath Hegde,Sunil Chandra Jha,S.V. Babu. Владелец: Climax Engineered Materials LLC. Дата публикации: 2008-11-13.

Composition for chemical mechanical planarization of copper, tantalum and tantalum nitride

Номер патента: CA2431591A1. Автор: Fan Zhang,Daniel Towery,Joseph Levert,Shyama Mukherjee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-01.

Compositions for chemical mechanical planarization of copper

Номер патента: TW200302857A. Автор: Tuan Truong,Robert J Small,Melvin Keith Carter,Lily Yao,Maria L Peterson. Владелец: EKC Technology Inc. Дата публикации: 2003-08-16.

Compositions for chemical mechanical planarization of copper

Номер патента: US6866792B2. Автор: Robert J. Small,Tuan Truong,Maria Peterson,Melvin Keith Carter,Lily Yao. Владелец: EKC Technology Inc. Дата публикации: 2005-03-15.

Compositions for chemical mechanical planarization of tantalum and tantalum nitride

Номер патента: US20050250329A1. Автор: Robert Small,Tuan Truong,Melvin Carter,Maria Peterson,Lily Yao. Владелец: EKC Technology Inc. Дата публикации: 2005-11-10.

Compositions for chemical mechanical planarization of tungsten

Номер патента: US20020125460A1. Автор: Bruce Tredinnick. Владелец: EKC Technology Inc. Дата публикации: 2002-09-12.

Method for chemical mechanical planarization of a metal-containing substrate

Номер патента: TW200927898A. Автор: Ann Marie Meyers,Ajoy Zutshi,Suresh Shrauti,Bentley J Palmer,guang-ying Zhang. Владелец: Dupont Air Products Nano Materials Llc. Дата публикации: 2009-07-01.

Slurries and methods for chemical-mechanical planarization of copper

Номер патента: EP1648974A2. Автор: S. V. Babu,Sunil Jha,Udaya B. Patri,Youngki Hong,Sharath Hegde. Владелец: Climax Engineered Materials LLC. Дата публикации: 2006-04-26.

Compositions for chemical mechanical planarization of copper

Номер патента: TW200831654A. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Rachel Dianne Mcconnell,Saifi Usmani. Владелец: Dupont Air Products Nano Materials Llc. Дата публикации: 2008-08-01.

Compositions for chemical mechanical planarization of copper

Номер патента: WO2003103894A2. Автор: Robert J. Small,Tuan Truong,Maria Peterson,Melvin Keith Carter,Lily Yau. Владелец: EKC Technology, Inc.. Дата публикации: 2003-12-18.

Composition for chemical mechanical planarization of copper, tantalum and tantalum nitride

Номер патента: WO2002059393A1. Автор: Fan Zhang,Daniel Towery,Joseph Levert,Shyama Mukherjee. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2002-08-01.

Composition for chemical mechanical planarization of copper, tantalum and tantalum nitride

Номер патента: US20040046148A1. Автор: Fan Zhang,Dan Towery,Joseph Levert,Shyama Mukherjee,Yanpei Deng. Владелец: Yanpei Deng. Дата публикации: 2004-03-11.

Slurries and methods for chemical-mechanical planarization of copper

Номер патента: EP1648974A4. Автор: Sunil Jha,Youngki Hong,Sharath Hegde,S V Babu,Udaya B Patri. Владелец: Climax Engineered Materials LLC. Дата публикации: 2008-04-23.

Slurries and methods for chemical-mechanical planarization of copper

Номер патента: SG144929A1. Автор: Sharath Hedge,Sunil Jha,Youngki Hong,S V Babu,Udaya B Patri. Владелец: Climax Engineered Mat Llc. Дата публикации: 2008-08-28.

Slurry and method for chemical-mechanical planarization of copper

Номер патента: TW200507097A. Автор: Sunil Jha,Sharath Hegde,S V Babu,Udaya B Patri,Young-Ki Hong. Владелец: Climax Engineered Mat Llc. Дата публикации: 2005-02-16.

Slurries and methods for chemical-mechanical planarization of copper

Номер патента: WO2005012451A2. Автор: S. V. Babu,Sunil Jha,Udaya B. Patri,Youngki Hong,Sharath Hegde. Владелец: Climax Engineered Materials, LLC. Дата публикации: 2005-02-10.

Method for chemical mechanical planarization of a semiconductor display device

Номер патента: KR100567315B1. Автор: 김형석. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2006-04-03.

Composition for chemical mechanical planarization of copper, tantalum and tantalum nitride

Номер патента: JP2004524440A. Автор: ジヤン，フアン,タワリー，ダニエル,リバート，ジヨセフ,ムケルジー，シヤマ. Владелец: ハネウエル・インターナシヨナル・インコーポレーテツド. Дата публикации: 2004-08-12.

Method and system for detecting actions potentially associated with spamming in account registration

Номер патента: RU2693325C2. Автор: Дмитрий Николаевич Ковега,Екатерина Александровна Ковега. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Яндекс". Дата публикации: 2019-07-02.

