Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Projection system, mirror and radiation source for a lithographic apparatus

Projection system, mirror and radiation source for a lithographic apparatus

Номер патента: WO2014114405A2
Опубликовано: 31-07-2014
Автор(ы): Anton VAN OOSTEN, Erik Loopstra, Hans Butler, Koen Zaal, Marc Van Der Wijst, Marcus Van De Kerkhof
Принадлежит: ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Projection system and mirror and radiation source for a lithographic apparatus

Номер патента: US10732511B2. Автор: Erik Roelof Loopstra,Hans Butler,Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Anton Bernhard Van Oosten,Koen Jacobus Johannes Maria Zaal,Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-08-04.

A lithographic apparatus, a projection system, a last lens element, a liquid control member and a device manufacturing method

Номер патента: US20180196354A1. Автор: Willem Jan Bouman,Cornelius Maria Rops,Theodorus Wilhelmus Polet. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-07-12.

Lithographic apparatus

Номер патента: US09696638B2. Автор: Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch,Frank Staals,Lukasz Jerzy MACHT,Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs,Joost Jeroen Ottens,Erik Willem BOGAART,Emiel Jozef Melanie Eussen,William Peter VAN DRENT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-07-04.

Lithographic apparatus

Номер патента: US20180224755A1. Автор: Hans Butler. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-08-09.

Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus

Номер патента: US12072635B2. Автор: Michel Riepen,Nicolaas Rudolf Kemper,Nicolaas Ten Kate,Marco Koert Stavenga,Christian Gerardus Norbertus Hendricus Marie CLOIN,Erik Henricus Egidius Catharina EUMMELEN,Olga Vladimirovna ELISSEEVA,Tijmen Wilfred Mathijs GUNTHER,Michaël Christiaan VAN DER WEKKEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-27.

Lithographic apparatus

Номер патента: US09946168B2. Автор: Hans Butler. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-04-17.

Lithographic apparatus.

Номер патента: NL2008272A. Автор: Frank Staals,Lukasz Jerzy MACHT,Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs,Joost Jeroen Ottens,Erik Willem BOGAART,Engelbertus Pasch,Emiel Eussen,William Drent. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-09-11.

Lithographic apparatus, programmable patterning device and lithographic method

Номер патента: US8531648B2. Автор: Vadim Yevgenyevich Banine,Johannes Onvlee,Jozef Petrus Henricus Benschop,Pieter Willem Herman De Jager,Cheng-Qun Gui,Erwin John Van Zwet. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2013-09-10.

Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20170351187A1. Автор: Martijn Houben,Thibault Simon Mathieu Laurent,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Sander Catharina Reinier Derks,Hendrikus Johannes Marinus Van Abeelen,Armand Rosa Jozef Dassen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-12-07.

Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20200371447A1. Автор: Martijn Houben,Thibault Simon Mathieu Laurent,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Sander Catharina Reinier Derks,Hendrikus Johannes Marinus Van Abeelen,Armand Rosa Jozef Dassen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-11-26.

Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20150277243A1. Автор: Martijn Houben,Thibault Simon Mathieu Laurent,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Sander Catharina Reinier Derks,Hendrikus Johannes Marinus Van Abeelen,Armand Rosa Jozef Dassen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-10-01.

Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20190294056A1. Автор: Martijn Houben,Thibault Simon Mathieu Laurent,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Sander Catharina Reinier Derks,Hendrikus Johannes Marinus Van Abeelen,Armand Rosa Jozef Dassen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-09-26.

Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09971252B2. Автор: Martijn Houben,Thibault Simon Mathieu Laurent,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Sander Catharina Reinier Derks,Hendrikus Johannes Marinus Van Abeelen,Armand Rosa Jozef Dassen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-05-15.

Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20180239265A1. Автор: Martijn Houben,Thibault Simon Mathieu Laurent,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Sander Catharina Reinier Derks,Hendrikus Johannes Marinus Van Abeelen,Armand Rosa Jozef Dassen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-08-23.

Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20130094005A1. Автор: Martijn Houben,Thibault Simon Mathieu Laurent,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Sander Catharina Reinier Derks,Hendrikus Johannes Marinus Van Abeelen,Armand Rosa Jozef Dassen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2013-04-18.

Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20170176872A1. Автор: Martijn Houben,Thibault Simon Mathieu Laurent,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Sander Catharina Reinier Derks,Hendrikus Johannes Marinus Van Abeelen,Armand Rosa Jozef Dassen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-06-22.

Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20230280663A1. Автор: Martijn Houben,Thibault Simon Mathieu Laurent,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Sander Catharina Reinier Derks,Hendrikus Johannes Marinus Van Abeelen,Armand Rosa Jozef Dassen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-07.

Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09740110B2. Автор: Martijn Houben,Thibault Simon Mathieu Laurent,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Sander Catharina Reinier Derks,Hendrikus Johannes Marinus Van Abeelen,Armand Rosa Jozef Dassen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-08-22.

Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09575419B2. Автор: Martijn Houben,Thibault Simon Mathieu Laurent,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Sander Catharina Reinier Derks,Hendrikus Johannes Marinus Van Abeelen,Armand Rosa Jozef Dassen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-02-21.

Lithographic apparatus for transferring pattern from patterning device onto substrate, and damping method

Номер патента: SG180091A1. Автор: Hans Butler,Nijhuis Marco Hendrikus Hermanus Oude. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-05-30.

Calibration Method for a Lithographic Apparatus

Номер патента: US20180173118A1. Автор: Emil Peter SCHMITT-WEAVER,Roy Werkman,Koenraad Remi André Maria Schreel,Jens Stäcker. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-06-21.

Support apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09507275B2. Автор: Christiaan Alexander Hoogendam,Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs,Nicolaas Ten Kate,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Martijn Houben,Jim Vincent OVERKAMP,Jan Steven Christiaan WESTERLAKEN,Antonius Franciscus Johannes De Groot,Adrianus Hendrik Koevoets,Menno Fien,Maarten VAN BEIJNUM. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-11-29.

Lithographic apparatus and device manufacturing method involving a heater and a temperature sensor

Номер патента: US9268242B2. Автор: Erik Roelof Loopstra,Martinus Cornelis Maria Verhagen,Michel Riepen,Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans,Boris Menchtchikov,Johannes Anna Quaedackers,Richard Moerman,Christianus Gerardus Maria de Mol,Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens,Antonius Johannus Van Der Net,Jacobus Johannus Leonardus Hendricus Verspay,Theodorus Petrus Maria Cadee,Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs,Nicolaas Ten Kate,Aschwin Lodewijk Hendricus Johannes Vermeer,Marcel Johannus Elisabeth Hubertus Muitjens,Joost Jeroen Ottens,Marco Koert Stavenga,Frederik Eduard De Jong,Koen Goorman,Herman Boom,Stoyan Nihtianov,Martin Frans Pierre Smeets,Bart Leonard Peter Schoondermark,Franciscus Johannes Joseph Janssen,Mana Elisabeth Reuhman-Huisken. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-02-23.

Fluid handling structure, a lithographic apparatus and a device manufacturing method

Номер патента: US09588437B2. Автор: Michel Riepen,Henricus Jozef Castelijns,Nicolaas Ten Kate,Rogier Hendrikus Magdalena Cortie,Jim Vincent OVERKAMP,Niek Jacobus Johannes Roset,Cornelius Maria Rops. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-03-07.

Fluid handling structure including gas supply and gas recovery openings, a lithographic apparatus and a device manufacturing method

Номер патента: US09442390B2. Автор: Michel Riepen,Rogier Hendrikus Magdalena Cortie,Cornelius Maria Rops. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-09-13.

Lithographic apparatus, method for maintaining a lithographic apparatus and device manufacturing method.

Номер патента: NL2008500A. Автор: Arno Bleeker,Theodorus Cadee,Martinus Hoeks. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-10-23.

Radiation Source, Lithographic Apparatus and Device Manufacturing Method

Номер патента: US20120295205A1. Автор: Erik Roelof Loopstra,Johannes Hubertus Josephina Moors,Gerardus Hubertus Petrus Maria Swinkels,Antonius Theodorus Wilhelmus Kempen,Wilbert Jan Mestrom,Richard Joseph Bruls. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-11-22.

Substrate table, a lithographic apparatus and a method involving an encoder plate

Номер патента: US09488919B2. Автор: Takeshi Kaneko,Joost Jeroen Ottens,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-11-08.

Method of operating a patterning device and lithographic apparatus

Номер патента: US20150029481A1. Автор: Kars Zeger Troost,Vitaliy Prosyentsov,Willem Jurrianus Venema,Adrianus Martinus Van der Wielen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-01-29.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09436096B2. Автор: Joost Jeroen Ottens,Koen Jacobus Johannes Maria Zaal. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-09-06.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20190079420A1. Автор: Bearrach Moest,James Robert Downes,Lowell Lane BAKER,Wijnand HOITINGA,Hermen Folken Pen. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2019-03-14.

Method of operating a patterning device and lithographic apparatus

Номер патента: US09958788B2. Автор: Kars Zeger Troost,Vitaliy Prosyentsov,Willem Jurrianus Venema,Adrianus Martinus Van der Wielen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-05-01.

Method of operating a patterning device and lithographic apparatus

Номер патента: US09568833B2. Автор: Kars Zeger Troost,Vitaliy Prosyentsov,Willem Jurrianus Venema,Adrianus Martinus Van der Wielen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-02-14.

Wavefront modification apparatus, lithographic apparatus and method

Номер патента: US09429855B2. Автор: Ruslan Akhmedovich Sepkhanov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-08-30.

Method of operating a patterning device and lithographic apparatus

Номер патента: US09417533B2. Автор: Kars Zeger Troost,Vitaliy Prosyentsov,Willem Jurrianus Venema,Adrianus Martinus Van der Wielen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-08-16.

A method of manufacturing a pellicle for a lithographic apparatus, a pellicle for a lithographic apparatus, a lithographic apparatus, a device manufacturing method, an apparatus for processing a pellicle, and a method for processing a pellicle

Номер патента: CA3002702C. Автор: Pieter-Jan VAN ZWOL,David Ferdinand VLES,Johan Hendrik Klootwijk,Maxim Aleksandrovich Nasalevich,Erik Achilles Abegg,Maria Peter,Willem Joan Van Der Zande,Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen,Willem-Pieter VOORTHUIJZEN,Adrianus Johannes Maria GIESBERS,Wilhelmus Theodorus Anthonius Johannes Van Den Einden. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-12-13.

Lithographic apparatus and method in a lithographic process

Номер патента: WO2016169692A1. Автор: Patrick Johannes Cornelus Hendrik Smulders,Johannes Pieter KROES,Kevin Nicolas Stephan COUTEAU,Rachid EL BOUBSI,Rob Johan Theodoor RUTTEN,Martijn Lambertus Peter VISSER,Jan Steven Christiaan WESTERLAKEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2016-10-27.

Lithographic apparatus and surface cleaning method

Номер патента: US09927716B2. Автор: Takeshi Kaneko,Kornelis Tijmen Hoekerd. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-03-27.

Lithographic apparatus and surface cleaning method

Номер патента: US09645508B2. Автор: Takeshi Kaneko,Kornelis Tijmen Hoekerd. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-05-09.

Gas manifold, module for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufaturing method

Номер патента: US20120218532A1. Автор: Robin Bernardus Johannes Koldeweij,Frank Johannes Jacobus Van Boxtel,Pieter Debrauwer,Antonius Arnoldus Henricus Van Der Steen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-08-30.

Lithographic apparatus, device manufacturing method and displacement measurement system

Номер патента: US09575416B2. Автор: Erik Roelof Loopstra,Christiaan Alexander Hoogendam,Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch,Ruud Antonius Catharina Maria Beerens,Martinus Agnes Willem Cuijpers,Fransiscus Mathijs JACOBS,Willem Herman Gertruda Anna Koenen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-02-21.

Contamination prevention system, lithographic apparatus, radiation source, and method for manufacturing a device

Номер патента: US7602472B2. Автор: Edwin Johan Buis,Christiaan Alexander Hoogendam,Erik Theodorus Maria Bijlaart,Arnoud Cornelis Wassink,Alexander Matthijs Struycken,Paul Peter Anna Antonius Brom. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-10-13.

Lithographic apparatus, object positioning system and device manufacturing method

Номер патента: US10191396B2. Автор: Nicolaas Rudolf Kemper,Peter Paul HEMPENIUS,Frits Van Der Meulen,Youssef Karel Maria De Vos,Stijn Willem BOERE,Paul Corné Henri DE WIT,Robertus Mathijs Gerardus Rijs. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-01-29.

Lithographic apparatus and method

Номер патента: US09977348B2. Автор: Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch,Günes NAKIBOGLU,Frank Johannes Jacobus Van Boxtel,Lukasz SOSNIAK,Anne Willemijn Bertine QUIST,Suzanne Johanna Antonetta Geertruda COSIJNS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-05-22.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09891542B2. Автор: Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch,Franciscus Van De Mast,Jan Steven Christiaan WESTERLAKEN,Gerardus Arnoldus Hendricus Franciscus Janssen,Peter Paul Steijaert. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-02-13.

Positioning system, a lithographic apparatus and a method for positional control

Номер патента: US09671702B2. Автор: Henrikus Herman Marie Cox,Hans Butler. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-06-06.

Lithographic apparatus and method

Номер патента: US09632435B2. Автор: Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs,Nicolaas Ten Kate,Joost Jeroen Ottens,Robbert Jan VOOGD,Giovanni Francisco Nino,Thibault Simon Mathieu Laurent,Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus KNARREN,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Marinus Jan REMIE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-04-25.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09563137B2. Автор: Luigi Scaccabarozzi,Nicolaas Arnoldus Lammers. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-02-07.

Lithographic apparatus

Номер патента: US09513566B2. Автор: Han-Kwang Nienhuys,Kursat Bal,Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis,David Christopher Ockwell,Maikel Bernardus Theodorus Leenders,Arnold Jan VAN PUTTEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-12-06.

Calibration Method for a Lithographic Apparatus

Номер патента: US20200218170A1. Автор: Emil Peter SCHMITT-WEAVER,Roy Werkman,Koenraad Remi André Maria Schreel,Jens Stäcker. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-07-09.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US9851644B2. Автор: Joost Jeroen Ottens,Koen Jacobus Johannes Maria Zaal. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-12-26.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US10761433B2. Автор: Joost Jeroen Ottens,Koen Jacobus Johannes Maria Zaal. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-09-01.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20220197154A1. Автор: Joost Jeroen Ottens,Koen Jacobus Johannes Maria Zaal. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-06-23.

Alignment Target Contrast in a Lithographic Double Patterning Process

Номер патента: US20140192333A1. Автор: Mircea Dusa,Manfred Gawein Tenner,Harry Sewell,Richard Johannes Franciscus Van Haren,Maya Angelova Doytcheva. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2014-07-10.

Fluid handling structure, a lithographic apparatus and a device manufacturing method

Номер патента: US9971255B2. Автор: Michel Riepen,Henricus Jozef Castelijns,Nicolaas Ten Kate,Rogier Hendrikus Magdalena Cortie,Jim Vincent OVERKAMP,Niek Jacobus Johannes Roset,Cornelius Maria Rops. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-05-15.

Projection System, Lithographic Apparatus, Method of Projecting a Beam of Radiation onto a Target and Device Manufacturing Method

Номер патента: US20110194088A1. Автор: Hans Butler,Robertus Johannes Marinus De Jongh,Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst,Robertus Leonardus Tousain,Adrianus Hendrik Koevoets,Marco Hendrikus Hermanu Oude Nijhuis. Владелец: AMSL Netherlands BV. Дата публикации: 2011-08-11.

Method and apparatus for controlling a lithographic apparatus

Номер патента: US9310698B2. Автор: Boris Menchtchikov,Alexander Viktorovych Padiy. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-04-12.

Lithographic apparatus and a device manufacturing method involving an elongate liquid supply opening or an elongate region of relatively high pressure

Номер патента: US09618835B2. Автор: Sergei Shulepov,Marco Baragona,Daniel Jozef Maria Direcks,Erik Henricus Egidius Catharina EUMMELEN,David Bessems,Pieter Mulder,Clemens Johannes Gerardus VAN DEN DUNGEN,Maikel Adrianus Cornelis Schepers. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-04-11.

Lithographic apparatus and monitoring method

Номер патента: US8432529B2. Автор: Herman Philip Godfried,Paul van der Veen,Bert Jan CLAESSENS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2013-04-30.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: NL2018232A. Автор: Moest Bearrach,HOITINGA Wijnand,Robert Downes James,Lane Baker Lowell,Folken Pen Hermen. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2017-09-26.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US11789369B2. Автор: Nicolaas Rudolf Kemper,Martinus Hendrikus Antonius Leenders,Joost Jeroen Ottens. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-17.

A positioning system, a lithographic apparatus and a method for positional control.

Номер патента: NL2007633A. Автор: Hans Butler,Henrikus Cox. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-05-23.

Lithographic apparatus and method

Номер патента: US20220206400A1. Автор: Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs,Nicolaas Ten Kate,Joost Jeroen Ottens,Robbert Jan VOOGD,Giovanni Francisco Nino,Thibault Simon Mathieu Laurent,Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus KNARREN,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Marinus Jan REMIE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-06-30.

Lithographic apparatus and method

Номер патента: US20200142325A1. Автор: Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs,Nicolaas Ten Kate,Joost Jeroen Ottens,Robbert Jan VOOGD,Giovanni Francisco Nino,Thibault Simon Mathieu Laurent,Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus KNARREN,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Marinus Jan REMIE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-05-07.

Lithographic apparatus and method

Номер патента: US20230273533A1. Автор: Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs,Nicolaas Ten Kate,Joost Jeroen Ottens,Robbert Jan VOOGD,Giovanni Francisco Nino,Thibault Simon Mathieu Laurent,Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus KNARREN,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Marinus Jan REMIE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-08-31.

Optical distortion reduction in projection systems

Номер патента: EP3887905A1. Автор: Paul Ferrari,Yanrong Yuan,Jeff Hansen,Gerrad Killion. Владелец: SUSS MicroTec Photonic Systems Inc. Дата публикации: 2021-10-06.

Optical distortion reduction in projection systems

Номер патента: WO2020198719A1. Автор: Paul Ferrari,Yanrong Yuan,Jeff Hansen,Gerrad Killion. Владелец: SUSS MicroTec Photonic Systems Inc.. Дата публикации: 2020-10-01.

Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP3137945A1. Автор: Thomas Poiesz,Daan Daniel Johannes Antonius Van Sommeren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-03-08.

Lithographic apparatus, substrate table, and method for releasing a wafer

Номер патента: EP2095190A1. Автор: Arno Jan Bleeker,Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken,Michiel Puyt,Johannes Hendrikus Gertrudis Franssen,Johannes Theodorus Guillielmus Maria Van De Ven,Teun Peterus Adrianus DE WIT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-09-02.

Lithographic apparatus, substrate table, and method for releasing a wafer

Номер патента: WO2008078995A1. Автор: Arno Jan Bleeker,Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken,Michiel Puyt,Johannes Hendrikus Gertrudis Franssen,Johannes Theodorus Guillielmus Maria Van De Ven,Teun Peterus Adrianus DE WIT. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2008-07-03.

Lithographic Apparatus

Номер патента: US20180173116A1. Автор: Wilfred Edward Endendijk,Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Nicolaas Ten Kate,Franciscus Johannes Joseph Janssen,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Leon Martin Levasier,Jim Vincent OVERKAMP,Jacobus Cornelis Gerardus Van Der Sanden,Sander Catharina Reinier Derks,Adrianus Hendrik Koevoets,Erik Johan ARLEMARK. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-06-21.

Lithographic Apparatus.

Номер патента: NL2016541A. Автор: Ten Kate Nicolaas,Catharina Reinier Derks Sander,Wilhelmus Louis Lafarre Raymond,Nicolaas Lambertus Donders Sjoerd,Johan Arlemark Erik,Hendrik Koevoets Adrianus,Vincent Overkamp Jim,Cornelis Gerardus Van Der Sanden Jacobus,Johannes Joseph Janssen Franciscus,Martin Levasier Leon,Edward Endendijk Wilfred. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-10-24.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8493548B2. Автор: Vadim Yevgenyevich Banine,Vladimir Vitalevich Ivanov,Vladimir Mihailòvitch Krivtsun,Konstantin Nikolaevich Koshelev. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2013-07-23.

Electrostatic clamp, lithographic apparatus and method of manufacturing an electrostatic clamp

Номер патента: EP2208224A1. Автор: Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel,Albert Pieter RIJPMA,Raimond Visser,Johannes Hendrikus Gertrudis Franssen,Albert Brals,Zongquan YANG,Anko Jozef Cornelus Sijben. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-07-21.

Lithographic apparatus, device manufacturing method and method of clamping an object

Номер патента: US09740113B2. Автор: Paul JANSSEN,Richard Joseph Bruls,Petrus Jacobus Maria VAN GILS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-08-22.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09606457B2. Автор: Petrus Franciscus VAN GILS,Norbertus Josephus Martinus Van Den Nieuwelaar,Arthur Erland Swaving. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-03-28.

Lithographic apparatus

Номер патента: US12117736B2. Автор: Johannes Hubertus Josephina Moors,Vadim Yevgenyevich Banine,Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Andrey Nikipelov,Stef Marten Johan Janssens,Satish ACHANTA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-15.

Component for use in a lithographic apparatus, method of protecting a component and method of protecting tables in a lithographic apparatus

Номер патента: US20240027925A1. Автор: Marcus Adrianus Van De Kerkhof. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-25.

Component for use in a lithographic apparatus, method of protecting a component and method of protecting tables in a lithographic apparatus

Номер патента: US12001149B2. Автор: Marcus Adrianus Van De Kerkhof. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-06-04.

Lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of applying a pattern to a substrate

Номер патента: US09658541B2. Автор: Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Bearrach Moest,Willem Jurrianus Venema,Vasco Miguel MATIAS SERRAO,Cedran Bomhof. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-05-23.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP2177091A1. Автор: Arno Jan Bleeker,Vadim Yevgenyevich Banine,Vladimir Vitalevich Ivanov,Vladimir Mihailòvitch Krivtsun,Konstantin Nikolaevich Koshelev,Pavel Stanislavovich Antsiferov,Dmitriy Victorovich Lopaev. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-04-21.

Method of controlling a position of a first object relative to a second object, control unit, lithographic apparatus and apparatus

Номер патента: US11774865B2. Автор: Willem Herman Gertruda Anna Koenen,Ramidin Izair Kamidi,Hendrikus Herman Marie Cox,Thijs Adriaan Cornelis VAN KEULEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-03.

Lithographic apparatus, method for levelling an object, and lithographic projection method

Номер патента: WO2009082226A1. Автор: Hendricus Johannes Maria Meijer,Anastasius Jacobus Anicetus Bruinsma,Peter Gerhardus Wilhelmus Bussink. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2009-07-02.

Lithographic apparatus, device manufacturing method and method of clamping an object

Номер патента: US20170131643A1. Автор: Paul JANSSEN,Richard Joseph Bruls,Petrus Jacobus Maria VAN GILS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-05-11.

Electrostatic clamp, lithographic apparatus and method of manufacturing an electrostatic clamp

Номер патента: WO2009036995A1. Автор: Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel,Albert Pieter RIJPMA,Raimond Visser,Johannes Hendrikus Gertrudis Franssen,Albert Brals,Zongquan YANG,Anko Jozef Cornelus Sijben. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2009-03-26.

Substrate holder, a lithographic apparatus and method of manufacturing devices

Номер патента: US10453734B2. Автор: Martijn Houben,Thomas Poiesz,Abraham Alexander SOETHOUDT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-10-22.

A Substrate Holder, a Lithographic Apparatus and Method of Manufacturing Devices.

Номер патента: NL2016873A. Автор: Houben Martijn,POIESZ Thomas,Alexander Soethoudt Abraham. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-01-17.

Gripper and lithographic apparatus comprising the gripper

Номер патента: US20240019790A1. Автор: Aart Adrianus Van Beuzekom,Paul VAN DONGEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-18.

Radiation source and lithographic apparatus

Номер патента: US09645500B2. Автор: Markus Franciscus Antonius Eurlings,Oscar Franciscus Jozephus NOORDMAN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-05-09.

Radiation Source.

Номер патента: NL2016136A. Автор: Jan Bleeker Arno,VOORMA Harm-Jan,Mark Hofstra Ramon,Petrus Buurman Erik,Hubertus Josephina Moors Johannes,Matthijs Struycken Alexander,Sukdew Ramanujan Oemrawsingh Sumant,Franciscus Antonius Eurlings Markus,Frans Maria Muys Peter. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-09-30.

Projection system with flexible coupling

Номер патента: US9268216B2. Автор: Michel Pieter Dansberg,Jerry Johannes Martinus Peijster. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2016-02-23.

Radiation filter for a radiation sensor

Номер патента: US11960215B2. Автор: Wouter Joep ENGELEN,Pieter Cristiaan DE GROOT,Vahid MOHAMMADI,Yassin CHOWDHURY,Marcel Johannes Petrus Theodorus VAN DER HOORN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-16.

Position measuring method, position measuring apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method, optical element

Номер патента: WO2013152878A2. Автор: Arie Den Boef,Justin Kreuzer,Simon MATHIJSSEN. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2013-10-17.

Wavelength conversion device, light source system and projection system

Номер патента: US20170167710A1. Автор: Yanzheng Xu,Zifeng TIAN,Yusan CHEN,Xiliang WU,Dayan Dai. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2017-06-15.

Wavelength conversion device, light source system and projection system

Номер патента: US09897303B2. Автор: Yanzheng Xu,Zifeng TIAN,Yusan CHEN,Xiliang WU,Dayan Dai. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Optical apparatus, method of scanning, lithographic apparatus and device manufacturing method.

Номер патента: NL2008111A. Автор: Arie Boef. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-08-21.

Radiation source

Номер патента: US09500953B2. Автор: Maurice Willem Jozef Etiënne Wijckmans,Bastiaan Stephanus Hendricus Jansen,Jan Frederik Hoogkamp. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-11-22.

Electromagnetic actuator, method of manufacturing a part of an electromagnetic actuator, and lithographic apparatus comprising an electromagnetic actuator

Номер патента: US20070096566A1. Автор: Erik Loopstra,Sven Hol. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2007-05-03.

Euv radiation source

Номер патента: WO2021228517A1. Автор: Lars Peter BEHNKE. Владелец: Stichting Nederlandse Wetenschappelijk Onderzoek Instituten. Дата публикации: 2021-11-18.

A seed laser optical isolator, seed isolator module, euv radiation source, lithographic apparatus and optical isolator operating method

Номер патента: US20240275114A1. Автор: Heine Melle Mulder,Karel Joop BOSSCHAART,Tomasz CZARNOTA,Ruben Hendrik C DILISSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-15.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus

Номер патента: NL2028022A. Автор: Alexander Vermeulen Paul,Silvester Houweling Zomer,Ludwig Klein Alexander,Dirk Hildenbrand Volker. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-12-01.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus

Номер патента: CA3180234A1. Автор: Volker Dirk Hildenbrand,Zomer Silvester HOUWELING,Alexander Ludwig KLEIN,Paul Alexander VERMEULEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-12-02.

Stamp for use in a lithographic process, method of manufacturing a stamp, and method of manufacturing a patterned layer on a substrate

Номер патента: EP1171800A1. Автор: Martin H. Blees. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2002-01-16.

Light module for a projection device, DLP projector and method for producing a dichroic mirror

Номер патента: US09664993B2. Автор: Ulrich Hartwig. Владелец: OSRAM GMBH. Дата публикации: 2017-05-30.

Rgb laser source for illumination-projection system

Номер патента: RU2685064C2. Автор: Мануэль ЛЕОНАРДО,Игорь САМАРЦЕВ,Алексей АВДОХИН,Грегори КИТОН. Владелец: АЙПИДЖИ ФОТОНИКС КОРПОРЭЙШН. Дата публикации: 2019-04-16.

Lithographic apparatus and lithographic apparatus cooling method

Номер патента: US20110317137A1. Автор: Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2011-12-29.

Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder

Номер патента: US20170235235A1. Автор: Nicolaas Ten Kate,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Yogesh Pramod KARADE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-08-17.

Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder

Номер патента: US20180284625A1. Автор: Nicolaas Ten Kate,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Yogesh Pramod KARADE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-10-04.

Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder

Номер патента: US20230048272A1. Автор: Nicolaas Ten Kate,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Yogesh Pramod KARADE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-02-16.

Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder

Номер патента: US20210278772A1. Автор: Nicolaas Ten Kate,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Yogesh Pramod KARADE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-09-09.

Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder

Номер патента: US12055862B2. Автор: Nicolaas Ten Kate,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Yogesh Pramod KARADE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder

Номер патента: US09989867B2. Автор: Nicolaas Ten Kate,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Yogesh Pramod KARADE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-06-05.

Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder

Номер патента: US09678445B2. Автор: Nicolaas Ten Kate,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Yogesh Pramod KARADE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-06-13.

Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder

Номер патента: US09423699B2. Автор: Nicolaas Ten Kate,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Yogesh Pramod KARADE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-08-23.

Support table for a lithographic apparatus, method of loading a substrate, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20200141445A1. Автор: Mark Constant Johannes Baggen,Abraham Alexander SOETHOUDT,Siegfried Alexander Tromp,Antonie Hendrik VERWEIJ,Jan Pieter VAN DE POEL. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-05-07.

Support table for a lithographic apparatus, method of loading a substrate, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US11898601B2. Автор: Mark Constant Johannes Baggen,Abraham Alexander SOETHOUDT,Siegfried Alexander Tromp,Antonie Hendrik VERWEIJ,Jan Pieter VAN DE POEL. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-02-13.

Support table for a lithographic apparatus, method of loading a substrate, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP3210080A1. Автор: Mark Constant Johannes Baggen,Abraham Alexander SOETHOUDT,Siegfried Alexander Tromp,Antonie Hendrik VERWEIJ,Jan Pieter VAN DE POEL. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-08-30.

Method to determine the usefulness of alignment marks to correct overlay, and a combination of a lithographic apparatus and an overlay measurement system

Номер патента: US09454084B2. Автор: Antoine Gaston Marie Kiers,Franciscus Godefridus Casper Bijnen,Michael Kubis,Irina Lyulina,Remi Daniel Marie Edart. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-09-27.

Thermal conditioning system for thermal conditioning a part of a lithographic apparatus and a thermal conditioning method

Номер патента: EP2515170A3. Автор: Martinus Cornelis Maria Verhagen,Vadim Banine,Gerrit Van Donk,Sjoerd Donders,Olav Waldemar Vladimir Frijns,Johannes Moors,Henk Jan Van Gerner. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-01-18.

Radiation detector, method of manufacturing a radiation detector and lithographic apparatus comprising a radiation detector

Номер патента: US7586108B2. Автор: Bearrach Moest,Stoyan Nihtianov,Marc Antonius Maria Haast,Arie Johan Van Der Sijs,Gerardus Wilhelmus Petrus Baas,Lis Karen Nanver,Francesco Sarubbi,Antonius Andreas Johannes Schuwer,Gregory Micha Gommeren,Martijn Pot,Thomas Ludovicus Maria Scholtes,Petrus Wilhelmus Josephus Maria Kemper. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-09-08.

Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder

Номер патента: US20160170314A1. Автор: Nicolaas Ten Kate,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Hendrik Huisman,Jacobus Josephus Leijssen,Yogesh Pramod KARADE,Elisabeth Corinne RODENBURG,Siegfried Alexander Tromp,Maurice Wilhelmus Leonardus Hendricus Feijts. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-06-16.

Methods and apparatuses for processing a lithographic object

Номер патента: US20240310722A1. Автор: Michael Budach. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-09-19.

LED light sources for image projection systems

Номер патента: US7300182B2. Автор: Joseph Mazzochette. Владелец: Lamina Lighting Inc. Дата публикации: 2007-11-27.

Driving circuits for a piezoelectric microelectromechanical system mirror

Номер патента: US20220411255A1. Автор: Tapio PERNU. Владелец: Valtion teknillinen tutkimuskeskus. Дата публикации: 2022-12-29.

Lithographic apparatus, spectral purity filter and device manufacturing method

Номер патента: US09594306B2. Автор: Erik Roelof Loopstra,Johannes Hubertus Josephina Moors,Vadim Yevgenyevich Banine,Jan Bernard Plechelmus Van Schoot,Gerardus Hubertus Petrus Maria Swinkels,Wilhelmus Petrus De Boeij,Andrei Mikhailovich Yakunin,Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk Van Dijsseldonk. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-03-14.

Radiation source, lithographic apparatus device manufacturing method, sensor system and sensing method

Номер патента: US20190146350A1. Автор: Christian Felix Wählisch. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-05-16.

Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: WO2016177519A1. Автор: Johannes Christiaan Leonardus Franken. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2016-11-10.

Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09414477B2. Автор: Erik Roelof Loopstra,Jan Bernard Plechelmus Van Schoot,Gerardus Hubertus Petrus Maria Swinkels. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-08-09.

Contamination trap for a lithographic apparatus

Номер патента: US09494879B2. Автор: Carlo Cornelis Maria LUIJTEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-11-15.

Method of generating extremely short-wave radiation, method of manufacturing a device by means of said radiation, extremely short-wave radiation source unit and lithographic projection apparatus provided with such a radiation source unit

Номер патента: EP1157596A1. Автор: Theodorus H. J. Bisschops. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2001-11-28.

Source module of an EUV lithographic apparatus, lithographic apparatus, and method for manufacturing a device

Номер патента: US09465306B2. Автор: Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen,Wouter Anthon Soer,Andrei Mikhailovich Yakunin. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-10-11.

Source collector apparatus, lithographic apparatus and method

Номер патента: US09964852B1. Автор: Gerardus Hubertus Petrus Maria Swinkels,Denis Alexandrovich Glushkov,Niek Antonius Jacobus Maria KLEEMANS,Ronald Johannes Hultermans,Benedictus Mathijs RENKENS,Christiaan Johannes Petrus VERSPEEK. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-05-08.

Radiation source for an EUV optical lithographic apparatus, and lithographic apparatus comprising such a radiation source

Номер патента: US09753372B2. Автор: Johannes Christiaan Leonardus Franken. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-09-05.

Component for a radiation source, associated radiation source and lithographic apparatus

Номер патента: US09846365B2. Автор: Han-Kwang Nienhuys. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-12-19.

EUV radiation system and lithographic apparatus

Номер патента: US09523921B2. Автор: Erik Roelof Loopstra,Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-12-20.

Radiation source

Номер патента: WO2013050212A1. Автор: Jan Hoogkamp,Bastiaan Jansen. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2013-04-11.

Laser module having a duochromatic laser diode for a portable image projector

Номер патента: US09485481B2. Автор: Frank Fischer,Gael Pilard. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2016-11-01.

Source collector apparatus, lithographic apparatus and method

Номер патента: WO2014161698A1. Автор: Gerardus Swinkels,Denis Glushkov,Ronald Hultermans,Niek KLEEMANS,Benedictus RENKENS,Christiaan VERSPEEK. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2014-10-09.

Assembly comprising a cryostat and layer of superconducting coils, and a lithographic apparatus comprising a flat magnetic levitation and/or acceleration motor system provided with such an assembly

Номер патента: NL2023101A. Автор: Petrus Martinus Bernardus Vermeulen Johannes,Bart Koolmees Hessel. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-12-10.

Projection system with safety detection

Номер патента: US09677945B2. Автор: Dirk Maes. Владелец: BARCO NV. Дата публикации: 2017-06-13.

Projection system, vehicle, method for projecting information on a window

Номер патента: US20240329443A1. Автор: Piotr Nowak,Andreas Kasel. Владелец: VOLVO CONSTRUCTION EQUIPMENT AB. Дата публикации: 2024-10-03.

Active shutter glasses and a stereoscopic image projection system

Номер патента: US20130083261A1. Автор: Kozo Nakamura,Akira Sakai,Shun Ueki,Takahiro Nakahara. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2013-04-04.

Projection system and method with fold mirror and integrating rod adjustment

Номер патента: US20230393452A1. Автор: Nathan Shawn Wainwright,Darren HENNIGAN,John David Jackson. Владелец: Dolby Laboratories Licensing Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Projection system and method with fold mirror and integrating rod adjustment

Номер патента: EP4232863A1. Автор: Nathan Shawn Wainwright,Darren HENNIGAN,John David Jackson. Владелец: Dolby Laboratories Licensing Corp. Дата публикации: 2023-08-30.

Stereoscopic 3d projection system with high level of optical light efficiency

Номер патента: RU2705729C2. Автор: Стефен Палмер. Владелец: ВОЛЬФОНИ Эр анд Ди ЕУРЛ. Дата публикации: 2019-11-11.

Projection system and light source for use in a projection system

Номер патента: WO1998054611A3. Автор: Martin Kavanagh,Graham Harry Moss,Paul Michael Everett,Ray Fielding. Владелец: Ray Fielding. Дата публикации: 1999-02-25.

Projection system, vehicle, method for projecting information on a window

Номер патента: EP4439173A1. Автор: Piotr Nowak,Andreas Kasel. Владелец: VOLVO CONSTRUCTION EQUIPMENT AB. Дата публикации: 2024-10-02.

Locally dimmed cinema projection system with reflective modulation and narrowband light sources

Номер патента: US09462240B2. Автор: Helge Seetzen,Lorne A. Whitehead,Gregory John Ward. Владелец: Dolby Laboratories Licensing Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Projection system with refractive beam steering

Номер патента: US09557630B1. Автор: Christopher David Coley,Eric Gifford Marason,Miguel Virgen. Владелец: Amazon Technologies Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Projection system for automotive and other applications

Номер патента: EP2160895A1. Автор: Joseph C. Carls,Ernesto M. Rodriguez. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2010-03-10.

Projection system and projection-type image display apparatus

Номер патента: US20200088977A1. Автор: Toshihiko Sakai,Koji SHIOKAWA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2020-03-19.

Spiral lens disk and projection system employing the same

Номер патента: US20040021944A1. Автор: Dae-Sik Kim,Kun-Ho Cho,Tae-Hee Kim,Yung-Jun Park,Hee-Joong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-02-05.

Optical laser projection system with moving speckle reducing element and light integration element

Номер патента: EP2446317A1. Автор: Robert Metzger,Barry D. Silverstein,Joseph Raymond Bietry,Gary Edwin Nothhard. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2012-05-02.

Projection system with a plurality of light-emitting elements

Номер патента: US09494850B2. Автор: Henning Rehn,Clemens Wesseling. Владелец: OSRAM GMBH. Дата публикации: 2016-11-15.

Beam modulation apparatus and projection system

Номер патента: EP3981144A1. Автор: Wei-Chih Lin,Zhigang Liu,Jinwang Zhang,Teng CAO,Xianlu WANG. Владелец: Beijing Asu Tech Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-13.

Pixel shifting methods in projection systems

Номер патента: WO2024054778A3. Автор: Jon Scott Miller,Christopher John ORLICK. Владелец: DOLBY LABORATORIES LICENSING CORPORATION. Дата публикации: 2024-04-18.

Scanning projection system

Номер патента: US09491426B2. Автор: Chang-Feng Lee,Chun-Po Hsu,De-Jian Ou. Владелец: Lite On Technology Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Led-based high efficiency illumination systems for use in projection systems

Номер патента: WO2007133513B1. Автор: Hussein S El-Ghoroury,Dale A Mcneill. Владелец: Dale A Mcneill. Дата публикации: 2008-05-15.

Projection system and projector

Номер патента: US20140176919A1. Автор: Eiji Morikuni. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2014-06-26.

Projection system with infrared monitoring function

Номер патента: US09420246B2. Автор: Yan Huang,Haixiang Wang,Qinglin Na,Haohuang Mai. Владелец: PIQS TECHNOLOGY (SHENZHEN) Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

System and method employing led light sources for a projection display

Номер патента: AU2001233273A1. Автор: Mark Peterson,Fred Parker. Владелец: Infocus Corp. Дата публикации: 2001-08-27.

Stereoscopic three dimensional projection system with short throw ratio

Номер патента: US20190107729A1. Автор: Stephen Palmer. Владелец: VOLFONI R&D. Дата публикации: 2019-04-11.

Light source system and related projection system

Номер патента: US09897903B2. Автор: Yi Li,Yi Yang,Fei Hu,Liangliang Cao. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Light source system and related projection system

Номер патента: US09897901B2. Автор: Yi Li,Yi Yang,Fei Hu,Liangliang Cao. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Light source system and related projection system

Номер патента: US09897900B2. Автор: Yi Li,Yi Yang,Fei Hu,Liangliang Cao. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Translucent screen and image projection system

Номер патента: US09891517B2. Автор: Takehiko Yamashita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Light source system and related projection system employing a light division system and two spatial light modulatiors

Номер патента: US09746756B2. Автор: Yi Li,Yi Yang,Fei Hu,Liangliang Cao. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Light-emitting device and related projection system

Номер патента: US09612514B2. Автор: Fei Hu,Liangliang Cao,Haixiong HOU. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Stereoscopic 3D projection system with improved level of optical light efficiency

Номер патента: US09594255B2. Автор: Stephen Palmer. Владелец: Volfoni R&d Eurl. Дата публикации: 2017-03-14.

Wide field-of-view stereoscopic projection system

Номер патента: US09554125B2. Автор: Michael G. Robinson,Gary D. Sharp,Miller H. Schuck. Владелец: RealD Inc. Дата публикации: 2017-01-24.

Projector lens apertures for projection systems

Номер патента: WO2023219961A1. Автор: Duane Scott Dewald,John David Jackson. Владелец: DOLBY LABORATORIES LICENSING CORPORATION. Дата публикации: 2023-11-16.

Projection system, light source system and light source assembly

Номер патента: US09904158B2. Автор: Yi Li,Yi Yang,Fei Hu. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Single- and multi-modulation projection systems with global brightness control

Номер патента: RU2704882C2. Автор: Дуглас Дж. ГОРНИ,Дуглас Дж. ДАРРОУ,Крейг ТОДД,Мартин Дж. РИЧАРДЗ. Владелец: Долби Лэборетериз Лайсенсинг Корпорейшн. Дата публикации: 2019-10-31.

Stereo-projection system

Номер патента: RU2322771C2. Автор: Святослав Иванович АРСЕНИЧ,Св тослав Иванович Арсенич. Владелец: Святослав Иванович АРСЕНИЧ. Дата публикации: 2008-04-20.

Stereoscopic image projection system using circular polarising filter module

Номер патента: RU2444033C2. Автор: Йоунг Хоон ЛИ,Йонг Би ДЗУНГ. Владелец: МАСТЕРИМИДЖ ЗД Азия, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2012-02-27.

Rectangular optical fiber for projection systems

Номер патента: WO2023196336A1. Автор: Martin J. Richards,Barret Lippey,Juan Pablo Pertierra,John Frederick ARNTSEN. Владелец: DOLBY LABORATORIES LICENSING CORPORATION. Дата публикации: 2023-10-12.

Mountable clear displays and projection systems

Номер патента: US09971151B1. Автор: Omar Sze Leung,Eric Gifford Marason,Robert Arthur Sprague,Miguel Virgen,Suchit Shreyas Shah. Владелец: Amazon Technologies Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Projection system with additional series connected light valve for enhanced contrast

Номер патента: US09767738B2. Автор: Lawrence Goerzen. Владелец: Christie Digital Systems USA Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Buffer arrangement for use in a lissajous scanning projection system, projector device and method of providing frames of pixels to a projection unit

Номер патента: EP4233309A1. Автор: Yong Cao,Thomas von Wantoch,Oleg Petrak,Peter Blicharski,Marcel REHER,Aloshious Thottappattu JOY. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

High dynamic range, high contrast projection systems

Номер патента: US09625745B2. Автор: Gary D. Sharp,Douglas J. McKnight,Miller H. Schuck. Владелец: RealD Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Active matrix reflective projection system

Номер патента: US5022750A. Автор: Richard A. Flasck. Владелец: RAF Electronics Corp. Дата публикации: 1991-06-11.

Projection system and control method of projection system

Номер патента: US11846876B2. Автор: Masato Yagi. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Interactive projection system, interactive projector and method of controlling interactive projector

Номер патента: US20190187821A1. Автор: Reza PARSEH. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2019-06-20.

Radiation source receiving unit for a weathering device

Номер патента: DE202004017833U1. Автор: . Владелец: ATLAS MATERIAL TESTING TECHNOLOGY GmbH. Дата публикации: 2005-01-05.

A lithographic apparatus, an inspection system, and a detector having a square-core fiber

Номер патента: WO2023198466A1. Автор: Krishanu SHOME,Mahesh Upendra AJGAONKAR,Aniruddha Ramakrishna SONDE. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-10-19.

Lithographic apparatus and associated method

Номер патента: EP4386479A1. Автор: Marco Matheus Louis Steeghs,Albertus HARTGERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-06-19.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP1531364A3. Автор: Carlo Cornelis Maria LUIJTEN,Ferdy Migchelbrink,Wilhelmus Josephus Box,Petrus Rutgerus Bartray,Jan Jaap Kuit,Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis,Michael Ten Bhomer. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-05-25.

Heating system for an optical component of a lithographic apparatus

Номер патента: US20200201197A1. Автор: Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Franciscus Johannes Joseph Janssen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-06-25.

Heating system for an optical component of a lithographic apparatus

Номер патента: US11163240B2. Автор: Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Franciscus Johannes Joseph Janssen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-11-02.

Mirror projection system for a scanning lithographic projection apparatus, and lithographic apparatus comprising such a system

Номер патента: US20020018309A1. Автор: Josephus Braat. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 2002-02-14.

Apparatus and method for avoiding a degradation of an optical used surface of a mirror module, projection system, illumination system and projection exposure apparatus

Номер патента: US20240319621A1. Автор: Moritz Becker,Julian Kaller,Arnoldus Jan Storm. Владелец: NEDERLANDSE ORGANISATIE VOORTOEGEPAST-NATUURWETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK TNO. Дата публикации: 2024-09-26.

Lithographic apparatus

Номер патента: EP2210012A1. Автор: Windy Lynn Farnsworth,Santiago del Puerto,Samir A. Nayfeh. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2010-07-28.

Photolithography apparatus comprising projection system for control of image size

Номер патента: US09939734B2. Автор: Donald Charles DILWORTH. Владелец: Kulicke and Soffa Liteq BV. Дата публикации: 2018-04-10.

Magnification adjustable projection system using deformable lens plates

Номер патента: EP4396632A1. Автор: Paul Francis Michaloski,Brian Monroe McMaster,Robert Dennis Grejda. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2024-07-10.

Magnification adjustable projection system using deformable lens plates

Номер патента: US12078936B2. Автор: Paul Francis Michaloski,Brian Monroe McMaster,Robert Dennis Grejda. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: SG142264A1. Автор: Loopstra Erik Roelof,Jansen Bastiaan Step Hendricus,Ravensbergen Marius,Hauf Markus Josef. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-05-28.

Lithographic apparatus, device manufacturing method, device manufactured thereby, and controllable patterning device utilizing a spatial light modulator with distributed digital to analog conversion

Номер патента: SG128584A1. Автор: Stoyan Nihtianov,Martinus Cornelis Reijnen,Andrej Makarovic,Lambertus Gerardus Mar Kessels,Petrus Wilhelmus Joseph Kemper,Kamen Hristov Chilov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2007-01-30.

High numerical aperture ring field projection system for extreme ultraviolet lithography

Номер патента: US6033079A. Автор: Russell Hudyma. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2000-03-07.

System and method for generating a lithographic image with the use of a digital hologram and a reflective concave in curvilinear surface

Номер патента: US09952516B1. Автор: Vadim RAKHOVSKY,Mikhail BORISOV,Aleksey SHAMAEV,Dmitry CHELYUBEEV,Vitaly CHERNIK,Peter MIKHEEV. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-04-24.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US9341960B2. Автор: Arno Jan Bleeker,Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-05-17.

Alignment sensor for lithographic apparatus

Номер патента: NL2017348A. Автор: POLO Alessandro,Gijsbert Josephus Mathijssen Simon,Aloysius Jacobus Tinnemans Patricius,Douglas Coston Scott,James Havelin Ronan. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2017-03-21.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: WO2015158487A1. Автор: Robertus Johannes Marinus De Jongh,Leon Leonardus Franciscus MERKX,Roel Johannes Elisabeth Merry. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2015-10-22.

Optical component and clamp used in lithographic apparatus

Номер патента: US11892779B2. Автор: Victor Antonio PEREZ-FALCON. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-02-06.

Lithographic apparatus, programmable patterning device and lithographic method.

Номер патента: NL2008426A. Автор: Johannes Onvlee,Vadim Banine,Sander Wuister,Lucas Stevens,Pieter Jager,Nikolay Iosad. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-10-09.

Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20040141165A1. Автор: Vladimir Ivanov,Vadim Banine,Pavel Antsiferov,Konstantin Koshelev,Givi Zukavishvili,Evgenil Korob. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2004-07-22.

Mask, lithographing apparatus and method for manufacturing mask

Номер патента: US20240231218A1. Автор: Chunyan Song,Xijun Li. Владелец: Westlake University. Дата публикации: 2024-07-11.

Method for making a lithographic printing plate

Номер патента: US20030118943A1. Автор: Johan Van Hunsel,Paul Delabastita. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-06-26.

Radiation detector, medical image diagnosis apparatus, detector package, scintillator array, scintillator array manufacturing method, and radiation detector manufacturing method

Номер патента: US20180267183A1. Автор: Kazuto Nishizawa. Владелец: Canon Medical Systems Corp. Дата публикации: 2018-09-20.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP1610182A2. Автор: Dirk-Jan Bijvoet,Petrus Rutgerus Bartray,Jan Jaap Kuit,Jan Frederik Hoogkamp. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-12-28.

Projection system, image processing device, and projection method

Номер патента: US09661257B2. Автор: Masaaki Ishikawa,Yukinaka Uchiyama. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Projection system and projection method

Номер патента: US20210127098A1. Автор: Yi Li,Peng Du,Fei Hu,Zuqiang GUO. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Projection system and projection method

Номер патента: EP3611566A1. Автор: Yi Li,Peng Du,Fei Hu,Zuqiang GUO. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2020-02-19.

Method and radiation source driving device for controlling radiation power

Номер патента: EP1629470A1. Автор: James J. A. Mccormack. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2006-03-01.

Alignments for a projection system with a shaped projection screen using alignment content

Номер патента: US09992463B2. Автор: John C Schultz,Rolf W Biernath,Glenn E Casner,Eric C Lobner,Quinn D Sanford. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2018-06-05.

Method and radiation source driving device for controlling radiation power

Номер патента: EP1629471A1. Автор: Antonia C. Van Rens,James J. A. Mccormack,Gerard E. N. Schreurs. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2006-03-01.

Apparatus for providing multi-spectral light for an image projection system

Номер патента: US20030117591A1. Автор: Douglas Stanton. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2003-06-26.

Fail-Safe Projection System

Номер патента: US20160266479A1. Автор: Daniel Joseph. Владелец: Disney Enterprises Inc. Дата публикации: 2016-09-15.

Projection system, projector apparatus, imaging apparatus, and projection method

Номер патента: US09964839B2. Автор: Naoki Hashimoto,Motoyasu Tanaka,Yuki Haraguchi,Fumiya SHINGU,Chiharu KOHARI. Владелец: University of Electro Communications NUC. Дата публикации: 2018-05-08.

Fail-safe projection system

Номер патента: US09645482B2. Автор: Daniel Joseph. Владелец: Disney Enterprises Inc. Дата публикации: 2017-05-09.

Projection device, projection system and method for adjusting projection brightness of projection system

Номер патента: US09900566B2. Автор: Xiaowei Guo. Владелец: Qingdao Hisense Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Projection system, device and method for the output of calibration projection scenes

Номер патента: US09532018B2. Автор: Masaaki Ishikawa,Yukinaka Uchiyama. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Development of multicoloured primary light in projection system with application of led

Номер патента: RU2444152C2. Автор: Герард ХАРБЕРС,Серж БИРХЭЙЗЕН. Владелец: ФИЛИПС ЛЬЮМИЛДЗ ЛАЙТИНГ КОМПАНИ, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2012-02-27.

Radiation System and Radiation Beam Quality Detector and Method

Номер патента: US20080226038A1. Автор: Timothy R. Fox,David T. NISIUS. Владелец: Varian Medical Systems Technologies Inc. Дата публикации: 2008-09-18.

Radiation system and radiation beam quality detector and method

Номер патента: WO2008112960A9. Автор: David T NISIUS,Timothy R Fox. Владелец: Timothy R Fox. Дата публикации: 2009-03-12.

Project system and gamma curve correction method

Номер патента: US20220150455A1. Автор: Chia-Keng Wu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-05-12.

Portable phone having electro optic image projection system and orientation sensing device

Номер патента: US09584638B2. Автор: David A. Cathey,Steven Howell,James Cathey. Владелец: Lagoon Point Enterprises Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Projection system, support, and image display method

Номер патента: US09372386B2. Автор: Hideki Takasuka,Daigo Yamano. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Projection system employing two light sources or two light valves

Номер патента: CA2427505C. Автор: Tae-Hee Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-08-07.

Projection system and projection operation method

Номер патента: US20210318596A1. Автор: Wei-Lun Hung. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2021-10-14.

Projection system and projector

Номер патента: US20130329196A1. Автор: Yutaka Yasuda,Tadanori Aruga,Toru Katahira. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2013-12-12.

Projection system and control method of the same

Номер патента: US20070263178A1. Автор: Jong-Soo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-11-15.

Projection system and projector

Номер патента: US9635329B2. Автор: Yutaka Yasuda,Tadanori Aruga,Toru Katahira. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Projection system and projector

Номер патента: US9250501B2. Автор: Yutaka Yasuda,Tadanori Aruga,Toru Katahira. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2016-02-02.

Immersive projection systems

Номер патента: WO2024199515A1. Автор: Honwah Wai,Leo Chiu,Wai Lam TAM,Hing Tobey KO,Wai-man Robert TAM,Kin Hung Jacky CHUNG,Ka Fai Wong,Wai-Che LEE. Владелец: Votanic Limited. Дата публикации: 2024-10-03.

Image projection system and image projection apparatus

Номер патента: US09774835B2. Автор: HIROSHI Baba,Shinsuke Yanazume. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Projection system and projector

Номер патента: US09635329B2. Автор: Yutaka Yasuda,Tadanori Aruga,Toru Katahira. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Projection system, position detection system, and position detection method

Номер патента: US20210055630A1. Автор: Takumi OIKE. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2021-02-25.

Projection system, projection method, and control program

Номер патента: US12041392B2. Автор: Akihiro Ishizuka,Kazuki Inoue,Kazuki Ishida,Tomonori Masuda. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Projection system, projection device, and cradle

Номер патента: US20190356879A1. Автор: Shigeru Tanaka,Kazuya Ishii,Minako KAWATA. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2019-11-21.

Projection system and control method

Номер патента: US20230273512A1. Автор: Kun-Hong Chen,Yu-Hsuan Hsieh. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Image projecting system and synchronization method thereof

Номер патента: US09667950B2. Автор: Chung-Yi Yang. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2017-05-30.

Ceiling medallion projection system

Номер патента: US09602787B2. Автор: Robert Warren Blaser, JR.,Lesley Rachel Blaser. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-03-21.

Projection system and semiconductor integrated circuit

Номер патента: US09554104B2. Автор: Ryuji Fuchikami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Corp of America. Дата публикации: 2017-01-24.

Projection system

Номер патента: US09354493B2. Автор: Masaaki Nakamura,Kunihiro Mima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-31.

Holographic Image Projection Systems

Номер патента: GB2466023A. Автор: Nicholas Lawrence,Paul Richard Routley,Adrian James Cable. Владелец: LIGHT BLUE OPTICS LTD. Дата публикации: 2010-06-09.

Integrated front projection system with shaped imager and associated method

Номер патента: EP1393556A1. Автор: Joseph C. Carls,Patricia M. Hughes,Jr. Ernesto M. Rodriguez. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2004-03-03.

Projection system and method for etendue utilization

Номер патента: US20240142861A1. Автор: Martin J. Richards,Juan Pablo Pertierra,Trevor Davies,John Frederick ARNTSEN,Barrett LIPPEY. Владелец: Dolby Laboratories Licensing Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Multi-projection system, projector, and method of controlling projection of image

Номер патента: US20110310354A1. Автор: Shun Imai,Toshiki Fujimori. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2011-12-22.

Calibration of projection systems

Номер патента: US20190121224A1. Автор: Cameron Murray Edwards,Eric Wai Shing Chong. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-04-25.

