Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • METAL MASK SUBSTRATE FOR VAPOR DEPOSITION, METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION, PRODUCTION METHOD FOR METAL MASK SUBSTRATE FOR VAPOR DEPOSITION, AND PRODUCTION METHOD FOR METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION

METAL MASK SUBSTRATE FOR VAPOR DEPOSITION, METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION, PRODUCTION METHOD FOR METAL MASK SUBSTRATE FOR VAPOR DEPOSITION, AND PRODUCTION METHOD FOR METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION

Номер патента: US20180038002A1
Опубликовано: 08-02-2018
Автор(ы): FUJITO Daisei, MIKAMI Naoko, Nishi Takehiro, NISHITSUJI Kiyoaki, SHINNO Mikio, TAMURA Sumika
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Vapor deposition metal mask substrate and its manufacturing method, vapor deposition metal mask and its manufacturing method

Номер патента: CN107406963B. Автор: 三上菜穗子,西辻清明,西刚广,新纳干大,田村纯香,藤户大生. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-20.

Method for producing metal mask and metal mask

Номер патента: US20020164534A1. Автор: Kiyoshi Ogawa. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2002-11-07.

Method for manufacturing mold for manufacturing fine metal mask and method for manufacturing fine metal mask

Номер патента: CN114127338B. Автор: 宋文燮,金领善. Владелец: Crea Future Corp. Дата публикации: 2022-12-09.

Method for manufacturing mold for manufacturing fine metal mask, and method for manufacturing fine metal mask

Номер патента: WO2020231172A1. Автор: 김영선,송문섭. Владелец: 크레아퓨쳐 주식회사. Дата публикации: 2020-11-19.

Container-shaped physical vapor deposition targets, and methods of forming container-shaped physical vapor deposition targets

Номер патента: TW570992B. Автор: Jianxing Li,Michael R Pinter,Chi-Tse Wu. Владелец: Honeywell Int Inc. Дата публикации: 2004-01-11.

Aerosol-assisted chemical vapor deposition of nickel sulfide nanowires for electrochemical water oxidation

Номер патента: US20230407497A1. Автор: Muhammad Ali Ehsan,Abbas Saeed Hakeem. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2023-12-21.

Method of fabricating metal mask

Номер патента: US20230207319A1. Автор: Yu-Wei Chang,Jen-Shun Lin,Yun-Pei Yang. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Methods for forming barrier/seed layers for copper interconnect structures

Номер патента: US09926639B2. Автор: Hoon Kim,Seshadri Ganguli,Wei Ti Lee,Sang Ho Yu,Hyoung-Chan Ha,Sang Hyeob Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Indium electroplating on physical vapor deposition tantalum

Номер патента: US11753736B2. Автор: Eric R. Miller,Michael J. Rondon,Jon Sigurdson. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2023-09-12.

Indium electroplating on physical vapor deposition tantalum

Номер патента: US20240018684A1. Автор: Eric R. Miller,Michael J. Rondon,Jon Sigurdson. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2024-01-18.

Method for manufacturing a printhead of an electrochemical additive manufacturing system

Номер патента: US20210054498A1. Автор: Jeffrey Herman,Charles Pateros,David Pain,Andrew Edmonds,Edward White. Владелец: Fabric8Labs Inc. Дата публикации: 2021-02-25.

Method for manufacturing an electrochemical deposition printhead with grid control circuit and backplane

Номер патента: US12000038B2. Автор: Jeffrey Herman,Charles Pateros,David Pain,Andrew Edmonds,Edward White,Kareemullah Shaik. Владелец: Fabric8Labs Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Container-shaped physical vapor deposition targets

Номер патента: US20030015432A1. Автор: Jianxing Li,Steven Wu,Michael Pinter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-23.

Method of preparing metal mask substrate

Номер патента: US12024780B2. Автор: Wen-Yi Lin,Chi-Wei Lin. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Coated substrates for electronic devices

Номер патента: WO2021211106A1. Автор: Kuan-Ting Wu,Chien-Ting Lin,Chi Hao Chang. Владелец: Hewlett-Packard Development Company, L.P.. Дата публикации: 2021-10-21.

System and method for manufacturing photovoltaic structures with a metal seed layer

Номер патента: US09761744B2. Автор: Wei Wang. Владелец: Tesla Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Film-forming apparatus component and method for cleaning same

Номер патента: US20060246735A1. Автор: Shinji Isoda,Yutaka Kadowaki,Katsuhiko Mushiake,Akisuke Hirata. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-11-02.

Coated substrates for electronic devices

Номер патента: US20230211375A1. Автор: Kuan-Ting Wu,Chien-Ting Lin,Chi Hao Chang. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2023-07-06.

Method for producing multiple-surface imposition vapor deposition mask, multiple-surface imposition vapor deposition mask obtained therefrom, and method for producing organic semiconductor element

Номер патента: US09343679B2. Автор: Hiroyuki Nishimura,Yutaka Matsumoto,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata,Yoshinori Hirobe,Masato Ushikusa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2016-05-17.

Metal mask structure, photomask for preparing shielding layer, and method for preparing metal mask structure by using photomask

Номер патента: US20240240303A1. Автор: Chiao-Ling Huang,Chi-Wei Lin. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Oblique vapor deposition substrate, liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and projection display device

Номер патента: US8654298B2. Автор: Koichi Terao. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2014-02-18.

Oblique vapor deposition substrate, liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and projection display device

Номер патента: US20110242447A1. Автор: Koichi Terao. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2011-10-06.

Chemical vapor deposition raw material containing organic nickel compound, and chemical vapor deposition method using the chemical vapor deposition raw material

Номер патента: US20160115587A1. Автор: Masayuki Saito,Satoshi Miyazaki,Ryosuke Harada,Kazuharu Suzuki,Shunichi Nabeya. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-04-28.

Chemical vapor deposition raw material containing organic nickel compound, and chemical vapor deposition method using the chemical vapor deposition raw material

Номер патента: US9447495B2. Автор: Masayuki Saito,Satoshi Miyazaki,Ryosuke Harada,Kazuharu Suzuki,Shunichi Nabeya. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-09-20.

Polyester resin composition production method, method for regenerating recovered polyester resin, and polyester resin composition

Номер патента: EP4361218A1. Автор: Nobuo Moriyama,Yu Yamamoto,Maki Kinami,Fumiaki Nishinaka,Tamayo SASAI. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-01.

Method for producing base for metal masks, method for producing metal mask for vapor deposition, base for metal masks, and metal mask for vapor deposition

Номер патента: US11746423B2. Автор: Takehiro Nishi,Naoko Mikami,Masashi Kurata,Daisei FUJITO,Kiyoaki NISHITSUJI,Reiji TERADA,Sumika TAMURA. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Scan vapor deposition metal mask, vapor deposition device, vapor deposition method, and electroluminescence display device

Номер патента: US20190071762A1. Автор: Satoshi Inoue,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Manabu Niboshi,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2019-03-07.

Vapor deposition mask, method for producing organic semiconductor element, and method for producing organic el display

Номер патента: US11840754B2. Автор: Hiroshi Kawasaki,Kumiko Hokari,Yasuko Sone. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2023-12-12.

A vapor deposition apparatus

Номер патента: US20170037508A1. Автор: Peng Zhang,Lifei Ma. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-09.

Device for vapor depositing metal

Номер патента: US20210348260A1. Автор: Lixia RUAN,Daoxu LIU. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Method for fine metal mask and design device for the same

Номер патента: US20210019459A1. Автор: Yue Liu,Shanshan BAI. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Jointing device for metal mask plate welding and welding method thereof

Номер патента: US20180085865A1. Автор: Rong Zhao,Jian Zhang,Junjie Huang,De Zhang,Dejian LIU. Владелец: Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

Metal mask having a resin plate, vapor deposition mask, method for producing vapor deposition mask device, and method for producing organic semiconductor element

Номер патента: KR102085707B1. Автор: 마사토 우시쿠사,도시히코 다케다,요시노리 히로베,유타카 마쓰모토,히로유키 니시무라,가쓰나리 오바타,다카시 다케코시. Владелец: 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-03-06.

Metal mask having a resin plate, vapor deposition mask, method for producing vapor deposition mask device, and method for producing organic semiconductor element

Номер патента: KR102128735B1. Автор: 마사토 우시쿠사,도시히코 다케다,요시노리 히로베,유타카 마쓰모토,히로유키 니시무라,가쓰나리 오바타,다카시 다케코시. Владелец: 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-07-01.

Method of metal mask and manufacturing method of metal mask

Номер патента: US11709420B2. Автор: Jianpeng Wu,Zhongying Yang,Weiwei Ding,Chang Luo. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Design method of metal mask and manufacturing method of metal mask

Номер патента: US20210187576A1. Автор: Jianpeng Wu,Zhongying Yang,Weiwei Ding,Chang Luo. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Method for fine metal mask and design device for the same

Номер патента: US11574092B2. Автор: Yue Liu,Shanshan BAI. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-07.

Base material for vapor deposition mask, method of manufacturing base material for vapor deposition mask, and method of manufacturing vapor deposition mask

Номер патента: TWI713899B. Автор: 三上菜穗子,西辻清明,寺田玲爾,新納幹大,倉田真嗣,武田憲太,秋山純香. Владелец: 日商凸版印刷股份有限公司. Дата публикации: 2020-12-21.

Metal mask and method for manufacturing metal mask

Номер патента: US20230313360A1. Автор: Yuji Anzai. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Metal mask and method for manufacturing metal mask

Номер патента: US20230313359A1. Автор: Yuki Yamamoto,Yuji Anzai. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Manufacturing method of mask frame material for vapor deposition and manufacturung method of mask frame for vapor deposition using the same

Номер патента: KR102229155B1. Автор: 이상욱,허도현. Владелец: 이상욱. Дата публикации: 2021-03-17.

Method for producing a composition for vapor deposition and an antireflection film, a composition for vapor deposition, an antireflection film, their application and an optical element

Номер патента: HU0104788D0. Автор: Yukihiro Takahashi,Akinori Kobayashi,Hitoshi Kamura,Yuko Watanabe,Takeshi Mitsuishi,Kenichi Shinde,Hiroki Takei. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2002-01-28.

Fine metal mask, display substrate, and alignment method therefor

Номер патента: EP3489384A1. Автор: Weili Li,Shuaiyan GAN,Xuliang Wang. Владелец: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-29.

Fine metal mask, display substrate, and alignment method therefor

Номер патента: US20200308687A1. Автор: Weili Li,Shuaiyan GAN,Xuliang Wang. Владелец: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Method for manufacturing fine metal mask and fine metal mask for manufacturing light emitting element

Номер патента: CN110506342B. Автор: 宋文燮,金领善. Владелец: Crea Future Corp. Дата публикации: 2021-03-30.

Method for manufacturing a metal mask and method for assembling the metal mask and a frame

Номер патента: KR100778540B1. Автор: 박형근,고성우. Владелец: 주식회사 이코니. Дата публикации: 2007-11-22.

Chemical vapor deposition process and coated article

Номер патента: US09915001B2. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Shell connection device and chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: LU505605B1. Автор: Haibo Huo. Владелец: Univ Zhengzhou Aeronautics. Дата публикации: 2024-05-24.

Physical vapor deposition target assemblies, and methods of forming physical vapor deposition target assemblies

Номер патента: EP1335994A2. Автор: Jianxing Li,Timothy Scott. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2003-08-20.

Fluoro-containing thermal chemical vapor deposition process and article

Номер патента: US20180163308A1. Автор: David A. Smith. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-06-14.

Vapor deposition mask, vapor deposition mask device, vapor deposition mask manufacturing method, vapor deposition mask device production method, and vapor deposition mask sheet-like member production method

Номер патента: JP4985227B2. Автор: 川 和 也 小. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2012-07-25.

Physical vapor deposition tile arrangement and physical vapor deposition arrangement

Номер патента: US20150114824A1. Автор: Klaus Schneider,Christoph Kaiser,Bernd Teichert,Michael Rivkin,George Arthur Proulx. Владелец: First Solar Inc. Дата публикации: 2015-04-30.

Vacuum vapor deposition method

Номер патента: US09863034B2. Автор: Yuji Yanagi. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Chemical vapor deposition process and coated article

Номер патента: US20160060763A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Vapor deposition source for vacuum vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230279536A1. Автор: Toshimitsu Nakamura,Jungo Onoda. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Method for manufacturing radiation-resistant optical fibers

Номер патента: RU2764038C1. Автор: Михаил Артемьевич Ероньян,Александр Александрович Печенкин,Юрий Константинович Чаморовский,Данила Ренатович Деветьяров,Алексей Юрьевич КУЛЕШ,Иван Сергеевич Никитин,Александр Александрович Реуцкий,Евгений Евгеньевич Татаринов. Владелец: Акционерное общество "Концерн "Центральный научно-исследовательский институт "Электроприбор". Дата публикации: 2022-01-12.

Vapor deposition carrier plate and method for performing vapor deposition on substrate by using vapor deposition carrier plate

Номер патента: US20210180181A1. Автор: Zhiqiao LIU. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Continuous-feed chemical vapor deposition system

Номер патента: US20230002906A1. Автор: Yaakov Gridish,Elad Mentovich,Yaniv Rotem,Doron NAVEH,Chen STERN,Yosi BEN-NAIM,Ariel Ismach,Tal KAUFMAN,Eran BAR-RABI. Владелец: Simtal Nano Coatings Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Workpiece holder, system, and operating method for pecvd

Номер патента: US20230349044A1. Автор: Jens-Uwe FUCHS,Ralf Reize,Mirko Tröller,Roland Leichtle. Владелец: Centrotherm International AG. Дата публикации: 2023-11-02.

Machining method for high-accuracy metal mask plate

Номер патента: CN105349947A. Автор: 唐军. Владелец: 唐军. Дата публикации: 2016-02-24.

Prevention of low pressure chemical vapor deposition silicon dioxide undercutting and flaking

Номер патента: CA1166129A. Автор: Bernard M. Kemlage. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-04-24.

Metallized film, method for the production thereof, and use thereof

Номер патента: US20050142376A1. Автор: Roland Treutlein,Johann Hillburger,Friedrich Kastner,Martin Bergsmann,Ronald Einsiedler. Владелец: Hueck Folien GmbH. Дата публикации: 2005-06-30.

