Local exposure method and local exposure apparatus
Номер патента: TW201239544A
Опубликовано: 01-10-2012
Автор(ы): Fumihiko Ikeda, Hikaru Kubota, Koutarou Onoue
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-10-2012
Автор(ы): Fumihiko Ikeda, Hikaru Kubota, Koutarou Onoue
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Alignment method, exposure method using the same, alignment apparatus and exposure apparatus using the same
Номер патента: JP3491346B2. Автор: 健爾 西. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2004-01-26.