Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method
Номер патента: WO2016177519A1
Опубликовано: 10-11-2016
Автор(ы): Johannes Christiaan Leonardus Franken
Принадлежит: ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 10-11-2016
Автор(ы): Johannes Christiaan Leonardus Franken
Принадлежит: ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Radiation Source Module and Lithographic Apparatus
Номер патента: NL2021083A. Автор: Ma Yue,NAKIBOGLU Günes,PATEL Hrishikesh,YANG Zongquan,Pieter Rijpma Albert,Johannus Van Der Net Antonius,Henricus Verhees Rens. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-01-02.