Polishing liquid for chemical mechanical planarization of sapphire

Номер патента: CN104513628A. Автор: 龚桦,邹春莉,潘国顺,罗桂海,周艳,徐莉,史晓磊. Владелец: Shenzhen Research Institute Tsinghua University. Дата публикации: 2015-04-15.

Semiconductor device and method for fabricating the same and apparatus for chemical mechanical polishing and method of chemical mechanical polishing

Номер патента: KR100419268B1. Автор: 하라다시게루,다까따요시후미,이즈미따니준꼬. Владелец: 미쓰비시덴키 가부시키가이샤. Дата публикации: 2004-02-19.

Composition for chemical mechanical planarization of copper, tantalum and tantalum nitride

Номер патента: EP1352109A1. Автор: Fan Zhang,Daniel Towery,Joseph Levert,Shyama Mukherjee. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2003-10-15.

Compositions and methods for chemical mechanical planarization of tungsten and titanium

Номер патента: TW200536665A. Автор: Brian L Mueller,Charles Yu,Timothy Mace. Владелец: Rohm & Haas Elect Mat. Дата публикации: 2005-11-16.

Methods and apparatus for thin metal film thickness measurement

Номер патента: US8128278B2. Автор: Yehiel Gotkis,Mikhail Korolik. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-03-06.

Optical Storage Medium and Apparatus for Reading of Respective Data

Номер патента: US20090028040A1. Автор: Joachim Knittel,Stephan Knappmann. Владелец: Thomson Licensing LLC. Дата публикации: 2009-01-29.

Ultrasonic non-destructive test method and system using deep learning, and auto-encoder-based prediction model training method used therefor

Номер патента: US20240053302A1. Автор: Won Jae Choi,Hong Min Seung,Jong Moon HA. Владелец: Korea Research Institute of Standards and Science KRISS. Дата публикации: 2024-02-15.

Service providing method and service providing apparatus for generating and transmitting a digital television signal stream and method and receiving means for receiving and processing a digital television signal stream

Номер патента: WO2009135585A1. Автор: Paul Szucs. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2009-11-12.

Methods and devices for immunodiagnostic applications

Номер патента: EP2883063A1. Автор: Christopher R. Knutson,Christopher F. GRANT,Timothy R. KLINE,Derek D. DOORNEWEERD,Sridevi KURELLA. Владелец: Arryx Inc. Дата публикации: 2015-06-17.

System, method, and computer program product for predictive modeling using hyperbolic knowledge graph embeddings

Номер патента: WO2024158870A1. Автор: Hao Yang,Huiyuan Chen,Minghua Xu,Xiran FAN. Владелец: VISA INTERNATIONAL SERVICE ASSOCIATION. Дата публикации: 2024-08-02.

Apparatus for the evaluation of rotational x-ray projections

Номер патента: WO2006018817A2. Автор: Michael Grass,Volker Rasche. Владелец: Philips Intellectual Property & Standards Gmbh. Дата публикации: 2006-02-23.

Method of production of composited particle, composited particle produced by this method and aqueous dispersion for chemical mechanical polishing containing this composited particle, and method of production of aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6582761B1. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Kazuo Nishimoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2003-06-24.

Method of Production of Composited Particle, Composited Particle Produced by This Method and Aqueous Dispersion for Chemical Mechanical Polishing Containing This Composited Particle, and Method of Production of Aqueous Dispersion for Chemical Mechanical Polishing

Номер патента: KR100444239B1. Автор: 마사유끼 하또리,노부오 가와하시,가즈오 니시모또. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2004-08-11.

Method and device for detecting surface defects of rod

Номер патента: RU2320958C2. Автор: Тзыы-Шу ЧАНГ,Хсун-Хау ХУАНГ,Дэниэл ГАТЧЕСС. Владелец: ОуДжи Текнолоджиз, Инк.. Дата публикации: 2008-03-27.

Preparation set for chemical mechanical polishing aqueous dispersion, preparation method for chemical mechanical polishing aqueous dispersion, chemical mechanical polishing aqueous dispersion, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: TW200900491A. Автор: Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Eiichirou KUNITANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-01-01.

Service processing method and device

Номер патента: RU2725690C1. Автор: Хунлинь ЦЮ. Владелец: Алибаба Груп Холдинг Лимитед. Дата публикации: 2020-07-03.

Method and apparatus for computing dummy feature density for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US8176456B2. Автор: XIN Wang,Jamil Kawa,Charles C. Chiang. Владелец: Synopsys Inc. Дата публикации: 2012-05-08.

Method and system for light field imaging

Номер патента: US20220222841A1. Автор: Jinyang LIANG,Jingdan LIU,Shunmoogum A. PATTEN. Владелец: Institut National de La Recherche Scientifique INRS. Дата публикации: 2022-07-14.

