Method and apparatus for measuring asymmetry of microstructure, position measuring method, position measuring apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
Номер патента: JP5992110B2
Опубликовано: 14-09-2016
Автор(ы): ティネマンズ,パトリシウス, ボーフ,アリー,ジェフリー デン
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 14-09-2016
Автор(ы): ティネマンズ,パトリシウス, ボーフ,アリー,ジェフリー デン
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography
Номер патента: TW201028799A. Автор: Tilmann Heil,Paul Graeupner,Heiko Feldmann,Joerg Zimmermann,Ulrich Gebhardt. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2010-08-01.