Plasma display panel suitable for high-quality display and production method

Номер патента: EP1221709A2. Автор: Yutaka Nishimura,Ryuichi Murai,Takashi Inami,Masaki Aoki,Hideo Torii,Hiroyoshi Tanaka,Hiroyuki Kawamura,Yasuhisa Ishikura,Eiji Fujii,Katsuyoshi Yamashita,Mitsuhiro Ohtani. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-10.

Vapor deposition mask, vapor deposition method, and production method for organic el display device

Номер патента: US20210071289A1. Автор: Katsuhiko Kishimoto. Владелец: Sakai Display Products Corp. Дата публикации: 2021-03-11.

VAPOR DEPOSITION MASK, FRAME-EQUIPPED VAPOR DEPOSITION MASK, VAPOR DEPOSITION MASK PREPARATION BODY, VAPOR DEPOSITION PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC SEMICONDUCTOR ELEMENT

Номер патента: US20210214843A1. Автор: Kawasaki Hiroshi,OBATA Katsunari,HIROBE Yoshinori,SONE Yasuko,NARITA Asako,ISHIRO Hitoshi,HATSUTA Chiaki. Владелец: Dai Nippon Printing Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-07-15.

VAPOR DEPOSITION MASK, FRAME-EQUIPPED VAPOR DEPOSITION MASK, VAPOR DEPOSITION MASK PREPARATION BODY, VAPOR DEPOSITION PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC SEMICONDUCTOR ELEMENT

Номер патента: US20200259090A1. Автор: Kawasaki Hiroshi,OBATA Katsunari,HIROBE Yoshinori,SONE Yasuko,NARITA Asako,ISHIRO Hitoshi,HATSUTA Chiaki. Владелец: Dai Nippon Printing Co., Ltd.. Дата публикации: 2020-08-13.

VAPOR DEPOSITION MASK, VAPOR DEPOSITION METHOD, AND PRODUCTION METHOD FOR ORGANIC EL DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20200263287A1. Автор: KISHIMOTO Katsuhiko. Владелец: . Дата публикации: 2020-08-20.

Vapor deposition mask, vapor deposition mask with frame, vapor deposition mask preparatory body, vapor deposition pattern formation method, and method for manufacturing organic semiconductor element

Номер патента: TW201842689A. Автор: 初田千秋,川崎博司,曽根康子,廣部吉紀,小幡勝也,成田亜沙子,居城均. Владелец: 日商大日本印刷股份有限公司. Дата публикации: 2018-12-01.

Method for forming aluminum oxide/carbon nanotubes by ultrasonic atomization and chemical vapor deposition

Номер патента: US09834444B2. Автор: Muataz Ali Atieh,Fahad Ali RABBANI,Zuhair Omar MALAIBARI. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2017-12-05.

Chemical vapor deposition raw material containing organic nickel compound, and chemical vapor deposition method using the chemical vapor deposition raw material

Номер патента: US20160115587A1. Автор: Masayuki Saito,Satoshi Miyazaki,Ryosuke Harada,Kazuharu Suzuki,Shunichi Nabeya. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-04-28.

VAPOR DEPOSITION MASK, FRAME-EQUIPPED VAPOR DEPOSITION MASK, VAPOR DEPOSITION MASK PREPARATION BODY, AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC SEMICONDUCTOR ELEMENT

Номер патента: US20210167290A1. Автор: Kawasaki Hiroshi,OBATA Katsunari,TAKEDA Toshihiko. Владелец: Dai Nippon Printing Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-06-03.

Vapor deposition mask, frame-equipped vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation body, and method for producing organic semiconductor element

Номер патента: US20170148989A1. Автор: Hiroshi Kawasaki,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-05-25.

Vapor deposition mask, frame-equipped vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation body, and method for producing organic semiconductor element

Номер патента: US20200152877A1. Автор: Hiroshi Kawasaki,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2020-05-14.

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION RAW MATERIAL COMPRISING ORGANIC RUTHENIUM COMPOUND AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION RAW MATERIAL

Номер патента: US20170218509A1. Автор: SUZUKI Kazuharu,HARADA Ryosuke,NABEYA Shunichi,SHIGETOMI Toshiyuki,KUMAKURA Akiko,SONE Takayuki. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-03.

A raw material for chemical vapor deposition containing an organic ruthenium compound and a chemical vapor deposition method using the raw material for chemical vapor deposition

Номер патента: KR20220109445A. Автор: 료스케 하라다,시게유키 오오타케,도모히로 츠가와,승준 이,요헤이 고츠기. Владелец: 다나카 기킨조쿠 고교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-08-04.

A raw material for chemical vapor deposition containing an organic ruthenium compound and a chemical vapor deposition method using the raw material for chemical vapor deposition

Номер патента: KR20220109446A. Автор: 료스케 하라다,시게유키 오오타케,도모히로 츠가와,승준 이,데루히사 이와이. Владелец: 다나카 기킨조쿠 고교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-08-04.

Chemical vapor deposition material comprising an organic platinum compound and chemical vapor deposition method using the chemical vapor deposition material

Номер патента: JP5952460B1. Автор: 了輔 原田,利幸 重冨,俊一 鍋谷,鈴木　和治,和治 鈴木,亜希子 熊倉,達貴 青山,孝之 曽根. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-07-13.

Vapor deposition mask intermediate, vapor deposition mask, mask device, and method for manufacturing vapor deposition mask

Номер патента: WO2021157463A1. Автор: 小林　昭彦,かおり 松隈,建一郎 相川. Владелец: 凸版印刷株式会社. Дата публикации: 2021-08-12.

Chemical vapor deposition starting material comprising organic platinum compound, and chemical vapor deposition method using said chemical vapor deposition starting material

Номер патента: EP3296425A4. Автор: Takayuki Sone,Ryosuke Harada,Toshiyuki Shigetomi,Rumi Kobayashi,Kazuharu Suzuki,Shunichi Nabeya,Akiko KUMAKURA. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2019-01-16.

Vapor deposition mask, frame-equipped vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation body, and method for producing organic semiconductor element

Номер патента: US10573815B2. Автор: Hiroshi Kawasaki,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2020-02-25.

Chemical vapor deposition raw material comprising organic ruthenium compound, and chemical vapor deposition method using said chemical vapor deposition raw material

Номер патента: WO2021153639A1. Автор: 了輔 原田,輝久 岩井,成行 大武,智広 津川,承俊 李. Владелец: 田中貴金属工業株式会社. Дата публикации: 2021-08-05.

Device for vaporizing impurities contained in a liquefied gas, for example for vaporizing acetylene contained in liquid oxygen

Номер патента: FR1211465A. Автор: . Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1960-03-16.

METHOD FOR PRODUCING MULTIPLE-SURFACE IMPOSITION VAPOR DEPOSITION MASK, MULTIPLE-SURFACE IMPOSITION VAPOR DEPOSITION MASK OBTAINED THEREFROM, AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC SEMICONDUCTOR ELEMENT

Номер патента: US20150017759A1. Автор: Nishimura Hiroyuki,OBATA Katsunari,TAKEDA Toshihiko,HIROBE Yoshinori,MATSUMOTO Yutaka,USHIKUSA Masato. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-15.

PRECURSOR FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, AND LIGHT-BLOCKING CONTAINER CONTAINING PRECURSOR FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

Номер патента: US20200181775A1. Автор: Mizutani Fumikazu,Higashi Shintaro. Владелец: Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd.. Дата публикации: 2020-06-11.

THERMAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION COATED PRODUCT AND PROCESS OF USING A THERMAL VAPOR DEPOSITION COATED PRODUCT

Номер патента: US20160289585A1. Автор: YUAN Min,MATTZELA James B.,SMITH David A.,SILVIS Paul H.. Владелец: . Дата публикации: 2016-10-06.

Methods of selectively forming an epitaxial semiconductor layer using a ultra high vacuum chemical vapor deposition technique and batch-type ultra high vacuum chemical vapor deposition apparatus used therein

Номер патента: KR100642646B1. Автор: 이종욱,강민구,신유균,이덕형. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2006-11-10.

Raw material for chemical vapor deposition, light-shielding container containing raw material for chemical vapor deposition, and method for manufacturing the same

Номер патента: KR102367495B1. Автор: 후미카즈 미즈타니,신타로 히가시. Владелец: 가부시키가이샤 고준도가가쿠 겐큐쇼. Дата публикации: 2022-02-23.

Organometallic compounds for chemical vapor deposition and their preparing processes, and processes for chemical vapor deposition of precious-metal films and precious-metal compound films

Номер патента: US20020065427A1. Автор: Koji Okamoto. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2002-05-30.

Air inlet assembly, vapor deposition device and preparation method of composite material of vapor deposition device

Номер патента: CN113683436B. Автор: 王鹏飞,张辉,郑丽丽,张松,黄晓青,洪邦兆. Владелец: TSINGHUA UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-09-16.

RF powered plasma enhanced chemical vapor deposition reactor and methods of effecting plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US6705246B2. Автор: Paul Smith,Sujit Sharan,Gurtej S. Sandhu,Mei Chang. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-03-16.

Air inlet assembly, vapor deposition device and preparation method of composite material of vapor deposition device

Номер патента: CN113683436A. Автор: 王鹏飞,张辉,郑丽丽,张松,黄晓青,洪邦兆. Владелец: TSINGHUA UNIVERSITY. Дата публикации: 2021-11-23.

Method for producing step-and-repeat vapor deposition mask, step-and-repeat vapor deposition mask obtained therefrom, and method for producing organic semiconductor element

Номер патента: KR102354233B1. Автор: 마사토 우시쿠사,도시히코 다케다,요시노리 히로베,유타카 마쓰모토,히로유키 니시무라,가쓰나리 오바타. Владелец: 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-01-20.

Method for producing multiple-surface imposition vapor deposition mask, multiple-surface imposition vapor deposition mask obtained therefrom, and method for producing organic semiconductor element

Номер патента: TW201546306A. Автор: 牛草昌人,廣部吉紀,小幡勝也,松元豊,武田利彥,西村祐行. Владелец: 大日本印刷股份有限公司. Дата публикации: 2015-12-16.

RF powered plasma enhanced chemical vapor deposition reactor and methods of effecting plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US6395128B2. Автор: Paul Smith,Sujit Sharan,Gurtej S. Sandhu,Mei Chang. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-05-28.

Raw material for chemical vapor deposition, light-shielding container containing raw material for chemical vapor deposition, and method for producing the same

Номер патента: JPWO2018225668A1. Автор: 水谷　文一,文一 水谷,慎太郎 東. Владелец: Kojundo Kagaku Kenkyusho KK. Дата публикации: 2020-04-09.

RF powered plasma enhanced chemical vapor deposition reactor and methods of effecting plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US6235646B1. Автор: Paul Smith,Sujit Sharan,Gurtej S. Sandhu,Mei Chang. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-05-22.

Highly homogeneous glass sputter targets with large aspect ratio and high relative density for physical vapor deposition

Номер патента: EP4363384A1. Автор: Yoshio Okano,William Preston,James Marro,Azatuhi AYRIKYAN. Владелец: Schott Japan Corp. Дата публикации: 2024-05-08.

Vapor deposition material and production method thereof

Номер патента: EP0603407A1. Автор: Yukihiro Oishi,Susumu Itami Works Of Sumitomo El.Ind. Yamamoto,Teruyuki Itami Works Of Sumitomo El.Ind. Murai,Nozomu Kawabe. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 1994-06-29.

Vapor deposition mask and production method for display device

Номер патента: WO2019087287A1. Автор: 荘介 田中. Владелец: シャープ株式会社. Дата публикации: 2019-05-09.

Vapor deposition material and production method thereof

Номер патента: WO1993023586A1. Автор: Susumu Yamamoto,Yukihiro Oishi,Teruyuki Murai,Nozomu Kawabe. Владелец: Sumitomo Electric Industries, Ltd.. Дата публикации: 1993-11-25.

MgO vapor deposition material and production method therefor

Номер патента: CN100376713C. Автор: 黑光祥郎,樱井英章,丰口银二郎. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2008-03-26.

Highly homogeneous synthetic quartz glass for vacuum ultraviolet light, method for producing the same, and mask substrate for vacuum ultraviolet light using the same

Номер патента: JP4093393B2. Автор: 秀春 堀越. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2008-06-04.

Microchannel device, droplet production method, bubble production method, microcapsule production method, multiple emulsion production method, method for producing droplets including bubbles, and microchannel device manufacturing method

Номер патента: EP4206119A4. Автор: Ryo Matsuno. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-10.

Vapor Deposition Reactor Using Plasma and Method for Forming Thin Film Using the Same

Номер патента: US20140370204A1. Автор: LEE Sang In. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-18.

Chemical vapor deposition apparatus and gas supply method for the same

Номер патента: KR101062457B1. Автор: 한명우. Владелец: 엘아이지에이디피 주식회사. Дата публикации: 2011-09-05.

Vapor deposition apparatus having the same, method for forming thin film using the same and method for manufacturing organic light emitting display apparatus

Номер патента: KR101989058B1. Автор: 김재현,정석원,김진광,기성훈,김인교,장철민,허명수,심창우. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2019-06-14.

Apparatus for chemical vapor deposition for diamond film and method for synthesis of diamond film

Номер патента: KR101320620B1. Автор: 백영준,박종극,이욱성. Владелец: 한국과학기술연구원. Дата публикации: 2013-10-23.

Method for manufacturing mask for use in vapor deposition, and method for manufacturing display device

Номер патента: KR102289109B1. Автор: 아키라 사이토,히로이치 이시카와,마사미 오키타,켄타로우 사카이. Владелец: 소니그룹주식회사. Дата публикации: 2021-08-13.

A kind of chemical vapor deposition prepares the system and method for zirconium clad

Номер патента: CN110373652A. Автор: 朱庆山,宋淼,向茂乔,赵宏丹. Владелец: Institute of Process Engineering of CAS. Дата публикации: 2019-10-25.

Canister, vapor deposition apparatus having the same, method for forming thin film using the same and method for manufacturing organic light emitting display apparatus

Номер патента: KR101971927B1. Автор: 정석원,이성용,기성훈,김인교,장철민,허명수,조철래. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2019-04-25.

Chemical vapor deposition film forming composition and method for producing low dielectric constant film

Номер патента: JP5153628B2. Автор: 直紀 保田,哲也 山本,輝彦 熊田,英治 信時,泰隆 中谷,卓也 神山. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2013-02-27.