Image projection system and method of controlling image projection system

Номер патента: US20210302810A1. Автор: Shoichi Kinoshita. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2021-09-30.

Projection system using reflected light from a color wheel

Номер патента: US20080007699A1. Автор: Gregory S. Pettitt,Bradley W. Walker,Andrew I. Russell. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2008-01-10.

Optical engine of projection system and fabricating method thereof

Номер патента: US7645043B2. Автор: Lee Sang Chul. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2010-01-12.

Optical engine of projection system and fabricating method thereof

Номер патента: US20070030461A1. Автор: Sang Chul Lee. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2007-02-08.

Projection system and method for uniformity correction

Номер патента: US12081917B2. Автор: Jerome D. Shields. Владелец: Dolby Laboratories Licensing Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Methods for calibrating a light field projection system

Номер патента: US09891516B1. Автор: Richard DeVaul,Brian Adolf. Владелец: X Development LLC. Дата публикации: 2018-02-13.

Improvements in devices for determining the intensity of radiation sources

Номер патента: GB936757A. Автор: . Владелец: Philips Electrical Industries Ltd. Дата публикации: 1963-09-11.

Illumination field blending for use in subtitle projection systems

Номер патента: US6883917B2. Автор: Mark Peterson,Brian D. Wichner. Владелец: Infocus Corp. Дата публикации: 2005-04-26.

Projection system and cooling system of the same

Номер патента: US7522827B2. Автор: An Yong Don. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2009-04-21.

Projection apparatus and projection system comprising the same

Номер патента: US20100125350A1. Автор: Yu-Shan Lai,Jimmy Su. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2010-05-20.

Projection apparatus and projection system comprising the same

Номер патента: US8201952B2. Автор: Yu-Shan Lai,Jimmy Su. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2012-06-19.

Imaging module for a projection system having an extended lens device rotatable from a first direction to one of a second and a third direction for selectively projecting image onto a screen

Номер патента: US8093542B2. Автор: Hung-Ying Lin. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2012-01-10.

Vehicle projection system

Номер патента: WO2016196544A1. Автор: James Andrew West,Joshua Monroe Cobb,Kevin Thomas Gahagan,Gordon Charles BROWN. Владелец: CORNING INCORPORATED. Дата публикации: 2016-12-08.

Image Projection System for Reducing Spectral Interference

Номер патента: US20100103381A1. Автор: Roger E. Yaffe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-04-29.

Image projection system for reducing spectral interference

Номер патента: WO2010062620A3. Автор: Roger E. Yaffe. Владелец: RPX Corporation. Дата публикации: 2010-07-22.

Projection method, projection device, and projection system

Номер патента: US11803109B2. Автор: Tetsuya Nishi,Yuki Hayashi,Keisuke Hara. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Light source system and image projection system

Номер патента: US20130271954A1. Автор: Yi Li,Yi Yang,Liangliang Cao. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2013-10-17.

Light source system and image projection system

Номер патента: US09866807B2. Автор: Yi Li,Yi Yang,Liangliang Cao. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Image processing device, projection system, image processing method, and image processing program

Номер патента: US11956573B2. Автор: Akihiro Ishizuka,Kazuki Inoue,Kazuki Ishida,Tomonori Masuda. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-04-09.

Image processing device, projection system, image processing method, and image processing program

Номер патента: US20230300305A1. Автор: Akihiro Ishizuka,Kazuki Inoue,Kazuki Ishida,Tomonori Masuda. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Projection system and method of curved film

Номер патента: US8730409B2. Автор: LIANG Ding,Ming Li,Zhigang Rong,Tao CUI,Caixia Huo. Владелец: Fantawild Digital Film Inc. Дата публикации: 2014-05-20.

Projection system and method for selecting image capturing number for image blending

Номер патента: US20220191391A1. Автор: Chi-Wei Lin,Chien-Chun Peng,Hsun-Cheng Tu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-06-16.

Projection system

Номер патента: WO2016016083A1. Автор: Yi Ding,Junwei Mao,Qing KANG. Владелец: OSRAM GMBH. Дата публикации: 2016-02-04.

Underwater image projection system and method

Номер патента: US09813684B2. Автор: Bruce Johnson,Kevin Doyle,Rakesh Reddy. Владелец: Pentair Water Pool and SPA Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Projection system with edge projection and video projector for said system

Номер патента: RU2606010C2. Автор: Святослав Иванович АРСЕНИЧ. Владелец: Святослав Иванович АРСЕНИЧ. Дата публикации: 2017-01-10.

Projection system

Номер патента: US20110211168A1. Автор: Yang-Sik Kim,Chan-Young Yoon,Yu-Young Joung. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2011-09-01.

Projection system and positioning method applied to projection system

Номер патента: US11381792B2. Автор: Chi-Wei Lin,Chien-Chun Peng,Hsun-Cheng Tu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-07-05.

Projection system and projection method

Номер патента: US11506966B2. Автор: Chia-Keng Wu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-11-22.

Projection system and projection method

Номер патента: US20220082919A1. Автор: Chia-Keng Wu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-03-17.

Projection system and self-adaptive adjustment method thereof

Номер патента: US20210377501A1. Автор: Chi-Wei Lin,Chien-Chun Peng,Hsun-Cheng Tu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2021-12-02.

Projection system and positioning method applied to projection system

Номер патента: US20210297643A1. Автор: Chi-Wei Lin,Chien-Chun Peng,Hsun-Cheng Tu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2021-09-23.

Method for influencing a position of a focal spot in an x-ray radiation source of a computed tomography apparatus, and computed tomography apparatus

Номер патента: GB2578814A. Автор: Erler Marco. Владелец: CARL ZEISS INDUSTRIELLE MESSTECHNIK GMBH. Дата публикации: 2020-05-27.

Projector, multi-projection system, and method for controlling projector

Номер патента: US10638100B2. Автор: Nozomi Sato. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2020-04-28.

Portable multimedia projection system

Номер патента: WO2005043932A2. Автор: Lonnie G. Johnson. Владелец: Johnson Research And Development Co., Inc.. Дата публикации: 2005-05-12.

Projection system, image processing device, projection method, and program

Номер патента: EP3404648A1. Автор: Masaaki Ishikawa,Yukinaka Uchiyama. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-21.

Projection system and keystone correction method

Номер патента: EP3641305A1. Автор: Pei-Yu Li,Yu-Chi Wu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-04-22.

Systems, devices, and methods for calibrating a light field projection system

Номер патента: EP3545354A1. Автор: Brian John Adolf,Richard Wayne DeVaul. Владелец: X Development LLC. Дата публикации: 2019-10-02.

Projection system and control method thereof

Номер патента: US20240007598A1. Автор: Chien-Yi Yang,Hsin-Chang Huang,Pei-Jen Liao,Chih En Wang. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Projection system and monitoring method thereof and display system and monitoring method thereof

Номер патента: US20190124310A1. Автор: Jui-Chi Chen,Ching-Ho Chang,Fu-Shan Wang,Heng-Cheng Chen,Hsin-Ya Lai,Chueh-Ching Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2019-04-25.

Projection system and projector

Номер патента: US20160100144A1. Автор: Yutaka Yasuda,Tadanori Aruga,Toru Katahira. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2016-04-07.

Capturing images for a spherical venue

Номер патента: WO2024137154A1. Автор: Deanan DaSilva,Michael GRAAE. Владелец: Sphere Entertainment Group, Llc. Дата публикации: 2024-06-27.

Capturing images for a spherical venue

Номер патента: US20240214676A1. Автор: Deanan DaSilva,Michael GRAAE. Владелец: Msg Entertainment Group Llg. Дата публикации: 2024-06-27.

Light projecting system and display

Номер патента: RU2444772C2. Автор: Теодорус Ф.Е.М. ОВЕРЕС,Теодорус Ф.Е.М. ОВЕРЕС (NL). Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2012-03-10.

Projection system

Номер патента: US20220091431A1. Автор: Hiroyuki Takada,Nobuki Nakajima. Владелец: JVCKenwood Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Billboard and Method of Retrofitting a Billboard for a Video Content Replacement System

Номер патента: US20210409638A1. Автор: Vesa Suontama. Владелец: SUPPONOR OY. Дата публикации: 2021-12-30.

Driving circuits for a piezoelectric microelectromechanical system mirror

Номер патента: EP4066041A1. Автор: Tapio PERNU. Владелец: Valtion teknillinen tutkimuskeskus. Дата публикации: 2022-10-05.

Immersive optical projection system

Номер патента: US12019361B2. Автор: Ronald S. Maynard. Владелец: Passenger Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Viewing device, stereo projection system, and use of cyanine dyes in a supramolecular J-aggregate configuration

Номер патента: US09651791B2. Автор: Maximilian Baum. Владелец: INFITEC GMBH. Дата публикации: 2017-05-16.

Image projection system

Номер патента: EP1133712A1. Автор: Adrianus J. S. M. De Vaan,Serge J. A. Bierhuizen. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2001-09-19.

Optical micro-projection system and projection method

Номер патента: US09912923B2. Автор: Lucio Kilcher,Faouzi Khechana. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

Multi-projection system for extending visual element of main image

Номер патента: US09436076B2. Автор: Hwan Chul Kim,Su Ryeon Kang. Владелец: CJ CGV CO Ltd. Дата публикации: 2016-09-06.

Multi-projection system capable of refracting projection light of projection device

Номер патента: US09411221B2. Автор: Hwan Chul Kim,Su Ryeon Kang. Владелец: CJ CGV CO Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Image projection system

Номер патента: US6179425B1. Автор: Adrianus J. S. M. De Vaan. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 2001-01-30.

Projection system and method with pixel shifting

Номер патента: US20240171716A1. Автор: Martin J. Richards,Juan Pablo Pertierra. Владелец: Dolby Laboratories Licensing Corp. Дата публикации: 2024-05-23.

Projection system for projecting lissajous figures and microscanner with coupled oscillators

Номер патента: US20240272422A1. Автор: Ulrich Hofmann,Thomas von Wantoch,Oleg Petrak,Leon Pohl,Peter Blicharski,Christian Janicke. Владелец: Oqmented GmbH. Дата публикации: 2024-08-15.

Mirror Device for Projection System Having Plurality of Tiltable Mirrors Tilted

Номер патента: US20080037091A1. Автор: William Connors,George Radominski,Timothy Emery,Robert Shreeve. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-02-14.

Projection system and method with dynamic target geometry

Номер патента: EP4285589A1. Автор: Martin J. Richards,Barret Lippey,Juan Pablo Pertierra,Clement Luc Carol LE BARBENCHON,Angelo Miguel PIRES ARRIFANO. Владелец: Dolby Laboratories Licensing Corp. Дата публикации: 2023-12-06.

Projection system and method with dynamic target geometry

Номер патента: US20240171710A1. Автор: Martin J. Richards,Barret Lippey,Juan Pablo Pertierra,Clement Luc Carol LE BARBENCHON,Angelo Miguel PIRES ARRIFANO. Владелец: Dolby Laboratories Licensing Corp. Дата публикации: 2024-05-23.

De-speckler and projection system including the same

Номер патента: WO2024183875A1. Автор: Günter Heumann,Heidrun JÄNCHEN. Владелец: Jabil Optics Germany GmbH. Дата публикации: 2024-09-12.

Vehicular projection system

Номер патента: US09950623B2. Автор: Ying-Che Tseng,Chien-Chang Huang. Владелец: Primax Electronics Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

A fluid handling system, method and lithographic apparatus

Номер патента: US20240248411A1. Автор: Cornelius Maria Rops,Giovanni Luca GATTOBIGIO,Dennis Van Den Berg,Eric Henricus Egidius Catharina EUMMELEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-25.

Chamber for a projection system of a lithographic apparatus, projection system and lithographic apparatus

Номер патента: EP4413423A1. Автор: Franciscus Johannes Joseph Janssen,Erik Johan ARLEMARK,Jacek GRZELKA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-14.

Lithographic apparatus, inspection system, and method of implementing parallel sensor-heads with a common radiation source

Номер патента: WO2024175303A1. Автор: Henricus Petrus Maria Pellemans,Arjan Johannes Anton BEUKMAN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-08-29.

Lithographic apparatus and in-line cleaning apparatus

Номер патента: US09785061B2. Автор: Hans Jansen,Roelof Frederik De Graaf,Bauke Jansen,Hubertus Leonardus Franciscus Heusschen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-10-10.

Method of reducing effects of lens heating and/or cooling in a lithographic process

Номер патента: WO2020173651A1. Автор: Nick KANT,Martijn Cornelis SCHAAFSMA. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2020-09-03.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: WO2005064412A2. Автор: Michael Cornelis Van Beek,Mark Kroon,Ralph Kurt,Peter Dirksen,Cassandra May Owen. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2005-07-14.

Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby

Номер патента: EP1709489A2. Автор: Michael Cornelis Van Beek,Mark Kroon,Ralph Kurt,Peter Dirksen,Cassandra May Owen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-10-11.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09823590B2. Автор: Carlo Cornelis Maria LUIJTEN,Franciscus Johannes Joseph Janssen,Manish Ranjan,Maksym Chernyshov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-11-21.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09715179B2. Автор: Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Franciscus Johannes Joseph Janssen,Marcel Beckers,Ivo Adam Johannes Thomas,Siebe Landheer,Jeroen Peter Johannes Bruijstens. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-07-25.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09618859B2. Автор: Jan Bernard Plechelmus Van Schoot,Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Theodorus Petrus Maria Cadee,Koen Jacobus Johannes Maria Zaal,Adrianus Hendrik Koevoets. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-04-11.

Lithographic apparatus, a device manufacturing method, and a fastener for use in a lithographic apparatus

Номер патента: US20050286040A1. Автор: Lambertus VAN DEN WILDENBERG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-12-29.

Lithographic Apparatus and Method

Номер патента: US20120147346A1. Автор: Markus Franciscus Antonius Eurlings,Jan Bernard Plechelmus Van Schoot,Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk,Igor Petrus Maria Bouchoms. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-06-14.

Lithographic apparatus, detection system with parallel sensors, and method

Номер патента: WO2024165298A1. Автор: Simon Reinald HUISMAN,Justin Lloyd KREUZER. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-08-15.

Lithographic apparatus and associated methods

Номер патента: EP4419965A1. Автор: Michael Engel,Ronald Van Der Ham,Gosse Charles De Vries,Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Evgenia KURGANOVA,Franciscus Johannes Joseph Janssen,Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis,Volker Dirk Hildenbrand,Paul Alexander VERMEULEN,Abraham Jan WOLF,Jeroen Peterus Johannes VAN LIPZIG,Ties Jan Willem Bakker. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-28.

Projection system control

Номер патента: WO2024126079A1. Автор: Cornelis Melchior BROUWER,Pavel SMAL,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Bram Paul Theodoor Van Goch. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-20.

Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus

Номер патента: US09709901B2. Автор: Marcio Alexandre Cano Miranda,Ivo Adam Johannes Thomas,Gheorghe Tanasa,Siebe Landheer,Arnout Johannes Meester. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-07-18.

Lithographic apparatus with a metrology system for measuring a position of a substrate table

Номер патента: US09684249B2. Автор: Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Theodorus Petrus Maria Cadee,Adrianus Hendrik Koevoets. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-06-20.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20050151096A1. Автор: Gert-Jan Heerens,Hendrik Neerhof. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-07-14.

Lithographic apparatus, temperature sensor, and fiber bragg grating sensor

Номер патента: US20240302753A1. Автор: Gerardus Swinkels,Mahesh Upendra AJGAONKAR,Laurentius VAN BOKHOVEN,Joost KLUGKIST,Koen BOS. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-09-12.

Lithographic apparatus and a device manufacturing method

Номер патента: US20050260779A1. Автор: Edwin Eduard Krijnen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-11-24.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20060066833A1. Автор: Raimond Visser,Jan Kuit,Johannes Maquine,Dirk Bijvoet,Jan Hoogkamp,Hubert Segers. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-03-30.

Patterning device cooling systems in a lithographic apparatus

Номер патента: US20180196360A1. Автор: Laurentius Johannes Adrianus Van Bokhoven,Christopher Charles WARD,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Marc Léon VAN DER GAAG. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2018-07-12.

Lithographic apparatus

Номер патента: WO2018219569A1. Автор: Hendrikus Gijsbertus Schimmel,Manish Ranjan,Mehdi Yousefi Moghaddam,Dries Vaast Paul HEMSCHOOTE,Alain Louis Claude LEROUX,Paulus Albertus Maria GASSELING,Erik Johan ARLEMARK,Johannes Marinus Abraham HOFMAN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2018-12-06.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09507277B2. Автор: Ruud Antonius Catharina Maria Beerens,Rick Scholte,Ines Lopez Arteaga,Wilhelmus Henricus Theodorus Maria AANGENENT,Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen. Владелец: SORAMA HOLDING BV. Дата публикации: 2016-11-29.

Lithographic apparatus, locking device, and method

Номер патента: US20240319618A1. Автор: Daniel Nathan Burbank,Andi DINE. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-09-26.

A lithographic apparatus and related methods

Номер патента: US20220171298A1. Автор: Zhuangxiong HUANG,Reinier Theodorus Martinus JILISEN,Sander Baltussen,Alisia Mariska WILLEMS - PETERS,Sietse WIJTVLIET. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-06-02.

A fluid handling system, method and lithographic apparatus

Номер патента: EP4268020A1. Автор: Christianus Wilhelmus Johannes BERENDSEN,Erik Henricus Egidius Catharina EUMMELEN,Koen Cuypers,Giovanni Luca GATTOBIGIO,Theodorus Wilhelmus Polet. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-11-01.

Metrology system, lithographic apparatus, and calibration method

Номер патента: US11740561B2. Автор: Nikhil Mehta,Piotr Jan Meyer. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-08-29.

A fluid handling system, method and lithographic apparatus

Номер патента: US20230333480A1. Автор: Christianus Wilhelmus Johannes BERENDSEN,Erik Henricus Egidius Catharina EUMMELEN,Koen Cuypers,Giovanni Luca GATTOBIGIO,Theodorus Wilhelmus Polet. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-19.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09811005B2. Автор: Yang-Shan Huang,Theodorus Petrus Maria Cadee. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-11-07.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09477160B2. Автор: Joeri Lof,Klaus Simon,Johannes Catharinus Hubertus Mulkens,Erik Roelof Loopstra,Alexander Straaijer,Bob Streefkerk,Christiaan Alexander Hoogendam,Antonius Theodorus Anna Maria Derksen,Henrikus Herman Marie Cox,Johannes Jacobus Matheus Baselmans,Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens,Jan-Gerard Cornelis Van Der Toorn,Frits Van Der Meulen,Martijn Houkes,Gerardus Petrus Matthijs Van Nunen,Bernardus Antonius Slaghekke. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-10-25.

A fluid handling system, method and lithographic apparatus

Номер патента: EP4323841A1. Автор: Erik Henricus Egidius Catharina EUMMELEN,Cornelius Maria Rops,Giovanni Luca GATTOBIGIO,Dennis Van Den Berg. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-02-21.

A fluid handling system, method and lithographic apparatus

Номер патента: WO2024008367A1. Автор: Christianus Wilhelmus Johannes BERENDSEN,Erik Henricus Egidius Catharina EUMMELEN,Cornelius Maria Rops,Giovanni Luca GATTOBIGIO,Edwin DE JONG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-01-11.

A fluid handling system, method and lithographic apparatus

Номер патента: EP4252072A1. Автор: Christianus Wilhelmus Johannes BERENDSEN,Erik Henricus Egidius Catharina EUMMELEN,Cornelius Maria Rops,Giovanni Luca GATTOBIGIO. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-04.

Lithographic Apparatus, Aberration Detector and Device Manufacturing Method

Номер патента: US20120026477A1. Автор: Wilhelmus Jacobus Maria Rooijakkers. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-02-02.

Lithographic apparatus and method

Номер патента: US09519224B2. Автор: Bart Peter Bert Segers,Hubertus Antonius Geraets,Arjan Gijsbertsen,Natalia Viktorovna DAVYDOVA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-12-13.

Lithographic apparatus, programmable patterning device and lithographic method

Номер патента: WO2015022125A1. Автор: Frank VAN DE KERKHOF. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2015-02-19.

Method for controlling a lithographic system

Номер патента: US12099306B2. Автор: Jan Bernard Plechelmus Van Schoot,Antonius Theodorus Wilhelmus Kempen,Marinus Aart Van Den Brink,Oscar Franciscus Jozephus NOORDMAN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-24.

Lithographic apparatus and method of manufacturing a device

Номер патента: US09606445B2. Автор: Vadim Yevgenyevich Banine,Nicolaas Aldegonda Jan Maria Van Aerle,Han-Kwang Nienhuys,Carlo Cornelis Maria LUIJTEN,Marcel Johannus Elisabeth Hubertus Muitjens,Andrei Mikhailovich Yakunin,Luigi Scaccabarozzi,Maarten Van Kampen,Arthur Winfried Eduardus Minnaert,Alexander Marinus Arnoldus Huijberts,Paulus Albertus Maria GASSELING,Pedro Julian Rizo Diago,Hans Joerg Mallmann,Kurstat Bal. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-03-28.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20050036121A1. Автор: Joeri Lof,Johannes Catharinus Mulkens,Alexander Straaijer,Bob Streefkerk,Erik Loopstra,Hans Jansen,Christiaan Hoogendam,Sjoerd Donders,Antonius Theodorus Derksen,Jacobus Johannus Leonardus Verspay. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-02-17.

Measurement system, calibration method, lithographic apparatus and positioner

Номер патента: US10520835B2. Автор: Johannes Maria Van Benten. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-12-31.

Lithographic apparatus and lithographic projection method

Номер патента: NL2016483A. Автор: Onvlee Johannes,VAN DE RUIT Kevin,Melchior Brouwer Cornelis,Dinand Paarhuis Bart,Jacob Kramer Pieter,Xavier Van Damme Jean-Philippe. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-10-24.

Lithographic apparatus and in-line cleaning apparatus

Номер патента: US9036128B2. Автор: Hans Jansen,Roelof Frederik De Graaf,Bauke Jansen,Hubertus Leonardus Franciscus Heusschen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-05-19.

Measurement system, calibration method, lithographic apparatus and positioner

Номер патента: NL2018639A. Автор: Maria Van Benten Johannes. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-11-01.

Lithographic apparatus

Номер патента: NL2018755A. Автор: BUTLER Hans,Antonius Fransiscus Van Der Pasch Engelbertus,Corné Henri De Wit Paul. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-11-30.

Projection system and lithographic apparatus comprising said projection system

Номер патента: NL2024451A. Автор: Engelbertus Cornelis Mutsaers Marinus,Johannes Marinus De Jongh Robertus,Pieter Starreveld Jeroen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-08-14.

Lithographic apparatus

Номер патента: US11914308B2. Автор: Hans Butler,Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch,Paul Corné Henri DE WIT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-02-27.

Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby

Номер патента: US20050035307A1. Автор: Martinus Verhagen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-02-17.

A movable stage for a lithographic apparatus

Номер патента: WO2023217553A1. Автор: Stephen Roux,Santiago E. del Puerto. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-11-16.

Method of reducing effects of lens heating and/or cooling in a lithographic process

Номер патента: NL2024788A. Автор: KANT Nick,Cornelis Schaafsma Martijn. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-09-01.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20080129973A1. Автор: Harry Sewell,Louis John Markoya,Diane Mccafferty. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2008-06-05.

Immersion lithographic apparatus with a projection system having an isolated or movable part

Номер патента: US8218125B2. Автор: Johannes Catharinus Hubertus Mulkens. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-07-10.

Lithographic apparatus and a measurement system

Номер патента: US6940587B2. Автор: Johannes Hubertus Josephina Moors,Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk,Johannes Jacobus Matheus Baselmans,Martinus Hendrikus Antonius Leenders,Hans Van Der Laan. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-09-06.

Illumination system for shaping extreme ultraviolet radiation used in a lithographic projection apparatus

Номер патента: US6498351B1. Автор: Borgert Kruizinga,Isabel Escudero Sanz. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2002-12-24.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8184266B2. Автор: Bastiaan Lambertus Wilhelmus Marinus VAN DE VEN,Jeroen Pieter STARREVELD. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-05-22.

Source mask optimization based on systematic effects on a lithographic apparatus

Номер патента: WO2024141256A1. Автор: Frank Staals. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-07-04.

Source mask optimization based on systematic effects on a lithographic apparatus

Номер патента: EP4394512A1. Автор: Frank Staals. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-03.

Method of predicting performance of a lithographic apparatus, calibration of lithographic apparatus, device manufacturing method

Номер патента: WO2024208515A1. Автор: Hasret ERCISLI,Alina-Ionela DOBAN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-10-10.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US9625835B2. Автор: Carlo Cornelis Maria LUIJTEN,Franciscus Johannes Joseph Janssen,Manish Ranjan,Maksym Chernyshov. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-04-18.

Lithographic apparatus, sensor and method

Номер патента: US9470985B2. Автор: Derk Jan Wilfred Klunder,Fabrizio Evangelista,Cornelis Cornelia De Bruijn. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-10-18.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20120274912A1. Автор: Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Franciscus Johannes Joseph Janssen,Marcel Beckers,Ivo Adam Johannes Thomas,Siebe Landheer,Jeroen Peter Johannes Bruijstens. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-11-01.

Lithographic apparatus and a method of manufacturing a lithographic apparatus

Номер патента: US20180210350A1. Автор: Theodorus Marinus Modderman,Ronald Van Der Ham,Koen Steffens,Johannes Jacobus Matheus Baselmans,Gerben Pieterse,Bart SMEETS,Willem Jan Bouman,Cornelius Maria Rops,Theodorus Wilhelmus Polet. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-07-26.

Safety mechanism for a lithographic patterning device

Номер патента: EP1500985A3. Автор: Gert-Jan Heerens,B. L. W. Van De Ven. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-05-06.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20160054647A1. Автор: Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Franciscus Johannes Joseph Janssen,Marcel Beckers,Ivo Adam Johannes Thomas,Siebe Landheer,Jeroen Peter Johannes Bruijstens. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-02-25.

Lithographic apparatus and method

Номер патента: US20180321593A1. Автор: Mark Constant Johannes Baggen,Benjamin Cunnegonda Henricus SMEETS. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2018-11-08.

Method and lithograph apparatus for measuring a radiation beam

Номер патента: US11796921B2. Автор: Maurice Henricus Franciscus Janssen,Arend Johannes DONKERBROEK,Yassin CHOWDHURY. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-24.

Lithographic Apparatus and Method

Номер патента: WO2017084870A9. Автор: Mark Constant Johannes Baggen,Benjamin Cunnegonda Henricus SMEETS. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2018-09-13.

Lithographic apparatus, reticle masking device for a lithographic apparatus, gas bearing and apparatus comprising such gas bearing

Номер патента: US20060139615A1. Автор: Edwin Buis,Johannes Adrianus Antonius Dams,Erik REKKERS,Maurice Mee,Johannes Andreas Henricus Jacobs,Antoine Verweij. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-06-29.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US9360765B2. Автор: Joeri Lof,Johannes Catharinus Hubertus Mulkens,Erik Roelof Loopstra,Alexander Straaijer,Bob Streefkerk,Hans Jansen,Christiaan Alexander Hoogendam,Antonius Theodorus Anna Maria Derksen,Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Jacobus Johannus Leonardus Hendricus Verspay. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-06-07.

Lithographic apparatus with contamination suppression, device manufacturing method, and device manufactured thereby

Номер патента: US20050122491A1. Автор: Vladimir Ivanov,Vadim Banine,Vladimir Krivtsun,Levinus Bakker,Konstantin Koshelev. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-06-09.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US10866529B2. Автор: Michael Johannes Vervoordeldonk,Hans Butler,Maurice Willem Jozef Etiënne Wijckmans. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-12-15.

Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus.

Номер патента: NL2003395A. Автор: Laurentius Jorritsma,Hans Jansen,Bauke Jansen,Jeroen Bruijstens,Ivo Thomas,Marcio Miranda,Gheorghe Tanasa,Siebe Landheer,Lambertus Dominicus Noordam,Richard Bruls,Maurice Lee,Arnout Meester. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-03-18.

Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus

Номер патента: US20170285487A1. Автор: Marcio Alexandre Cano Miranda,Ivo Adam Johannes Thomas,Gheorghe Tanasa,Siebe Landheer,Arnout Johannes Meester. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-10-05.