Methods and systems for learning language-invariant audiovisual representations

Номер патента: US20240161500A1. Автор: Chih-Wei Wu,Iroro Orife,Nihkil Singh,Mahdi Kalayeh. Владелец: Netflix Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Process and apparatus for fabricating sold electrolytic capacitors

Номер патента: US20010009054A1. Автор: Kazuaki Yamada,Nobuhiro Honda,Hidemi Funchigami. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 2001-07-26.

Photolithography method and system based on high step slope

Номер патента: US9939724B2. Автор: Jiale SU. Владелец: CSMC Technologies Fab1 Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Photolithography method and system based on high step slope

Номер патента: US20150227048A1. Автор: Jiale SU. Владелец: CSMC Technologies Fab1 Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-13.

Apparatus for heating smokable material

Номер патента: EP4256993A2. Автор: Walid Abi Aoun,Patrick MOLONEY,Martin Daniel HORROD,Julian Darryn White. Владелец: Nicoventures Trading Ltd. Дата публикации: 2023-10-11.

Apparatus for heating smokable material

Номер патента: EP4256993A3. Автор: Walid Abi Aoun,Patrick MOLONEY,Martin Daniel HORROD,Julian Darryn White. Владелец: Nicoventures Trading Ltd. Дата публикации: 2023-11-29.

Method and system for identifying at least one nascent topic related to a subject matter

Номер патента: US20190205304A1. Автор: Gaurav Tripathi,Vatsal Agarwal,Amol Suki,Sidhanta Nayak,Akshesh Doshi. Владелец: Innoplexus AG. Дата публикации: 2019-07-04.

Data management apparatus, data management method, and program

Номер патента: US20080282021A1. Автор: Jun Hirai,Mamoru Tokashiki,Ryuji Takatsuka. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2008-11-13.

Method and system for detecting scene text

Номер патента: US11995901B2. Автор: Yongqiang Bai,Zhongjie Zhu,Guanglong Liao,Yuer Wang. Владелец: Zhejiang Wanli University. Дата публикации: 2024-05-28.

Method and system for light field imaging

Номер патента: CA3144749A1. Автор: Jinyang LIANG,Jingdan LIU,Shunmoogum A. PATTEN. Владелец: Institut National de La Recherche Scientifique INRS. Дата публикации: 2022-07-08.

Apparatus for heating smokable material

Номер патента: US20240268002A1. Автор: Walid Abi Aoun,Patrick MOLONEY,Martin Daniel HORROD,Julian Darryn White. Владелец: Nicoventures Trading Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Channel indication method and device in wireless local access network

Номер патента: EP4131828A1. Автор: Yunbo Li,Ming GAN,Yuchen Guo. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-08.

Systems and apparatuses for valve resection and reshaping via catheter and cutting sheath-based valve leaflet removal

Номер патента: WO2022152559A1. Автор: Michael Anderson,Nathan C FRANCIS,Kenneth Peter GRACE. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.. Дата публикации: 2022-07-21.

Apparatus for heating smokable material

Номер патента: US12069790B2. Автор: Walid Abi Aoun,Patrick MOLONEY,Martin Daniel HORROD,Julian Darryn White. Владелец: Nicoventures Trading Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Method and system for changing key in security module

Номер патента: EP4246873A1. Автор: Chao Liu,Weichang KANG,Wenwei YANG. Владелец: Hangzhou Hikvision Digital Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-20.

Systems and apparatuses for valve resection and reshaping via catheter and cutting sheath-based valve leaflet removal

Номер патента: EP4277550A1. Автор: Michael Anderson,Nathan C FRANCIS,Kenneth Peter GRACE. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2023-11-22.

Control method and control apparatus for communication device, and communication system and storage medium

Номер патента: US12088421B2. Автор: TIAN Wu,Lijun Mei,Guofeng Liu,Liangwei Sun. Владелец: GD Midea Heating and Ventilating Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Method and system for providing kinesthetic awareness

Номер патента: US12100311B1. Автор: Jo Shattuck. Владелец: Panthertec Inc. Дата публикации: 2024-09-24.

Method and system of authenticating a payment transaction using a user device

Номер патента: US12112320B2. Автор: Rohit Sukhija,Pragathi M S,Hemanth Kumar Manoharan. Владелец: VISA INTERNATIONAL SERVICE ASSOCIATION. Дата публикации: 2024-10-08.

Method and device for processing a carcass part of slaughtered poultry in a processing line

Номер патента: US09924725B2. Автор: Pieter Willem Vonk,Ferdinand Allard De Vos. Владелец: Meyn Food Processing Technology BV. Дата публикации: 2018-03-27.

Methods and systems for determining fluid content in formation samples using low field nuclear magnetic resonance

Номер патента: EP4165398A1. Автор: Jilin Zhang,Jin-hong CHEN,Stacey Althaus. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2023-04-19.