Vapor deposition reactor using plasma and method for forming thin film using the same

Номер патента: KR20100032315A. Автор: 이상인. Владелец: 시너스 테크놀리지, 인코포레이티드. Дата публикации: 2010-03-25.

Vapor deposition reactor using plasma and method for forming thin film using the same

Номер патента: KR101226426B1. Автор: 이상인. Владелец: 시너스 테크놀리지, 인코포레이티드. Дата публикации: 2013-01-24.

Physical vapor deposited biosensor components and a method for forming an electrode for the biosensor

Номер патента: TWI770056B. Автор: 史賓塞 艾瑞奇 赫斯泰勒,丹尼斯 李 二世 艾胥佛,珊希爾 內森 山姆班丹. Владелец: 美商伊士曼化學公司. Дата публикации: 2022-07-11.

Vapor deposition reactor using plasma and method for forming thin film using the same

Номер патента: KR101280125B1. Автор: 이상인. Владелец: 시너스 테크놀리지, 인코포레이티드. Дата публикации: 2013-06-28.

Device for carrying out a plasma chemical vapor deposition as well as a method for manufacturing an optical preform.

Номер патента: NL1033783C2. Автор: Igor Milicevic,Mattheus Jacobus Nicolaas Van Stralen,Johannes Antoon Hartsuiker. Владелец: Draka Comteq BV. Дата публикации: 2008-11-06.

Alignment method, vapor deposition method using same, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: JP7247013B2. Автор: 康信 小林. Владелец: Canon Tokki Corp. Дата публикации: 2023-03-28.

Substrate for epitaxial growth and method for producing same

Номер патента: US20180297327A1. Автор: Yusuke Hashimoto,Teppei Kurokawa,Hironao Okayama. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2018-10-18.

Method for producing a hydrogen-generating fuel, hydrogen-generating fuel obtained, method for producing hydrogen from the fuel, device for carrying out the production method, method for operating the device, and hydrogen-based fuel obtained by means of the hydrogen production method

Номер патента: WO2021084204A1. Автор: Morou Boukari. Владелец: Prodose. Дата публикации: 2021-05-06.

multenzyme, isolated polynuleotides, recombinant construct, host cell, yarrowia sp. cell transformation method, method for producing a transformed plant, yeast, plant, seeds, oils, food or feed, beverages, isolated nucleic acid molecules, multienzyme production method, method for altering the profile fatty acids, progeny, recombinant microbial host cells, methods for converting linoleic acid to dihomo gamma-linolenic acid, α-linolenic acid to eicosatrienoic acid, eicosapentaenoic acid to docosahexaenoic acid, arachidonic acid to docosapentaenoic acid, method for identification of a polypeptide

Номер патента: BRPI0808577A2. Автор: J Kinney Anthony,G Damude Howard,G Ripp Kevin,Qun Zhu Quinn. Владелец: Du Pont. Дата публикации: 2019-09-24.

Microchannel device, droplet production method, bubble production method, microcapsule production method, multiple emulsion production method, method for producing droplets including bubbles, and microchannel device manufacturing method

Номер патента: WO2022044506A1. Автор: 亮 松野. Владелец: 富士フイルム株式会社. Дата публикации: 2022-03-03.

FERMENTED MILK PRODUCTION METHOD, METHOD FOR SHORTENING FERMENTATION TIME IN FERMENTED MILK PRODUCTION, METHOD FOR SUPPRESSING INCREASED SOURNESS IN FERMENTED MILK

Номер патента: US20190116820A1. Автор: Furuichi Keisuke,TAKAHASHI Saori,SAITOU Mizue. Владелец: Meiji Co., Ltd.. Дата публикации: 2019-04-25.

specific antibody to e.g. coli mdr, plasmid, expression cassette, host cell, antibody production method, method for identifying a candidate antibody, pharmaceutical and diagnostic preparation, epitope, immunogen and nucleic acid used

Номер патента: BR112015014991A2. Автор: Eszter Nagy,Gabor Nagy,Adriana BADARAU,Irina MIRKINA,Zoltan Magyarics,Valeria Szijárto,Luis GUACHALLA,Gerhild Zauner,Jolanta Lukasiewicz. Владелец: ARSANIS BIOSCIENCES GMBH. Дата публикации: 2017-07-11.

Powder for use in additive production method, method for producing ceramic article using the same, and ceramic article

Номер патента: US20240034683A1. Автор: Yasushi Shimizu,Shunsuke Murakami,Nobuhiro Yasui,Kanako Oshima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-01.

Rough substrate for a smooth porous surface impregnated with a lubricating fluid, smooth porous surface impregnated with a lubricating fluid and method for the production thereof

Номер патента: CN112898878A. Автор: 李伟华,李玉堂,赵书瑞,杨皓程. Владелец: Sun Yat Sen University. Дата публикации: 2021-06-04.

Flexible photo-pattern mask for organic light-emitting display with high resolution, and method for manufacturing same

Номер патента: EP4071843A4. Автор: Hyuk Jin CHA,Mi Sun Ryu. Владелец: HUNETPLUS Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Multiple-surface imposition vapor deposition mask

Номер патента: US09548453B2. Автор: Hiroyuki Nishimura,Yutaka Matsumoto,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata,Yoshinori Hirobe,Masato Ushikusa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-01-17.

Vapor deposition mask, frame-equipped vapor deposition mask, and method for producing organic semiconductor element

Номер патента: US09806257B2. Автор: Hiroshi Kawasaki,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-10-31.

Vapor deposition mask with metal plate

Номер патента: US09527098B2. Автор: Hiroyuki Nishimura,Yutaka Matsumoto,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata,Takashi Takekoshi,Yoshinori Hirobe,Masato Ushikusa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2016-12-27.

Method for stretching vapor deposition mask, method for producing frame-equipped vapor deposition mask, method for producing organic semiconductor element, and stretching apparatus

Номер патента: US09705083B2. Автор: Toshihiko Takeda,Hideyuki Okamoto,Yoshiyuki Honma,Katsunari Obata. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-07-11.

Magnetic device, vapor deposition device and vapor deposition method

Номер патента: US09650709B2. Автор: Jie Yin,Dejiang Zhao,Jianwei Yu,Haoran GAO. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Vapor deposition mask with metal plate

Номер патента: US11511301B2. Автор: Hiroyuki Nishimura,Yutaka Matsumoto,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata,Takashi Takekoshi,Yoshinori Hirobe,Masato Ushikusa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2022-11-29.

Compact head and compact system for vapor deposition

Номер патента: US12043894B2. Автор: David MUNOZ-ROJAS. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 2024-07-23.

Vapor deposition mask, method for manufacturing vapor deposition mask, vapor deposition method, and method for manufacturing organic el display device

Номер патента: US20190106781A1. Автор: Katsuhiko Kishimoto,Susumu Sakio,Koshi Nishida. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-11.

Ice, refrigerant, ice production method, method for producing cooled article, method for producing refrigerated article of plant/animal or portion thereof, refrigerating material for plant/animal or portion thereof, method for producing frozen freshplant/animal or portion thereof, defrosted article or processed article thereof, and freezing material for fres

Номер патента: CA3110445C. Автор: Yoshio Hirokane,Tomoaki Akiyama,Tadao Izutsu. Владелец: Blanctec Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-09.

Vacuum vapor deposition apparatus

Номер патента: US20110005460A1. Автор: Yuji Yanagi,Tatsuya Hirano,Nobuyuki Shigeoka. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2011-01-13.

Method for manufacturing vapor deposition mask and method for vapor deposition of organic light-emittng material

Номер патента: US20190355938A1. Автор: YASUHIRO Mizuno,Ying-Chieh Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Vapor deposition material

Номер патента: US6143437A. Автор: Yoshitaka Kubota,Satoshi Kondou. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2000-11-07.

Base paper for vapor deposition paper and vapor deposition paper

Номер патента: US20240309588A1. Автор: Yasutomo Noishiki,Yuta SHAMOTO,Miyoko Tanaka,Misaki Wakabayashi. Владелец: Oji Holdings Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Manufacturing method for vapor deposition mask device and manufacturing apparatus for vapor deposition mask device

Номер патента: US12128500B2. Автор: Hideyuki Okamoto. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2024-10-29.

Metal mask material, method for manufacturing same, and metal mask

Номер патента: US12037673B2. Автор: Naoki Fujimoto,Keita Kimura,Mitsuharu Yonemura,Hiroto Unno. Владелец: Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Coaxial hollow cathode plasma assisted directed vapor deposition and related method thereof

Номер патента: US09640369B2. Автор: Goesta Mattausch,Haydn N. G. Wadley,Henry Morgner,Frank-Holm Roegner. Владелец: UNIVERSITY OF VIRGINIA PATENT FOUNDATION. Дата публикации: 2017-05-02.

Mask for vapor deposition apparatus, vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for producing organic electroluminescence element

Номер патента: US09845530B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Shinichi Kawato,Kazuki Matsunaga. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Hydrophobic materials made by vapor deposition coating and applications thereof

Номер патента: EP2440402A1. Автор: HE Dong,Jikang Yuan. Владелец: Innovanano Inc. Дата публикации: 2012-04-18.

Hydrophobic Materials Made By Vapor Deposition Coating and Applications Thereof

Номер патента: US20140147655A1. Автор: HE Dong,Jikang Yuan. Владелец: Innovanano Inc. Дата публикации: 2014-05-29.

Inverted diffusion stagnation point flow reactor for vapor deposition of thin films

Номер патента: CA2016970A1. Автор: Prasad N. Gadgil. Владелец: SIMON FRASER UNIVERSITY. Дата публикации: 1991-11-16.

Vapor deposition apparatus, vapor deposition method and method of manufacturing organic el display apparatus

Номер патента: US20190067582A1. Автор: Katsuhiko Kishimoto. Владелец: Sakai Display Products Corp. Дата публикации: 2019-02-28.

Fine metal mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US20140290574A1. Автор: Jung-Hoon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-02.

Fine metal mask and method of manufacturing the same

Номер патента: US09627444B2. Автор: Jung-Hoon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

A vapor deposition apparatus

Номер патента: EP1531189A1. Автор: Dennis R. Christensen. Владелец: Specialty Coating Systems Inc. Дата публикации: 2005-05-18.

Electromagnetic vapor deposition apparatus

Номер патента: US20140326178A1. Автор: ChiaChen LI,TeinWang HUANG. Владелец: EverDisplay Optronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-06.

Vapor Deposition Apparatus and Process for Continuous Indirect Deposition of a Thin Film Layer on a Substrate

Номер патента: US20130122630A1. Автор: Stacy Ann Black. Владелец: Primestar Solar Inc. Дата публикации: 2013-05-16.

Vapor deposition apparatus and process for continuous indirect deposition of a thin film layer on a substrate

Номер патента: US09412892B2. Автор: Stacy Ann Black. Владелец: First Solar Inc. Дата публикации: 2016-08-09.

Mask for vapor deposition

Номер патента: WO2006020469A3. Автор: Tsutomu Miura,Nobuyuki Mori. Владелец: Nobuyuki Mori. Дата публикации: 2006-05-04.

패턴 형성용 FMM(Fine-Metal Mask) 핸들링 지그

Номер патента: KR102404787B1. Автор: 이지훈,금병훈,변운길. Владелец: 이알케이(주). Дата публикации: 2022-06-02.

Metal mask

Номер патента: US20240229219A9. Автор: Chi-Wei Lin,Yunpei Yang. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Apparatus for fixing metal mask

Номер патента: US09524891B2. Автор: Joo-Hwa Lee,Suk-Beom You. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Method for manufacturing vapor deposition mask and method for vapor deposition of organic light-emitting material

Номер патента: US10553834B2. Автор: YASUHIRO Mizuno,Ying-Chieh Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-04.

Vapor deposition apparatus and process for continuous deposition of a doped thin film layer on a substrate

Номер патента: MY161000A. Автор: Scott Daniel Feldman-Peabody,Mark Jeffrey Pavol. Владелец: First Solar Malaysia Sdn Bhd. Дата публикации: 2017-03-31.

Alignment mask, metal mask assembly, and preparation method therefor

Номер патента: US20220013396A1. Автор: Peng Xu,Jianbo YE,Guoqiang Ma,Leifang Xiao,Ju Mei. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-13.

Vapor deposition routes to nanoporous silica

Номер патента: US6022812A. Автор: Douglas M. Smith,Teresa Ramos,Kevin H. Roderick. Владелец: AlliedSignal Inc. Дата публикации: 2000-02-08.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US10556799B2. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-02-11.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US20170096345A1. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-04-06.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US20180339907A1. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-11-29.

Metal mask

Номер патента: US20240114758A1. Автор: Chi-Wei Lin,Yun-Pei Yang. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Pixel arrangement structure, metal mask and organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US20240265860A1. Автор: Jun Hu,Wei SANG,Kaikai CHEN,Danfeng PU. Владелец: EverDisplay Optronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Metal mask

Номер патента: EP4446455A1. Автор: Masahiro Fujii,Jun Futakuchiya,Noriyoshi Kaneda,Hibiki Yokoyama,Takatoshi Nambu,Michiyoshi Sone. Владелец: NHK Spring Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Vapor deposition method for depositing a film of fluorine-containing glass on a substrate

Номер патента: US5454847A. Автор: Olivier Perrot,Charles Jacoboni,Brigitte Boulard. Владелец: Alcatel Alsthom Compagnie Generale dElectricite. Дата публикации: 1995-10-03.

Electrode for vapor deposition and vapor-deposition method using same

Номер патента: US4978556A. Автор: Eduard Pinkahsov. Владелец: Vapor Technologies Inc. Дата публикации: 1990-12-18.

Method for vacuum vapor deposition with improved mass flow control

Номер патента: US4717596A. Автор: William J. Patrick,Steven G. Barbee,Gerard Seeley,Gregory P. Devine. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1988-01-05.

Silicon single crystal substrate for vapor deposition, vapor deposition substrate, and manufacturing methods therefor

Номер патента: EP4137617A1. Автор: Masaru Shinomiya,Keitaro Tsuchiya,Weifeng Qu. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-22.