Lithographic Apparatus, Method and Device Manufacturing Method

Номер патента: US20090195760A1. Автор: Alexander Cornelis Geerlings,Peter Paul HEMPENIUS,Nicolaas Bernardus Roozen,Youssef Karel Maria De Vos,Johan Hendrik Geerke,Erwin Antoniu Fransiscus VAN DEN BOOGAERT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-08-06.

Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus

Номер патента: US20150109592A1. Автор: Marcio Alexandre Cano Miranda,Ivo Adam Johannes Thomas,Gheorghe Tanasa,Siebe Landheer,Arnout Johannes Meester. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-04-23.

Lithographic apparatus and method for preventing peripheral exposure of a substrate

Номер патента: SG11201806635XA. Автор: Adrianus Johannes Petrus Maria Vermeer. Владелец: Kulicke & Soffa Liteq B V. Дата публикации: 2018-09-27.

Lithographic apparatus and method to calibrate a position measurement system of a lithographic apparatus

Номер патента: WO2024165259A1. Автор: Tom Van Zutphen. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-08-15.

Arrangement for cleaning a surface in a lithographic apparatus

Номер патента: WO2008002134A2. Автор: Derk Jan Wilfred Klunder,Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2008-01-03.

Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby having an increase in depth of focus

Номер патента: US20070013889A1. Автор: Arno Bleeker,Laurentius Jorritsma,Johannes Baselmans,Jacob Klinkhamer. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2007-01-18.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7106420B2. Автор: Raimond Visser,Jan Jaap Kuit,Johannes Maquine,Jan Frederik Hoogkamp,Hubert Marie Segers,Dirk Jan Bijvoet. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-09-12.

Lithographic Apparatus

Номер патента: NL2019411A. Автор: VAN DER MEULEN Frits,VAN BERKEL Koos,DE HOOGH Joost,Catharina Reinier Derks Sander,Charles De Vries Gosse,Wilhelmus Louis Lafarre Raymond,Ferdinand Vles David,Alexander Hoogendam Christiaan,Louis Claude Leroux Alain,Louis Valentin Christiaan,Vaast Paul Hemschoote Dries,Corné Henri De Wit Paul,Johan Arlemark Erik,Agnes Willem Cuijpers Martinus,Herman Marie Cox Hendrikus,Hendrik Koevoets Adrianus,Cornelis Gerardus Gijzen Ronald,Vincent Overkamp Jim,Henricus Van Der Meulen Stan,Klaas Van Der Schoot Harmen,Cornelis Gerardus Van Der Sanden Jacobus,Willem Paul Limpens Patrick,Auke Rinze Westerhuis Evert. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-03-06.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20060285099A1. Автор: Arnold Sinke,Jan Hauschild. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-12-21.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20060114441A1. Автор: Erik Loopstra,Vadim Banine,Levinus Bakker,Jeroen Jonkers. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-06-01.

Arrangement for cleaning a surface in a lithographic apparatus

Номер патента: WO2008002134A3. Автор: Derk Jan Wilfred Klunder,Herpen Maarten Marinus Joh Van. Владелец: Herpen Maarten Marinus Joh Van. Дата публикации: 2008-03-13.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7023524B2. Автор: Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk,Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs,Harm-Jan Voorma. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-04-04.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20060146307A1. Автор: Steven Hansen,Doug Van Den Broeke. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-07-06.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20030197914A1. Автор: Hendrikus Cox,Frank Auer,Marc Van Der Wijst,Bastiaan Jansen,Dominicus Franken. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2003-10-23.

Lithographic apparatus and component

Номер патента: US20120300187A1. Автор: Han-Kwang Nienhuys,Franciscus Johannes Joseph Janssen,Sven Pekelder,Roger Wilhelmus Antonius Henricus Schmitz,Alexander Marinus Arnoldus Huijberts,Paulus Albertus Maria GASSELING. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-11-29.

Lithographic apparatus and component with repeating structure having increased thermal accommodation coefficient

Номер патента: US8970818B2. Автор: Han-Kwang Nienhuys,Franciscus Johannes Joseph Janssen,Sven Pekelder,Roger Wilhelmus Antonius Henricus Schmitz,Alexander Marinus Arnoldus Huijberts,Paulus Albertus Maria GASSELING. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-03-03.

Method and apparatus for controlling a lithographic apparatus, and a lithographic apparatus

Номер патента: WO2024074255A1. Автор: Wenjie JIN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-04-11.

Movable carriage for a lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20060011855A1. Автор: Hernes Jacobs,Koen Jacobus Zaal,Martinus Arnoldus Terken,Harmen Klaas Schoot,Petrus Matthijs Vosters. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-01-19.

Method of controlling a lithographic processing cell, device manufacturing method, lithographic apparatus, track unit, lithographic processing cell, and computer program

Номер патента: US20060197929A1. Автор: Johannes Onvlee,Roel Boumen,Norbertus Van Den Nieuwelaar. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-09-07.

Lithographic apparatus and an object positioning system

Номер патента: US09939738B2. Автор: Putra SAPUTRA,Rogier Hendrikus Magdalena Cortie,Christianus Wilhelmus Johannes BERENDSEN,Jim Vincent OVERKAMP,Thibault Simon Mathieu Laurent,Ruud Hendrikus Martinus Johannes Bloks,Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Adrianus Hendrik Koevoets,Patricius Jacobus NEEFS,Michael Johannes Hendrika Wilhelmina RENDERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-04-10.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8810771B2. Автор: Erik Roelof Loopstra,Bob Streefkerk,Christiaan Alexander Hoogendam,Bernhard Gellrich,Andreas Wurmbrand. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2014-08-19.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7352433B2. Автор: Erik Roelof Loopstra,Bob Streefkerk,Christiaan Alexander Hoogendam,Andreas Wurmbrand,Bernard Gellrich. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2008-04-01.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20050018155A1. Автор: Erik Loopstra,Aleksey Kolesnychenko,Henrikus Herman Cox,Sjoerd Nicolaas Donders,Christiaan Hoogendam,Helmar Santen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-01-27.

Lithographic apparatus and method

Номер патента: US20070146657A1. Автор: Hubert Mierlo,Gert-Jan Heerens,Hans Meiling,Antonius Theodorus Maria Bastein,Jacques Donck,Hedser Brug. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2007-06-28.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20060087636A1. Автор: Raimond Visser,Jan Kuit,Johannes Maquine,Jan Hoogkamp,Hubert Segers. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-04-27.

Lithographic apparatus with pre-formed flexible transportation line

Номер патента: US8125616B2. Автор: Henrikus Herman Marie Cox,Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen,Godfried Katharina Hubertus Franciscus Geelen,Jerome Francois Sylvain Virgile Van Loo. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-02-28.

Lithographic Apparatus with Pre-Formed Flexible Transportation Line

Номер патента: US20090169661A1. Автор: Henrikus Herman Marie Cox,Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen,Godfried Katharina Hubertus Franciscus Geelen,Jerome Francois Sylvain Virgile Van Loo. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-07-02.

Lithographic apparatus and interferometer system

Номер патента: US20050078288A1. Автор: Wouter Pril. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-04-14.

Method for controlling a lithographic apparatus and associated apparatuses

Номер патента: US12050406B2. Автор: Frank Staals. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-30.

Lithographic apparatus and method for optimizing an illumination source using photolithographic simulations

Номер патента: US7030966B2. Автор: Steven George Hansen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-04-18.

Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby

Номер патента: US7502095B2. Автор: Barrie Dudley Brewster,Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs,Robert Gordon Livesey. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-03-10.

Lithographic apparatus, locking device, and method

Номер патента: WO2023285140A1. Автор: Daniel Nathan Burbank,Andi DINE. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2023-01-19.

Lithographic apparatus and method for preventing peripheral exposure of a substrate

Номер патента: US20190033722A1. Автор: Adrianus Johannes Petrus Maria Vermeer. Владелец: Kulicke and Soffa Liteq BV. Дата публикации: 2019-01-31.

Lithographic apparatus and method for preventing peripheral exposure of a substrate

Номер патента: WO2017142401A1. Автор: Adrianus Johannes Petrus Maria Vermeer. Владелец: Liteq B.V.. Дата публикации: 2017-08-24.

Lithographic apparatus and method for preventing peripheral exposure of a substrate

Номер патента: EP3417346A1. Автор: Adrianus Johannes Petrus Maria Vermeer. Владелец: Kulicke and Soffa Liteq BV. Дата публикации: 2018-12-26.

Lithographic Apparatus and Method

Номер патента: US20210132505A1. Автор: Hans Butler. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-05-06.

A fluid extraction system, method and lithographic apparatus

Номер патента: WO2023061694A1. Автор: Mark Johannes Hermanus Frencken,Willem Arie Roos,Benjamin Cunnegonda Henricus SMEETS,Bram Peter Johan LINSSEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-04-20.

Gas supply module, fluid handling system, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: WO2024170178A1. Автор: Marc Léon VAN DER GAAG,Maarten HOLTRUST,Seyed Amin RAZAVIEH,Leonarda Hendrika VAN DEN HEUVEL. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-08-22.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09939740B2. Автор: Jeroen Gerard Gosen,Koen Cuypers,Günes NAKIBOGLU,Laurentius Johannes Adrianus Van Bokhoven,Frank Johannes Jacobus Van Boxtel,Martijn Van Baren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-04-10.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8472002B2. Автор: Joeri Lof,Roelof Aeilko Siebrand Ritsema,Klaus Simon,Johannes Catharinus Hubertus Mulkens,Hendricus Johannes Maria Meijer,Erik Roelof Loopstra,Alexander Straaijer,Bob Streefkerk,Christiaan Alexander Hoogendam,Aleksey Kolesnychenko,Joannes Theodoor De Smit,Helmar Van Santen,Hans Butler,Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens,Timotheus Franciscus Sengers,Erik Theodorus Maria Bijlaart,Frank van Schaik. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2013-06-25.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8514369B2. Автор: Johannes Catharinus Hubertus Mulkens,Bob Streefkerk. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2013-08-20.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US9477159B2. Автор: Johannes Catharinus Hubertus Mulkens,Bob Streefkerk. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-10-25.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20040160582A1. Автор: Joeri Lof,Klaus Simon,Johannes Catharinus Mulkens,Alexander Straaijer,Bob Streefkerk,Erik Loopstra,Timotheus Sengers,Aleksey Kolesnychenko,Hans Butler,Jeroen Johannes Sophia Mertens,Joannes De Smit,Roelof Aeilko Ritsema,Hendricus Johannes Meijer,Erik Theodorus Bijlaart,Sjoerd Nicolaas Donders,Christiaan Hoogendam,Frank Schaik,Helmar Santen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2004-08-19.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8154708B2. Автор: Arie Jeffrey Den Boef,Joeri Lof,Roelof Aeilko Siebrand Ritsema,Klaus Simon,Johannes Catharinus Hubertus Mulkens,Hendricus Johannes Maria Meijer,Erik Roelof Loopstra,Alexander Straaijer,Bob Streefkerk,Christiaan Alexander Hoogendam,Joannes Theodoor De Smit,Helmar Van Santen,Mark Kroon,Hans Butler,Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Aleksey Yurievich Kolesnychenko,Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens,Timotheus Franciscus Sengers,Joost Jeroen Ottens,Erik Theodorus Maria Bijlaart,Frank van Schaik,Marcus Adrianus Van De Kerhof. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-04-10.

Fluid handling structure, table, lithographic apparatus, immersion lithographic apparatus, and device manufacturing methods

Номер патента: US20100157265A1. Автор: Nicolaas Ten Kate. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-06-24.

Substrate level sensing in a lithographic apparatus

Номер патента: US20230384698A1. Автор: Martin Jules Marie-Emile De Nivelle,Marcel Bontekoe,Jori SELEN,Doru Cristian TORUMBA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-11-30.

Method for controlling a lithographic system

Номер патента: NL2024949A. Автор: Theodorus Wilhelmus Kempen Antonius,Franciscus Jozephus Noordman Oscar,Bernard Plechelmus Van Schoot Jan,Aart Van Den Brink Marinus. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-09-22.

Methods and system for determining aberrations of a projection system

Номер патента: EP4350440A1. Автор: Paul Jean Maurice GEELEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-10.

Method for controlling a lithographic system

Номер патента: EP3942367A1. Автор: Jan Bernard Plechelmus Van Schoot,Antonius Theodorus Wilhelmus Kempen,Marinus Aart Van Den Brink,Oscar Franciscus Jozephus NOORDMAN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-01-26.

Methods and system for determining aberrations of a projection system

Номер патента: WO2024074276A1. Автор: Paul Jean Maurice GEELEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrates for calibration of a lithographic apparatus

Номер патента: WO2024149537A1. Автор: Richard Johannes Franciscus Van Haren,Leon Paul VAN DIJK,Suwen LI,Ronald Henricus Johannes OTTEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-07-18.

Controller for a positioning device, method for controlling a positioning device, positioning device, and lithographic apparatus provided with a positioning device

Номер патента: US20120143367A1. Автор: Marcel François Heertjes,Wilhelmus Franciscus Johanne SIMONS,Andreas Petrus Hubertina HOUBEN Dennis,Jeffrey Hendrikus Peter Maria Goossens. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-06-07.

Method and lithograph apparatus for measuring a radiation beam

Номер патента: EP3924779A1. Автор: Maurice Henricus Franciscus Janssen,Arend Johannes DONKERBROEK,Yassin CHOWDHURY. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-12-22.

Fluid nozzle for a patterning device environment of a lithographic apparatus

Номер патента: EP4414784A1. Автор: Zhuangxiong HUANG,Emericus Antoon Theodorus VAN DEN AKKER,Cem Demirkesen,Syed Aaquib HAZARI. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-14.

Fluid nozzle for a patterning device environment of a lithographic apparatus

Номер патента: WO2024165275A1. Автор: Zhuangxiong HUANG,Emericus Antoon Theodorus VAN DEN AKKER,Cem Demirkesen,Syed Aaquib HAZARI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-08-15.

Thermal conditioning system and lithographic apparatus

Номер патента: WO2024149546A1. Автор: Zhuangxiong HUANG,Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen,Niek Jacobus Johannes Roset,Joris Wilhelmus Henricus VERMUNT,Gijs Kramer,Frank Pieter Albert VAN DEN BERKMORTEL. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder

Номер патента: US09829803B2. Автор: Peter van Delft,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Yogesh Pramod KARADE,Elisabeth Corinne RODENBURG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-11-28.

Fluid handling structure, a lithographic apparatus and a device manufacturing method

Номер патента: US09625829B2. Автор: David Bessems,Cornelius Maria Rops. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-04-18.

Fluid handling structure, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09625828B2. Автор: Michel Riepen,Takeshi Kaneko,Nicolaas Ten Kate,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Sandra Van Der Graaf,Rogier Hendrikus Magdalena Cortie,Fabrizio Evangelista,Erik Henricus Egidius Catharina EUMMELEN,David Bessems,Cornelius Maria Rops,Laurentius Johannes Adrianus Van Bokhoven,Adrianus Marinus Verdonck. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-04-18.

Fluid handling structure, a lithographic apparatus and a device manufacturing method

Номер патента: US09563132B2. Автор: Michel Riepen,Rogier Hendrikus Magdalena Cortie,Erik Henricus Egidius Catharina EUMMELEN,David Bessems,Cornelius Maria Rops,Adrianes Johannes Baeten. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-02-07.

Substrate table, a lithographic apparatus and a device manufacturing method

Номер патента: US09454089B2. Автор: Nicolaas Ten Kate,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-09-27.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US9753380B2. Автор: Martinus Cornelis Maria Verhagen,Christiaan Alexander Hoogendam,Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans,Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens,Antonius Johannus Van Der Net,Jacobus Johannus Leonardus Hendricus Verspay,Franciscus Johannes Herman Maria Teunissen,Roelof Frederik De Graaf,Edwin Augustinus Matheus Van Gompel. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-09-05.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8724083B2. Автор: Joeri Lof,Klaus Simon,Johannes Catharinus Hubertus Mulkens,Erik Roelof Loopstra,Alexander Straaijer,Bob Streefkerk,Christiaan Alexander Hoogendam,Antonius Theodorus Anna Maria Derksen,Henrikus Herman Marie Cox,Johannes Jacobus Matheus Baselmans,Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens,Jan-Gerard Cornelis Van Der Toorn,Frits Van Der Meulen,Martijn Houkes,Bernardus Antonius Slaghekke,Gerardus Petrus Mattijs Van Nunen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2014-05-13.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8964164B2. Автор: Joeri Lof,Klaus Simon,Johannes Catharinus Hubertus Mulkens,Erik Roelof Loopstra,Alexander Straaijer,Bob Streefkerk,Christiaan Alexander Hoogendam,Antonius Theodorus Anna Maria Derksen,Henrikus Herman Marie Cox,Johannes Jacobus Matheus Baselmans,Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens,Jan-Gerard Cornelis Van Der Toorn,Frits Van Der Meulen,Martijn Houkes,Gerardus Petrus Matthijs Van Nunen,Bernardus Antonius Slaghekke. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-02-24.

Lithographic apparatus and device manufacturing method.

Номер патента: NL2016156A. Автор: BUTLER Hans,Alexander Hoogendam Christiaan,Antonius Fransiscus Van Der Pasch Engelbertus,Willem Jozef Etiënne Wijckmans Maurice,Antonius Johannes Luttikhuis Bernardus. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-09-30.

Diamond-based monitoring apparatus for lithographic apparatus, and a lithographic apparatus comprising diamond-based monitoring apparatus

Номер патента: US20170184451A1. Автор: Herman Philip Godfried. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-06-29.

Lithographing apparatus and lithographing system

Номер патента: US20240241449A1. Автор: Chunyan Song,Xijun Li. Владелец: Westlake University. Дата публикации: 2024-07-18.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: USRE42741E1. Автор: Aleksey Yurievich Kolesnychenko,Jan Evert Van Der Werp. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2011-09-27.

Setup and control methods for a lithographic process and associated apparatuses

Номер патента: WO2023179999A1. Автор: Marc Hauptmann,Si-Han Zeng,Rick Jeroen MEIJERINK,Jiazi BAO. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-09-28.

Setup and control methods for a lithographic process and associated apparatuses

Номер патента: EP4250009A1. Автор: Marc Hauptmann,Si-Han Zeng,Rick Jeroen MEIJERINK,Jiazi BAO. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-27.

Lithographic appparatus comprising an electrical discharge generator and method for cleaning an element of a lithographic apparatus

Номер патента: SG131060A1. Автор: Vadim Yevgenyevich Banine,Johannes Hubertus Joseph Moors,Vladimir Vitalevitch Ivanov,Konstantin Nikolaevit Koshelev,Dmitriy Victorovich Lopaev,Tatyana Victorovna Rakhimova,Aleksander Sergeevich Kovalev. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2007-04-26.

Lithographic apparatus and patterning device transport

Номер патента: US20050286041A1. Автор: Hendricus Johannes Meijer,Gert-Jan Heerens,Hans Meiling,Bastiaan Mertens,Johannes Hubertus Moors,Erik Ham,Robert Gabriel Lansbergen,Ellart Meijer. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-12-29.

Sub-field control of a lithographic process and associated apparatus

Номер патента: US20230288817A1. Автор: Paul DERWIN,Pieter Gerardus Jacobus SMORENBERG,Theo Wilhelmus Maria THIJSSEN,Putra SAPUTRA,Khalid ELBATTAY,Bo ZHONG,Masaya Komatsu,Rowin MEIJERINK,Ma Su Su HLAING. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-14.

Systems, methods, and devices for thermal conditioning of reticles in lithographic apparatuses

Номер патента: US20240295832A1. Автор: Richard John Johnson,Jean-Philippe Xavier Van Damme,Raaja Ganapathy SUBRAMANIAN. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-09-05.

Mirror layer and mirror for a lithographic apparatus

Номер патента: WO2024078895A1. Автор: Zomer Silvester HOUWELING,Inci DONMEZ NOYAN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-04-18.

Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing data filtering

Номер патента: US09846368B2. Автор: Johannes Jacobus Matheus Baselmans,Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-12-19.

Lithographic cluster system, method for calibrating a positioning device of a lithographic apparatus

Номер патента: US09395633B2. Автор: Boris Menchtchikov,Alexander Viktorovych Padiy,Alexander Alexandrovich Danilin,Alejandro Xabier ARRIZABALAGA URIARTE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-07-19.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20070030469A1. Автор: Johannes Jasper. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2007-02-08.

Radiation source supply system for lithographic tools

Номер патента: US20200117094A1. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh Lin YANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-16.

Radiation source supply system for lithographic tools

Номер патента: US20210240085A1. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh Lin YANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-08-05.

Radiation source supply system for lithographic tools

Номер патента: US11809084B2. Автор: Chi-Hung Liao,Yueh Lin YANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Substrate table, lithographic apparatus and method of operating a lithographic apparatus

Номер патента: US20180364584A1. Автор: Yuri Johannes Gabriel Van De Vijver,Coen Hubertus Matheus Baltis,Aleksandar Nikolov Zdravkov,Günes NAKIBOGLU,Walter Theodorus Matheus STALS,Giovanni Luca GATTOBIGIO,Johannes Cornelis Paulus MELMAN,Daan Daniel Johannes Antonius Van Sommeren,Theodorus Wilhelmus Polet,Harold Sebastiaan Buddenberg,Josephus Peter VAN LIESHOUT,Jorge Alverto VIEYRA SALAS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-12-20.

Operating a metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: US20240231242A9. Автор: Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Bram Paul Theodoor Van Goch,Sae Na NA. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-07-11.

Lithographic apparatus and method for drift compensation

Номер патента: US20230035511A1. Автор: Tian Gang,Ronny DER KINDEREN,Todd R. Downey. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2023-02-02.

Patterning devices for use within a lithographic apparatus, methods of making and using such patterning devices

Номер патента: US20180120691A1. Автор: Duan-Fu Stephen Hsu,Frank Arnoldus Johannes Maria DRIESSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-05-03.

Removing molecules from surfaces in euv lithographic apparatus

Номер патента: WO2024160558A1. Автор: Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Gosse Charles De Vries,Richard VAN LENT. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-08-08.

Lithographic apparatus

Номер патента: US20090002676A1. Автор: Erik Roelof Loopstra,Robert-Han Munnig Schmidt,Felix Godfried Peter Peeters,Jan Van Eijk,Gerard Van Schothorst,Fransiscus Hendrikus Van Deuren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-01-01.

Method for compensating for an exposure error, a device manufacturing method, a substrate table, a lithographic apparatus, a control system, a method for measuring reflectivity and a method for measuring a dose of EUV radiation

Номер патента: US09983489B2. Автор: Bob Streefkerk,Henricus Jozef Castelijns,Marcel Beckers,Christianus Wilhelmus Johannes BERENDSEN,Leon Martin Levasier,Siegfried Alexander Tromp,Adrianus Hendrik Koevoets,Peter Schaap,Hubertus Antonius Geraets. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-05-29.

Method of adjusting speed and/or routing of a table movement plan and a lithographic apparatus

Номер патента: US09964865B2. Автор: Hua Li,Cedric Desire Grouwstra,Nicolaas Rudolf Kemper,Dirk De Vries,Marinus Jochemsen,Norbertus Josephus Martinus Van Den Nieuwelaar. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-05-08.

Lithographic method to apply a pattern to a substrate and lithographic apparatus

Номер патента: US09891532B2. Автор: Haico Victor Kok. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-02-13.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09885964B2. Автор: Rob Jansen,Jan Steven Christiaan WESTERLAKEN,Erik Vervoort. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-02-06.

Lithographic apparatus and method of cooling a component in a lithographic apparatus

Номер патента: US09811007B2. Автор: Antonius Johannus Van Der Net,Frank Johannes Jacobus Van Boxtel,Leonarda Hendrika VAN DEN HEUVEL. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-11-07.

Lithographic method to apply a pattern to a substrate and lithographic apparatus

Номер патента: US09423688B2. Автор: Haico Victor Kok. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-08-23.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20060219950A1. Автор: Vladimir Ivanov,Vadim Banine,Levinus Bakker,Konstantin Koshelev,Givi Zukavishvili,Bastiaan Mertens,Bastiaan Wolschrijn,Johannes Moors,Frank Schuurmans,Marc Van Der Velden. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-10-05.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus

Номер патента: NL2027098A. Автор: DONMEZ NOYAN Inci,Johannes Maria Giesbers Adrianus,Wouter Van Der Woord Ties,Ludwig Klein Alexander,Dirk Hildenbrand Volker. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-08-31.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus

Номер патента: CA3163932A1. Автор: Volker Dirk Hildenbrand,Adrianus Johannes Maria GIESBERS,Ties Wouter VAN DER WOORD,Alexander Ludwig KLEIN,Inci DONMEZ NOYAN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-07-22.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus

Номер патента: EP4091023A1. Автор: Volker Dirk Hildenbrand,Adrianus Johannes Maria GIESBERS,Ties Wouter VAN DER WOORD,Alexander Ludwig KLEIN,Inci DONMEZ NOYAN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-11-23.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus

Номер патента: WO2021144097A1. Автор: Volker Dirk Hildenbrand,Adrianus Johannes Maria GIESBERS,Ties Wouter VAN DER WOORD,Alexander Ludwig KLEIN,Inci DONMEZ NOYAN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2021-07-22.

Flushing system and method for a lithographic apparatus

Номер патента: WO2024125944A1. Автор: Johan Frederik DANNENBERG,Emericus Antoon Theodorus VAN DEN AKKER,Mart Willem LINTHORST,Ivo Michel KALKMAN,Syed Aaquib HAZARI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-20.

Flushing system and method for a lithographic apparatus

Номер патента: EP4386480A1. Автор: Johan Frederik DANNENBERG,Emericus Antoon Theodorus VAN DEN AKKER,Mart Willem LINTHORST,Ivo Michel KALKMAN,Syed Aaquib HAZARI. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-06-19.

Lithographic apparatus, method for positioning an object in a lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09910367B2. Автор: Sander Christiaan Broers. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-03-06.

Sub-field control of a lithographic process and associated apparatus

Номер патента: EP3734366A1. Автор: Paul DERWIN,Pieter Gerardus Jacobus SMORENBERG,Putra SAPUTRA,Khalid ELBATTAY,Bo ZHONG,Masaya Komatsu. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-11-04.

Lithographic apparatus with rotation filter device

Номер патента: EP2188674A1. Автор: Edwin Johan Buis,Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-05-26.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus

Номер патента: WO2023202822A1. Автор: Zomer Silvester HOUWELING,Inci DONMEZ NOYAN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-10-26.

Clamping device for optical elements, lithographic apparatus with optical elements in a clamping device, and method for manufacturing such apparatus

Номер патента: US20060109439A1. Автор: Erik REKKERS,Cornelius Ottens. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-05-25.

Lithographic apparatus, contaminant trap, and device manufacturing method

Номер патента: US7612353B2. Автор: Vadim Yevgenyevich Banine,Josephus Jacobus Smits,Arnoud Cornelis Wassink,Paul Peter Anna Antonius Brom,Leonid Aizikovitch Sjmaenok,Lambertus Adrianus Van Den Wildenberg,Alexander Alexandrovitch Schmidt,Eric Louis Willem Verpalen,Antonius Johannes Van De Pas. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-11-03.

Lithographic apparatus, control method and computer program product

Номер патента: US20180181011A1. Автор: Wim Tjibbo Tel,Bram VAN HOOF. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-06-28.

Lithographic apparatus, control method and computer program product

Номер патента: NL2017028A. Автор: VAN HOOF Bram,Tjibbo Tel Wim. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-01-17.

Method of operating a lithographic apparatus, device manufacturing method and associated data processing apparatus and computer program product

Номер патента: US09507279B2. Автор: Paul Frank Luehrmann,Alexander Ypma,Daan Maurits SLOTBOOM,Emil Peter SCHMITT-WEAVER,Marc Jurian Kea,Wolfgang Henke,Jean-Philippe Xavier Van Damme,Eduardus Johannes Gerardus Boon. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-11-29.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7714306B2. Автор: Johannes Hubertus Josephina Moors,Frank Jeroen Pieter Schuurmans,Levinus Pieter Bakker. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-05-11.

Conduit system for a lithographic apparatus, lithographic apparatus, pump, and method for substantially reducing vibrations in a conduit system

Номер патента: US8976332B2. Автор: Johannes Christiaan Leonardus Franken,Josephus Cornelius Johannes Antonius Vugts,Martinus Wilhelmus Van Den Heuvel. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-03-10.