Method and system for sharing applications among a plurality of electronic devices

Номер патента: US09774640B2. Автор: Kumar Atul,Muthukumar SUBRAMANIAN,Anurag TRIPATHI,Pankaj Mishra,Riteshkumar VERMA,Sujitkumar SINHA. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-09-26.

Centralized graphical user interface and associated methods and systems for a centralized management center for managing storage services in a networked storage environment

Номер патента: US09740568B2. Автор: Santosh C. Lolayekar,Vineeth Karinta,Jayakrishnan Ramakrishna Pillai,Santosh Doss. Владелец: NetApp Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Method and system for managing a wireless network comprising a distributed antenna system (DAS)

Номер патента: US09629182B2. Автор: Mordechai Zussman,Hanan Leizerovich,Mark Altshuler. Владелец: Alvarion Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

CONTACT RELEASE CAPSULE USEFUL FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION SLURRY

Номер патента: US20130280910A1. Автор: IHNFELDT Robin. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-24.

SYSTEMS AND METHODS FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION WITH PHOTO-CURRENT DETECTION

Номер патента: US20160005619A1. Автор: Liu I-Shuo. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-07.

Slurry Compositions For Chemical Mechanical Planarization

Номер патента: US20210098266A1. Автор: TSAI Teng-Chun,Lee Shen-Nan,LIAO Chun-Hung,WU Chen-Hao,Lee An-Hsuan,Chao Huang-Lin. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-01.

CONTACT RELEASE CAPSULE USEFUL FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION SLURRY

Номер патента: US20150132958A1. Автор: IHNFELDT Robin. Владелец: . Дата публикации: 2015-05-14.

SUSPENSION FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION (CMP) AND METHOD EMPLOYING THE SAME

Номер патента: US20220306902A1. Автор: ALETY Sridevi R.,CYFFKA Mark,MAHADEV Niraj. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-29.

SYSTEM AND METHOD FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION PROCESS PREDICTION AND OPTIMIZATION

Номер патента: US20160365253A1. Автор: Luoh Tuung,Chen Chun-Fu,CHEN Kuang-Wei. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-15.

Non-polymeric organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2005014753A1. Автор: Yuzhuo Li,Atanu Roy Chowdhury,Kwok Tang,Guomin Bian,Krishnayya Cheemalapati. Владелец: Dynea Chemicals Oy. Дата публикации: 2005-02-17.

Engineered non-polymeric organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2006074248A2. Автор: WU LI,Yuzhuo Li,Kwok Tang,Guomin Bian,Krishnayya Cheemalapati,Vivek Duvvuru,Deenesh Bundi,Henry Bian. Владелец: Dynea Chemicals Oy. Дата публикации: 2006-07-13.

Abrasive composition containing organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: US6620215B2. Автор: Yuzhuo Li,Kwok Tang,Guomin Bian,Joe Zunzi Zhao,John Westbrook,Yong Lin,Leina Chan. Владелец: Dynea Canada Ltd. Дата публикации: 2003-09-16.

Abrasive composition containing organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2003055958A1. Автор: Yuzhuo Li,Kwok Tang,Guomin Bian,Joe Zunzi Zhao,John Westbrook,Yong Lin,Leina Chan. Владелец: Dynea Canada, Ltd.. Дата публикации: 2003-07-10.

Non-polymeric organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: AU2003297104A1. Автор: Atanu Roy Chowdhury,Guomin Bian,Krishnayya Cheemalapati,Yazhuo Li. Владелец: Dynea Chemicals Oy. Дата публикации: 2005-02-25.

Non-polymeric organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: KR101123210B1. Автор: 유주오 리,궉 탕,아타누 로이 챠우두리,궈민 비안,크리슈나야 치마라파티. Владелец: 다이니아 케미컬스 오이. Дата публикации: 2012-03-19.

Non-polymeric organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: US7037351B2. Автор: Yuzhuo Li,Atanu Roy Chowdhury,Kwok Tang,Guomin Bian,Krishnayya Cheemalapati. Владелец: Dynea Chemicals Oy. Дата публикации: 2006-05-02.

Engineered non-polymeric organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2006074248A3. Автор: WU LI,Yuzhuo Li,Kwok Tang,Guomin Bian,Krishnayya Cheemalapati,Vivek Duvvuru,Deenesh Bundi,Henry Bian. Владелец: Henry Bian. Дата публикации: 2006-09-21.

Engineered non-polymeric organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: US7419519B2. Автор: WU LI,Yuzhuo Li,Kwok Tang,Guomin Bian,Krishnayya Cheemalapati,Vivek Duvvuru,Deenesh Bundi,Henry Bian. Владелец: Dynea Chemicals Oy. Дата публикации: 2008-09-02.

Non-polymeric organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20050005525A1. Автор: Yuzhuo Li,Kwok Tang,Guomin Bian,Krishnayya Cheemalapati,Atanu Chowdhury. Владелец: Dynea Chemicals Oy. Дата публикации: 2005-01-13.