Metal Mask

Номер патента: US20240240301A1. Автор: Chi-Wei Lin. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Metal mask

Номер патента: US12078931B2. Автор: Seil Kim,Junghyun Ahn,Jongbum Kim,Sang Min Yi. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Method for etching copper layer

Номер патента: US09803286B2. Автор: Eiichi Nishimura,Keiichi Shimoda,Kei Nakayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Method of manufacturing a metal mask

Номер патента: US09656291B2. Автор: Sung Sik Yun,Jun Ho Jo,Doh-Hyoung Lee,Tong-Jin Park,Choong Ho Lee,Da Hee JEONG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Method for vapor-depositing strip-shaped substrates with a transparent barrier layer made of aluminum oxide

Номер патента: CA2505027C. Автор: Nicolas Schiller,Steffen Straach,Matthias Fahland,Christoph Charton,Mathias Raebisch. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2011-02-22.

Method of providing a patterned metal layer on a substrate employing metal mask and ion milling

Номер патента: US4098917A. Автор: David Carl Bullock,Mohammed Sabir Shaikh. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1978-07-04.

Method and system for vapor extraction from gases

Номер патента: US4735633A. Автор: Kin-Chung R. Chiu. Владелец: Chiu Kin Chung R. Дата публикации: 1988-04-05.

Synthesis and use of precursors for vapor deposition of tungsten containing thin films

Номер патента: US20190300468A1. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Miika Mattinen,Timo Hatanpää. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-10-03.

System and method for vapor deposition coating of extrusion dies using impedance disks

Номер патента: US11697873B2. Автор: Min Shen,Thomas William Brew,Yuehao LI. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2023-07-11.

Metal mask material, method for producing same, and metal mask

Номер патента: EP3859029A1. Автор: Naoki Fujimoto,Keita Kimura,Mitsuharu Yonemura,Hiroto Unno. Владелец: Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-04.

Low halide lanthanum precursors for vapor deposition

Номер патента: US20230382927A1. Автор: Sergei V. Ivanov,Neil Osterwalder. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-11-30.

Coating plant for coating a planar object and a method for coating a planar object

Номер патента: US20240271268A1. Автор: Christian Schwerdt,André Samusch. Владелец: THYSSENKRUPP STEEL EUROPE AG. Дата публикации: 2024-08-15.

Low halide lanthanum precursors for vapor deposition

Номер патента: US11753420B2. Автор: Sergei V. Ivanov,Neil Osterwalder. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-09-12.

Low Halide Lanthanum Precursors For Vapor Deposition

Номер патента: US20210363162A1. Автор: Sergei V. Ivanov,Neil Osterwalder. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2021-11-25.

Method of manufacturing an electrode for vapor deposition

Номер патента: US09988719B2. Автор: Jae Bum Kim. Владелец: Dae San Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Zn—Sn—O based oxide sintered body and method for producing the same

Номер патента: US09834838B2. Автор: Makoto Ozawa,Kentaro Sogabe. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2017-12-05.

Titanium-containing film forming compositions for vapor deposition of titanium-containing films

Номер патента: US09790591B2. Автор: Julien Gatineau,Clement Lansalot-Matras,Julien LIEFFRIG,Hana ISHII,Changhee Ko. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-10-17.

Method of producing articles by vapor deposition of multiconstituent material

Номер патента: CA1209949A. Автор: Robert P.H. Chang. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1986-08-19.

Actively-aligned fine metal mask

Номер патента: WO2014176163A1. Автор: Dieter Haas,John M. White,Robert Visser,Andreas Lopp,Tommaso VERCESI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-10-30.

System and method for vapor deposition coating of extrusion dies using impedance disks

Номер патента: US20220056579A1. Автор: Min Shen,Thomas William Brew,Yuehao LI. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2022-02-24.

Method for producing deposition mask

Номер патента: US20160001542A1. Автор: Yuji Saito,Michinobu Mizumura,Shuji Kudo,Takayuki KOSUGE. Владелец: V Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-07.

Method of manufacturing a metal mask by laser cutting

Номер патента: US09676063B2. Автор: Doh-Hyoung Lee,Da Hee JEONG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Installation with distribution mask for vapor deposition of a coating on optical articles on a rotary support

Номер патента: US11821072B2. Автор: Vicente ESTEVEZ RODRIGUEZ. Владелец: BNL Eurolens SAS. Дата публикации: 2023-11-21.

Vapor deposition mask, manufacturing method for vapor deposition mask, and manufacturing method for display device

Номер патента: US11877499B2. Автор: Takehiro Nishi. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Methods of vapor deposition of metal halides

Номер патента: US20230386759A1. Автор: Roy G. Gordon,Luke M. DAVIS,Eliza Kate SPEAR. Владелец: Harvard College. Дата публикации: 2023-11-30.

Metal mask, method of manufacturing the same, and method of manufacturing display panel using the metal mask

Номер патента: US20210079518A1. Автор: Hyun-Ju Lee,Dongwon HAN,Manjae Park,Jinyoung Choi,Nari AHN,Hyosung Kim,Sungmin Hur,Hyunsang SEO,Hyeongsuk YOO. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Metal mask, method of manufacturing the same, and method of manufacturing display panel using the metal mask

Номер патента: US11739420B2. Автор: Hyun-Ju Lee,Dongwon HAN,Manjae Park,Jinyoung Choi,Nari AHN,Hyosung Kim,Sungmin Hur,Hyunsang SEO,Hyeongsuk YOO. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Metal mask, method of manufacturing the same, and method of manufacturing display panel using the metal mask

Номер патента: US20230349038A1. Автор: Hyun-Ju Lee,Dongwon HAN,Manjae Park,Jinyoung Choi,Nari AHN,Hyosung Kim,Sungmin Hur,Hyunsang SEO,Hyeongsuk YOO. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Metal mask and method to produce metal mask

Номер патента: US20240191335A1. Автор: Chi-Wei Lin,Kang-Hsiang Liu. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Vapor deposition method including specified solid angle of radiant heater

Номер патента: US3560252A. Автор: Kurt D Kennedy. Владелец: Air Reduction Co Inc. Дата публикации: 1971-02-02.

System for vapor deposition of thin films

Номер патента: US3845739A. Автор: H Schroeder,F Erhart. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1974-11-05.

Zirconium-containing film forming compositions for vapor deposition of zirconium-containing films

Номер патента: WO2016106090A1. Автор: Christian Dussarrat,Clement Lansalot-Matras,Julien LIEFFRIG,Hana ISHII. Владелец: L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2016-06-30.

Vaporizer boat for metal vaporizing

Номер патента: US6120286A. Автор: Ulrich Goetz. Владелец: Sintec Keramik GmbH and Co KG. Дата публикации: 2000-09-19.

Indium precursors for vapor depositions

Номер патента: US20230357281A1. Автор: Venkateswara R. Pallem,Claudia Fafard,Kayla Diemoz,Bradley McKEOWN. Владелец: American Air Liquide Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Metal mask

Номер патента: US20240133018A1. Автор: Chi-Wei Lin,Yunpei Yang. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Display panel metal mask improvced quality standard detection and inspecting method thereof

Номер патента: US11980043B2. Автор: Wen-Yi Lin,Mei-Lun Li,Yun-Pei Yang. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2024-05-07.

Method of fabricating metal mask and metal mask

Номер патента: US20230067548A1. Автор: Yu-Wei Chang,Jen-Shun Lin,Yun-Pei Yang. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2023-03-02.

Metal mask and display apparatus manufactured by using the same

Номер патента: EP3955309A3. Автор: Sangha Park,Seungyong Song,Eunbee Jo,Kyu Hwan Hwang,Da-Hee Jeong. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-23.

Mask for deposition of metallic material for depositing oled pixels and manufacturing method thereof

Номер патента: EP4234759A2. Автор: Jee Heum Paik,Hae Sik Kim. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Mask for deposition of metallic material for depositing oled pixels and manufacturing method thereof

Номер патента: EP4234759A3. Автор: Jee Heum Paik,Hae Sik Kim. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-04.

Magnesium oxide single crystal and method for producing the same

Номер патента: US20090053131A1. Автор: Yoshifumi Kawaguchi,Masaaki Kunishige,Atsuo Toutsuka. Владелец: TATEHO CHENMICAL Ind Co Ltd. Дата публикации: 2009-02-26.

Display substrate, display device, and fine metal mask

Номер патента: US20240215331A1. Автор: Rongjian YAN,Zhaowei YU,Sangcheon Youn,Jeonghaeng Heo,Yingchang GAO. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Toposelective vapor deposition using an inhibitor

Номер патента: US20220181163A1. Автор: Michael Givens,Varun Sharma,Shaoren Deng,Marko Tuominen,Andrea Illiberi. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-06-09.

Metal mask structure

Номер патента: US20240254618A1. Автор: Chiao-Ling Huang,Han-Fang Li. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Physical vapor deposition apparatus and physical vapor deposition method

Номер патента: US09447494B2. Автор: Atsushi Yumoto,Fujio Hiroki,Naotake Niwa,Takashisa Yamamoto. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-09-20.

Elongated thermal physical vapor deposition source with plural apertures

Номер патента: US20050211172A1. Автор: Dennis Freeman,Neil Redden,Steven Slyke. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2005-09-29.

Metal mask, evaporation method, display panel and display device

Номер патента: US20230167537A1. Автор: Guangjin Li,Hsinju HO,Qingyang DING,Honglin PENG,Yongshan FENG. Владелец: Mianyang BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Low halide lanthanum precursors for vapor deposition

Номер патента: EP3659687A3. Автор: Sergei V. Ivanov,Neil Osterwalder. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2020-08-19.

Manufacturing method of metal mask and metal mask thereof

Номер патента: US20240192600A1. Автор: Cheng-Wei Lin,Chi-Wei Lin. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Production method of epitaxial silicon wafer and vapor deposition apparatus

Номер патента: US20160083836A1. Автор: Hitoshi Takamiya,Kan Yoshitake,Motoki GOTO,Yusuke Kurozumi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2016-03-24.

Production method of epitaxial silicon wafer and vapor deposition apparatus

Номер патента: US09670581B2. Автор: Hitoshi Takamiya,Kan Yoshitake,Motoki GOTO,Yusuke Kurozumi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Tablet for vapor deposition and method for producing the same

Номер патента: US8765026B2. Автор: Azusa Oshiro. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2014-07-01.

Metal mask

Номер патента: US20210286268A1. Автор: Seil Kim,Junghyun Ahn,Jongbum Kim,Sang Min Yi. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-16.

Low halide lanthanum precursors for vapor deposition

Номер патента: EP3659687A2. Автор: Sergei V. Ivanov,Neil Osterwalder. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2020-06-03.

Production method of phosphor plate and phosphor plate

Номер патента: US20070114446A1. Автор: Masashi Kondo,Takehiko Shoji,Yasushi Nakano. Владелец: Konica Minolta Medical and Graphic Inc. Дата публикации: 2007-05-24.

Mask for sputtering

Номер патента: US20020011406A1. Автор: Akira Shishido,Atsutoshi Yamada. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2002-01-31.

Combination gas curtains for continuous chemical vapor deposition production of silicon bodies

Номер патента: CA1178179A. Автор: Henry W. Gutsche. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1984-11-20.

Apparatus for fixing metal mask

Номер патента: KR20150006593A. Автор: 이주화,유석범. Владелец: 삼성디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2015-01-19.

Display substrate, display device and high-precision metal mask

Номер патента: US11864447B2. Автор: Peng Xu,QIAN Xu,Yan Huang,Ming Hu,Jianpeng Wu,Benlian WANG,Tong Niu,Fengli JI,Chang Luo,Guomeng Zhang. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Display substrate, display device and high-precision metal mask

Номер патента: US20240008335A1. Автор: Peng Xu,QIAN Xu,Yan Huang,Ming Hu,Jianpeng Wu,Benlian WANG,Tong Niu,Fengli JI,Chang Luo,Guomeng Zhang. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Pixel array, display apparatus and fine metal mask

Номер патента: US20230180565A1. Автор: Wei Zhang,Jinyu Li,Peng CAO,Jianchao ZHANG,Yamin YANG,Guang Jin. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Pixel structures, fine metal masks, display apparatuses and control methods

Номер патента: US20230292568A1. Автор: QIAN Xu,Yan Huang,Jianbo Li,Jianpeng Wu,Tong Niu,Guomeng Zhang. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Pixel arrangement structure, fine metal mask set and display apparatus

Номер патента: US20230345788A1. Автор: Peng Xu,QIAN Xu,Lujiang Huangfu. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Pixel array, display apparatus and fine metal mask

Номер патента: US11770959B2. Автор: Wei Zhang,Jinyu Li,Peng CAO,Jianchao ZHANG,Yamin YANG,Guang Jin. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Fine metal mask and manufacturing method thereof

Номер патента: US20230167535A1. Автор: Chi-Wei Lin,Kuan-Chieh Fang. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2023-06-01.

Metal mask and display apparatus manufactured by using the same

Номер патента: EP3955309A2. Автор: Sangha Park,Seungyong Song,Eunbee Jo,Kyu Hwan Hwang,Da-Hee Jeong. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-16.

Metal mask structure

Номер патента: US20240191336A1. Автор: Ching-Feng Li,Kuan-Chieh Fang. Владелец: Darwin Precisions Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Method for liquid precursor atomization

Номер патента: US20130064976A1. Автор: Benjamin Y.H. Liu. Владелец: MSP Corp. Дата публикации: 2013-03-14.

Glass substrate for display and manufacturing method thereof

Номер патента: US20150162946A1. Автор: Chih Hao Wu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-11.

Method and device for vaporizing a liquid reactant in manufacturing a glass preform

Номер патента: US20060010922A1. Автор: Marco Arimondi,Giacomo Roba,Marco Galante,Ilenia Santi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-01-19.

Film quality control in a linear scan physical vapor deposition process

Номер патента: US20190311905A1. Автор: Joung Joo Lee,Xianmin Tang,Bencherki Mebarki. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-10.

Chemical vapor deposition process for depositing titanium nitride films from an organo-metallic compound

Номер патента: US20020051847A1. Автор: Salman Akram. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-02.

Chemical vapor deposition system arrangement

Номер патента: US20160053375A1. Автор: William David Grove,Nicholas Peter Deskevich. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-02-25.

Electron beam vaporizer and method for vaporizing a vaporization material by means of an electron beam

Номер патента: US20190318909A1. Автор: Carsten Deus. Владелец: Von Ardenne Asset GmbH and Co KG. Дата публикации: 2019-10-17.

Microwave CVD method for deposition of robust barrier coatings

Номер патента: EP1252822A2. Автор: Masatsugu Izu,Buddie Dotter. Владелец: Energy Conversion Devices Inc. Дата публикации: 2002-10-30.