Method of controlling a patterning device in a lithographic apparatus, device manufacturing method and lithographic apparatus

Номер патента: US9482963B2. Автор: Pieter Willem Herman De Jager,Erwin John Van Zwet,Wouter Frans Willem Mulckhuyse. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-11-01.

Methods of determining corrections for a patterning process, device manufacturing method, control system for a lithographic apparatus and lithographic apparatus

Номер патента: US11782349B2. Автор: Cedric Desire Grouwstra,Alexander Ypma,Marc Hauptmann,Hakki Ergün Cekli,Stefan Cornelis Theodorus VAN DER SANDEN,David Frans Simon DECKERS,Willem Seine Christian ROELOFS,Lydia Marianna Vergaij-Huizer,Weitian KOU,Michiel Kupers,Erik Johannes Maria WALLERBOS,Erik Henri Adriaan DELVIGNE,Manuel GIOLLO,Iryna DOVBUSH. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-10.

Method for controlling a lithographic apparatus

Номер патента: US11809088B2. Автор: Daan Maurits SLOTBOOM,Jeroen COTTAAR,Min-Seok Kim,Jeonghyun Park,Hadi YAGUBIZADE,Yingchao CUI. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-11-07.

Lithographic apparatus, positioning system, and positioning method

Номер патента: US20100265487A1. Автор: Erik Marie Jose Smeets. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-10-21.

Method for monitoring lithographic apparatus

Номер патента: US12032297B2. Автор: Kaustuve Bhattacharyya,Emil Peter SCHMITT-WEAVER,Martin KERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-09.

Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby

Номер патента: US20050134829A1. Автор: Henrikus Cox,Joost Ottens,Koen Jacobus Zaal. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-06-23.

Lithographic Apparatus and Device Manufacturing Method

Номер патента: US20120188528A1. Автор: Niels Johannes Maria BOSCH,Marcus Joseph Elisabeth Godfried Breukers,Marcel François Heertjes. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-07-26.

Apodization measurement for lithographic apparatus

Номер патента: US20060055906A1. Автор: Marcus Van De Kerkhof,Haico Kok. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-03-16.

Lithographic apparatus, device manufacturing method and associated data processing apparatus and computer program product

Номер патента: US09983485B2. Автор: Erik Willem BOGAART. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-05-29.

Lithographic apparatus, method of manufacturing an article for a lithographic apparatus and device manufacturing method.

Номер патента: NL2003363A. Автор: Nina Dziomkina,Nicolaas Kate,Sandra Graaf,Henricus Castelijns. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-03-15.

Method of optimizing maintenance of a lithographic apparatus

Номер патента: WO2023222310A1. Автор: Tijmen Pieter COLLIGNON,Marc Hauptmann,Ho-young Song,Jun-Il Song. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-11-23.

Method of optimizing maintenance of a lithographic apparatus

Номер патента: EP4279992A1. Автор: Tijmen Pieter COLLIGNON,Marc Hauptmann. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-11-22.

Lithographic apparatus, method of manufacturing a device, and device manufactured thereby

Номер патента: US20020109103A1. Автор: Paul van der Veen,Johannes Mulkens. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2002-08-15.

Movable carriage for a lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7230254B2. Автор: Harmen Klaas Van Der Schoot,Hernes Jacobs,Koen Jacobus Johannes Maria Zaal,Petrus Matthijs Henricus Vosters,Martinus Arnoldus Henricus Terken. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2007-06-12.

Lithographic apparatus

Номер патента: WO2019197091A1. Автор: Johannes Hubertus Josephina Moors,Marcus Adrianus Van De Kerkhof. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2019-10-17.

In-situ cleaning for lithographic apparatus

Номер патента: WO2024132898A1. Автор: Andrey Nikipelov,Max KOOLE,Vladimir KVON. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

Method of selecting a set of illumination conditions of a lithographic apparatus for optimizing an integrated circuit physical layout

Номер патента: WO2010080028A3. Автор: Anurag Mittal,Martinus Maria Berkens. Владелец: TAKUMI TECHNOLOGY CORPORATION. Дата публикации: 2010-11-04.

Method of selecting a set of illumination conditions of a lithographic apparatus for optimizing an integrated circuit physical layout

Номер патента: EP2386074A2. Автор: Anurag Mittal,Martinus Maria Berkens. Владелец: Takumi Technology Corp. Дата публикации: 2011-11-16.

Method of selecting a set of illumination conditions of a lithographic apparatus for optimizing an integrated circuit physical layout

Номер патента: WO2010080028A2. Автор: Anurag Mittal,Martinus Maria Berkens. Владелец: TAKUMI TECHNOLOGY CORPORATION. Дата публикации: 2010-07-15.

Frame Assembly, Lithographic Apparatus and Device Manufacturing Method

Номер патента: US20210240090A1. Автор: Hans Butler,Joep Sander DE BEER,Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon,Jeroen Pieter STARREVELD,Martinus Van Duijnhoven,Maurice Willem Jozef Etiënn WIJCKMANS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-08-05.

Lithographic apparatus

Номер патента: US11762304B2. Автор: Bart Dinand PAARHUIS,Martinus Van Duijnhoven,Daan Daniel Johannes Antonius Van Sommeren,Frank Johannes Jacobus Van Boxtel,Francis Fahrni,Anne Willemijn Bertine QUIST,Güneş Nak{dot over (i)}boğlu,Maarten HOLTRUST. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-19.

Lithographic apparatus

Номер патента: US20220100104A1. Автор: Shuping Li. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-03-31.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20110273679A1. Автор: Youri Johannes Laurentius Maria Van Dommelen,Paulus Martinus Maria Liebregts,Gert-Jan Gerardus Johannes Thomas Brands,Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs,Marco Koert Stavenga,Jan Cornelis Van Der Hoeven,Richard Joseph Bruls,Rudy Jan Maria Pellens,Vijay Kumar Badam,Casper Roderik De Groot,Coen Cornelis Wilhelmus Verspaget,David Lucien Anstotz,Thijs Egidius Johannes Knaapen,Marcus Johannes VAN DER ZANDEN,Martijn Hendrik Kamphuis,Rudolf Adrianus Joannes Maas. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2011-11-10.

Lithographic apparatus and device manufacturing method.

Номер патента: NL2003914A. Автор: Marco Stavenga,Gert-Jan Brands,Johannes Jacobs,Paulus Liebregts,Rudolf Maas,Richard Bruls,Rudy Pellens,Vijay BADAM,Casper Groot,Thijs Knaapen,Jan Hoeven,David Anstotz,Marcus Zanden,Youri Dommelen,Martijn Kamphuis,Coen Verspaget. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-06-09.

Lithographic apparatus and method of controlling substrate support

Номер патента: WO2024165250A1. Автор: Zhuangxiong HUANG,Frederik Eduard De Jong,Niek Jacobus Johannes Roset,Marco Adrianus Peter Van Den Heuvel,Dennis Johannes Franciscus HECK,Beril OK DI LUCENTE. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-08-15.

Lithographic apparatus, method of increasing plasma concentration, and method of manufacturing devices

Номер патента: WO2024175395A1. Автор: Paul Jansen,Andrey Nikipelov,Ernst Galutschek,Ruud Martinus VAN DER HORST,Andrea JAGODAR,Igor MILOV. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-08-29.

Lithographic apparatus and exposure method

Номер патента: US20090073402A1. Автор: Dirk-Jan Bijvoet,Anton Adriaan Bijnagte. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-03-19.

Lithographic apparatus and ultraviolet radiation control system

Номер патента: US12124172B2. Автор: Alexander Kremer. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-10-22.

Lithographic apparatus and method

Номер патента: US09933709B2. Автор: Herman Philip Godfried,Wilhelmus Patrick Elisabeth Maria OP 'T ROOT,Arij Jonathan Rijke,Hubertus Petrus Leonardus Henrica VAN BUSSEL. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-04-03.

Lithographic apparatus comprising an actuator, and method for protecting such actuator

Номер патента: US09921494B2. Автор: Sven Antoin Johan Hol,Sander Christiaan Broers,Bastiaan Lambertus Wilhelmus Marinus VAN DE VEN,Yang-Shan Huang,Theodorus Petrus Maria Cadee,Antonius Franciscus Johannes De Groot. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-03-20.

Patterning device manipulating system and lithographic apparatuses

Номер патента: US09910368B2. Автор: Erik Roelof Loopstra,Mark Josef Schuster,Daniel Nathan Burbank,Christopher Charles WARD,Christiaan Louis VALENTIN,Peter James Graffeo. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2018-03-06.

Optical element comprising oriented carbon nanotube sheet and lithographic apparatus comprising such optical element

Номер патента: US09897930B2. Автор: Johannes Hubertus Josephina Moors,Vadim Yevgenyevich Banine,Denis Alexandrovich Glushkov,Andrei Mikhailovich Yakunin,Leonid Aizikovitch Sjmaenok. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-02-20.

Object holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing an object holder

Номер патента: US09798251B2. Автор: Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Ronald van der Wilk,Wilhelmus Jacobus Johannes Welters,Satish ACHANTA,Antonius Johannes Maria Nellissen,Matteo FILIPPI,Hendrikus Christoffel Maria Van Doremalen,Yogesh KARADE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-10-24.

Lithographic apparatus and method for measuring a position

Номер патента: US09746312B2. Автор: Hans Butler,Engelbertus Antonius Franciscus Van Der Pasch. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-08-29.

Lithographic apparatus, substrate support system, device manufacturing method and control program

Номер патента: US09715182B2. Автор: Wilhelmus Henricus Theodorus Maria AANGENENT,Ramidin Izair Kamidi,Marinus Maria Johannes VAN DE WAL,Khalid Manssouri. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-07-25.

Lithographic apparatus, substrate and device manufacturing method

Номер патента: US09563131B2. Автор: Richard Quintanilha. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-02-07.

Lithographic apparatus

Номер патента: US09513568B2. Автор: Martinus Hendrikus Antonius Leenders,Mark Josef Schuster,Samir A. Nayfeh,Christopher Charles WARD,Thibault Simon Mathieu Laurent,Ruud Hendrikus Martinus Johannes Bloks,Peter A. Delmastro,Frank Johannes Jacobus Van Boxtel,Justin Matthew Verdirame,Jan Steven Christiaan WESTERLAKEN. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2016-12-06.

Substrate positioning system, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09470988B2. Автор: Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch,Willem Herman Gertruda Anna Koenen,Frank Auer,Andre Bernardus Jeunink,Peterjan BROOMANS,Sebastiaan SMIT,Joris Wilhelmus Henricus VERMUNT,Johannes Mathias Theodorus Antonius Adriaens,Albert Johannes Maria Jansen,Suzanne Johanna Antonetta Geertruda COSIJNS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-10-18.

Lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of correcting a mask

Номер патента: US09417519B2. Автор: Johannes Catharinus Hubertus Mulkens. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-08-16.

Extraction body for lithographic apparatus

Номер патента: NL2018653A. Автор: Houben Martijn,KRAMER Gijs,Alexander Tromp Siegfried,Simon Mathieu Laurent Thibault,Johannes Gabriël Van De Vijver Yuri,Peter Waterson Nicholas,Martinus Petrus Adrianus Vermeulen Marcus,Johannes Hermanus Gerritzen Justin,Karel Ravensbergen Simon,Jacobus Johannes Roset Niek,Fransiscus Cloosterman Vincentius,Hubertus Metheus Baltis Coen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-11-15.

Method and apparatus for predicting aberrations in a projection system

Номер патента: US12078938B2. Автор: Laurentius Johannes Adrianus Van Bokhoven,Mhamed AKHSSAY. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Lithographic apparatus and method for performing a measurement

Номер патента: NL2017945A. Автор: LIN Nan,Jeffrey Den Boef Arie,Gijsbert Josephus Mathijssen Simon,Bas Roobol Sander. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-06-28.

Method of generating a photolithography patterningdevice, computer program, patterning device, meth od of determining the position of a target image on or proximate a substrate, measurement device, and lithographic apparatus

Номер патента: SG124407A1. Автор: Uwe Mickan,Hendricus Johannes Mari Meijer. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-08-30.

Stage apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method having switch device for two illumination channels

Номер патента: US7924406B2. Автор: Arno Jan Bleeker,Erik Roelof Loopstra,Heine Melle Mulder,Mark Trentelman,Gerrit Streutker,Timotheus Franciscus Sengers,Oscar Franciscus Jozephus NOORDMAN,Laurentius Catrinus Jorritsma. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2011-04-12.

Inspection apparatus, inspection method, lithographic apparatus and manufacturing method

Номер патента: NL2017123A. Автор: Staals Frank,Christiaan Hinnen Paul,Cornelis Maria Luijten Carlo,Bernhard Van Oosten Anton. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-01-24.

Systems and methods for reducing pattern shift in a lithographic apparatus

Номер патента: WO2023104419A1. Автор: Hans Van Der Laan,Marie-Claire VAN LARE,Joost Cyrillus Lambert HAGEMAN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-06-15.

Method and apparatus for source mask optimization configured to increase scanner throughput for a patterning process

Номер патента: US20200249578A1. Автор: Duan-Fu Stephen Hsu,Jingjing Liu. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-08-06.

Lithographic apparatus and associated methods

Номер патента: WO2023217495A1. Автор: Gosse Charles De Vries,Evgenia KURGANOVA,Andrei Mikhailovich Yakunin,Volker Dirk Hildenbrand,Michiel Alexander Blauw,Ernst Galutschek,Syam PARAYIL VENUGOPALAN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-11-16.

Lithographic apparatus and method for illumination uniformity correction

Номер патента: EP4314947A1. Автор: Marco Matheus Louis Steeghs,Albertus HARTGERS,Nikolaos SOTIROPOULOS,Michael Frederik YPMA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-02-07.

Pellicles and membranes for use in a lithographic apparatus

Номер патента: WO2023160896A1. Автор: Marcel David Ackermann,Zomer Silvester HOUWELING,Robbert Wilhelmus Elisabeth VAN DE KRUIJS,Roman PUSHKAREV. Владелец: UNIVERSITEIT TWENTE. Дата публикации: 2023-08-31.

Methods for controlling lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20190384188A1. Автор: Jeroen COTTAAR,Wolfgang Helmut HENKE,Arend Johannes DONKERBROEK,Rene Marinus Gerardus Johan Queens. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-12-19.

Methods and patterning devices and apparatuses for measuring focus performance of a lithographic apparatus, device manufacturing method

Номер патента: US20230305407A1. Автор: Fei Liu,Frank Staals,Jin LIAN,Laurentius Cornelius De Winter,Zhuangxiong HUANG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-28.

Lithographic apparatus and method

Номер патента: WO2024083404A1. Автор: Martinus Hendrikus Antonius Leenders,Koos VAN BERKEL. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-04-25.

Lithographic apparatus and method for illumination uniformity correction

Номер патента: US20240160108A1. Автор: Marco Matheus Louis Steeghs,Albertus HARTGERS,Nikolaos SOTIROPOULOS,Michael Frederik YPMA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-16.

Optimization of a lithographic projection apparatus accounting for an interlayer characteristic

Номер патента: US20190137889A1. Автор: Wim Tjibbo Tel,Laurent Michael Marcel DEPRE,Jorge Humberto SALVADOR ENTRADAS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-05-09.

Optical element mount for lithographic apparatus

Номер патента: US20110205517A1. Автор: Alexander Matthijs Struycken,Henricus Gerardus Tegenbosch,Jacob Klenijn,Antonius Catharina Maria Beerens Ruud,Ivo Vanderhallen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2011-08-25.

Method of preparing components for a lithographic apparatus

Номер патента: EP1475668A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2004-11-10.

Device manufacturing method and lithographic apparatus

Номер патента: US20080170210A1. Автор: Hendricus Johannes Maria Meijer,Michael Jozef Mathijs Renkens. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2008-07-17.

Immersion lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP3172624A1. Автор: Theodorus Marinus Modderman,Ronald Van Der Ham,Koen Steffens,Han Henricus Aldegonda Lempens,Johannes Jacobus Matheus Baselmans,Bart SMEETS,Willem Jan Bouman,Cornelius Maria Rops,Theodorus Wilhelmus Polet. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-05-31.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus

Номер патента: NL2028923A. Автор: DONMEZ NOYAN Inci,Hendrik Klootwijk Johan,Johannes Maria Giesbers Adrianus,Wouter Van Der Woord Ties,Silvester Houweling Zomer,Ludwig Klein Alexander,Dirk Hildenbrand Volker. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-05-04.

Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder

Номер патента: US20160231655A1. Автор: Peter van Delft,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Yogesh Pramod KARADE,Elisabeth Corinne RODENBURG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-08-11.

Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder

Номер патента: US20180081284A1. Автор: Peter van Delft,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Elisabeth Corinne RODENBURG,Yogesh Paramod KARADE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-03-22.

Fluid handling structure for lithographic apparatus

Номер патента: US11860546B2. Автор: Nicolaas Ten Kate,Mark Johannes Hermanus Frencken,Rogier Hendrikus Magdalena Cortie,Koen Cuypers,Cornelius Maria Rops,Giovanni Luca GATTOBIGIO,Gheorghe Tanasa,Marcel Maria Cornelius Franciscus TEUNISSEN,Pepijn VAN DEN EIJNDEN,Theodorus Wilhelmus Polet,Floor Lodewijk Keukens,Harold Sebastiaan Buddenberg,Evert Van Vliet,Jantien Laura Van Erve. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-02.

Fluid handling structure, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20110277859A1. Автор: Michel Riepen,Rogier Hendrikus Magdalena Cortie,Rob Cornelissen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2011-11-17.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus

Номер патента: NL2028923B1. Автор: DONMEZ NOYAN Inci,Hendrik Klootwijk Johan,Johannes Maria Giesbers Adrianus,Wouter Van Der Woord Ties,Silvester Houweling Zomer,Ludwig Klein Alexander,Dirk Hildenbrand Volker. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-02-07.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus

Номер патента: CA3190800A1. Автор: Johan Hendrik Klootwijk,Volker Dirk Hildenbrand,Adrianus Johannes Maria GIESBERS,Zomer Silvester HOUWELING,Ties Wouter VAN DER WOORD,Alexander Ludwig KLEIN,Inci DONMEZ NOYAN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-03-10.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus

Номер патента: EP4208755A1. Автор: Johan Hendrik Klootwijk,Volker Dirk Hildenbrand,Adrianus Johannes Maria GIESBERS,Zomer Silvester HOUWELING,Ties Wouter VAN DER WOORD,Alexander Ludwig KLEIN,Inci DONMEZ NOYAN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-07-12.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus

Номер патента: US20230333462A1. Автор: Volker Dirk Hildenbrand,Zomer Silvester HOUWELING,Ties Wouter VAN DER WOORD,Alexander Ludwig KLEIN,Inci DONMEZ NOYAN,Adrianus Johannes Maria HILDENBRAND,Johan Hendrik GIESBERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-19.

Lithographic apparatus

Номер патента: US20080297748A1. Автор: Remko Wakker,Erik Marie Jose Smeets. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2008-12-04.

Method and lithograph apparatus for measuring a radiation beam

Номер патента: WO2020164918A1. Автор: Maurice Henricus Franciscus Janssen,Arend Johannes DONKERBROEK,Yassin CHOWDHURY. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2020-08-20.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: WO2024132381A1. Автор: Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Christian Gerardus Norbertus Hendricus Marie CLOIN,Andrei Mikhailovich Yakunin,Manis CHAUDHURI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

Inspection method and apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method

Номер патента: US8189195B2. Автор: Arie Jeffrey Den Boef,Mircea Dusa,Hugo Augustinus Joseph Cramer,Irwan Dani Setija. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-05-29.

Passive reticle tool, lithographic apparatus and method of patterning a device

Номер патента: WO2006133907A3. Автор: Boeij Wilhelmus Petrus De,Johannes Maria Kuiper,De Kerkhof Marcus Adrianus Van,Haico Victor Kok,Tammo Uitterdijk,Erwin Johannes Martinus Giling,Greevenbroek Hendrikus Rob Van,Jacob Sonneveld,Michel Fransois Huber Klaassen,Martijn Gerard Dominiq Wehrens,Wilhelmus Jacobus Rooijakkers,Dooren Leon Van. Владелец: Dooren Leon Van. Дата публикации: 2007-03-08.

Object in a lithographic apparatus

Номер патента: US11550234B2. Автор: Andrey Nikipelov,Johan Franciscus Maria BECKERS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-01-10.

Pellicle and methods for forming pellicle for use in a lithographic apparatus

Номер патента: WO2024056548A1. Автор: Steven Brems,Paul Alexander VERMEULEN,Emily Elizabeth GALLAGHER,Ivan Karel Arthur POLLENTIER. Владелец: Imec V.Z.W.. Дата публикации: 2024-03-21.

Immersion lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20170219939A1. Автор: Theodorus Marinus Modderman,Ronald Van Der Ham,Koen Steffens,Han Henricus Aldegonda Lempens,Johannes Jacobus Baselmans,Bart SMEETS,Willem Jan Bouman,Cornelius Maria Rops,Theodorus Wilhelmus Polet. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-08-03.

Novel interface definition for lithographic apparatus

Номер патента: EP4298481A1. Автор: Jacob Fredrik Friso Klinkhamer,Michel Alphons Theodorus VAN HINSBERG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-03.

Methods for controlling lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: WO2017025524A1. Автор: Wolfgang Helmut HENKE,Rene Marinus Gerardus Johan Queens. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2017-02-16.

Lithographic apparatus, lithographic projection apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20200057379A1. Автор: Maurice Willem Jozef Etiënne Wijckmans,Jeroen Pieter STARREVELD. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-02-20.

Methods for controlling lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20200081355A1. Автор: Rene Marinus Gerardus Johan Queens. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-03-12.

Lithographic apparatus, aberration correction device and device manufacturing method

Номер патента: SG139650A1. Автор: Tammo Uitterdijk,Laurentius Catrinus Jorritsma. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2008-02-29.

Contrast enhancement for liquid crystal based projection systems

Номер патента: WO2007021981A3. Автор: Jianmin Chen,Michael G Robinson. Владелец: Michael G Robinson. Дата публикации: 2009-06-18.

Sub-field control of a lithographic process and associated apparatus

Номер патента: US20220244649A1. Автор: Paul DERWIN,Pieter Gerardus Jacobus SMORENBERG,Putra SAPUTRA,Khalid ELBATTAY. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-08-04.

Lithographic apparatus and device manufacturing method involving a member and a fluid opening

Номер патента: US9152058B2. Автор: Joeri Lof,Roelof Aeilko Siebrand Ritsema,Klaus Simon,Johannes Catharinus Hubertus Mulkens,Hendricus Johannes Maria Meijer,Erik Roelof Loopstra,Alexander Straaijer,Bob Streefkerk,Christiaan Alexander Hoogendam,Joannes Theodoor De Smit,Helmar Van Santen,Mark Kroon,Hans Butler,Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Arie Jeffrey Maria Den Boef,Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens,Timotheus Franciscus Sengers,Joost Jeroen Ottens,Erik Theodorus Maria Bijlaart,Frank van Schaik,Aleksey Yurievich Kolensnychenko. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-10-06.

Method and apparatus for determining a feature-forming variant of a lithographic system

Номер патента: US5331370A. Автор: Nader Shamma,S. Jeffrey Rosner,Frederik Sporon-Fiedler. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 1994-07-19.

Stage apparatus and lithographic apparatus

Номер патента: US20080067967A1. Автор: Hans Butler. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2008-03-20.

Operating a metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: US20240134289A1. Автор: Bram Paul Theodoor Van Goch,Johan KUNNEN,Sae Na NA. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-04-25.

Novel interface definition for lithographic apparatus

Номер патента: US20240111214A1. Автор: Jacob Fredrik Friso Klinkhamer,Michel Alphons Theodorus VAN HINSBERG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-04.

Fluid handling structure, a lithographic apparatus, a method of using a fluid handling structure and a method of using a lithographic apparatus

Номер патента: US11809086B2. Автор: Giovanni Luca GATTOBIGIO,Theodorus Wilhelmus Polet,Raphael Nico Johan STEGEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-11-07.

Lithographic Apparatus and Method

Номер патента: US20180173099A1. Автор: Richard Johannes Franciscus Van Haren,Reiner Maria Jungblut,Cedric Marc AFFENTAUSCHEGG,Milenko Jovanovic,Robertus Wilhelmus Van Der Heijden. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-06-21.

Lithographic apparatus, device manufacturing method and associated data processing apparatus and computer program product.

Номер патента: NL2013668A. Автор: Daan Maurits SLOTBOOM,Wim Tjibbo Tel,Hakki Ergün Cekli,xing lan Liu,Stefan Cornelis Theodorus Sanden,Richard Johannes Franciscus Haren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-07-13.

Apparatus for the exact mutual alignment of a mask and semiconductor wafer in a lithographic apparatus

Номер патента: US4825086A. Автор: Karl-Heinz Mueller. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1989-04-25.

Lithographic Apparatus and Method

Номер патента: NL2019594A. Автор: NAKIBOGLU Günes,Catharina Reinier Derks Sander,Elise Will Manon,Wilhelmus Mollen Johannes. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-04-10.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7148950B2. Автор: Martinus Agnes Willem Cuijpers,Evert Hendrik Jan Draaijer,Martijn Houkes,Marcus Joseph Elisabeth Godfried Breukers,Menno Fien,Edwin Teunis Van Donkelaar. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-12-12.

A positioning system, method, and lithographic apparatus.

Номер патента: NL2003453A. Автор: Rob Tousain,Martijn Hamers,Jeroen Raaymakers. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-04-12.

Calibration method for a lithographic system

Номер патента: US20220390855A1. Автор: CHUNG-HSUN Li,Cornelis Melchior BROUWER. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-12-08.

Calibration method for a lithographic system

Номер патента: US11774861B2. Автор: CHUNG-HSUN Li,Cornelis Melchior BROUWER. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-03.

Lithographic apparatus and method

Номер патента: NL2017355A. Автор: Everts Frank,Aggarwal Tanuj,Philip Godfried Herman,Jon Thornes Joshua,Patrick Elisabeth Maria Op 't Root Wilhelmus,Michael O'brien Kevin,Pieter Paul Saanen Leon. Владелец: Cymer Inc. Дата публикации: 2017-03-30.

Method for hotspot detection and ranking of a lithographic mask

Номер патента: US09874821B2. Автор: Sandip Halder,Dieter Van Den Heuvel,Vincent Truffert,Philippe Leray. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2018-01-23.

Method and apparatus for measuring a parameter of a lithographic process, substrate and patterning devices for use in the method

Номер патента: NL2017300A. Автор: Tsiatmas Anagnostis,Theeuwes Thomas,Van Der Schaar Maurits,Zhang Youping,Verma Alok,Jan Hidde Smilde Hendrik,Johan Van Leest Adriaan,Christiaan Hinnen Paul,Augustinus Joseph Cramer Hugo. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-03-01.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8958054B2. Автор: Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs,Nicolaas Ten Kate,Marcel Beckers,Ferdy Migchelbrink. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-02-17.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP2261741A3. Автор: Marcel Dierichs,Vadim Banine,Joannes De Smit,Theodorus Bisschops,Theodorus Modderman. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2011-05-25.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7952803B2. Автор: Donis George Flagello. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2011-05-31.

Lithographic apparatus and positioning apparatus

Номер патента: EP2202581A1. Автор: Noud Gilissen,Theodorus Cadee. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-06-30.

A method and system for predicting aberrations in a projection system

Номер патента: US20240077380A1. Автор: Koos VAN BERKEL,Mauritius Gerardus Elisabeth SCHNEIDERS,Victor Sebastiaan DOLK,Adrianus Hendrik Koevoets,Marinus Maria Johannes VAN DE WAL,Stijn Clyde Natalia THISSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-07.

Lithographic apparatus and a device manufacturing method

Номер патента: US20200183289A1. Автор: Lucas Henricus Johannes Stevens,Dirk Willem Harberts,Bert Dirk SCHOLTEN,Thomas Poiesz,Abraham Alexander SOETHOUDT,Jimmy Matheus Wilhelmus Van De Winkel,Wilhelmus Jacobus Johannes Welters,Johannes Adrianus Cornelis Maria Pijnenburg,Laura Maria FERNANDEZ DIAZ. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-06-11.