Engineered non-polymeric organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1838795A2. Автор: WU LI,Yuzhuo Li,Kwok Tang,Guomin Bian,Henry Bian,Krishnayya Clarkson University CHEEMALAPATI,Vivek Clarkson University DUVVURU,Deenesh Clarkson University BUNDI. Владелец: Dynea Chemicals Oy. Дата публикации: 2007-10-03.

Engineered non-polymeric organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20060261306A1. Автор: WU LI,Yuzhuo Li,Kwok Tang,Guomin Bian,Krishnayya Cheemalapati,Vivek Duvvuru,Deenesh Bundi,Henry Bian. Владелец: Dynea Chemicals Oy. Дата публикации: 2006-11-23.

Polymeric Microgels for Chemical Mechanical Planarization (CMP) Processing

Номер патента: US20090013609A1. Автор: ASHOK KUMAR,Vinay Gupta,Cecil Coutinho,Subrahmanya Mudhivarthi. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH FLORIDA. Дата публикации: 2009-01-15.

Abrasive composition containing organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20030136055A1. Автор: Yuzhuo Li,Kwok Tang,Guomin Bian,John Westbrook,Yong Lin,Leina Chan,Joe Zhao. Владелец: Dynea Canada Ltd. Дата публикации: 2003-07-24.

Tunable composition and method for chemical-mechanical planarization with aspartic acid/tolyltriazole

Номер патента: US7153335B2. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Bin Hu,Timothy Frederick Compton,Robin Edward Richards. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2006-12-26.

Fluoride-modified silica sols for chemical mechanical planarization

Номер патента: US8163049B2. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2012-04-24.

Composition and associated methods for chemical mechanical planarization having high selectivity for metal removal

Номер патента: US7247179B2. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Timothy Frederick Compton. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2007-07-24.

Low-dishing composition and method for chemical-mechanical planarization with branched-alkylphenol-substituted benzotriazole

Номер патента: US20060213868A1. Автор: Junaid Siddiqui,Timothy Compton. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2006-09-28.

Multi-step polishing solution for chemical mechanical planarization

Номер патента: US6971945B2. Автор: Terence M. Thomas,Zhendong Liu,John Quanci,Robert E. Schmidt. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-12-06.

Bicine/tricine containing composition and method for chemical-mechanical planarization

Номер патента: US20050194563A1. Автор: Bin Hu,Saifi Usmani,Junaid Siddiqui,Timothy Compton,Robin Richards. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2005-09-08.

Composition and associated methods for chemical mechanical planarization having high selectivity for metal removal

Номер патента: US6893476B2. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Timothy Frederick Compton. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2005-05-17.

Bicine/tricine containing composition and method for chemical-mechanical planarization

Номер патента: US20050076579A1. Автор: Bin Hu,Saifi Usmani,Junaid Siddiqui,Timothy Compton,Robin Richards. Владелец: Richards Robin Edward. Дата публикации: 2005-04-14.

Diamond as a polish-stop layer for chemical-mechanical planarization in a damascene process flow

Номер патента: US20020048959A1. Автор: Louis Hsu,Jeremy Stephens,Lawrence Clevenger,Michael Wise. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2002-04-25.

Diamond as a polish-stop layer for chemical-mechanical planarization in a damascene process flow

Номер патента: US6348395B1. Автор: Michael Wise,Lawrence A. Clevenger,Louis L. C. Hsu,Jeremy K. Stephens. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2002-02-19.

Multi-step polishing solution for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20050194357A1. Автор: Zhendong Liu,John Quanci,Terence Thomas,Robert Schmidt. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-09-08.

Tunable composition and method for chemical mechanical planarization using aspartic acid / tolyltriazole

Номер патента: JP4081064B2. Автор: アフメッド シディクイ ジュネイド,フレデリック コンプトン ティモシー,フー ビン,エドワード リチャーズ ロビン. Владелец: デュポン エア プロダクツ ナノマテリアルズ，リミティド ライアビリティ カンパニー. Дата публикации: 2008-04-23.

Aqueous slurry composition for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20060086056A1. Автор: Sang-Ick Lee. Владелец: Samsung Corning Co Ltd. Дата публикации: 2006-04-27.

Bicine/tricine containing composition and method for chemical-mechanical planarization

Номер патента: TWI286157B. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Bin Hu,Saifi Usmani,Timothy Frederick Compton,Robin Edward Richards. Владелец: Dupont Air Prod Nanomaterials. Дата публикации: 2007-09-01.

Abrasive composition containing organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: TWI331169B. Автор: Li Yuzhuo,Westbrook John,Bian Guomin,Tang Kwok,Zunzi Zhao Joe,Yung Lin,Chan Leina. Владелец: Dynea Chemicals Oy. Дата публикации: 2010-10-01.