Vapor deposition device, vapor deposition method, and organic electroluminescence element manufacturing method

Номер патента: US09893283B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Shinichi Kawato,Kazuki Matsunaga. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Apparatus and method for vapor generation and film deposition

Номер патента: US09797593B2. Автор: Benjamin Y. H. Liu,Yamin Ma,Thuc M. Dinh. Владелец: MSP Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Vapor deposition device, vapor deposition method, and method of manufacturing organic electroluminescent display device

Номер патента: US09714466B2. Автор: Satoshi Inoue,Satoshi Hashimoto,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-07-25.

System and method for vapor recovery

Номер патента: RU2750595C2. Автор: Аарон БЭЙКЕР. Владелец: Флогистикс, Лп. Дата публикации: 2021-06-29.

Fuel gas production method and apparatus

Номер патента: US7354566B2. Автор: Hiroshi Machida,Nobuyoshi Yoshida,Hikaru Okada. Владелец: Sumitomo Seika Chemicals Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-08.

Particle reduction in physical vapor deposition of amorphous silicon

Номер патента: WO2024081221A1. Автор: Mingdong Li,Chengyu Liu,Peijiao FANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-18.

Vapor deposition method and vapor deposition container

Номер патента: US20240110274A1. Автор: Yoshihiko Mochizuki,Mitsuru Iwata,Yasunori Yonekuta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Method for forming thin films and apparatus therefor

Номер патента: US7445813B2. Автор: Yasushi Ohbayashi. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2008-11-04.

Method for depositing amorphous silicon thin film by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2010032978A2. Автор: Chang Auck Choi,Byoung Gon Yu,Woo Seok Yang,Sang Hoon Cheon,Seong Mok Cho,Ho Jun Ryu. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2010-03-25.

Method for tuning a deposition rate during an atomic layer deposition process

Номер патента: US20140248772A1. Автор: Jiang Lu,Mei Chang,Paul Ma,Joseph F. Aubuchon. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-04.

Method for forming thin film and apparatus therefor

Номер патента: US20040191407A1. Автор: Yasushi Ohbayashi. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2004-09-30.

Ferroelectric composition, ferroelectric vapor deposition target and method of making a ferroelectric vapor deposition target

Номер патента: US20020132721A1. Автор: Jianxing Li,Tim Scott,Tamara White. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2002-09-19.

Method for selective deposition and devices

Номер патента: US20110120757A1. Автор: David H. Levy. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-05-26.

Single-unit reactor design for combined oxidative, initiated, and plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US09957618B2. Автор: Karen K. Gleason,Miles C. Barr,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2018-05-01.

Vapor deposition method for producing an organic EL panel

Номер патента: US09947904B2. Автор: Nobuhiro Hayashi,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Vaporizer, center rod used therein, and method for vaporizing material carried by carrier gas

Номер патента: US09885113B2. Автор: Masaru Umeda,Masayuki Toda. Владелец: Watanabe Shoko KK. Дата публикации: 2018-02-06.

Device for producing and method for producing dodecacarbonyl triruthenium

Номер патента: US09499411B2. Автор: Hirofumi Nakagawa,Hirofumi Ishida,Tasuku ISHIZAKA,Ken Hagiwara,Akiko KUMAKURA. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-11-22.

Vapor deposition apparatus and method for producing organic electroluminescent element

Номер патента: US09493872B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Vapor deposition method and vapor deposition apparatus

Номер патента: US09458532B2. Автор: Nobuhiro Hayashi,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Method for synthesis of material, in particular diamond, by chemical vapour deposition and device for thereof realisation

Номер патента: RU2572652C2. Автор: Орасио ТЕЛЛЕС ОЛИВА. Владелец: Диаротек. Дата публикации: 2016-01-20.

Compositions and methods for pretreating substrates for the subsequent fixing of vapor phase corrosion inhibitors

Номер патента: US11827806B2. Автор: Georg Reinhard,Gerhard Hahn,Frank Fassbender,Peter Neitzel. Владелец: EXCOR Korrosionsforschung GmbH. Дата публикации: 2023-11-28.

Chemical vapor deposition of chalcogenide materials

Номер патента: CA2595761A1. Автор: Stanford R. Ovshinsky,Smuruthi Kamepalli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-10.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: EP4395800A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-10.

Vapor deposition apparatus and method associated

Номер патента: EP2839055A1. Автор: Masashi Mizuta. Владелец: Furukawa Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-25.

Vapor deposition apparatus and method associated

Номер патента: WO2013157057A1. Автор: Masashi Mizuta. Владелец: FURUKAWA CO., LTD.. Дата публикации: 2013-10-24.

System and method for vaporized hydrogen peroxide cleaning of an incubation chamber

Номер патента: US20230148051A1. Автор: Dale C. Barnett,Robert W. Dotterer,David N. Figel,Milton Ford Baker, JR.,Stephen Charles Keiser. Владелец: CARON PRODUCTS AND SERVICES Inc. Дата публикации: 2023-05-11.

System for vaporizing materials onto substrate surface

Номер патента: WO2005107392A3. Автор: Ronald Steven Cok. Владелец: Ronald Steven Cok. Дата публикации: 2006-04-27.

Ferroelectric composition, ferroelectric vapor deposition target and method of making a ferroelectric vapor deposition target

Номер патента: WO2001044535A1. Автор: Jianxing Li,Tim Scott,Tamara White. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2001-06-21.

Protective film for FPD, vapor deposited material for protective film and its production method, FPD, and manufacturing device for FPD protective film

Номер патента: US20020074623A1. Автор: Hideaki Sakurai,Yoshirou Kuromitsu. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2002-06-20.

System and Method for Vaporized Hydrogen Peroxide Cleaning of An Incubation Chamber

Номер патента: US20170175069A1. Автор: Dale C. Barnett,Robert W. Dotterer,David N. Figel,Milton Ford Baker, JR.,Stephen Charles Keiser. Владелец: CARON PRODUCTS AND SERVICES Inc. Дата публикации: 2017-06-22.

Methods for depositing amorphous silicon layers or silicon oxycarbide layers via physical vapor deposition

Номер патента: US20180142343A1. Автор: Yong Cao,Huixiong Dai,Khoi Phan,Xianmin Tang,Christopher Ngai,Rongjun Wang,Weimin Zeng,Daniel Lee Diehl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-24.

Methods for silicide deposition

Номер патента: US20200013625A1. Автор: Patricia M. Liu,Xuebin Li. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-01-09.

Methods for silicide deposition

Номер патента: WO2020009753A1. Автор: Patricia M. Liu,Xuebin Li. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-01-09.

Chemical vapor deposition tool and process for fabrication of photovoltaic structures

Номер патента: US09972740B2. Автор: Jianming Fu,Yongkee Chae. Владелец: Tesla Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Method for manufacturing OLED device and OLED device manufactured therewith

Номер патента: US09660210B2. Автор: Yifan Wang,Yawei Liu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Vapor-deposited film having barrier performance

Номер патента: US09650191B2. Автор: Shigenobu Yoshida,Koji Yamauchi,Shigeto Kimura,Tooru Hachisuka. Владелец: MITSUBISHI PLASTICS INC. Дата публикации: 2017-05-16.

Vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for producing organic electroluminescent element

Номер патента: US09614155B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Yoshiyuki Isomura,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Selective area deposition of metal films by atomic layer deposition (ALD) and chemical vapor deposition (CVD)

Номер патента: US09583389B2. Автор: Florian Gstrein,Scott B. Clendenning,Patricio E. Romero,Jeanette M. Roberts. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Method for obtaining coatings based on metals of platinum group on pole tips of endocardial electrodes

Номер патента: RU2630400C1. Автор: Наталья Борисовна Морозова,Светлана Игоревна Доровских,Игорь Юрьевич Ильин,Тамара Валерьевна Басова,Николай Васильевич Гельфонд. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт неорганической химии им. А.В. Николаева Сибирского отделения Российской академии наук. Дата публикации: 2017-09-07.

Method for applying a multilayer coating to optical substrates and an installation for implementing the method

Номер патента: RU2771511C1. Автор: Валерий Григорьевич Жупанов,Павел Алексеевич Новиков,Дмитрий Романович Павлышин. Владелец: Акционерное общество "Научно-исследовательский институт Научно-производственное объединение "ЛУЧ" (АО "НИИ НПО "ЛУЧ"). Дата публикации: 2022-05-05.

Al-cr alloy vapor-deposited material

Номер патента: CA1326615C. Автор: Hiroshi Satoh,Masao Toyama,Hidetoshi Nishimoto,Koki Ikeda,Kazutoshi Shimogori,Junji Kawafuku. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 1994-02-01.

Energy efficient apparatus for vaporizing a liquid and condensing the vapors thereof

Номер патента: US4357212A. Автор: Harry F. Osterman,George C. Nylen. Владелец: Allied Chemical Corp. Дата публикации: 1982-11-02.

Low Interface State Device and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20160268124A1. Автор: Ke Wei,Chao Zhao,Xinyu Liu,Junfeng Li,Xinhua Wang,Wenwu Wang,Sen Huang. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2016-09-15.

Silicon-nitride-containing thermal chemical vapor deposition coating

Номер патента: US20170167015A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Nitride protective coatings on aerospace components and methods for making the same

Номер патента: US20210363630A1. Автор: Yuriy Melnik,Lance A. Scudder,Sukti Chatterjee,David Alexander Britz. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-11-25.

Novel compound, precursor composition comprising same, and method for preparing thin film using same

Номер патента: US20240218005A1. Автор: Min-Sung Park,Jang-Hyeon Seok,Hyo-Suk Kim,Min-Hyuk Nim,Jung-Woo Park. Владелец: Hansol Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Manufacturing method for diamond-like carbon vibrating diaphragm and loudspeaker

Номер патента: US20200068329A1. Автор: Lei Yang,Shihchia CHIU,Tsangchiang YANG. Владелец: 1More Inc. Дата публикации: 2020-02-27.

Method for producing a graphene film

Номер патента: US12037248B2. Автор: Xinyuan Liu,Zhen Song,Fuqiang Huang,Tongping XIU,Hui Bi,Yufeng Tang. Владелец: Shanghai Institute of Ceramics of CAS. Дата публикации: 2024-07-16.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: AU2003232015A1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2003-11-17.

Vapor deposition device and vapor deposition method

Номер патента: US20190233930A1. Автор: Jian Xu,Yaoyang Liu. Владелец: Shanghai Tianma Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-01.

Method for depositing titanium nitride films for semiconductor manufacturing

Номер патента: US20080274616A1. Автор: Toshio Hasegawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-11-06.

Lamp with particles coated by vapor deposition

Номер патента: US20030057824A1. Автор: Christoforos Kazazis,Daniel Carril,Keith Klinedinst. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2003-03-27.

Coating particles in a fluidized bed by vapor deposition

Номер патента: EP1298182A3. Автор: Christoforos Kazazis,Daniel Carril,Keith-A Klinedinst. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2006-02-08.

Method of coating particles by vapor deposition

Номер патента: US20030059530A1. Автор: Christoforos Kazazis,Daniel Carril,Keith Klinedinst. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2003-03-27.

Systems and methods for vaporization and vapor distribution

Номер патента: EP3824112A1. Автор: Rick POWELL,Nirav Vora,Aaron Roggelin,John BARDEN. Владелец: First Solar Inc. Дата публикации: 2021-05-26.

Chemical vapor deposition of wear resistant coatings onto piston ring running face, side face, and inner diameter in one coating run

Номер патента: EP2906738A1. Автор: Robert Aharonov,Haron GEKONDE. Владелец: Federal Mogul LLC. Дата публикации: 2015-08-19.

Methods and apparatus for patterning substrates using asymmetric physical vapor deposition

Номер патента: WO2020131805A1. Автор: Joung Joo Lee,Huixiong Dai,Xianmin Tang,Bencherki Mebarki,Wenhui Wang,Christopher Ngai. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-06-25.

Chemical vapor deposition methods and methods of etching a contact opening over a node location on a semiconductor substrate

Номер патента: US20020123221A1. Автор: Chris Hill,Mark Jost. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-05.

Manufacturing method for diamond-like carbon vibrating diaphragm and loudspeaker

Номер патента: US10993058B2. Автор: Lei Yang,Shihchia CHIU,Tsangchiang YANG. Владелец: 1More Inc. Дата публикации: 2021-04-27.

Conductive flakes by sputtering and vapor deposition

Номер патента: WO2004070733A2. Автор: Angelo Yializis,Michael G. Mikhael. Владелец: Sigma Laboratories Of Arizona, Inc.. Дата публикации: 2004-08-19.

Integration of vapor deposition process into plasma etch reactor

Номер патента: US20230260759A1. Автор: Eric A. Hudson,Ramesh Chandrasekharan,Andrew Clark SERINO,Alan M. Schoepp,Thad NICHOLSON. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Vapor deposition apparatus, deposition method using the same, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US20140322849A1. Автор: Jae-Hyun Kim,Myung-Soo Huh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-30.

Vapor deposition apparatus, deposition method using the same, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US9543518B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Myung-Soo Huh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Vapor deposition apparatus and method for producing organic electronic device

Номер патента: EP3822388A1. Автор: Shinichiro Kobayashi,HIROSHI Miyazaki,Hiroshi Fujimoto. Владелец: Fukuoka Industry Science and Technology Foundation. Дата публикации: 2021-05-19.

Methods for depositing high-k dielectrics

Номер патента: US20100330772A1. Автор: Imran Hashim,Sandra Malhotra,Sunil Shanker,Edward Haywood,Xiangxin Rui. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2010-12-30.

Method for producing a graphene film

Номер патента: US11708271B2. Автор: Xinyuan Liu,Zhen Song,Fuqiang Huang,Tongping XIU,Hui Bi,Yufeng Tang. Владелец: Shanghai Institute of Ceramics of CAS. Дата публикации: 2023-07-25.

Pvd-coated cutting tools and method for making the same

Номер патента: US20170218511A1. Автор: Yixiong Liu,Vineet Kumar,Mark S. Greenfield,Ronald M. Penich,Peter R. Leicht. Владелец: Kennametal Inc. Дата публикации: 2017-08-03.

Pvd-coated cutting tools and method for making the same

Номер патента: US20160265106A1. Автор: Yixiong Liu,Vineet Kumar,Mark S. Greenfield,Ronald M. Penich,Peter R. Leicht. Владелец: Kennametal Inc. Дата публикации: 2016-09-15.