Lithographic apparatus comprising an assembly of a line carrier with low-friction cables, hoses or the like and such an assembly in general

Номер патента: US20100097589A1. Автор: Sven Pekelder,Marcel Henri Brinkhuis. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-04-22.

positioning system, method, and lithographic apparatus

Номер патента: US20100091262A1. Автор: Jeroen Arnoldus Leonardus Johannes RAAYMAKERS,Robertus Leonardus Tousain,Martijn Robert Hamers. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-04-15.

Method and system for measuring contamination of a lithographical element

Номер патента: US20080315125A1. Автор: Rik Jonckheere,Anne-Marie Goethals,Gian Francesco Lorusso,Jan Hermans. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2008-12-25.

A method and system for predicting aberrations in a projection system

Номер патента: EP4288838A1. Автор: Koos VAN BERKEL,Mauritius Gerardus Elisabeth SCHNEIDERS,Victor Sebastiaan DOLK,Adrianus Hendrik Koevoets,Marinus Maria Johannes VAN DE WAL,Stijn Clyde Natalia THISSEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-12-13.

Low-expansion glass substrate for a reflective mask and reflective mask

Номер патента: US20070009812A1. Автор: Masabumi Ito,Hitoshi Mishiro. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2007-01-11.

Lithographic apparatus, device manufacturing method and position control method

Номер патента: US20100102413A1. Автор: Dirk-Jan Bijvoet. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-04-29.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8035798B2. Автор: Mark Kroon,Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Timotheus Franciscus Sengers,Kees Van Weert. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2011-10-11.

Lithographic apparatus

Номер патента: EP1367446A1. Автор: Heine Melle Mulder,Hendrikus Robertus Marie Van Greevenbroek. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2003-12-03.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US6958806B2. Автор: Heine Melle Mulder,Armand Eugene Albert Koolen,Jan Hoegee. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-10-25.

Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby

Номер патента: US7161662B2. Автор: Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel,Joost Jeroen Ottens,Koen Jacobus Johannes Maria Zaal. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2007-01-09.

Software upgrades in a lithographic apparatus

Номер патента: US7652749B2. Автор: Andre Bernardus Jeunink,Antonius Johannes De Kort. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-01-26.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7388650B2. Автор: Arno J. Bleeker. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2008-06-17.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7342237B2. Автор: Theodorus Petrus Maria Cadee,Marcel Johannus Elisabeth Hubertus Muitjens,Ronald Walther Jeanne Severijns,Sonia Margart Skelly. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2008-03-11.

Lithographic apparatus with a patterning device environment

Номер патента: NL2015914A. Автор: RAMIREZ David,KOCHERSPERGER Peter. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2016-09-29.

Lithographic apparatus and a method of removing contamination

Номер патента: US20100097587A1. Автор: Hans Jansen,Jacques Cor Johan Van der Donck,Anthonius Martinus Cornelis Petrus De Jong,Harrie Gorter,Johannes Hendrik Van Der Berg. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-04-22.

A sensor for use in a lithographic apparatus

Номер патента: EP1696272A2. Автор: Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Bearrach Moest,Haico Victor Kok,Timotheus Franciscus Sengers,Borgert Kruizinga,Marc Antonius Maria Haast,Torsten Harzendorf,Peter Werner Weissbrodt,Manfred Helmut Gustav Wilhelm Johannes Schrenk. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-08-30.

Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby

Номер патента: US7440076B2. Автор: Jan Jaap Kuit,Peter Schaap. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2008-10-21.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7094506B2. Автор: Henricus Wilhelmus Maria Van Buel. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-08-22.

A positioning system, a lithographic apparatus, an absolute position determination method, and a device manufacturing method

Номер патента: EP4251947A1. Автор: Maarten Jozef Jansen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-04.

Multiple objectives metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: US20240012338A1. Автор: Douglas C. CAPPELLI. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-01-11.

Systems and methods for measuring intensity in a lithographic alignment apparatus

Номер патента: US20240077308A1. Автор: Justin Lloyd KREUZER,Mohamed Swillam,Stephen Roux,Michael Leo NELSON,Muhsin ERALP. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-03-07.

Substrate support and lithographic apparatus

Номер патента: WO2023241893A1. Автор: Niek Jacobus Johannes Roset,Daniel PONTONI,Thilo Nils Martin SEEGER,Joy HUIBERTS,Simon Karel RAVENSBERGEN,Zhuangxiong Sjoerd HUANG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-12-21.

Projection System Modelling Method

Номер патента: US20190227441A1. Автор: Pierluigi FRISCO,Giovanni IMPONENTE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-07-25.

A positioning system, a lithographic apparatus, an absolute position determination method, and a device manufacturing method

Номер патента: US20230408933A1. Автор: Maarten Jozef Jansen. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-12-21.

Polarization selection metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: US20230400782A1. Автор: Douglas C. CAPPELLI. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2023-12-14.

Lithographic apparatus and method

Номер патента: US8576373B2. Автор: Johannes Aldegonda Theodorus Marie Van Den Homberg,Hako Botma. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2013-11-05.

Projection system and vehicle with a projection system

Номер патента: US20210348736A1. Автор: Wilfried Noell,Christopher Bremer,Toralf Scharf,Giorgio QUARANTA. Владелец: SUSS Microoptics SA. Дата публикации: 2021-11-11.

Sparse projection for a virtual reality system

Номер патента: EP3114528A1. Автор: Shizhe Shen,Evan M. Richards,Dov Katz,Jennifer Leigh Dolson,Palmer Freeman LUCKEY,Sam Redmond D'AMICO. Владелец: Oculus VR Inc. Дата публикации: 2017-01-11.

Projection system and method with adjustable angle illumination

Номер патента: WO2021216991A1. Автор: Martin J. Richards,Barret Lippey,Trevor Davies,Nathan Shawn Wainwright,Darren HENNIGAN,John David Jackson. Владелец: DOLBY LABORATORIES LICENSING CORPORATION. Дата публикации: 2021-10-28.

Projection system and method with adjustable angle illumination

Номер патента: US12072614B2. Автор: Martin J. Richards,Barret Lippey,Trevor Davies,Nathan Shawn Wainwright,Darren HENNIGAN,John David Jackson. Владелец: Dolby Laboratories Licensing Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Dual output headlight system for a vehicle

Номер патента: US09766454B2. Автор: Thomas M. Forest,Jarvis Chau. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2017-09-19.

Optical projection system and image projector

Номер патента: US20120154768A1. Автор: Hibiki Tatsuno. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-06-21.

Angled illumination for a single order glv based projection system

Номер патента: EP1377875A2. Автор: David T. Amm. Владелец: Silicon Light Machines Inc. Дата публикации: 2004-01-07.

Optical Projection System and Projection Device Having the Same

Номер патента: US20080123059A1. Автор: TETSUYA Abe,Ken Agatsuma. Владелец: Pentax Corp. Дата публикации: 2008-05-29.

Screen and projection system

Номер патента: US20200401034A1. Автор: Yi Li,Lin Wang. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

Lithographic apparatus

Номер патента: US09599912B2. Автор: Edgar Alberto OSORIO OLIVEROS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-03-21.

A projection system

Номер патента: EP2235583A1. Автор: Fan Wang,Wai Leung Yeung. Владелец: IVIEW Ltd. Дата публикации: 2010-10-06.

Dynamic projection system suitable for automobile

Номер патента: EP4170231A1. Автор: QIAN LI,Yang Li,Tingting Jiang,Yunxia YUE. Владелец: CHENGDU PULSE OPTICAL Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-26.

Projection screen and projection system thereof

Номер патента: US09454071B2. Автор: Cheng-Huan Chen. Владелец: National Tsing Hua University NTHU. Дата публикации: 2016-09-27.

Stereoscopic projection system employing spatial multiplexing at an intermediate image plane

Номер патента: EP2449419A2. Автор: Michael G. Robinson,Gary D. Sharp,Douglas J. McKnight,Miller H. Schuck. Владелец: RealD Inc. Дата публикации: 2012-05-09.

Projection system

Номер патента: US20140198362A1. Автор: Yun-Kai TSENG,Sheng-Shan Teng. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2014-07-17.

Light source system and projection system

Номер патента: US20180231883A1. Автор: Fei Hu,Haixiong HOU. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2018-08-16.

Optical projection system and image projector incorporating the same

Номер патента: US09482866B2. Автор: Nobuyuki Arai. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

System for eliminating secondary images in rear projection systems

Номер патента: US7167308B1. Автор: Michael H. Kalmanash,Sushil Krishnamurthy,Gayathri Sundaresan. Владелец: ROCKWELL COLLINS INC. Дата публикации: 2007-01-23.

Total reflection screen and projection system

Номер патента: EP3663852A1. Автор: Yi Li,Lin Wang,Fei Hu. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2020-06-10.

Projection screen and projection system

Номер патента: US11762275B2. Автор: Yi Li,Lin Wang,Wei Sun,Fei Hu,Zeda TANG. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Projection screen and projection system

Номер патента: US12117720B2. Автор: Yi Li,Lin Wang,Wei Sun,Fei Hu,Xiaofeng Tang. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Projection system and projector

Номер патента: US20240302636A1. Автор: Hitoshi Hirano,Akihisa KAGEYAMA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Projection system and projector

Номер патента: US20210232027A1. Автор: Hirotaka Yanagisawa. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2021-07-29.

Projection screen for laser projection system

Номер патента: WO2015010214A1. Автор: Manuel Aschwanden,Marcel Suter. Владелец: Optotune AG. Дата публикации: 2015-01-29.

Image projection system with a polarizing beam splitter

Номер патента: WO2002095496A1. Автор: Douglas P. Hansen,Eric Gardner,Raymond T. Perkins. Владелец: Moxtek. Дата публикации: 2002-11-28.

Projection system for display applications

Номер патента: US20190129164A1. Автор: Eberhard Piehler. Владелец: Jabil Optics Germany GmbH. Дата публикации: 2019-05-02.

Optical projection system for copying apparatus

Номер патента: US4141649A. Автор: Gunther Schnall,Hanns Blochl. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 1979-02-27.

Optical projection system for copying apparatus

Номер патента: CA1068147A. Автор: Gunther Schnall,Hanns Blochl. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 1979-12-18.

Multi-projection system capable of refracting projection light of projection device

Номер патента: MY175974A. Автор: Hwan Chul Kim,Su Ryeon Kang. Владелец: CJ CGV CO Ltd. Дата публикации: 2020-07-19.

Projection screen and projection system

Номер патента: US11921413B2. Автор: Yi Li,Lin Wang,Jie Wang,Wei Sun,Fei Hu. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Environmental control subsystem for a variable data lithographic apparatus

Номер патента: US9021948B2. Автор: Peter Odell,David Biegelsen,Timothy Stowe,Ashish Pattekar. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2015-05-05.

Environmental Control Subsystem for a Variable Data Lithographic Apparatus

Номер патента: EP2555058B1. Автор: Peter G. Odell,Ashish Pattekar,David K Biegelsen,Timothy D Stowe. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2016-02-03.

Projection system for enhancing and modifying the appearance of a projection surface

Номер патента: US09632404B2. Автор: Dumene Comploi,Anselm Grundhöfer. Владелец: Disney Enterprises Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Projection device for vehicle, control method, projection system and relevant vehicle

Номер патента: WO2022253160A1. Автор: LU Wang,Rui Wang. Владелец: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Дата публикации: 2022-12-08.

Vehicle window glass and vehicle-mounted projection system

Номер патента: WO2024032645A1. Автор: LU Wang,Daming Li,Yiheng Zhang,Ce Shi,Chong ZHOU. Владелец: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Дата публикации: 2024-02-15.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09581914B2. Автор: Erik Roelof Loopstra,Bob Streefkerk,Martinus Cornelis Maria Verhagen,Hans Jansen,Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs,Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens,Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs,Marco Koert Stavenga,Lejla Seuntiens-Gruda. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-02-28.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus

Номер патента: EP4419966A1. Автор: Johan REININK,Johan Hendrik Klootwijk,Adrianus Johannes Maria GIESBERS,Zomer Silvester HOUWELING,Ties Wouter VAN DER WOORD,Alexander Ludwig KLEIN,Inci DONMEZ NOYAN,Paul Alexander VERMEULEN,Tim Willem Johan Van De Goor,Lambertus Idris Johannes Catharina Bergers. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-28.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus and method

Номер патента: EP4301496A1. Автор: Zomer Silvester HOUWELING,Paul Alexander VERMEULEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-10.

Method of handling radiation, and radiation system

Номер патента: WO2024142026A2. Автор: Christer G ULLBER. Владелец: Direct Conversion AB. Дата публикации: 2024-07-04.

Method of handling radiation, and radiation system

Номер патента: WO2024142026A3. Автор: Christer Ullberg. Владелец: Direct Conversion AB. Дата публикации: 2024-08-22.

Method for producing a marker on a substrate, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20060008714A1. Автор: Rene Monshouwer,Maurits van der Schaar,Everhardus Mos,Jacobus Burghoorn,Richard Franciscus Van Haren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-01-12.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus, lithographic apparatus, and use of a membrane

Номер патента: NL2030815B1. Автор: Alexander Vermeulen Paul,Silvester Houweling Zomer. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-01-12.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus

Номер патента: CA3235933A1. Автор: Johan REININK,Johan Hendrik Klootwijk,Adrianus Johannes Maria GIESBERS,Zomer Silvester HOUWELING,Ties Wouter VAN DER WOORD,Alexander Ludwig KLEIN,Inci DONMEZ NOYAN,Paul Alexander VERMEULEN,Tim Willem Johan Van De Goor,Lambertus Idris Johannes Catharina Bergers. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-04-27.

Multiple image projection system and method for projecting selected images adjacent to each other

Номер патента: EP1646232A3. Автор: Peter De Meerleer. Владелец: BARCO NV. Дата публикации: 2007-07-25.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus and method

Номер патента: US20240116760A1. Автор: Zomer Silvester HOUWELING,Paul Alexander VERMEULEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-11.

Pellicle membrane for a lithographic apparatus and method

Номер патента: NL2030815A. Автор: Alexander Vermeulen Paul,Silvester Houweling Zomer. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-09-23.

Projection device, projection method and projection system

Номер патента: US20200374496A1. Автор: Hao-Chang Tsao,Wen-Chang Chien. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-11-26.

Projection system and operation method thereof

Номер патента: US11871158B2. Автор: Yun-lin MIAO. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Projection system and operation method thereof

Номер патента: US20220417477A1. Автор: Yun-lin MIAO. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-12-29.

Projection system and projection control method

Номер патента: US09591278B2. Автор: Wen-Chang Chien,Yu-Chi Wu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2017-03-07.

Projection system, semiconductor integrated circuit, and image correction method

Номер патента: US09524578B2. Автор: Masahiro Ohashi,Ryuji Fuchikami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Corp of America. Дата публикации: 2016-12-20.

Radiation imaging apparatus and radiation imaging system

Номер патента: US20160363675A1. Автор: Hirokazu Ohguri. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-15.

Radiation imaging apparatus and radiation imaging system

Номер патента: US10466373B2. Автор: Hirokazu Ohguri. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-11-05.

Projection system, interactive projection method and projector

Номер патента: US20240231543A1. Автор: Jiun-De Lee. Владелец: Optoma Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Lithographic mask, lithographic apparatus and method

Номер патента: US8974989B2. Автор: Jozef Maria Finders. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-03-10.

Projection system, interactive projection method and projector

Номер патента: EP4401402A1. Автор: Jiun-De Lee. Владелец: Optoma Corp. Дата публикации: 2024-07-17.

Projection system, projector apparatus, and projection method

Номер патента: US9928580B2. Автор: Motoyasu Tanaka,Eizi Kawai,Kazuhiro Hosoi,Yuki Haraguchi,Fumiya SHINGU. Владелец: MegaChips Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

System for supporting a pellicle in a lithographic apparatus, allowing for pressure increase in a region between the pellicle and a patterning device

Номер патента: WO2024183988A1. Автор: Zhuangxiong HUANG,Emericus Antoon Theodorus VAN DEN AKKER,Cem Demirkesen,Syed Aaquib HAZARI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-09-12.

Pellicles and membranes for use in a lithographic apparatus

Номер патента: EP4437381A1. Автор: Zomer Silvester HOUWELING,Alexander Ludwig KLEIN,Paul Alexander VERMEULEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-02.

Projection system, projector apparatus, and projection method

Номер патента: US09928580B2. Автор: Motoyasu Tanaka,Eizi Kawai,Kazuhiro Hosoi,Yuki Haraguchi,Fumiya SHINGU. Владелец: MegaChips Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Image projection system and image projection method

Номер патента: US09832436B1. Автор: Hideyuki Nakamura,Yuji Sugisawa,Kazuhiro Minami,Ryuji Fuchikami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Projection system and projection method

Номер патента: US09560327B2. Автор: Mikinori Ehara. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Lithographic mask, lithographic apparatus and method

Номер патента: US09513109B2. Автор: Jozef Maria Finders. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-12-06.

Systems and methods for combined lighting and radiation detection

Номер патента: US20180261068A1. Автор: Seth Ryan Paul STREGE,Eric P. Loewen,Maria E. Pfeffer,Scott L. Pfeffer. Владелец: GE HITACHI NUCLEAR ENERGY AMERICAS LLC. Дата публикации: 2018-09-13.

Projection system and projection method

Номер патента: US20200036949A1. Автор: Chien-Chun Peng,Yung-Chiao Liu,Hsun-Cheng Tu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Projection system

Номер патента: EP3968628A1. Автор: Tomoyuki Saito,Yuji Kiniwa,Tetsushi Hirano,Yuuhi SASAKI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-16.

Projection system, image processing apparatus, and correction method

Номер патента: US09818377B2. Автор: Masaaki Ishikawa,Yukinaka Uchiyama. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

A method of calibrating a lithographic apparatus, an alignment method, a computer program, a lithographic apparatus and a device manufacturing method

Номер патента: SG144718A1. Автор: Gui Cheng-Qun,Buel Henricus Wilhelmus Ma Van,Vries Alex De. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2008-08-28.

Video projection system including multiple local video projection units

Номер патента: US20160119601A1. Автор: Takao Saito. Владелец: Stanley Electric Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-28.

Content generation for interactive video projection systems

Номер патента: CA2910448C. Автор: Meghan Jennifer Athavale,Keith Martin OTTO,Curtis Franz Wachs. Владелец: Lumo Interactive Inc. Дата публикации: 2021-10-19.

Projection system, projection method, non-transitory computer-readable storage medium storing projection program

Номер патента: US20240323327A1. Автор: Yuzo MURASAWA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Video projection system including multiple local video projection units

Номер патента: US09414034B2. Автор: Takao Saito. Владелец: Stanley Electric Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Non-planar surface projecting system, auto-calibration method thereof, and auto-calibration device thereof

Номер патента: US09998719B2. Автор: Te-Mei Wang,Zen-Chung Shih. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2018-06-12.

Vehicle projection system

Номер патента: US09987978B1. Автор: Dewayne Bontrager,Lawayne Bontrager. Владелец: Twiin Media. Дата публикации: 2018-06-05.

Projection system

Номер патента: US09912922B2. Автор: Kazuhiro Minami,Ryuji Fuchikami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Projection system

Номер патента: US09774832B1. Автор: Kazuhiro Minami,Ryuji Fuchikami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Method and device for improving configuration of communication devices in a video projection system comprising multiple wireless video projectors

Номер патента: US09686516B2. Автор: Lionel Tocze,Pascal Lagrange,Pierre Visa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-06-20.

Pellicle and methods for forming pellicle for use in a lithographic apparatus

Номер патента: EP4336258A1. Автор: Steven Brems,Paul Alexander VERMEULEN,Emily Elizabeth GALLAGHER,Ivan Karel Arthur POLLENTIER. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2024-03-13.

Feature surface projection system and projection method for feature surface

Номер патента: US11842568B2. Автор: Wen-Chieh Chung,Chia-Tien Chen,Hung-Pin Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

A method for developing a lithographic printing plate precursor

Номер патента: EP1493562A3. Автор: Hironori Ohnishi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-03-26.

Method for positioning a target portion of a substrate with respect to a focal plane of a projection system

Номер патента: US20080151265A1. Автор: Ralph Brinkhof,Arthur Winfried Eduardus Minnaert,Alex Van Zon,Cornelis Henricus Van De Vin. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2008-06-26.

User interface for a projection device

Номер патента: WO2010083297A2. Автор: Alexander Benenson. Владелец: SEIKO EPSON CORPORATION. Дата публикации: 2010-07-22.

Virtual laser projection system and method

Номер патента: US09879983B2. Автор: Steven P. Kaufman,Arkady Savikovsky,Masoud Mohazzab. Владелец: Faro Technologies Inc. Дата публикации: 2018-01-30.

Virtual laser projection system and method

Номер патента: US09410793B2. Автор: Steven P. Kaufman,Arkady Savikovsky,Masoud Mohazzab. Владелец: Laser Projection Technologies Inc. Дата публикации: 2016-08-09.

Method of processing a lithographic printing plate precursor

Номер патента: US20030017418A1. Автор: Joan Vermeersch,Eric Verschueren. Владелец: Agfa Gevaert NV. Дата публикации: 2003-01-23.

Radiation source container

Номер патента: US09875820B2. Автор: Emanuele RONCHI,Peter Donaldson. Владелец: JOHNSON MATTHEY PLC. Дата публикации: 2018-01-23.

Projection system with auto-project portable device for displaying images automatically

Номер патента: US09837042B2. Автор: Shih-Hung Hsu. Владелец: Viewsonic International Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Multi-projection system and data processing apparatus

Номер патента: US09756302B2. Автор: HIROSHI Baba,Shinsuke Yanazume. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Projection system and wireless charging method of projection system

Номер патента: US20210044134A1. Автор: Hui-Chung Hung. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2021-02-11.

Projection system and wireless charging method of projection system

Номер патента: US11750017B2. Автор: Hui-Chung Hung. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Lithographic mask, lithographic apparatus and method

Номер патента: US20150138568A1. Автор: Jozef Maria Finders. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-05-21.

Method for making a lithographic printing plate

Номер патента: WO2007131951A3. Автор: Stefaan Lingier. Владелец: Stefaan Lingier. Дата публикации: 2008-01-03.

Aradiation detector suitable for a pulsed radiation source

Номер патента: EP3529635A1. Автор: Peiyan CAO,Yurun LIU. Владелец: Shenzhen Xpectvision Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-28.

One-to-many data projection system and method

Номер патента: RU2412478C2. Автор: Рохит ГУПТА,Тодд Р. МАНИОН. Владелец: МАЙКРОСОФТ КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2011-02-20.

Lithographic apparatus, method of exposing a substrate, method of measurement, device manufacturing method, and device manufactured thereby

Номер патента: US7835017B2. Автор: Theodorus Marinus Modderman,Johan Maria Van Boxmeer,Gerrit Johannes Nijmeijer,Nicolaas Antonius Allegondus Johannes Van Asten. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2010-11-16.

Projection system sharing image between projection device and display device

Номер патента: US11947759B2. Автор: Eiji Morikuni. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Projection system and calibration method thereof

Номер патента: EP4312426A1. Автор: Kun-Hong Chen,Yu-Hsuan Hsieh,Yi-jun LIAO,Yun-Shih Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-01-31.

Projection system and projection method

Номер патента: US20220121098A1. Автор: Kun-Chen Hsu,Chia-Chien Wu,Shih Kang Lin. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-04-21.

Projection system and method for controlling projection system

Номер патента: US20180150273A1. Автор: Kenichiro Tomita. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2018-05-31.

Projection system

Номер патента: US20230195264A1. Автор: Eiji Morikuni. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2023-06-22.

Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder

Номер патента: US20240264533A1. Автор: Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Nicolaas Ten Kate,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Yogesh Pramod KARADE,Elisabeth Corinne RODENBURG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-08-08.

Optical system for a digital light projection system including a 3-channel led array light engine

Номер патента: WO2007070431A2. Автор: James F. Shanley. Владелец: Scram Technologies, Inc. Дата публикации: 2007-06-21.

Projection system, optical system thereof and projecting method thereof

Номер патента: US20090009725A1. Автор: Yuan-Hsu Chou,Kang-Yuan Lee. Владелец: Asia Optical Co Inc. Дата публикации: 2009-01-08.

On-board projection system and vehicle employing system

Номер патента: US20240203305A1. Автор: Jheng-Jie He. Владелец: Futaijing Precision Electronics Yantai Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Interactive projection system and projection method thereof

Номер патента: US09851891B2. Автор: Kun-Rong CHANG,Pen-Ning Kuo,Chung-Lung Yang. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2017-12-26.

Method for controlling a cooling device of a projecting system and the projecting system thereof

Номер патента: US20070279596A1. Автор: Chun-Ming Shen,Shun-Chieh Yang. Владелец: BenQ Corp. Дата публикации: 2007-12-06.

Method for controlling a cooling device of a projecting system and the projecting system thereof

Номер патента: US7878660B2. Автор: Chun-Ming Shen,Shun-Chieh Yang. Владелец: Qisda Corp. Дата публикации: 2011-02-01.

Interactive rear projection system

Номер патента: US20230185178A1. Автор: Ching-Feng Hsieh,Chih-Chen Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2023-06-15.

Projection system, control method for projection system, and projection apparatus

Номер патента: US20110242493A1. Автор: Junji Kotani. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-10-06.

Projection system

Номер патента: US20230288788A1. Автор: Eita Yamaki. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Image projection system

Номер патента: US20020021420A1. Автор: Zvi Yaniv. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-21.

Transparent projection screen with fresnel structure and projection system using the same

Номер патента: US20240272539A1. Автор: Jun Ma,Jiuzhi Xue. Владелец: Td Electrooptic Films Tdef Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Vehicle projection system

Номер патента: US09922583B1. Автор: Tyler Moe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-03-20.

Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder

Номер патента: US10898955B2. Автор: Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Nicolaas Ten Kate,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Yogesh Pramod KARADE,Elisabeth Corinne RODENBURG. Владелец: Asme Netherlands BV. Дата публикации: 2021-01-26.

Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder

Номер патента: US11960213B2. Автор: Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Nicolaas Ten Kate,Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Raymond Wilhelmus Louis Lafarre,Yogesh Pramod KARADE,Elisabeth Corinne RODENBURG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-16.

Projection device and projection system

Номер патента: US12018803B2. Автор: BIN Li,Hai Huang,Jie Gao,Kun Xiao. Владелец: Savant Technologies Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Projection device and projection system

Номер патента: US20230235867A1. Автор: BIN Li,Hai Huang,Jie Gao,Kun Xiao. Владелец: Savant Technologies Inc. Дата публикации: 2023-07-27.

Retractable image projecting system

Номер патента: EP1247139A1. Автор: Kevin James Soper,Philip Brendan Banks. Владелец: Digislide International Pty Ltd. Дата публикации: 2002-10-09.

Projection system

Номер патента: US09470965B2. Автор: Tsung-hsun Wu,Ming-Kuen Lin. Владелец: Qisda Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Projecting system

Номер патента: US20160259231A1. Автор: Heng Liu,Hsin Hung Tu,Hsian Shi HSU,Chiann Wen TWU. Владелец: Aiptek International GmbH. Дата публикации: 2016-09-08.

Projection system and screen thereof

Номер патента: US20170184950A1. Автор: Chi-Tang Hsieh,Yu-an HUANG,Chien-Chiu Hsueh,Chia-Hao Wang. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2017-06-29.

Projecting system

Номер патента: US20110063579A1. Автор: Ming-Yu Wang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-03-17.

Projection system using leds or phosphor-converted light sources

Номер патента: WO2016120226A1. Автор: Giorgio Barazza,Luigi Andrea MAPELLI. Владелец: Odl Srl. Дата публикации: 2016-08-04.

Projecting system with extendable modules

Номер патента: US09841661B2. Автор: Heng Liu,Hsin Hung Tu,Hsian Shi HSU,Chiann Wen TWU. Владелец: Aiptek International GmbH. Дата публикации: 2017-12-12.

Light source system and projection system applied thereby

Номер патента: US09500345B2. Автор: Yi Li,Yi Yang. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Lithographic apparatus and method for loading a substrate

Номер патента: US10599053B2. Автор: Thomas Poiesz,Abraham Alexander SOETHOUDT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-03-24.

Projection system and projection screen supporting device

Номер патента: US20170059981A1. Автор: Ting Yu,Wensheng Lu,Xianglai PANG. Владелец: Hisense USA Corp. Дата публикации: 2017-03-02.