Abrasive composition containing organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: AU2002361775A1. Автор: Yuzhuo Li,Kwok Tang,Guomin Bian,Joe Zunzi Zhao,John Westbrook,Yong Lin,Leina Chan. Владелец: Dynea Canada Ltd. Дата публикации: 2003-07-15.

Abrasive composition containing organic particles for chemical mechanical planarization

Номер патента: TW200304943A. Автор: Yuzhuo Li,Kwok Tang,Guomin Bian,Joe Zunzi Zhao,John Westbrook,Yong Lin,Leina Chan. Владелец: Dynea Canada Ltd. Дата публикации: 2003-10-16.

Bicine / tricine-containing composition and method for chemical-mechanical planarization

Номер патента: JP4167214B2. Автор: アフメッド シディクイ ジュネイド,フレデリック コンプトン ティモシー,フー ビン,エドワード リチャーズ ロビン,ウスマニ サイフィ. Владелец: デュポン エア プロダクツ ナノマテリアルズ，リミティド ライアビリティ カンパニー. Дата публикации: 2008-10-15.

Polymeric microgels for chemical mechanical planarization (CMP) processing

Номер патента: US9120952B2. Автор: ASHOK KUMAR,Vinay Gupta,Cecil Coutinho,Subrahmanya Mudhivarthi. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH FLORIDA. Дата публикации: 2015-09-01.

Tunable composition and method for chemical-mechanical planarization with aspartic acid/tolyltriazole

Номер патента: TWI279434B. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Bin Hu,Timothy Frederick Compton,Robin Edward Richards. Владелец: Dupont Air Prod Nanomaterials. Дата публикации: 2007-04-21.

Fluoride-modified silica sols for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20070251156A1. Автор: Junaid Siddiqui. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2007-11-01.

Composition and associated methods for chemical mechanical planarization having high selectivity for metal removal

Номер патента: US20040107650A1. Автор: Junaid Siddiqui,Timothy Compton. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2004-06-10.

Polymeric microgels for chemical mechanical planarization (cmp) processing

Номер патента: WO2008052216A2. Автор: ASHOK KUMAR,Vinay Gupta,Cecil Coutinho,Subrahmanya Mudhivarthi. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH FLORIDA. Дата публикации: 2008-05-02.

Polymeric microgels for chemical mechanical planarization (cmp) processing

Номер патента: WO2008052216A3. Автор: ASHOK KUMAR,Vinay Gupta,Cecil Coutinho,Subrahmanya Mudhivarthi. Владелец: Univ South Florida. Дата публикации: 2008-06-26.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for preparing the aqueous dispersion, chemical mechanical polishing method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: TW200845175A. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Masatoshi Ikeda. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-11-16.

Composition and associated methods for chemical mechanical planarization having high selectivity for metal removal

Номер патента: US20050044803A1. Автор: Junaid Siddiqui,Timothy Compton. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2005-03-03.

Low-dishing composition and method for chemical-mechanical planarization with branched-alkylphenol-substituted benzotriazole

Номер патента: TW200634138A. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Timothy Frederick Compton. Владелец: Dupont Air Products Nano Materials Llc. Дата публикации: 2006-10-01.

Compositions and methods for chemical-mechanical planarization o f noble-metal-featured substrates. these treated substrates

Номер патента: WO2003064551A1. Автор: Robert J. Small,Zhefei J. Chen. Владелец: EKC Technology, Inc.. Дата публикации: 2003-08-07.

Tunable composition and method for chemical-mechanical planarization with aspartic acid/tolyltriazole

Номер патента: US20050076578A1. Автор: Bin Hu,Junaid Siddiqui,Timothy Compton,Robin Richards. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2005-04-14.

Ceramic slurry composition for chemical mechanical planarization

Номер патента: KR101134591B1. Автор: 조윤주,이혜경,윤필상. Владелец: 삼성코닝정밀소재 주식회사. Дата публикации: 2012-04-17.

Method for preparing slurry of cerium oxide for chemical mechanical planarization

Номер патента: KR101091532B1. Автор: 김종필,조승범,노준석,김장열. Владелец: 주식회사 엘지화학. Дата публикации: 2011-12-13.

Method and device for contactless transmission of electrical power between wall and leaf fixed on this wall

Номер патента: RU2561456C2. Автор: Йоахим ШТОЙДТНЕР,Кристиан РОСТ. Владелец: Др. Хан Гмбх Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2015-08-27.

Advanced process control (apc) of copper thickness for chemical mechanical planarization(cmp) optimization

Номер патента: AU2002367053A1. Автор: Craig William Christian,James Clayton Stice. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-07-30.

Method and system for facilitating interaction with plurality of applications using separate user interface

Номер патента: RU2564538C2. Автор: Монро М. ТОМАС,Колин Дж. ХОЛМС,Гленн ЛЕМАНН,Пьер ЛЕМИР. Владелец: Калгари Сайентифик Инк.. Дата публикации: 2015-10-10.