Methods and apparatus for patterning substrates using asymmetric physical vapor deposition

Номер патента: US20200199741A1. Автор: Joung Joo Lee,Huixiong Dai,Xianmin Tang,Bencherki Mebarki,Wenhui Wang,Christopher Ngai. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-06-25.

Method for changing physical vapor deposition film form

Номер патента: US20100022101A1. Автор: Yi-Hao Ting. Владелец: Inotera Memories Inc. Дата публикации: 2010-01-28.

Process for the deposition of thin layers by chemical vapor deposition

Номер патента: US20020127338A1. Автор: Annette Saenger. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-09-12.

Cold traps for vapor lubrication processes

Номер патента: US20020006467A1. Автор: Paul McLeod,Jing Gui,Michael Stirniman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-17.

Method for forming silicon-phosphorous materials

Номер патента: US20230243068A1. Автор: Schubert Chu,Mark J. Saly,Errol Antonio C. Sanchez,Abhishek Dube,Srividya Natarajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-03.

Laser-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20230203660A1. Автор: Rodney S. Harris,Stephen G. Topping. Владелец: River Electro Optics LLC. Дата публикации: 2023-06-29.

Precursor with (methoxy)(methyl) silyolefin ligand to deposit copper and method for the same

Номер патента: MY128338A. Автор: Masato Kobayashi,Tue Nguyen,Yoshihide Senzaki,Lawrence Joel Charneski. Владелец: Sharp Microelect Tech Inc. Дата публикации: 2007-01-31.

Methods For Depositing High-K Dielectrics

Номер патента: US20130056852A1. Автор: Sandra G. Malhotra,Imran Hashim,Sunil Shanker,Xiangxin Rui,Edward L. Haywood. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2013-03-07.

Methods for depositing high-K dielectrics

Номер патента: US8574985B2. Автор: Imran Hashim,Sandra Malhotra,Sunil Shanker,Edward Haywood,Xiangxin Rui. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2013-11-05.

Chromium -free passivation process of vapor deposited aluminum surfaces

Номер патента: EP2539488A1. Автор: John R. Kochilla,Jacob Grant Wiles. Владелец: Atotech Deutschland GmbH and Co KG. Дата публикации: 2013-01-02.

Method for depositing materials containing tellurium

Номер патента: WO1987006275A1. Автор: James D. Parsons,Lawrence S. Lichtmann. Владелец: Hughes Aircraft Company. Дата публикации: 1987-10-22.

Systems and methods for vaporizing hydrocarbons using electrically-powered heating

Номер патента: US20240299901A1. Автор: Arno Johannes Maria OPRINS,Michael Edward HUCKMAN,Joseph William SCHROER,Balamurali Krishna Nair. Владелец: SABIC Global Technologies BV. Дата публикации: 2024-09-12.

Vapor deposition processes

Номер патента: US12104250B2. Автор: Mikko Ritala,Timo Hatanpää,Anton Vihervaara. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-01.

Microwave plasma chemical vapor deposition apparatus comprising an inclined rotating substrate holder

Номер патента: US5234502A. Автор: Osamu Mochizuki,Toshiharu Hoshi,Hiroaki Itoh. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 1993-08-10.

Manufacturing apparatus and manufacturing method for carbon nanotube

Номер патента: US20240308852A1. Автор: Suguru Noda,Toshio Osawa,Hisashi Sugime,Zihao Zhang,Katsuya NAMIKI. Владелец: MEIJO NANO CARBON CO Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

High temperature chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: EP1853748A2. Автор: Demetrius Sarigiannis,Marc Schaepkens,Atul Pant,Patricia Hubbard,Muralidharan Lakshmipathy. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2007-11-14.

Apparatus for in situ deposition of multilayer structures via atomic layer deposition and ultra-high vacuum physical or chemical vapor deposition

Номер патента: US09994956B2. Автор: Rongtao Lu,Judy Z. Wu,Allen Hase,Alan Elliot. Владелец: University of Kansas. Дата публикации: 2018-06-12.

Chemical vapor deposition functionalization

Номер патента: US09975143B2. Автор: David A. Smith,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Chemical vapor deposition process for depositing a titanium oxide coating

Номер патента: US09938619B2. Автор: Jun Ni,Srikanth Varanasi,Douglas M. Nelson. Владелец: Pilkington Group Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Physical vapor deposition of low-stress nitrogen-doped tungsten films

Номер патента: US09938616B2. Автор: Michael Ng,Michael Rumer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Precursor and process design for photo-assisted metal atomic layer deposition (ALD) and chemical vapor deposition (CVD)

Номер патента: US09932671B2. Автор: Florian Gstrein,James M. Blackwell,Robert L. Bristol,Paul A. Zimmerman,Scott B. Clendenning,Patricio E. Romero,Harsono S. Simka,Grant M. Kloster. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Method for vapor-phase growth of phase-change thin film, and device for vapor-phase growth of phase-change thin film

Номер патента: US09911916B2. Автор: Takashi Kobayashi,Yoshihisa Fujisaki,Yoshitaka Sasago. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-03-06.

Ion vapor deposition of aluminum on non-metallic materials

Номер патента: US09909207B1. Автор: Timothy Cranford. Владелец: Cametoid Technologies Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Method for manufacturing an organic element

Номер патента: US09887357B2. Автор: Jwo-huei Jou,Tsung-Han LI,Saulius Grigalevi{hacek over (c)}ius,Gintare Kru{hacek over (c)}aite. Владелец: National Tsing Hua University NTHU. Дата публикации: 2018-02-06.

Techniques for marking a substrate using a physical vapor deposition material

Номер патента: US09849650B2. Автор: Stephen Paul Zadesky,Douglas Weber,Christopher Prest,David Pakula. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

PVD-coated cutting tools and method for making the same

Номер патента: US09650713B2. Автор: Yixiong Liu,Vineet Kumar,Mark S. Greenfield,Ronald M. Penich,Peter R. Leicht. Владелец: Kennamtetal Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Method for fabricating a colored component for a watch

Номер патента: US09625879B2. Автор: Ching Tom Kong,Ying Nan WANG. Владелец: Master Dynamic Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Touch surface for an electronic device and method for manufacturing the same

Номер патента: US09598765B2. Автор: Jacques Robert,Stephen Harvey,Xiaoling Liu,Ken Delaney,Changliang LI,Zhaoyang Han,Chienchung CHEN,Jianqing HU,Wei Han LIAO,Tsu Hsien LEE,Yi Ling CAI. Владелец: Logitech Europe SA. Дата публикации: 2017-03-21.

Systems and methods for depositing materials on either side of a freestanding film using laser-assisted chemical vapor deposition (LA-CVD), and structures formed using same

Номер патента: US09583354B2. Автор: David P. Taylor,Margaret H. Abraham. Владелец: Aerospace Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Vapor deposition apparatus, deposition method using the same, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US09543518B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Myung-Soo Huh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Directing plasma distribution in plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US09543125B2. Автор: Hsiang-Wei Lin,Chia-Ho Chen,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Low-pressure chemical vapor deposition apparatus and thin-film deposition method thereof

Номер патента: US09478440B2. Автор: XIAO Wu,Xunhui Wang,Qijun Guo,Jianchao Fan. Владелец: University of Utah Research Foundation UURF. Дата публикации: 2016-10-25.

Vapor deposition device

Номер патента: US09315893B2. Автор: Chunyun Huang. Владелец: EverDisplay Optronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-19.

Method for high volume manufacture of electrochemical cells using physical vapor deposition

Номер патента: US09303315B2. Автор: Chia-Wei Wang,Ann Marie Sastry,Fabio Albano. Владелец: Sakti3 Inc. Дата публикации: 2016-04-05.

Cellulose substrate with anti-flame properties and relative production method

Номер патента: RU2648917C2. Автор: Альберто ТОНАНИ,Андреа НОВЕЛЛО,Калоджеро СИРНА,Симоне ДЖАННАТЕМПО. Владелец: Цаноло С.П.А.. Дата публикации: 2018-03-28.

Composition for vapor deposition, method for forming antireflection film using it, and optical element

Номер патента: CA2360619C. Автор: Yukihiro Takahashi,Akinori Kobayashi,Hitoshi Kamura,Yuko Watanabe,Takeshi Mitsuishi,Kenichi Shinde,Hiroki Takei. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-06-12.

Vapor deposition method for the gaas thin film

Номер патента: CA1274429A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1990-09-25.

Method for preparing array substrate, display panel and evaporation apparatus

Номер патента: US11688746B2. Автор: Liangliang LIU,Hailong Li,Lingling MA,Shujie Liu,Zhiyong XUE,Hongyu MI. Владелец: Beijing BOE Technology Development Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-27.

Systems and methodologies for vapor phase hydroxyl radical processing of substrates

Номер патента: US20170263436A1. Автор: Ian J. Brown,Wallace P. Printz. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-14.

Physical vapor deposition apparatus and physical vapor deposition method

Номер патента: US20110189390A1. Автор: Takahisa Yamamoto,Atsushi Yumoto,Fujio Hiroki,Naotake Niwa. Владелец: Tama-Tlo Ltd. Дата публикации: 2011-08-04.

Physical vapor deposition apparatus and physical vapor deposition method

Номер патента: US20150044391A1. Автор: Atsushi Yumoto,Fujio Hiroki,Naotake Niwa,Takashisa Yamamoto. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2015-02-12.

Plasma vapor deposition system and method for making multi-junction silicon thin film solar cell modules and panels

Номер патента: WO2010008439A1. Автор: Mohd Aslami. Владелец: Mohd Aslami. Дата публикации: 2010-01-21.

Plasma vapor deposition system and method for making multi-junction silicon thin film solar cell modules and panels

Номер патента: EP2318561A1. Автор: Mohd Aslami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-05-11.

Apparatus and method for deposition organic compounds, and substrate treating facility with the apparatus

Номер патента: WO2007052963A1. Автор: Young-Chul Joung,Suk-Min Choi,Il-Ho No. Владелец: SEMES CO., LTD.. Дата публикации: 2007-05-10.

Atomic layer deposition and vapor deposition reactor with in-chamber microplasma source

Номер патента: WO2020081574A1. Автор: Sung-Jin Park,J. Gary Eden,Jinhong Kim,Andrey Mironov. Владелец: The Board of Trustees of the University of Illinois. Дата публикации: 2020-04-23.

Method for Preparing Array Substrate, Display Panel and Evaporation Apparatus

Номер патента: US20230019100A1. Автор: Liangliang LIU,Hailong Li,Lingling MA,Shujie Liu,Zhiyong XUE,Hongyu MI. Владелец: Beijing BOE Technology Development Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Coating system for coating a strip and method for coating a strip

Номер патента: US20240158908A1. Автор: Michael Strack,Janine-Christina SCHAUER-PASS. Владелец: THYSSENKRUPP STEEL EUROPE AG. Дата публикации: 2024-05-16.

Apparatus and method for vapor generation and film deposition

Номер патента: US20180044789A1. Автор: Yamin Ma,Benjamin Y.H. Liu,Thuc M. Dinh. Владелец: MSP Corp. Дата публикации: 2018-02-15.

Passivation against vapor deposition

Номер патента: US20210115559A1. Автор: Varun Sharma,Eva E. Tois. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-04-22.

Low interface state device and method for manufacturing the same

Номер патента: US10276366B2. Автор: Ke Wei,Chao Zhao,Xinyu Liu,Junfeng Li,Xinhua Wang,Wenwu Wang,Sen Huang. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2019-04-30.

Hard-coated tool and its production method

Номер патента: US20150240353A1. Автор: Kenichi Inoue,Kazuyuki Kubota,Yuuzoh Fukunaga,Syuuhou Koseki. Владелец: Hitachi Tool Engineering Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Vapor deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US20150191822A1. Автор: Sang-Joon SEO,Jae-eung Oh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-09.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1502292B1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2010-08-25.

Systems and methods for vaporization and vapor distribution

Номер патента: US20240247363A1. Автор: Zhigang Ban,Litian Liu,Rick POWELL,Nirav Vora,Yaojun Xu,John BARDEN,Jerry DRENNAN. Владелец: First Solar Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Method for vapor-phase growth of phase-change thin film, and device for vapor-phase growth of phase-change thin film

Номер патента: US20170125675A1. Автор: Takashi Kobayashi,Yoshihisa Fujisaki,Yoshitaka Sasago. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2017-05-04.

Silicon Compounds And Methods For Depositing Films Using Same

Номер патента: US20230123377A1. Автор: XINJIAN LEI,Manchao Xiao,Daniel P. Spence,William R. Entley,Jennifer Lynn Anne Achtyl,Robert Gordon Ridgeway,Raymond N. Vrtis. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-04-20.

Vapor deposition method and vapor deposition apparatus for forming organic thin films

Номер патента: US20030131796A1. Автор: Toshitaka Kawashima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-17.

Negative electrode material for lithium secondary battery, production method for same, and lithium secondary battery comprising same as negative electrode

Номер патента: US09979007B2. Автор: Kyueun SHIM,Jumyeung Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-05-22.

Chemical vapor deposition of wear resistant coatings onto piston ring running face, side face, and inner diameter in one coating run

Номер патента: US09909210B2. Автор: Robert Aharonov,Haron GEKONDE. Владелец: Federal Mogul LLC. Дата публикации: 2018-03-06.

Method for depositing one or more polycrystalline silicon layers on substrate

Номер патента: US09728452B2. Автор: Jari Mäkinen,Veli Matti Airaksinen. Владелец: Okmetic Oy. Дата публикации: 2017-08-08.

Systems and methods for thermally managing high-temperature processes on temperature sensitive substrates

Номер патента: US09634175B2. Автор: Joseph H. Armstrong,Lawrence M. Woods,Rosine Ribelin. Владелец: Ascent Solar Technologies Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Self-limiting chemical vapor deposition and atomic layer deposition methods

Номер патента: US09607920B2. Автор: Mary EDMONDS,Andrew C. Kummel,Atif M. NOORI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Hard-coated tool and its production method

Номер патента: US09534292B2. Автор: Kenichi Inoue,Kazuyuki Kubota,Yuuzoh Fukunaga,Syuuhou Koseki. Владелец: Hitachi Tool Engineering Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Thin film vapor deposition method and thin film vapor deposition apparatus

Номер патента: US09506146B2. Автор: Ju-Hwan Park,Byung-Chul Cho,In-Hwan Yi. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Device and method for heavy oil products hydroconversion

Номер патента: RU2709813C1. Автор: Марио МОЛИНАРИ,Сузи БОНОМИ. Владелец: Эни С.П.А.. Дата публикации: 2019-12-23.