Phosphor wheel heat-dissipating module for laser projection system

Номер патента: US9010971B2. Автор: Hui-Hsiung Wang,Yu-Hsuan SHA. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2015-04-21.

Colour television and kinematograph picture projection systems

Номер патента: GB657062A. Автор: . Владелец: RALPH BULLEN POOLE. Дата публикации: 1951-09-12.

Film projection system

Номер патента: CA1095299A. Автор: Hendrik Van Oosten,Willem J.P.A. Verbeek. Владелец: Optische Industrie de Oude Delft NV. Дата публикации: 1981-02-10.

Image projection systems

Номер патента: US4184755A. Автор: David E. Burgess,Darrell J. Masters. Владелец: Individual. Дата публикации: 1980-01-22.

Film projection system

Номер патента: US4226512A. Автор: Hendrik v. Oosten,Willem J. P. A. Verbeek. Владелец: Optische Industrie de Oude Delft NV. Дата публикации: 1980-10-07.

Dual Projection System

Номер патента: US20140049820A1. Автор: Jin Won Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-02-20.

Light source for a projection system having a light absorption layer

Номер патента: EP1905234A1. Автор: Peter Mardilovich,Curt Ulmer. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2008-04-02.

Head-up display and optical projection system for a head-up display

Номер патента: US09599814B2. Автор: Eberhard Piehler. Владелец: SYPRO OPTICS GMBH. Дата публикации: 2017-03-21.

Enhanced microelectromechanical system mirror apparatus

Номер патента: EP4330756A1. Автор: Jukka Kyynäräinen,Dmitry MORITS. Владелец: Valtion teknillinen tutkimuskeskus. Дата публикации: 2024-03-06.

Interactive projection system

Номер патента: US09547162B2. Автор: Roland Graf,Surat KWANMUANG. Владелец: University of Michigan. Дата публикации: 2017-01-17.

Near-eye image projection system and wearable device comprising said near-eye image projection system

Номер патента: US20230280586A1. Автор: Tomas Sluka. Владелец: CREAL SA. Дата публикации: 2023-09-07.

Light projection system using white light illumination

Номер патента: EP4416551A1. Автор: Martin J. Richards,Barret Lippey,Duane Scott Dewald,Jon Scott Miller,Juan Pablo Pertierra,Trevor Davies,Nathan Shawn Wainwright,Darren HENNIGAN,John David Jackson,Frank Joseph Poradish,Peter Francis VAN KESSEL,Douglas Reid Boyd CAMPBELL. Владелец: Dolby Laboratories Licensing Corp. Дата публикации: 2024-08-21.

Touch projection system

Номер патента: US09547386B2. Автор: Ying-Fang Lin,Chi-Hung Hsiao. Владелец: Qisda Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Projection system, projection lens module, optical actuator and its driving method

Номер патента: US20090153931A1. Автор: Chin-Wei Kuo,Fu-Mei Hsu. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2009-06-18.

Projection system for windshield indicator (wsi) with areas of p-polarized light

Номер патента: RU2748645C1. Автор: Клаус Фишер,Валентин Шульц,Роберто ЦИММЕРМАНН,Дагмар ШЭФФЕР. Владелец: СЭН-ГОБЭН ГЛАСС ФРАНС. Дата публикации: 2021-05-28.

Near-eye light-field projection system having active foveation

Номер патента: WO2024121609A1. Автор: Tomas Sluka,Jonathan Masson,Grégoire SMOLIK. Владелец: CREAL SA. Дата публикации: 2024-06-13.

Real image projection system

Номер патента: WO1989001172A1. Автор: Steve A. Welck. Владелец: Grand Mirage. Дата публикации: 1989-02-09.

Projecting system and lens combination thereof

Номер патента: US20090231556A1. Автор: Ming-Kuen Lin. Владелец: Qisda Corp. Дата публикации: 2009-09-17.

Retrievable radiation source carrier

Номер патента: US5184692A. Автор: Keith A. Moriarty. Владелец: Schlumberger Technology Corp. Дата публикации: 1993-02-09.

Method for displaying information for a user of a vehicle

Номер патента: US20190351767A1. Автор: Christian Wall. Владелец: Audi AG. Дата публикации: 2019-11-21.

Projection system for vehicle and vehicle

Номер патента: WO2023237308A1. Автор: Xiaofei Yang. Владелец: Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft. Дата публикации: 2023-12-14.

Projection system and contact lens used therefor

Номер патента: US12001015B1. Автор: Yen-Liang Kuo,Ta-Chun Pu,Chun-Yih Wu. Владелец: HTC Corp. Дата публикации: 2024-06-04.

Projection system and method

Номер патента: EP1949164A1. Автор: Anurag Gupta,Scott A. Lerner. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2008-07-30.

Lens optimization for image projection systems

Номер патента: WO2004013663A1. Автор: Charles Robert Wolfe. Владелец: Jenmar Visual Systems. Дата публикации: 2004-02-12.

Wide-angle projection system

Номер патента: US09784956B2. Автор: Ya-Ling Hsu,Yi-Hsueh Chen,Li-Chiu Tsai,Chi-Chang Tien. Владелец: Young Optics Inc. Дата публикации: 2017-10-10.

Matrix of thin-filmed excitable mirrors and method for its manufacture

Номер патента: RU2156487C2. Автор: Ки МИН Йонг. Владелец: Дэу Электроникс Ко., Лтд.. Дата публикации: 2000-09-20.

Zoom lens, image magnification projection system and video projector using the zoom lens and rear projector and multi-vision system using the video projector

Номер патента: US7173766B2. Автор: Masayuki Takahashi,Syunsuke Kimura. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-06.

A lens for a microelectromechanical system mirror

Номер патента: US20230023127A1. Автор: Tapio PERNU. Владелец: Valtion teknillinen tutkimuskeskus. Дата публикации: 2023-01-26.

Device having display integrated visible and infrared light source for user authentication

Номер патента: EP3465333A1. Автор: Mikko Perala,Tomi Lintulahti,Tuomo Mörsky. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2019-04-10.

A lens for a microelectromechanical system mirror

Номер патента: EP4078267A1. Автор: Tapio PERNU. Владелец: Valtion teknillinen tutkimuskeskus. Дата публикации: 2022-10-26.

Projection system with collimating scanning mirror

Номер патента: US12078804B2. Автор: Brian T. Schowengerdt,Mathew D. Watson,Charles David Melville. Владелец: Magic Leap Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Projection system with collimating scanning mirror

Номер патента: EP4425240A1. Автор: Brian T. Schowengerdt,Mathew D. Watson,Charles David Melville. Владелец: Magic Leap Inc. Дата публикации: 2024-09-04.

Semi-transparent graphic window for a real imaging system

Номер патента: US20030214711A1. Автор: Douglas Robinson,Randolph Turner,Kenneth Westort. Владелец: Optical Products Development Corp. Дата публикации: 2003-11-20.

Moving body video projection system, video projection device, video display light diffraction optical element, helmet, and video projection method

Номер патента: EP3812828A1. Автор: Hiroshi Ikuta,Takaharu Suzuki. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2021-04-28.

Screen image projection system for moving object, screen image projection device, optical element for screen image display light diffraction, helmet, and method for projecting screen image

Номер патента: US12012170B2. Автор: Hiroshi Ikuta,Takaharu Suzuki. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Catadioptric projector, catadioptric projection system and process

Номер патента: CA2013070A1. Автор: Helene H. Jones,Eric C. Haseltine. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1990-11-03.

Method for stimulating basic biochemical reactions in organism for carrying out treatment and tissue recovery, panel for carrying out treatment and tissue recovery and radiator

Номер патента: RU2314844C2. Автор: Леонид Ефимович Клячкин,Анна Михайловна Маляренко,Николай Таймуразович Баграев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Дипольные структуры". Дата публикации: 2008-01-20.

Radiation detection apparatus and radiation imaging system

Номер патента: US09893113B2. Автор: Yasuhiko Sano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-02-13.

Non-linear optical device with a composite waveguide and radiation source using such a device

Номер патента: CA1153229A. Автор: Claude Puech,Michel Papuchon. Владелец: Thomson CSF SA. Дата публикации: 1983-09-06.

Radiation detection apparatus and radiation imaging system

Номер патента: MY181865A. Автор: Sano Yasuhiko. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2021-01-11.

Multiradiation generation apparatus and radiation imaging system utilizing dual-purpose radiation sources

Номер патента: US09408577B2. Автор: Kazuyuki Ueda,Miki Tamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-08-09.

Radiation source assembly

Номер патента: US09856153B2. Автор: Douglas Penhale. Владелец: Trojan Technologies Inc Canada. Дата публикации: 2018-01-02.

Radiation tube and radiation source

Номер патента: US20220285121A1. Автор: Masayoshi Matsuura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-09-08.

Radiation tube and radiation source

Номер патента: US11923165B2. Автор: Masayoshi Matsuura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Radiation source

Номер патента: RU2271590C2. Автор: Виктор Федотович Тарасенко,Виктор Семенович Скакун,Эдуард Анатольевич Соснин,Дмитрий Владимирович Шитц,Михаил Владимирович Ерофеев,Михаил Иванович Ломаев,Мерси ТИБАУТ,Меилхак ЛАУРЕНТ. Владелец: Институт сильноточной электроники СО РАН. Дата публикации: 2006-03-10.

Electron microscopy apparatus and method for a time resolved low energy electron microscopy investigation of a sample

Номер патента: WO2024188471A1. Автор: Johannes OTTO,Claus Ropers,Armin FEIST,Jan Gerrit HORSTMANN,Simon VOGELGESANG. Владелец: Georg-August-Universität Göttingen. Дата публикации: 2024-09-19.

Mercury-free and sodium-free compositions and radiation sources incorporating same

Номер патента: EP1831915A2. Автор: David John Smith,Timothy John Sommerer,Joseph Darryl Michael,George Michael Cotzas,Vikas Midha. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2007-09-12.

System for inspecting self-propelled vehicles, including cargoes, passengers and driver in vehicles, method for automatic radioscopic monitoring of moving objects and radiation scanning zone and method of forming shadow image of inspected object

Номер патента: RU2716039C1. Автор: Александр Владимирович Сидоров,Сергей Петрович Новиков,Владимир Витальевич Гребенщиков,Андрей Михайлович Фиалковский. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ИСБ.А" (ООО "ИСБ.А"). Дата публикации: 2020-03-05.

Calibration method for a spectral computerized tomography system

Номер патента: US20220122300A1. Автор: Edward Steven Jimenez, JR.,Gabriella Dalton,Srivathsan Prabu Koundinyan,Isabel Gallegos,Adriana Stohn. Владелец: National Technology and Engineering Solutions of Sandia LLC. Дата публикации: 2022-04-21.

Calibration method for a spectral computerized tomography system

Номер патента: US12131409B2. Автор: Edward Steven Jimenez, JR.,Gabriella Dalton,Srivathsan Prabu Koundinyan,Isabel Gallegos,Adriana Stohn. Владелец: National Technology and Engineering Solutions of Sandia LLC. Дата публикации: 2024-10-29.

Method for generation of deceleration radiation with pulse-by-pulse energy switching and radiation source for implementation thereof

Номер патента: RU2610712C9. Автор: Анатолий Сергеевич Симонов,Андрей Николаевич Ермаков,Андрей Николаевич Каманин,Виктор Васильевич Клементьев,Юрий Николаевич Павшенко,Николай Иванович Пахомов,Иван Васильевич Шведунов,Василий Иванович Шведунов,Николай Васильевич Шведунов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Лаборатория электронных ускорителей МГУ". Дата публикации: 2017-04-27.

Laser Diode Turret Radiation Source for Optical Spectrometry

Номер патента: US20210018434A1. Автор: Kin Chiu Ng,Subrata Sanyal. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2021-01-21.

Automatic configuration of project system from project capabilities

Номер патента: US09965257B2. Автор: Kieran Paul Mockford,Brian Mead Tyler. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2018-05-08.

Combined MRI and radiation therapy equipment

Номер патента: US09669237B2. Автор: Simon James Calvert. Владелец: Siemens PLC. Дата публикации: 2017-06-06.

Device and method to control radiation source and method of radiation control

Номер патента: RU2383883C2. Автор: Жикианг ЧЕН,Ли ЖАНГ,Минг РУАН,Хуа ПЕНГ,Шангмин СУН,Янли ДЕНГ,Юанджинг ЛИ,Йинонг ЛИУ,Джунли ЛИ,Яаохонг ЛИУ,Джинйу ЖАНГ,Кингджун ЖАНГ,Яли КСИЕ,Сиюан ЛИАНГ,Гуанг ЯНГ,Вей ДЖИА. Владелец: Нактех Компани Лимитед. Дата публикации: 2010-03-10.

Cantilever frame structure and radiation image-forming system having said structure

Номер патента: RU2439542C1. Автор: Цюаньвэй СУН,Хой МЫН. Владелец: Ньюктек Компани Лимитед. Дата публикации: 2012-01-10.

Control unit and control method for radiation source and radiation inspection system and method thereof

Номер патента: MY161628A. Автор: Peng Hua,Zhang Li,LIU Yinong,Chen Zhiqiang,Li Yuanjing,Yang Guang,Zhang Qingjun,Liu Yaohong,LI Junli,Jia Wei,ZHANG Jinyu,Ruan Ming,LIANG Siyuan,DENG Yanli,Xie Yali,Shangmin. Владелец: Univ Tsinghua. Дата публикации: 2017-04-28.

Reusable customized project system

Номер патента: US20050193383A1. Автор: Rahul Kumar,Izydor Gryko,Kevin Perry,Christopher Burrows,Svetlozar Keremidarski,C. Hodges,Jemy Huang,Joshua Shepard,Diane Melde. Владелец: Microsoft Corp. Дата публикации: 2005-09-01.

Radiation inspection system and radiation inspection method

Номер патента: US20200025968A1. Автор: LI ZHANG,Hao Yu,Dongyu Wang,Jianmin Li,Yuanjing Li,Zhiqiang Chen,Ming Zeng,Quanwei Song,Yigang Yang,Yulan Li,Chunguang ZONG,Qinjian Zhang,Weizhen Wang. Владелец: Nuctech Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-23.

Method and facility for cartography of radiation sources

Номер патента: RU2204149C2. Автор: Франсуа ГИЙОН,Филипп БОССАР,Тома ДАЛАНКОН. Владелец: Компани Женераль де Матьер Нюклеэр. Дата публикации: 2003-05-10.

Method of determining electrical signals in dielectric-metal structures under action of high-intensity pulsed ionizing radiation based on measurement results on static low-intensity radiation sources

Номер патента: RU2706807C1. Автор: Михаил Викторович Яковлев. Владелец: Михаил Викторович Яковлев. Дата публикации: 2019-11-21.

Automated Non-Contact Thickness Inspection and Projection System

Номер патента: US20230090145A1. Автор: Shane Whitaker,Jeffrey Drewett,Anthony Mann. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Collimation effect imitation method in projection systems of visualization of the outside world condition for aircraft simulators of military purpose and the visualization projection system

Номер патента: RU2647665C1. Автор: Андрей Андреевич Огинский. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный научно-исследовательский институт авиационных систем" (ФГУП "ГосНИИАС"). Дата публикации: 2018-03-16.

System and Method for Detecting at Least One Contamination Species in a Lithographic Apparatus

Номер патента: US20110121177A1. Автор: Johannes Hubertus Josephina Moors,Vadim Yevgenyevich Banine,Ralph Kurt,Levinus Pieter Bakker,Lucas Henricus Johannes Stevens,Peter Cornelis Zalm. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2011-05-26.

System and method for detecting at least one contamination species in a lithographic apparatus

Номер патента: US20070140910A1. Автор: Ralph Kurt,Vadim Banine,Lucas Stevens,Levinus Bakker,Johannes Moors,Peter Zalm. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2007-06-21.

System and Method for Detecting at Least One Contamination Species in a Lithographic Apparatus

Номер патента: US20120241610A1. Автор: Johannes Hubertus Josephina Moors,Vadim Yevgenyevich Banine,Ralph Kurt,Levinus Pieter Bakker,Lucas Henricus Johannes Stevens,Peter Cornelis Zalm. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-09-27.

Roadway projection system

Номер патента: US09481287B2. Автор: Davide DI CENSO,Stefan Marti,Ajay Juneja. Владелец: Harman International Industries Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

Method for generation of deceleration radiation with pulse-by-pulse energy switching and radiation source for implementation thereof

Номер патента: RU2610712C1. Автор: Анатолий Сергеевич Симонов,Андрей Николаевич Ермаков,Андрей Николаевич Каманин,Виктор Васильевич Клементьев,Юрий Николаевич Павшенко,Николай Иванович Пахомов,Иван Васильевич Шведунов,Василий Иванович Шведунов,Николай Васильевич Шведунов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Лаборатория электронных ускорителей МГУ". Дата публикации: 2017-02-15.

Radiation imaging system and radiation imaging method

Номер патента: US20220148712A1. Автор: Wen-Yuan Cheng. Владелец: NanoRay Biotech Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Radiation imaging system and radiation imaging method

Номер патента: EP3995082A1. Автор: Wen-Yuan Cheng. Владелец: NanoRay Biotech Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-11.

Radiation image pickup device and radiation image pickup system

Номер патента: EP3662836A1. Автор: Atsushi Iwashita,Kosuke Terui,Sota Torii,Akira Tsukuda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-06-10.

Projection system, image generating method, and computer-readable storage medium

Номер патента: US20140225870A1. Автор: Hiroshi Kobayashi,Kazuhide Tanabe,Makoto Sugino,Toshihiro Isozaki,Kazuya Fujikawa,Ryouji YAMAMOTO. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-14.

Light projection system and combination weighing device provided with same

Номер патента: US20200056932A1. Автор: Seisaku Iwasa. Владелец: Ishida Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-20.

Image projection system and image projection method

Номер патента: US09529371B2. Автор: Yasutoshi Nakamura. Владелец: Roland DG Corp. Дата публикации: 2016-12-27.

Intelligent process anomaly detection and trend projection system

Номер патента: EP4031951A1. Автор: Brian Kenneth Erickson,Aldimir Lyubchev Mihnev,Prarthana Rohitkumar Shah,William Charles Winn Bielke. Владелец: Aveva Software LLC. Дата публикации: 2022-07-27.

Intelligent process anomaly detection and trend projection system

Номер патента: WO2021055420A1. Автор: Brian Kenneth Erickson,Aldimir Lyubchev Mihnev,Prarthana Rohitkumar Shah,William Charles Winn Bielke. Владелец: AVEVA Software, LLC. Дата публикации: 2021-03-25.

Radiation image capturing system, controller, program, and radiation image capturing method

Номер патента: US20090242767A1. Автор: Wataru Ito,Akio Sato,Eiichi Kito,Yoshiro Kitamura,Naoki Mochizuki,Daiki Harada,Yasunori Ohta,Naoyuki Nishino. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-10-01.

Projection system

Номер патента: US20240278103A1. Автор: Chung-Wei Chang,Peng-Yu Chen,Yi-Ling Lee,Fang-Ming LEE. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2024-08-22.

Projection system, projection apparatus, and method for operating projection apparatus

Номер патента: US09697728B2. Автор: Chih-Chen Chen,Gwo-Chyuan Wang. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Image projection system and image projection method

Номер патента: US09632983B2. Автор: Jun Ueda,Yasutoshi Nakamura. Владелец: Roland DG Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Method for controlling projecting system, projecting system, and projector

Номер патента: US11966655B2. Автор: Toshiki Fujimori. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-04-23.

Laser projection system, intelligent data correction system and method

Номер патента: WO2006078684A2. Автор: Kurt D. Rueb,Jarrad V. Morden. Владелец: Virtek Vision International Inc.. Дата публикации: 2006-07-27.

Method of measuring intensity of a pulsed radiation source in conditions of circular movement of a source

Номер патента: RU2738763C1. Автор: Виктор Васильевич Баранов,Андрей Юрьевич Кожевников,Павел Дмитриевич Журавлев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Д. Духова" (ФГУП "ВНИИА"). Дата публикации: 2020-12-16.

Application specific, dual mode projection system and method

Номер патента: EP3028100A1. Автор: Sunny Yat-san Ng,Manuel Lu. Владелец: Omnivision Technologies Inc. Дата публикации: 2016-06-08.

Vehicle information projection system

Номер патента: US09761145B2. Автор: Takeshi Ejiri. Владелец: Nippon Seiki Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Application specific, dual mode projection system and method

Номер патента: US09759554B2. Автор: Sunny Yat-san Ng,Manuel Lu. Владелец: Omnivision Technologies Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Dynamic information projection for a wall sensor

Номер патента: CA2739891C. Автор: Anthony J. Rossetti,John R. Stauss,Barry Wingate,Norman LaVar Krantz. Владелец: Zircon Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Optimization of layup process for fabrication of wind turbine blades using model-based optical projection system

Номер патента: US11850807B2. Автор: Scott Larson,Amirhossein SALIMI. Владелец: TPI Composites Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Radiation imaging system and radiation imaging apparatus

Номер патента: US20210378621A1. Автор: Koichi Ohta. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-12-09.

Device for measuring radiation intensity of small sealed radiation source for cancer therapy

Номер патента: US9176236B2. Автор: Takaharu Yamada,Hisashi Takai,Minoru Sakama,Teruyoshi Ichiraku,Hitoshi Ikushima. Владелец: University of Tokushima NUC. Дата публикации: 2015-11-03.

Vehicle recognition & video-image display projection system

Номер патента: WO2019125334A2. Автор: Nedim AYDOĞDU. Владелец: Aydogdu Nedim. Дата публикации: 2019-06-27.

Device for measuring radiation intensity of small sealed radiation source for cancer therapy

Номер патента: US20150241568A1. Автор: Takaharu Yamada,Hisashi Takai,Minoru Sakama,Teruyoshi Ichiraku,Hitoshi Ikushima. Владелец: University of Tokushima NUC. Дата публикации: 2015-08-27.

Vehicle recognition & video-image display projection system

Номер патента: WO2019125334A3. Автор: Nedim AYDOĞDU. Владелец: Aydogdu Nedim. Дата публикации: 2019-09-12.

System and method for superimposing a virtual aiming mechanism with a projected system beam in a compact laser-based rangefinding instrument

Номер патента: US09879995B2. Автор: Jeremy G. Dunne. Владелец: Laser Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-30.

Source modules, source rack systems and methods for mounting sealed radiation sources

Номер патента: GB201213286D0. Автор: . Владелец: REVISS SERVICES UK Ltd. Дата публикации: 2012-09-05.

Tiltable hemispherical optical projection systems and methods having constant angular separation of projected pixels

Номер патента: US5762413A. Автор: D'Nardo Colucci,Richard W. Zobel, Jr.,David T. Bennett,Raymond L. Idaszak. Владелец: Alternate Realities Corp. Дата публикации: 1998-06-09.

Electromagnetic wave measurement point calculation program and radiation interference wave measurement device

Номер патента: US20220155358A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Masataka Midori,Tomohiro Honya. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Radiation Detection Apparatus and Radiation Tomography Apparatus

Номер патента: US20170097423A1. Автор: Katsumasa Nose. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2017-04-06.

Radiation detection apparatus and radiation tomography apparatus

Номер патента: WO2015183625A1. Автор: Katsumasa Nose. Владелец: GE MEDICAL SYSTEMS GLOBAL TECHNOLOGY COMPANY, LLC. Дата публикации: 2015-12-03.

Radiation detection apparatus and radiation tomography apparatus

Номер патента: US9927532B2. Автор: Katsumasa Nose. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2018-03-27.

Electromagnetic wave measurement point calculation device and radiation interference wave measurement device

Номер патента: US20190293702A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Masataka Midori,Tomohiro Honya. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2019-09-26.

AR space image projecting system, AR space image projecting method, and user terminal

Номер патента: US11238658B2. Автор: Remi Driancourt. Владелец: Square Enix Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-01.

Pulse generator and radiation system having the same

Номер патента: US11875909B2. Автор: Chenglong Zhou. Владелец: Shanghai United Imaging Healthcare Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Automated non-contact thickness inspection and projection system using color-coded based patterns

Номер патента: US11953309B2. Автор: Shane Whitaker,Jeffrey Drewett,Anthony Mann. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2024-04-09.

Method of generating deceleration radiation with pulse-by-pulse energy switching and radiation source for realising said method

Номер патента: RU2452143C2. Автор: Анатолий Сергеевич Симонов,Андрей Николаевич Ермаков,Андрей Николаевич Каманин,Виктор Васильевич Клементьев,Николай Иванович Пахомов,Иван Васильевич Шведунов,Василий Иванович Шведунов,Олег Юрьевич Масленников,Александр Павлович Мусатов,Сергей Владимирович Ламонов,Олег Юрьевич Масленников (RU),Анатолий Сергеевич Симонов (RU),Александр Павлович Мусатов (RU),Виктор Васильевич Клементьев (RU),Сергей Владимирович Ламонов (RU),Василий Иванович Шведунов (RU),Николай Иванович Пахомов (RU),Андрей Николаевич Ермаков (RU),Андрей Николаевич Каманин (RU),Иван Васильевич Шведунов (RU). Владелец: Демидова Елена Викторовна. Дата публикации: 2012-05-27.

Optical projection system

Номер патента: RU2154352C2. Автор: ЛИМ Дае-Янг,ЯНГ Джин-Се. Владелец: Дэу Электроникс Ко., Лтд.. Дата публикации: 2000-08-10.

System and method for using off-axis illumination in a reflective projection system

Номер патента: US20020093628A1. Автор: Melvin Francis,Matthew Bone,Isabella Lewis. Владелец: Aurora Systems Inc. Дата публикации: 2002-07-18.

Vacuum-based attachment for heat sink and radiation shield

Номер патента: US20230097977A1. Автор: Arnab Sen,Juha Tapani Paavola,Samarth Alva. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2023-03-30.

Radiation source for microwave pulses and radiation device

Номер патента: AU2019203736B2. Автор: Martin Hertel,Robert Stark. Владелец: Diehl Defence GmbH and Co KG. Дата публикации: 2024-03-14.

Projection system and projection method

Номер патента: US20220303512A1. Автор: Chung-Lung Yang,Chun-Lin Chien. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-09-22.

Projection system and projection method

Номер патента: US20230057458A1. Автор: Po-Yen Wu,Yu-Hsuan Hsieh,Yun-Shih Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2023-02-23.

Method for operating a high-intensity discharge lamp, lamp driver and projection system

Номер патента: WO2007031900A1. Автор: Carsten Deppe. Владелец: Philips Intellectual Property & Standards Gmbh. Дата публикации: 2007-03-22.

Method for adjusting projection parameter and projection system

Номер патента: US20240146883A1. Автор: Chien-Chun Peng,Hsun-Cheng Tu,Kang-Shun Hsu,Chia-Yen Ou. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Method of correcting perturbations in the picture signal of a color projection system, and such a color projection system

Номер патента: EP1474930A1. Автор: Adrianus J. S. M. De Vaan. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2004-11-10.

Projection system, and control method for projection system

Номер патента: US12096161B2. Автор: Eiji Morikuni. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Projection system and projection method

Номер патента: US20200280706A1. Автор: Chi-Wei Lin,Chien-Chun Peng,Hsun-Cheng Tu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-09-03.

Radiation imaging apparatus and radiation imaging system

Номер патента: US10993683B2. Автор: Nobuyuki Miyake,Tetsu Hosoki,Tomonori Gido. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2021-05-04.

Image projection system

Номер патента: US20150381955A1. Автор: Atsushi Takagi. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-31.

Projection system, method of controlling projector, and projector

Номер патента: US20210266506A1. Автор: Hiroyuki Ichieda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2021-08-26.

Projection system and adjusting method thereof

Номер патента: US20080111926A1. Автор: Chun-Li Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2008-05-15.

Video projection system

Номер патента: EP1464184A1. Автор: Holger MÖNCH. Владелец: Philips Intellectual Property and Standards GmbH. Дата публикации: 2004-10-06.

Projection system, image processing apparatus, and computer-readable storage medium

Номер патента: US9781395B2. Автор: Masaaki Ishikawa,Yukinaka Uchiyama. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

System and method for using off-axis illumination in a reflective projection system

Номер патента: WO2002061503A1. Автор: Isabella T. Lewis,Melvin Francis,Matthew F. Bone. Владелец: Aurora Systems, Inc.. Дата публикации: 2002-08-08.