Touch scrolling method and device

Номер патента: RU2399963C2. Автор: Джонсон ЧУА,Тек Чи ЛИ. Владелец: Криэйтив Текнолоджи Лтд. Дата публикации: 2010-09-20.

Advanced process control (APC) of copper thickness for chemical mechanical planarization (CMP) optimization

Номер патента: US20030129774A1. Автор: Craig Christian,James Stice. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-07-10.

Diamond as a polish-stop layer for chemical-mechanical planarization in a damascene process flow

Номер патента: TW483800B. Автор: Michael Wise,Lawrence A Clevenger,Louis L C Hsu,Jeremy K Stephens. Владелец: Infineon Technologies Corp. Дата публикации: 2002-04-21.

Interface display method and electronic device

Номер патента: EP4254180A1. Автор: Wei Zhang,Jiechun Li. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-04.

Industrial data integration device, method and computer readable storage medium

Номер патента: EP4370984A1. Автор: Qi Yu,LU Wang,Zhiqiang Yu,Wenqing Qiu,Zhanbin YANG. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2024-05-22.

Method and system for cache coherence in dsm multiprocessor system without growth of the sharing vector

Номер патента: EP1483672A4. Автор: Martin M Deneroff. Владелец: Silicon Graphics Inc. Дата публикации: 2008-03-26.

Method and display apparatus for image processing

Номер патента: US20240179396A1. Автор: Luming YANG,Junhou JIANG,Zhaolei LIU,Deli TIAN. Владелец: Hisense Visual Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Printing control method and printing control apparatus for line light source detection

Номер патента: US20120118948A1. Автор: Ting-Yuan Cheng. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-05-17.

Photoelectric chip, manufacturing method and installation method

Номер патента: EP3890033A1. Автор: Ge Liu,Ying Li,HONGLIANG Liu,Yan Zou,Yanwei YANG. Владелец: Phograin Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-06.

Photoelectric chip, manufacturing method and installation method

Номер патента: US20210328080A1. Автор: Ge Liu,Ying Li,HONGLIANG Liu,Yan Zou,Yanwei YANG. Владелец: Phograin Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-21.

Dicationic polymer and copolymer and their use for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024129383A1. Автор: Gregor Larbig,Sana MA. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-06-20.

Piece objects dosing method and vibrating dosing apparatus for effectuating of method

Номер патента: RU2220526C2. Автор: В.П. Иванов,А.В. Иванов. Владелец: Кубанский государственный аграрный университет. Дата публикации: 2004-01-10.

Method and Means or Apparatus for Making Copies of Drawings, Printed and Written Matter, and the like.

Номер патента: GB189711856A. Автор: Gustave Itasse. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-05-12.

Method and inflatable chamber apparatus for separating layers of tissue

Номер патента: CA2242291A1. Автор: Albert K. Chin,Daniel T. Wallace,Jeffrey A. Smith,Charles Gresl,John P. Lunsford. Владелец: Individual. Дата публикации: 1997-07-17.

Method and self-contained apparatus for protecting individuals's respiratory organs

Номер патента: RU2165779C1. Автор: В.В. Никулин,Давид Рувимович Димант,В.Я. Комарчук. Владелец: Закрытое акционерное общество "Центр аварийно-спасательных формирований". Дата публикации: 2001-04-27.

METHOD AND APPARATUS FOR SUPPORTING CARRIER AGGREGATION

Номер патента: US20120002635A1. Автор: Kim So Yeon,Chung Jae Hoon,Kwon Yeong Hyeon,Han Seung Hee. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

P-I-N DIODE CRYSTALLIZED ADJACENT TO A SILICIDE IN SERIES WITH A DIELECTRIC MATERIAL

Номер патента: US20120001296A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Control Apparatus for Controlling a High-Pressure Fuel Supply Pump

Номер патента: US20120000445A1. Автор: Tokuo Kenichiro,Watanabe Masanori,BORG Jonathan. Владелец: Hitachi, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD AND MANUFACTURING APPARATUS FOR CATALYST-COATED MEMBRANE ASSEMBLY

Номер патента: US20120003572A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Polishing time controlling method and apparatus for chemical mechanical polishing process

Номер патента: TW200505629A. Автор: Alan Su,Jason C S Chu. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2005-02-16.

Method and apparatus of alf with model-based taps in video coding system

Номер патента: WO2024146428A1. Автор: Yu-Cheng Lin,Yu-Ling Hsiao,Yu-Wen Huang,Tzu-Der Chuang,Yi-Wen Chen,Chih-Wei Hsu,Ching-Yeh Chen,Shih-Chun Chiu. Владелец: MEDIATEK INC.. Дата публикации: 2024-07-11.

METHOD AND SYSTEM FOR FORMING A PHOTOVOLTAIC CELL AND A PHOTOVOLTAIC CELL

Номер патента: US20120000529A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSOR, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT

Номер патента: US20120001858A1. Автор: Matsuda Kyohei,Suda Yukihiro,NAGAO Yoji. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of and apparatus for scattered resisted yarns dyeing method and and apparatus for hand bundles

Номер патента: JPS5249386A. Автор: Masaji Hirai,Manzou Makita. Владелец: HIRAI SENSHIYOKU KK. Дата публикации: 1977-04-20.

