Lithographic Apparatus and to a Reflector Apparatus
Номер патента: US20160010901A1
Опубликовано: 14-01-2016
Автор(ы): OSUMAN Andani Alhassan
Принадлежит: ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 14-01-2016
Автор(ы): OSUMAN Andani Alhassan
Принадлежит: ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Lithographic apparatus and to a reflector apparatus
Номер патента: WO2014139763A2. Автор: Andani OSUMAN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2014-09-18.