Method for depositing silicon dioxide using low temperatures

Номер патента: US6096661A. Автор: Minh Van Ngo,Khanh Nguyen,Terri Jo Kitson. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-08-01.

Apparatus and method for vaporizing molten metal

Номер патента: US3725045A. Автор: J Bourne,J Roblin,F Cole. Владелец: Republic Steel Corp. Дата публикации: 1973-04-03.

Vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for manufacturing organic el display apparatus

Номер патента: US20220220600A1. Автор: Katsuhiko Kishimoto,Kozo Yano,Susumu Sakio,Koshi Nishida. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-14.

Method and system for inline chemical vapor deposition

Номер патента: WO2012170166A3. Автор: Piero Sferlazzo,Thomas Michael Lampros. Владелец: AVENTA TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2013-04-25.

Feedback control of sub-atmospheric chemical vapor deposition processes

Номер патента: US20030049376A1. Автор: Arulkumar Shanmugasundram,Manuel Hernandez,Rong Pan,Alexander Schwarm,Amna Mohammad. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-03-13.

Chemical vapor deposition process for depositing titanium nitride films from an organo-metallic compound

Номер патента: US20030165619A1. Автор: Salman Akram. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-04.

Methods for depositing coatings on aerospace components

Номер патента: EP3768874A1. Автор: David Thompson,Pravin K. Narwankar,Yuriy Melnik,Lance A. Scudder,Mark Saly,David Britz,Sukti Chatterjee,Jonathan Frankel,Thomas Knisley,Kaushal Gangakhedkar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-01-27.

Silicon single crystal substrate for vapor phase growth, vapor phase growth substrate and methods for producing them

Номер патента: US20230235481A1. Автор: Masaru Shinomiya,Keitaro Tsuchiya,Weifeng Qu. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

MXene layers as substrates for growth of highly oriented perovskite thin films

Номер патента: US11773480B2. Автор: Yury Gogotsi,Jonathan E. Spanier,Zongquan Gu,Babak ANASORI,Andrew Lewis BENNETT-JACKSON,Matthias FALMBIGL,Dominic IMBRENDA. Владелец: DREXEL UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-10-03.

Chemical vapor deposition of silicon oxide films using alkylsiloxane oligomers with ozone

Номер патента: EP1204987A4. Автор: ZHENG Yuan,Sanjeev Jain. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2002-10-30.

Chemical vapor deposition of silicon oxide films using alkylsiloxane oligomers with ozone

Номер патента: EP1204987A1. Автор: ZHENG Yuan,Sanjeev Jain. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2002-05-15.

Initiated chemical vapor deposition and structuration of polyoxymethylene

Номер патента: US20220372201A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN. Владелец: DREXEL UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-11-24.

Method of controlling contamination of vapor deposition apparatus and method of producing epitaxial wafer

Номер патента: US20200392618A1. Автор: Shota Kinose. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2020-12-17.

Electron beam physical vapor deposition apparatus and processes

Номер патента: EP1939924A3. Автор: Richard S. Mullin,Igor V. Belousov,Yurity M. Barabash,Yurity G. Kononenko. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-12.

Oxide/organic polymer multilayer thin films deposited by chemical vapor deposition

Номер патента: WO1999057330A9. Автор: Seshu B Desu,John J Senkevich. Владелец: Seshu B Desu. Дата публикации: 2000-02-10.

Manufacturing method for gate electrode and thin film transistor and display panel

Номер патента: US20220037476A1. Автор: Wei Li,En-Tsung Cho,Yuming XIA. Владелец: Beihai HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Manufacturing method for gate electrode and thin film transistor and display panel

Номер патента: US11901420B2. Автор: Wei Li,En-Tsung Cho,Yuming XIA. Владелец: Beihai HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

System and Method for Sealing a Vapor Deposition Source

Номер патента: US20110255950A1. Автор: Joseph D. LoBue,Robert A. Enzenroth,Lawrence J. Knipp. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-10-20.

Physical vapor deposition of doped transition metal oxide and post-deposition treatment thereof for non-volatile memory applications

Номер патента: WO2020028343A1. Автор: Mahendra Pakala,Mehul Naik,Minrui Yu,Nicolas Breil,Anindita Sen,Michel Frei,Vibhu Jindal,Michael Chudzik. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-02-06.

Group 4 metal element-containing compound, precursor composition including same, and method for manufacturing thin film using same

Номер патента: US20230312614A1. Автор: Jang-Hyeon Seok,Jung-Woo Park,Hyun-Kee Kim,Ki-Yeung Mun,Cheol-Wan Park,Ee-Seul SHIN,Eun-Jeong CHO. Владелец: Hansol Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Method for performing metallo-organic chemical vapor deposition of titanium nitride at reduced temperature

Номер патента: US20020001928A1. Автор: Mei Chang,Ming Xi,Keith K. Koai,Shulin Wang,Huan LUO,Russell C. Ellwanger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-03.

Method for curing low dielectric constant film using direct current bias

Номер патента: WO2004063422A2. Автор: Li-Qun Xia,Maosheng Zhao,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Lihua Li,Tzu-Fang Huang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2004-07-29.

Initiated chemical vapor deposition and structuration of polyoxymethylene

Номер патента: WO2021163025A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN. Владелец: Drexel Uniiversity. Дата публикации: 2021-08-19.

Method for manufacturing display device

Номер патента: US20150380469A1. Автор: Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Yuhki Kobayashi,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2015-12-31.

Apparatus for providing a liquefied material, dosage system and method for dosing a liquefied material

Номер патента: WO2022154960A1. Автор: Andreas Sauer,Thomas Deppisch,Volker Hacker,Ralf SCHEIDT. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-07-21.

Atomic layer or chemical vapor deposition process for nitride or oxide films

Номер патента: WO2023150265A1. Автор: PRASAD NARHAR GADGIL,Peter Joseph DUSZA. Владелец: PRASAD NARHAR GADGIL. Дата публикации: 2023-08-10.

Apparatus and Methods for Low K Dielectric Layers

Номер патента: US20130072031A1. Автор: Yu-Yun Peng,Keng-Chu Lin,Joung-Wei Liou,Hui-Chun Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-03-21.

Chemical vapor deposition of thick inorganic coating on a polarizer

Номер патента: US11746418B2. Автор: Brian Johnson,Matthew R. Linford,Anubhav Diwan. Владелец: Moxtek Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Process for chemical vapor deposition of materials with via filling capability and structure formed thereby

Номер патента: US20080164579A1. Автор: Alejandro G. Schrott,Fenton R. McFeely,John J. Yurkas. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2008-07-10.

Chemical vapor deposition film profile uniformity control

Номер патента: US20130149871A1. Автор: Chin-Hsiang Lin,Chia-Ho Chen,Chih-Tsung Lee,You-Hua Chou,Ming-Chin Tsai,Ming-Shiou Kuo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-06-13.

Physical vapor deposition chamber with rotating magnet assembly and centrally fed rf power

Номер патента: WO2011139439A3. Автор: Keith Miller,Alan Ritchie. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Physical vapor deposition system and methods of operating the same

Номер патента: US20240271271A1. Автор: Yen-Yu Chen,Chia-Hsi Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Methods for depositing tungsten or molybdenum films

Номер патента: US11761081B2. Автор: Han Wang,Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Philip S. H. Chen,Robert WRIGHT, JR.,Shawn D. NGUYEN. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Embedded wire chemical vapor deposition (ewcvd)

Номер патента: EP4363630A1. Автор: Joseph Pegna,Kirk L. Williams,Shay L. Harrison. Владелец: Free Form Fibers LLC. Дата публикации: 2024-05-08.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US20190169747A1. Автор: Jae-Hyun Kim,Sung-Chul Kim,Seung-Yong Song,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-06.

Apparatus and method for introducing small amounts of refractory elements into a vapor deposition coating

Номер патента: US20030140856A1. Автор: Reed Corderman,Melvin Jackson,Richard Nardi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-31.

Plasma enhanced chemical vapor deposition method of forming titanium silicide comprising layers

Номер патента: US20030170982A1. Автор: Gurtej Sandhu,Cem Basceri,Ammar Derraa,Philip Campbell,Irina Vasilyeva. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-11.

Plasma enhanced chemical vapor deposition method of forming titanium silicide comprising layers

Номер патента: US20060172087A1. Автор: Gurtej Sandhu,Cem Basceri,Ammar Derraa,Philip Campbell,Irina Vasilyeva. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-03.

Method to reduce plasma charge damage from high density plasma chemical vapor deposition (hdp-cvd) process

Номер патента: US20080146039A1. Автор: Daewon Yang,Jeffery B. Maxson,Ann N. McDonald. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2008-06-19.

Resin composition for direct vapor deposition, molded articles made by using the same, and surface-metallized lamp housing

Номер патента: US20100159134A1. Автор: Yoshihiro Nakai,Takahiro Ikebe,Hideyuki Shigemitsu,Keiji Obata. Владелец: Mitsubishi Rayon Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-24.

Physical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230175113A1. Автор: Sangwook Park,Kyuhee Han,Jaesuk KIM,Gukrok YUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Method for preventing vacuum pump pipeline from blockage, and chemical vapor deposition machine

Номер патента: US20200208262A1. Автор: Jianfeng SHAN. Владелец: HKC Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Chemical vapor deposition furnace with a cleaning gas system to provide a cleaning gas

Номер патента: US12077854B2. Автор: Herbert Terhorst,Bert Jongbloed,Dieter Pierreux,Theodorus G. M. Oosterlaken,Lucian JDIRA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Method for vapour deposition of a film onto a substrate

Номер патента: EP1299572A2. Автор: Margreet Albertine Anne-Marie Van Wijck. Владелец: ASM International NV. Дата публикации: 2003-04-09.

Methods for low resistivity and stress tungsten gap fill

Номер патента: US12094773B2. Автор: Kai Wu,Nobuyuki Sasaki,Peiqi Wang,Wei Min Chan,Xi CEN,Tom Ho Wing Yu,Feihu Wang,Chunming Zhou,Min Heon,Ju Ik KANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Method for manufacturing absorber layers for solar cell

Номер патента: EP1649520A1. Автор: In-Hwan Choi. Владелец: In-Solar-Tech Co Ltd. Дата публикации: 2006-04-26.

Vapor deposition device capable of reciprocating rotation and lifting

Номер патента: US20240327987A1. Автор: Wenjun Xie,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Shielding design for metal gap fill

Номер патента: US09865478B2. Автор: Chung-En Kao,You-Hua Chou,Ming-Chin Tsai,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Method for preparing graphene

Номер патента: US09850571B2. Автор: Shumin Wang,Qingbo LIU,Qian Gong,Hailong Wang,Xiaoming Xie,Guqiao Ding,Zengfeng Di. Владелец: Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology of CAS. Дата публикации: 2017-12-26.

Transparent vapor-deposited film

Номер патента: US09822440B2. Автор: Shigeki Matsui,Hiroshi Miyama,Hiroshi Matsuzaki,Kaoru Miyazaki,Takakazu Goto,Teruhisa Komuro,Tatsuo Asuma. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-11-21.

Chemical vapor deposition coating, article, and method

Номер патента: US09777368B2. Автор: David A. Smith,James B. Mattzela,Paul H. Silvis,Gary A. Barone. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Growth of silicon and boron nitride nanomaterials on carbon fibers by chemical vapor deposition

Номер патента: US09676627B2. Автор: Lingchuan Li. Владелец: University of Dayton. Дата публикации: 2017-06-13.

Vapor deposition mask, and manufacturing method and manufacturing device for organic EL element using vapor deposition mask

Номер патента: US09580791B2. Автор: Satoshi Inoue,Nobuhiro Hayashi,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Defined dosing atmospheric temperature and pressure vapor deposition system

Номер патента: US09562288B2. Автор: Adam Zax,Russell C. SLAYBAUGH,Michael Stephen METCALFE,Guillermo SETA. Владелец: Diamon Fusion International Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Negative electrode active material for non-aqueous electrolyte secondary battery and method for manufacturing the same

Номер патента: US09543578B2. Автор: Kazuyuki Taniguchi,Yoshiyasu Yamada,Tetsuo Nakanishi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Precursor compositions for atomic layer deposition and chemical vapor deposition of titanate, lanthanate, and tantalate dielectric films

Номер патента: US09534285B2. Автор: Thomas H. Baum,Jeffrey F. Roeder,Tianniu Chen,Chongying Xu,Thomas M. Cameron. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Vapor deposition apparatus, vapor deposition method and method of manufacturing organic light emitting display apparatus

Номер патента: US09481929B2. Автор: In-Kyo Kim,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Choel-Min JANG,Sung-Hun KEY. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Method for deposition of system of transparent barrier layers

Номер патента: RU2590745C2. Автор: Штеффен ГЮНТЕР,Бьерн МЕЙЕР,Штеффен ШТРАХ,Томас КЮНЕЛЬ,Себастьян БУНК,Николас ШИЛЛЕР. Владелец: Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф.. Дата публикации: 2016-07-10.

Method for manufacturing single-mode optical fibers with a germanosilicate core

Номер патента: RU2764065C1. Автор: Михаил Артемьевич Ероньян,Денис Валерьевич Волынский,Александр Алексеевич Унтилов,Алексей Юрьевич КУЛЕШ,Александр Александрович Реуцкий. Владелец: Акционерное общество "Концерн "Центральный научно-исследовательский институт "Электроприбор". Дата публикации: 2022-01-13.

Method for vapor-coating turbine buckets

Номер патента: US4233342A. Автор: Herbert Stephan,Walter Dietrich,Friedrich Stark,Hans Aichert,Otto-Horst Hoffmann. Владелец: Leybold Heraeus GmbH. Дата публикации: 1980-11-11.

Method for synthesis of polycrystalline silicon

Номер патента: RU2388690C2. Автор: Андрей Альгердович Ловцюс. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Группа СТР". Дата публикации: 2010-05-10.

Method for low temperature chemical vapor deposition of aluminides containing easily oxidized metals

Номер патента: US5503874A. Автор: John F. Ackerman,William R. Stowell,John H. Wood,Adrian M. Beltran. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1996-04-02.