Method of producing graphitised articles and apparatus for realising said method

Номер патента: RU2522011C1. Автор: Николай Анатольевич Наумов,Игорь Васильевич Рыбянец,Максим Михайлович Напрасник,Сергей Сергеевич Богатырев. Владелец: Открытое акционерное общество "Энергопром-Новочеркасский электродный завод" (ООО "Энергопром-НЭЗ"). Дата публикации: 2014-07-10.

Methods and systems for financial transactions in mobile communication environment

Номер патента: RU2520410C2. Автор: Брэди Ли РАКЛИ,Уоррен Дерек ПОРТЕР,Грегори Майкл РИКМАН,Кайл Лейтон КОХРАН. Владелец: Квелкомм Инкорпорейтед. Дата публикации: 2014-06-27.

A carrier head and chemical mechanical polishing equipment for chemical mechanical polishing

Номер патента: CN218697529U. Автор: 王宇,孟松林,魏兴武. Владелец: Huahaiqingke Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-24.

Method and device for transporting slurry particles for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW494050B. Автор: Ke-Yau Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-07-11.

Method for assembling a carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW200602155A. Автор: Ming-Kung Lee,Gilbert Lu,Philip Shih,Jui-Tang Huang. Владелец: Applied Materials Taiwan Ltd. Дата публикации: 2006-01-16.

Method for Chemical Mechanical Planarization of a Tungsten-Containing Substrate

Номер патента: US20120028466A1. Автор: . Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials, LLC. Дата публикации: 2012-02-02.

Alkaline nanometer polishing slurry for chemical mechanical planarization of zinc oxide, and application thereof

Номер патента: CN102220088A. Автор: 王芳,张楷亮,张涛峰,刘宇航. Владелец: Tianjin University of Technology. Дата публикации: 2011-10-19.

Water-based dispersion for chemical mechanical grinding, chemical mechanical grinding method and kit used for preparing water-based dispersion for chemical mechanical grinding

Номер патента: TW200837822A. Автор: Masayuki Motonari,Eiichirou KUNITANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-09-16.

Method and apparatus for chemical-mechanical polishing, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: JP2003257914A. Автор: Tamotsu Yamamoto,Kenji Nakano,Hiroshi Horiuchi,博志 堀内,保 山本,憲司 中野. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2003-09-12.

POLISHING PADS FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION AND/OR OTHER POLISHING METHODS

Номер патента: US20120058712A1. Автор: . Владелец: Novaplanar Technology, Inc.. Дата публикации: 2012-03-08.

Conditioning Tools and Techniques for Chemical Mechanical Planarization

Номер патента: US20120060426A1. Автор: Ramanath Srinivasan,Dinh-Ngoc Charles,Puthanangady Thomas,Hwang Taewook,Schultz Eric M.,Baldoni J. Gary,Buljan Biljana. Владелец: . Дата публикации: 2012-03-15.

RASPBERRY-TYPE METAL OXIDE NANOSTRUCTURES COATED WITH CEO2 NANOPARTICLES FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION (CMP)

Номер патента: US20120077419A1. Автор: Zhang Zhihua,Dalvi Vaibhav,Mehta Bir Darbar,Fechtenkoetter Andreas,Li Yuzhuo,Lauter Michael. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2012-03-29.

FIXED ABRASIVE PAD WITH SURFACTANT FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION

Номер патента: US20130059506A1. Автор: Baran,JR. Jimmie R.,Qian Julie Y.. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2013-03-07.

RUN-TO-RUN CONTROL FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION

Номер патента: US20130267148A1. Автор: Lakshmikanthan Prakash,RAMAVAJJALA MADHU SUDAN,NOLL PATRICK DAVID. Владелец: TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED. Дата публикации: 2013-10-10.

Apertured conditioning brush for chemical mechanical planarization systems

Номер патента: CN101291777A. Автор: 斯蒂文·J·贝纳. Владелец: TBW Industries Inc. Дата публикации: 2008-10-22.

Method and installation for drying friable materials

Номер патента: RU2048129C1. Автор: Вадим Иванович Кузнецов,Владимир Дмитриевич Рожков,Михаил Григорьевич Рапохин,Евгений Анатольевич Рязанкин,Анатолий Николаевич Старовидченко,Валерий Павлович Курчиков. Владелец: Валерий Павлович Курчиков. Дата публикации: 1995-11-20.

Method and apparatus for chemical mechanical polishing (CMP) with temperature compensation

Номер патента: TW396085B. Автор: Huang-Wen Chiou,Lai-Ju Chen. Владелец: Ind Tech Res Inst. Дата публикации: 2000-07-01.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.