Micro display projection system having electronically controlled color switches

Номер патента: US20020080333A1. Автор: Sang-Hae Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-06-27.

Method for automatically detecting projector configuration and projection system

Номер патента: US20240195945A1. Автор: Chung-Lung Yang,Chun-Lin Chien,Yu-Wen Lo,Xuan-En Fung. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Screen projection method, screen projection device, screen projection display device, screen projection system and medium

Номер патента: EP4429255A1. Автор: Zhenhua Yu,Xianchao SHEN. Владелец: Beijing ByteDance Network Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Projector, its control method, and image projection system

Номер патента: US09906761B2. Автор: Makiko Mori. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Projection system, projector, and image adjustment method

Номер патента: US09883154B2. Автор: Shiki Furui. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Projection system, image processing apparatus, and computer-readable storage medium

Номер патента: US09781395B2. Автор: Masaaki Ishikawa,Yukinaka Uchiyama. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Projection system

Номер патента: US20060232716A1. Автор: Wen-Chang Chien,Yen-Hsien Su,Lien-Fu Hu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2006-10-19.

Method for triggering projection fusion calibration and projection system

Номер патента: US20220094895A1. Автор: Chi-Wei Lin,Chien-Chun Peng,Hsun-Cheng Tu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Projection system

Номер патента: US09894332B2. Автор: Kazuhiro Minami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Projection system

Номер патента: US09807356B1. Автор: Kazuhiro Minami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Anatomical image projection system

Номер патента: US09763748B2. Автор: Stefan Laurentius Maria Hummelink. Владелец: Stichting Katholieke Universiteit. Дата публикации: 2017-09-19.

Optical projection system

Номер патента: US5541679A. Автор: Jin-Se Yang. Владелец: Daewoo Electronics Co Ltd. Дата публикации: 1996-07-30.

Optical projection system

Номер патента: US5669687A. Автор: Jin-Se Yang. Владелец: Daewoo Electronics Co Ltd. Дата публикации: 1997-09-23.

Stereoscopic projection system using tunable light emitters

Номер патента: EP2805518A1. Автор: Barry D. Silverstein. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2014-11-26.

Stereoscopic projection system using tunable light emitters

Номер патента: WO2013109440A1. Автор: Barry D. Silverstein. Владелец: EASTMAN KODAK COMPANY. Дата публикации: 2013-07-25.

Projecting system, projecting method, and storage medium

Номер патента: US12075200B2. Автор: Masahiro Ogawa. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Projection system and method with blended color gamut

Номер патента: US12075021B2. Автор: Martin J. Richards,Clement Luc Carol LE BARBENCHON,Trevor Davies,Elizabeth DOVALE. Владелец: Dolby Laboratories Licensing Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Projection system and projector

Номер патента: US20060215126A1. Автор: Toshiki Saito. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2006-09-28.

Lcos panel assembly of projection system and image matching method thereof

Номер патента: EP1750441A3. Автор: Ju Wan Seok,Sungok Cheon,Moung Youb Lee. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2008-10-29.

LCOS panel assembly of projection system and image matching method thereof

Номер патента: US20070047112A1. Автор: Ju Seok,Sung Cheun,Moung Lee. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2007-03-01.

Method for formation of a color video image for projection systems with one cathode ray tube

Номер патента: US20070171314A1. Автор: Arayik Danghyan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-07-26.

Raster reordering in laser projection systems

Номер патента: US09661286B1. Автор: Menashe Haskin. Владелец: Amazon Technologies Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Projection systems

Номер патента: WO2002085009A3. Автор: Bruce Shanks,Brian P Turner,Douglas A Kirkpatrick,Michael A Dubinovsky,Paul E Steiner. Владелец: Paul E Steiner. Дата публикации: 2003-04-24.

Projection system, projection apparatus and calibrating method for displayed image thereof

Номер патента: US20200366877A1. Автор: Je-Fu Cheng,Lei-Chih Chang. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-11-19.

Combined light source for projection display

Номер патента: EP1698180A1. Автор: Simon Magarill,R. Edward English Jr.,Boris Ardashnikov. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2006-09-06.

Projection system and control method for projection system

Номер патента: EP4311225A1. Автор: Takashi Watanabe,Masami Osada,Norimitsu Sugiyama. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

Control method for projector, projector, and image projection system

Номер патента: US11800070B2. Автор: Takaaki Ozawa,Takeo Koshiba,Morio Matsumoto. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Radiation image capturing system and radiation image capturing apparatus

Номер патента: US20130099128A1. Автор: Satoshi Komiya,Atsunori SHIKINO. Владелец: Konica Minolta Medical and Graphic Inc. Дата публикации: 2013-04-25.

Method for calibration of an optical-digital projection system

Номер патента: WO2023003527A1. Автор: Vitaliy Serhiiovych SLYUSARENKO. Владелец: Slyusarenko Vitaliy Serhiiovych. Дата публикации: 2023-01-26.

Reflective-type liquid crystal projection system

Номер патента: US20030107710A1. Автор: Yai-Hui Chiang. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2003-06-12.

Projector, method for controlling the same, and projection system

Номер патента: US20190104292A1. Автор: Azusa Oka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-04-04.

Colour projection systems with improved lifetime

Номер патента: WO2005004497A1. Автор: Wouter Oepts. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2005-01-13.

Projection system

Номер патента: WO2005107252A1. Автор: Hak-Yong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2005-11-10.

Method for determining an equivalent circuit for a solar cell

Номер патента: WO2003107021A1. Автор: Jaakko Hyvärinen,Juha Karila. Владелец: Endeas Oy. Дата публикации: 2003-12-24.

Projection system and control method thereof

Номер патента: US20230140198A1. Автор: Po-Yen Wu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2023-05-04.

Charged particle accelerator and radiation source

Номер патента: WO2008032050A1. Автор: Simon Martin Hooker,Anthony Joseph Gonsalves,Dino Anthony Jaroszynski,Wim Pieter David Leemans. Владелец: Lawrence Berkeley National Laboratory. Дата публикации: 2008-03-20.

Projection system and color calibration method thereof

Номер патента: US20220408066A1. Автор: Chun-Lin Chien,Yu-Wen Lo. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-12-22.

Projection system and control method for projection system

Номер патента: US20230421735A1. Автор: Takashi Watanabe,Masami Osada,Norimitsu Sugiyama. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Projection system and projection method

Номер патента: US11575864B2. Автор: Chung-Lung Yang,Chun-Lin Chien. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2023-02-07.

Projection system and projection method

Номер патента: US11800072B2. Автор: Po-Yen Wu,Yu-Hsuan Hsieh,Yun-Shih Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Registration apparatus for television film projection system

Номер патента: US3584149A. Автор: Robert Earl Flory. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1971-06-08.

Projection system, projection image adjusting method and projector

Номер патента: US20200358991A1. Автор: Chun-Lin Chien,Yu-Kuan Chang. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-11-12.

System for Direct Application of Dampening Fluid for a Variable Data Lithographic Apparatus

Номер патента: US20130033688A1. Автор: David Biegelsen,Timothy Stowe,Lars-Erik Swartz,Jurgen Daniel. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2013-02-07.

System for Direct Application of Dampening Fluid for a Variable Data Lithographic Apparatus

Номер патента: US20130033688A1. Автор: David Biegelsen,Timothy Stowe,Lars-Erik Swartz,Jurgen Daniel. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2013-02-07.

Method for Direct Application of Dampening Fluid for a Variable Data Lithographic Apparatus

Номер патента: US20130340638A1. Автор: Pattekar Ashish,Peeters Eric,Stowe Timothy,Biegelsen David,Daniel Jurgen,Swartz Lars-Erik. Владелец: PALO ALTO RESEARCH CENTER INCORPORATED. Дата публикации: 2013-12-26.

Method of controlling an electrochromic mirror and an electrochromic system which are intended for a motor vehicle

Номер патента: WO2006040668A2. Автор: Carles Person Millaruelo,Isidre Porqueras Orea. Владелец: FICO MIRRORS, S.A.. Дата публикации: 2006-04-20.

Method of controlling an electrochromic mirror and an electrochromic system which are intended for a motor vehicle

Номер патента: EP1818215A2. Автор: Carles Person Millaruelo,Isidre Porqueras Orea. Владелец: Ficomirrors SA. Дата публикации: 2007-08-15.

Control device, radiation imaging apparatus, radiation imaging method, and radiation imaging program

Номер патента: US20180199906A1. Автор: Takeyasu Kobayashi,Naokazu KAMIYA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-07-19.

Headlight projection system and vehicle

Номер патента: EP4283186A1. Автор: Jun Yang,Qiang Fu,Xiaolei CHEN,Lixia HAO,Longhai Lou,Yanfeng Guo,Aiquan YU. Владелец: Zhejiang Zhima Intelligent Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-29.

Fluid treatment system, radiation source assembly and radiation source module

Номер патента: WO2001017906A1. Автор: Richard Pearcey. Владелец: TROJAN Technologies Inc.. Дата публикации: 2001-03-15.

Radiation therapy delivery system and radiation therapy treatment planning

Номер патента: EP2440291A1. Автор: Andrei Bronnikov,Hans Meijs. Владелец: Nucletron Operations BV. Дата публикации: 2012-04-18.

Radiation therapy delivery system and radiation therapy treatment planning

Номер патента: WO2010143960A1. Автор: Andrei Bronnikov,Hans Meijs. Владелец: Nucletron B.V.. Дата публикации: 2010-12-16.

Radiation treatment head and radiation treatment device

Номер патента: US11975216B2. Автор: MING Zhong,Haifeng Liu,Huiliang Wang,Hongbin Zhao. Владелец: Our United Corp. Дата публикации: 2024-05-07.

System of plaster and radiation device

Номер патента: EP2051774A1. Автор: Christoph G. A. Hoelen,Marco Van As,Giovanna Wagenaar Cacciola. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2009-04-29.

Method of handling radiation, and radiation system

Номер патента: EP4393544A2. Автор: Christer Ullberg. Владелец: Varex Imaging Sweden AB. Дата публикации: 2024-07-03.

Headlight for a motor vehicle and method for distributing light

Номер патента: US09777901B2. Автор: Friedrich Bauer,Markus Reinprecht,Bettina REISINGER. Владелец: ZKW Group GmbH. Дата публикации: 2017-10-03.

Radiation therapy and radiation surgery treatment system and methods of use of same

Номер патента: US6422748B1. Автор: Robert W. Rand,Joseph S. Shepherd. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-23.

Radiation therapy and radiation surgery treatment system and methods of use of same

Номер патента: US5537452A. Автор: Robert W. Rand,Joseph S. Shepherd. Владелец: Individual. Дата публикации: 1996-07-16.

Containment shield for a replaceable xenon lamp and reflector module

Номер патента: US4706171A. Автор: Paul H. Ruterbusch. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1987-11-10.

Context aware vehicle-based projection system

Номер патента: US20240092369A1. Автор: Sarbajit K. Rakshit,Jeremy R. Fox,Martin G. Keen,Tushar Agrawal. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Fan shroud and radiator fan for a motor vehicle, and radiator fan having the fan shroud

Номер патента: US20240301814A1. Автор: Christian Froh,Antje Findeisen,Andre EVERS. Владелец: Brose Fahrzeugteile SE and Co KG. Дата публикации: 2024-09-12.

Positioning device, positioning method, positioning program, radiation image processing device, radiation image processing method, and radiation image processing program

Номер патента: US12082965B2. Автор: Takahiro Kawamura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Vortex light projection system, LED lensless primary optics system, and perfectly random LED color mixing system

Номер патента: US09512978B1. Автор: Randal L Wimberly. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-12-06.

Process and radiator device for wort sterilization by radiation for ethanol production

Номер патента: US9517281B2. Автор: Marcelo Gianatto Moreira,Airton Deppman,Pedro Carlos Russo Rossi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-12-13.

Radiation modulator assembly and radiation delivery apparatus for use in ion-based radiotherapy and a planning method for ion-based radiotherapy

Номер патента: US12090344B2. Автор: Erik Traneus. Владелец: RaySearch Laboratories AB. Дата публикации: 2024-09-17.

Modular portable writing and projection system having variable curvature

Номер патента: US09403400B2. Автор: Donald MacDonald,John Crowley,Stephen Spencer,Michael Mcmanus,Joseph Ballay. Владелец: Maya Design Inc. Дата публикации: 2016-08-02.

Fluid treatment system and radiation source module for use therein

Номер патента: CA2431316A1. Автор: David Eaton Sproule,Jason J. Cerny,Michael P. Sarchese,Mike Marcu,George A. Traubenberg. Владелец: George A. Traubenberg. Дата публикации: 2002-06-20.

Brush-type moistening mechanism for a lithographic printing press

Номер патента: GB1125213A. Автор: . Владелец: Miehle Goss Dexter Inc. Дата публикации: 1968-08-28.

Semi-automated layup process for fabrication of wind turbine blades using laser projection system

Номер патента: US11541614B2. Автор: Carlos Ramirez,Amirhossein SALIMI. Владелец: TPI Composites Inc. Дата публикации: 2023-01-03.

Semi-automated layup process for fabrication of wind turbine blades using laser projection system

Номер патента: US11007727B2. Автор: Carlos Ramirez,Amirhossein SALIMI. Владелец: TPI Composites Inc. Дата публикации: 2021-05-18.

Semi-automated layup process for fabrication of wind turbine blades using laser projection system

Номер патента: US11931976B2. Автор: Carlos Ramirez,Amirhossein SALIMI. Владелец: TPI Composites Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Method of manufacturing a support for a lithographic printing plate

Номер патента: EP1520728A3. Автор: Akio Uesugi,Hirokazu Sawada. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-07.

Semi-automated layup process for fabrication of wind turbine blades using laser projection system

Номер патента: US20230133820A1. Автор: Carlos Ramirez,Amirhossein SALIMI. Владелец: TPI Composites Inc. Дата публикации: 2023-05-04.

Semi-automated layup process for fabrication of wind turbine blades using laser projection system

Номер патента: EP3732362A1. Автор: Carlos Ramirez,Amirhossein SALIMI. Владелец: TPI Composites Inc. Дата публикации: 2020-11-04.

Semi-automated layup process for fabrication of wind turbine blades using laser projection system

Номер патента: US20190202143A1. Автор: Carlos Ramirez,Amirhossein SALIMI. Владелец: TPI Composites Inc. Дата публикации: 2019-07-04.

Semi-automated layup process for fabrication of wind turbine blades using laser projection system

Номер патента: US20210268751A1. Автор: Carlos Ramirez,Amirhossein SALIMI. Владелец: TPI Composites Inc. Дата публикации: 2021-09-02.

Cleaning apparatus. radiation source module and fluid treatment system

Номер патента: EP2498925A1. Автор: George Traubenberg,Cristian Moglan,Allan Archer. Владелец: Trojan Technologies Inc Canada. Дата публикации: 2012-09-19.

Radiation source and skin irradiation device

Номер патента: US20240359028A1. Автор: Günter Schaffron. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-10-31.

Optical cutting edge locator for a cutting apparatus

Номер патента: US4503740A. Автор: Robert D. Brand,Ralph D. Runyan. Владелец: Capital Machine Co Inc. Дата публикации: 1985-03-12.

Gas flow device for a system for the radiation treatment of substrates

Номер патента: RU2670926C2. Автор: Карлос РИБЕЙРО. Владелец: Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Пфеффикон. Дата публикации: 2018-10-25.

Method of providing a therapeutic support for a user and a device for implementing it

Номер патента: RU2679473C2. Автор: Андрей Александрович Стручков,Николай Николаевич Карякин,Антон Петрович Фролов,Сергей Борисович Сюсин,Павел Олегович Хитриков. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Техстрой". Дата публикации: 2019-02-11.

Lithographic layer for a printing blanket and the printing offset blanket incorporating same

Номер патента: CA2212811C. Автор: Jerzy Kuczynski,Sophie Haraux. Владелец: Rollin SA. Дата публикации: 2006-03-21.

Improved lithographic layer for a printing blanket and blanket fitted with this layer

Номер патента: CA2252897C. Автор: Jose Risquez. Владелец: Rollin SA. Дата публикации: 2008-02-19.

Beam station treatment planning and radiation delivery methods

Номер патента: US11801398B2. Автор: Yevgen VORONENKO,Peter Demetri OLCOTT,Debashish Pal,Rostem BASSALOW,Jayakrishnan JANARDHANAN,Michael Kirk OWENS. Владелец: RefleXion Medical Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Light module for a lighting device of a motor vehicle

Номер патента: US20240019098A1. Автор: Yves Gromfeld. Владелец: VALEO VISION SAS. Дата публикации: 2024-01-18.

Reimageable and reusable printing sleeve for a variable cutoff printing press

Номер патента: US20150174890A1. Автор: Mehmet Oktay Kaya,James Brian Vrotacoe,Parris Robert Ballentine. Владелец: Goss International Americas LLC. Дата публикации: 2015-06-25.

Method of making a lithographic printing plate precursor

Номер патента: EP1551642A1. Автор: Eric c/o Agfa-Gevaert Verschueren. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 2005-07-13.

Method of marking a lithographic printing plate precursor

Номер патента: EP1558447A2. Автор: Eric AGFA-GEVAERT VERSCHUEREN. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 2005-08-03.

Reimageable and reusable printing sleeve for a variable cutoff printing press

Номер патента: US09878531B2. Автор: Mehmet Oktay Kaya,James Brian Vrotacoe,Parris Robert Ballentine. Владелец: Goss International Americas LLC. Дата публикации: 2018-01-30.

Radiation source for endovascular radiation treatment

Номер патента: CA2377610C. Автор: Eberhard Fritz,Gerd Phillipps. Владелец: AEA Technology QSA GmbH. Дата публикации: 2005-09-13.

Radiation source for endovascular radiation treatment

Номер патента: CA2377610A1. Автор: Eberhard Fritz,Gerd Phillipps. Владелец: Nuclitec Gmbh. Дата публикации: 2000-12-28.

Lithographic Apparatus and Method

Номер патента: US20120002182A1. Автор: NIENHUYS Han-Kwang,HUIJBERTS Alexander Marinus Arnoldus,Jonkers Peter Gerardus. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

Environmental Control Subsystem for a Variable Data Lithographic Apparatus

Номер патента: US20130032050A1. Автор: Pattekar Ashish,Stowe Timothy,Biegelsen David,Odell Peter. Владелец: . Дата публикации: 2013-02-07.

Direct Application of Dampening Fluid for a Variable Data Lithographic Apparatus

Номер патента: US20130033686A1. Автор: Pattekar Ashish,Peeters Eric,Stowe Timothy,Biegelsen David,Schwartz Lars-Erik,Daniel Jurgen. Владелец: PALO ALTO RESEARCH CENTER INCORPORATED. Дата публикации: 2013-02-07.

Method for Direct Application of Dampening Fluid for a Variable Data Lithographic Apparatus

Номер патента: US20130033687A1. Автор: Pattekar Ashish,Peeters Eric,Stowe Timothy,Biegelsen David,Daniel Jurgen,Swartz Lars-Erik. Владелец: PALO ALTO RESEARCH CENTER INCORPORATED. Дата публикации: 2013-02-07.

METHOD OF ADJUSTING SPEED AND/OR ROUTING OF A TABLE MOVEMENT PLAN AND A LITHOGRAPHIC APPARATUS

Номер патента: US20120003381A1. Автор: Li Hua,Van Den Nieuwelaar Norbertus Josephus Martinus,GROUWSTRA Cedric Desire,JOCHEMSEN Marinus,KEMPER Nicolaas Rudolf,DE VRIES Dirk. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

Grating production method, diffraction grating device, and radiation imaging apparatus

Номер патента: US20120002785A1. Автор: KANEKO Yasuhisa. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Lithographic Apparatus Imaging Error Correction

Номер патента: NL2020279A. Автор: ALTINI Valerio. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-08-24.

Laser-plasma ion and radiation source

Номер патента: RU2250530C2. Автор: Г.И. Козлов. Владелец: Институт проблем механики Российской Академии наук. Дата публикации: 2005-04-20.

Method for heating of drying drum for dressing machine from inside with the use of linear infrared radiation sources of restricted length

Номер патента: RU2300589C1. Автор: Михаил Иванович Калинин,Геннадий Дмитриевич Лузгин,Виктор Дмитриевич Бодырев,Михаил Борисович Шехтман,Дмитрий Анатольевич Скворцов,Анатолий Семенович Мещеряков,ков Анатолий Семенович Мещер,ков Виктор Александрович Крут,Виктор Александрович Крутяков. Владелец: Ооо Нпф "Круг". Дата публикации: 2007-06-10.

Method for single-step location of short-wave radiation source

Номер патента: RU2523650C2. Автор: Владимир Анатольевич Уфаев,Андрей Владимирович Уфаев. Владелец: Федеральное государственное военное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Военный авиационный инженерный университет" (г. Воронеж) Министерства обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2014-07-20.

Methods and apparatus for determining control data for a lithographic apparatus

Номер патента: NL2025106A. Автор: WERKMAN Roy,Alphons Van Hinsberg Michel,Robert Downes James,Fredrik Friso Klinkhamer Jacob,Sebastiaan Wildenberg Jochem,Josef Maria Verdurmen Erwin,Jan Urbanczyk Adam,Jan Joppe Visser Lucas. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-05-06.

Method for controlling a lithographic apparatus

Номер патента: NL2024657A. Автор: KIM Min-seok,YAGUBIZADE Hadi,Cottaar Jeroen,PARK Jeonghyun,Maurits Slotboom Daan,Cui Yingchao. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-02-05.

Method for radiation labeling and radiation monitoring

Номер патента: RU2059291C1. Автор: Виктор Константинович Ляпидевский. Владелец: Виктор Константинович Ляпидевский. Дата публикации: 1996-04-27.

ENHANCED CAVITY FOR A PHOTOACOUSTIC GAS SENSOR

Номер патента: US20120000271A1. Автор: . Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of assembling ionising radiation sources based on cobalt-60 radionuclide and device therefor

Номер патента: RU2558752C1. Автор: Андрей Викторович Жуков,Дмитрий Владимирович Козлов,Алексей Александрович Соболев,Вячеслав Викторович Светухин,Александр Николаевич Фомин,Артем Николаевич Нуждов,Сергей Юрьевич Дрягин,Сергей Геннадьевич Торчилкин,Александр Петрович Буранов,Ирина Ивановна Торчилкина,Валентина Прокофьевна Пестова,Наталья Александровна Буранова,Евгений Васильевич Шимбарев,Илья Владимирович Торгашов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный университет". Дата публикации: 2015-08-10.

A Substrate Container, a Lithographic Apparatus and a Method using a Lithographic Apparatus

Номер патента: NL2024620A. Автор: Jansen Frans,Luca Gattobigio Giovanni. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-01-29.

Methods for Estimating Heat Distribution in a Lithographic Apparatus

Номер патента: NL2025109A. Автор: Hendrik Koevoets Adrianus,Henricus Van Der Meulen Stan,Luigi Perego Davide,Anton Frits Vromen Joost. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-05-07.

Projection device and projection system

Номер патента: CA3181890A1. Автор: BIN Li,Hai Huang,Jie Gao,Kun Xiao. Владелец: Savant Technologies Inc. Дата публикации: 2023-06-22.

Helmet with projection system

Номер патента: RU2535229C2. Автор: Михаил Абрамович Ган,Александр Алексеевич Старков,Андрей Борисович Артищев,Сергей Анатольевич Ларионов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Арт Бизнес". Дата публикации: 2014-12-10.

Method determining bearing on radiation source and device for its realization

Номер патента: RU2158430C2. Автор: Б.А. Касаткин,Ю.В. Матвиенко. Владелец: Институт проблем морских технологий Дальневосточного отделения РАН. Дата публикации: 2000-10-27.

Fibre-optic device of long length with low-power source for detecting vibration action

Номер патента: RU2589492C1. Автор: Валерий Ефимович Карасик,Алексей Борисович Пнев,Станислав Григорьевич Сазонкин,Константин Викторович Степанов,Андрей Андреевич Жирнов,Евгений Тарасович Нестеров,Дмитрий Алексеевич Шелестов,Олег Анатольевич Гарин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана" (МГТУ им. Н.Э. Баумана). Дата публикации: 2016-07-10.

Method of assembling ionising radiation sources using compensators and apparatus therefor

Номер патента: RU2560107C1. Автор: Андрей Викторович Жуков,Дмитрий Владимирович Козлов,Алексей Александрович Соболев,Вячеслав Викторович Светухин,Александр Николаевич Фомин,Сергей Геннадьевич Торчилкин,Александр Петрович Буранов,Евгений Васильевич Шимбарев,Илья Владимирович Торгашов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный университет". Дата публикации: 2015-08-20.

Optical projection system

Номер патента: RU2403602C1. Автор: Мария Валерьевна Урусова,Алексей Владимирович Братищев,Алексей Сергеевич Бородулин. Владелец: Корпорация "САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС Ко., Лтд.". Дата публикации: 2010-11-10.

Method of increasing heat dissipation and radiation protection of electronic components

Номер патента: RU2488244C1. Автор: Анатолий Сергеевич Сыров,Аркадий Михайлович Митюнин,Валерий Митрофанович Глебов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Московское опытно-конструкторское бюро "Марс" (ФГУП МОКБ "Марс"). Дата публикации: 2013-07-20.

Multiple-line spectral radiation source

Номер патента: RU2256159C2. Автор: В.И. Попов,Е.М. Мандрик. Владелец: Мандрик Егор Михайлович. Дата публикации: 2005-07-10.

Radionuclide radiation source for gamma-ray flaw detection

Номер патента: RU2499312C1. Автор: Александр Николаевич Рябов,Владимир Трофимович Калинников,Алексей Владимирович Дуб,Виктор Иванович Капустин,Юрий Васильевич Кузьмич,Сергей Германович Хаютин,Борис Михайлович Фрейдин,Елена Александровна Алехнович,Любовь Викторовна Поезжаева. Владелец: Открытое акционерное общество Научно-производственное объединение "Центральный научно-исследовательский институт технологии машиностроения" ОАО НПО "ЦНИИТМАШ". Дата публикации: 2013-11-20.

Projection system

Номер патента: RU2294002C2. Автор: Александр Викторович Морозов,Виктор Семенович Пашков,Михаил Сергеевич Левтонов. Владелец: САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС КО., ЛТД.. Дата публикации: 2007-02-20.

Semiconductor radiation source

Номер патента: RU2466481C1. Автор: Анатолий Васильевич Семенов,Александр Владимирович Хан,Владимир Александрович Хан. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт полупроводниковых приборов" (ОАО "НИИПП"). Дата публикации: 2012-11-10.

Laser projection system for displaying tv information

Номер патента: RU2104617C1. Автор: Юрий Михайлович Мокрушин,Олег Васильевич Шакин. Владелец: Олег Васильевич Шакин. Дата публикации: 1998-02-10.

Light-emitting diode radiation source for transport control systems

Номер патента: RU2402108C1. Автор: Алексей Алексеевич Иванов,Владимир Семенович Абрамов,Сергей Григорьевич Никифоров,Петр Васильевич Пензев,Гельмут Вилли Мухов,Николай Петрович Петроченко,Сергей Станиславович Рудиков. Владелец: Владимир Семенович Абрамов. Дата публикации: 2010-10-20.

Euv radiation source

Номер патента: RU2373591C1. Автор: Владимир Михайлович Борисов,Олег Борисович Христофоров,Александр Васильевич Прокофьев,Владимир Михайлович Борисов (RU),Александр Васильевич Прокофьев (RU),Олег Борисович Христофоров (RU). Владелец: Александр Васильевич Прокофьев. Дата публикации: 2009-11-20.

Substrate holder, lithographic apparatus and method

Номер патента: NL2024543A. Автор: SCHREUDER André,KRAMER Gijs,POSTMA Ludolf. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-01-13.

A Substrate Holder for use in a Lithographic Apparatus

Номер патента: NL2023007A. Автор: Ten Kate Nicolaas,Henricus Johannes Stevens Lucas. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-05-08.

Cleaning apparatus and immersion lithographic apparatus

Номер патента: SG152197A1. Автор: De Graaf Ariël,JANSEN Hans,van Putten Michel,Martinus Hendrikus Antonius Leenders,Ronald Harm Gunther Kramer,Jong Anthonius Martinus Cornelis Petrus De,Blom Paul. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-05-29.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.