Neutral beam-assisted atomic layer chemical vapor deposition apparatus and method of processing substrate using the same

Номер патента: US7799706B2. Автор: Sung-Woo Kim,Geun-Young Yeom,Byoung-Jae Park,Jong-Tae Lim. Владелец: Sungkyunkwan University Foundation For Corporate Collaboration. Дата публикации: 2010-09-21.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US5264039A. Автор: Raymond W. Gobush,Bryan J. Lovejoy. Владелец: Union Carbide Chemicals and Plastics Technology LLC. Дата публикации: 1993-11-23.

Method and apparatus for manufacturing optical fiber preforms using the outside vapor deposition process

Номер патента: US20050076680A1. Автор: Hyung-Soo Shin,Chan-Yong Park,Man-Soo Choi,Bong-hun Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-04-14.

Method and system for conditioning a vapor deposition target

Номер патента: EP2013373B1. Автор: Robert Huff,Milan Ilic,George McDonough. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2011-08-31.

Apparatus and method for chemical vapor deposition using an axially symmetric gas flow

Номер патента: GB2181460A. Автор: Mcdonald Robinson,Klavs F Jensen,Wayne L Johnson,Wiebe B Deboer,Gary W Read. Владелец: Epsilon LP. Дата публикации: 1987-04-23.

Very low pressure chemical vapor deposition process for deposition of titanium silicide films

Номер патента: US4957777A. Автор: Vida Ilderem,L. Rafael Reif,Prabha K. Tedrow. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 1990-09-18.

Method and apparatus for depositing a layer on a semiconductor wafer by vapor deposition in a process chamber

Номер патента: MY166009A. Автор: Brenninger Georg. Владелец: SILTRONIC AG. Дата публикации: 2018-05-21.

Triangular deposition chamber for a vapor deposition system

Номер патента: CA2120092C. Автор: Jitendra S. Goela,Lee E. Burns,James C. Macdonald,Alexander Teverovsky. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1997-05-20.

Multi-step chemical vapor deposition method for thin film transistors

Номер патента: US5567476A. Автор: Dan Maydan,Takako Takehara,Kam S. Law,Robert Robertson,Angela T. Lee,Michael Kollrack,Guofu J. Feng. Владелец: Applied Komatsu Technology Inc. Дата публикации: 1996-10-22.

Method for tuning a deposition rate during an atomic layer deposition process

Номер патента: WO2010132172A2. Автор: Jiang Lu,Mei Chang,Joseph F. Aubuchon,Paul F. Ma. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-11-18.

Method for depositing amorphous silicon thin film by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2010032978A3. Автор: Chang Auck Choi,Byoung Gon Yu,Woo Seok Yang,Sang Hoon Cheon,Seong Mok Cho,Ho Jun Ryu. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2013-01-03.

Methods for area-selective deposition of polymer films using sequentially pulsed initiated chemical vapor deposition (spicvd)

Номер патента: WO2024019842A1. Автор: Jacques Faguet,Omid Zandi,Ornella Sathoud. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-01-25.

Localized atmospheric laser chemical vapor deposition

Номер патента: EP2842156A1. Автор: Selim Elhadj,Manyalibo Joseph Matthews. Владелец: Lawrence Livermore National Security LLC. Дата публикации: 2015-03-04.

System and method for vaporized hydrogen peroxide cleaning of an incubation chamber

Номер патента: US11965150B2. Автор: Dale C. Barnett,Robert W. Dotterer,David N. Figel,Milton Ford Baker, JR.,Stephen Charles Keiser. Владелец: CARON PRODUCTS AND SERVICES Inc. Дата публикации: 2024-04-23.

Methods of reducing particles in a physical vapor deposition (pvd) chamber

Номер патента: WO2022197723A1. Автор: Yong Cao,Mingdong Li,Chengyu Liu,Shane Lavan,Jothilingam RAMALINGAM,Wei Dou. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-22.

Vacuum deposition apparatus and vapor deposition method

Номер патента: US20170283938A1. Автор: Peng Xu,Gu Yao,Suwei ZENG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-05.

Method for depositing highly doped aluminum nitride piezoelectric material

Номер патента: EP4224543A1. Автор: Jan Matthijn Dekkers,Jeroen Aaldert Heuver,Willem Cornelis Lambert Hopman. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-09.

Coating, method for coating, and coated cutting tool

Номер патента: US20230271260A1. Автор: Joern Kohlscheen. Владелец: Kennametal Inc. Дата публикации: 2023-08-31.

Apparatus and concept for minimizing parasitic chemical vapor deposition during atomic layer deposition

Номер патента: EP1238421A4. Автор: Ofer Sneh,Carl Galewski. Владелец: Genus Inc. Дата публикации: 2006-06-21.

Method for deposition of metal layers from metal carbonyl precursors

Номер патента: WO2006057706A2. Автор: Kenji Suzuki. Владелец: Tokyo Electron America, Inc.. Дата публикации: 2006-06-01.

Method for deposition of metal layers from metal carbonyl precursors

Номер патента: EP1815043A2. Автор: Kenji Suzuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-08-08.

Method for improving film uniformity in plasma enhanced chemical vapor deposition system

Номер патента: US20050025906A1. Автор: Hui-Chu Lin,Wen-Cheng Lu. Владелец: Toppoly Optoelectronics Corp. Дата публикации: 2005-02-03.

Cold thermal chemical vapor deposition

Номер патента: US20240117495A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,Jesse BISCHOF,James B. Mattzela,Gary A. Barone,Geoffrey K. WHITE,Nicholas P. DESKEVICH,Pierre A. LECLAIR. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-04-11.

Methods of reducing particles in a physical vapor deposition (pvd) chamber

Номер патента: US20220301828A1. Автор: Yong Cao,Mingdong Li,Chengyu Liu,Shane Lavan,Jothilingam RAMALINGAM,Wei Dou. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-22.

Particle Reduction in Physical Vapor Deposition of Amorphous Silicon

Номер патента: US20240128075A1. Автор: Mingdong Li,Chengyu Liu,Peijiao FANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Method for depositing highly doped aluminum nitride piezoelectric material

Номер патента: WO2023154631A1. Автор: Jan Matthijn Dekkers,Jeroen Aaldert Heuver,Willem Cornelis Lambert Hopman. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-08-17.

Glass-ceramics substrates for graphene growth

Номер патента: EP3060533A1. Автор: Xinyuan Liu,Curtis Robert Fekety,Zhen Song,Nicholas Francis Borrelli. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2016-08-31.

Glass-ceramics substrates for graphene growth

Номер патента: WO2015061208A1. Автор: Xinyuan Liu,Curtis Robert Fekety,Zhen Song,Nicholas Francis Borrelli. Владелец: CORNING INCORPORATED. Дата публикации: 2015-04-30.

Systems and methods for production of graphene by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20140255621A1. Автор: Peter V. Bedworth,Steven W. Sinton. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2014-09-11.

Method of operating filament assisted chemical vapor deposition system

Номер патента: WO2012112334A2. Автор: Jacques Faguet,Eric M. Lee. Владелец: Tokyo Electron America, Inc.. Дата публикации: 2012-08-23.

Metalorganic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: US20200115800A1. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2020-04-16.

Graphene vapor deposition system and process

Номер патента: US20230416908A1. Автор: Richard Tracy McDaniel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-12-28.

Corrosion-resistant coated article and thermal chemical vapor deposition coating process

Номер патента: US12036765B2. Автор: Min YUAN. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Methods for processing a semiconductor substrate

Номер патента: US11972935B2. Автор: Yu-Hsiang Cheng,Bo-Lin WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Vapor deposition method for preparing an amorphous lithium borosilicate

Номер патента: EP3844317A1. Автор: Samuel Guerin,Brian Elliott Hayden,Gianfranco ARESTA,David Michael LAUGHMAN. Владелец: Ilika Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-07-07.

Vapor deposition method for preparing an amorphous lithium borosilicate

Номер патента: WO2020044042A1. Автор: Samuel Guerin,Brian Elliott Hayden,Gianfranco ARESTA,David Michael LAUGHMAN. Владелец: Ilika Technologies Limited. Дата публикации: 2020-03-05.

Abatement of effluent from chemical vapor deposition processes using ligand exchange resistant metal-organic precursor solutions

Номер патента: EP1230420A1. Автор: Jose Arno,Mark Holst,Ray Dubois,Rebecca Faller. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 2002-08-14.

Metal organic chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20240175135A1. Автор: Sung-Chul Choi,Kwang-Il Cho. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Physical vapor deposition system comprising positioning marker and method for adjusting distance between crucible and substrate

Номер патента: EP3717675A1. Автор: BASTIAN SIEPCHEN,MICHAEL HARR,SHOU PENG,Bettina Späth,Xinjian Yin,Ganhua FU,Marcel MISCHKE. Владелец: China Triumph International Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-07.

Physical vapor deposition system comprising positioning marker and method for adjusting distance between crucible and substrate

Номер патента: WO2019104727A1. Автор: BASTIAN SIEPCHEN,MICHAEL HARR,SHOU PENG,Bettina Späth,Xinjian Yin,Ganhua FU,Marcel MISCHKE. Владелец: CTF SOLAR GMBH. Дата публикации: 2019-06-06.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: EP4329948A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn LLC. Дата публикации: 2024-03-06.

Process for manufacturing multi-layered thin film by dry vacuum vapor deposition

Номер патента: WO2009017376A3. Автор: Hong Chul Kim,Jeong Rae Kim,Hyun Joong Kim. Владелец: CEKO Corp Ltd. Дата публикации: 2009-04-16.

Set comprising a physical vapor deposition machine and an obstruction device, method for coating and obstruction device

Номер патента: EP4296401A1. Автор: Francis Henky,Mark Mildebrath. Владелец: Essilor International SAS. Дата публикации: 2023-12-27.

Methods for applying decorative metal films on polymeric surfaces

Номер патента: US20230304139A1. Автор: Marshall E. LEININGER,Joshua B. Soper. Владелец: Vergason Technology. Дата публикации: 2023-09-28.

Films including a water-soluble layer and a vapor-deposited inorganic coating

Номер патента: US20210362924A1. Автор: Emily Charlotte Boswell,Srinivas Krishnaswamy Mirle,Vesselin Nikolov Shanov,Rachit MALIK,Colin William MCCONNELL. Владелец: Procter and Gamble Co. Дата публикации: 2021-11-25.

Method for cleaning tungsten from deposition wall chambers

Номер патента: US20020062846A1. Автор: Sailesh Merchant,Nace Layadi,Simon Molloy. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-30.

Novel group IV metal precursors and a method of chemical vapor deposition using the same

Номер патента: US20020058843A1. Автор: Dae Kim,Young Cho,Wan Lee,Ik Lee,Yo Min,Sun Lim,Bo Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-05-16.

Structures and methods for use in photolithography

Номер патента: US12055863B2. Автор: David Kurt De Roest,Daniele Piumi. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-06.

Silicon carbide thin films and vapor deposition methods thereof

Номер патента: WO2022072258A1. Автор: Barry C. Arkles,Alain E. Kaloyeros. Владелец: Gelest, Inc.. Дата публикации: 2022-04-07.

Synthesis of advanced scintillators via vapor deposition techniques

Номер патента: US20130341513A1. Автор: Vinod K. Sarin,Stephen Gibson Topping. Владелец: Boston University. Дата публикации: 2013-12-26.

Method for Making Ferroelectric Material Thin Films

Номер патента: US20170236955A1. Автор: Peter K. Davies,Jonathan E. Spanier,Andrew M. Rappe,Ilya Grinberg,Liyan Wu,Andrei R. Akbasheu. Владелец: University of Pennsylvania Penn. Дата публикации: 2017-08-17.

System and method for chemical vapor deposition process control

Номер патента: EP2109878A1. Автор: Michael W. Stowell. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2009-10-21.

Shadow Mask for Patterned Deposition on Substrates

Номер патента: US20150031148A1. Автор: Kurt Weiner,Indranil De. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2015-01-29.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US12065735B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Sung-Chul Kim,Seung-Yong Song,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Physical vapor deposition machine with a shutter having at least one intermediate position

Номер патента: WO2023110807A1. Автор: Francis Henky. Владелец: Essilor International. Дата публикации: 2023-06-22.

Coating fibers using directed vapor deposition

Номер патента: US12054431B2. Автор: Kang N. Lee,Adam L. Chamberlain,Andrew J. Lazur. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Method of producing near-net shape free standing articles by chemical vapor deposition

Номер патента: US20010048171A1. Автор: Jitendra Goela,Michael Pickering,Zlatko Salihbegovic,Mitch Boudreaux. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2001-12-06.

Chemical vapor deposition system and method

Номер патента: EP1204782A1. Автор: Robert J. Bailey,Thomas E. Kane,Lisa H. Michael. Владелец: Silicon Valley Group Thermal Systems LLC. Дата публикации: 2002-05-15.

Methods for applying decorative metal films on polymeric surfaces

Номер патента: WO2023183902A1. Автор: Marshall E. LEININGER,Joshua B. Soper. Владелец: Helios Coatings, Inc.. Дата публикации: 2023-09-28.

Physical vapor deposition chamber and physical vapor deposition apparatus

Номер патента: US11732346B2. Автор: Bing Li,Qiwei Huang,Hongrui GUO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Compound and method for producing the same

Номер патента: US20100136712A1. Автор: Hui-Yun Bor,Cuo-Yo Nieh,Chao-Nan Wei,Yuan-Pang Wu,jian-hong Liao. Владелец: National Chung Shan Institute of Science and Technology NCSIST. Дата публикации: 2010-06-03.

Vapor Deposition of Dissimilar Materials

Номер патента: US20100285330A1. Автор: David A. Rutz,Monika D. Kinstler,Robert L. Memmen,Igor V. Belousov,Igor S. Malashenko,Gregory A. Serhiyenko,Anatoli N. Shelkovoi,Evgeniy A. Shelkovoy. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2010-11-11.

Strong phase shift mask substrates

Номер патента: US20020064713A1. Автор: Richard Schinella. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2002-05-30.

Silicon carbide thin films and vapor deposition methods thereof

Номер патента: US20240271279A1. Автор: Barry C. Arkles,Alain E. Kaloyeros. Владелец: Gelest Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Variable-temperature vapor deposition process

Номер патента: US20240209498A1. Автор: Paul Connolly Quayle. Владелец: Great Lakes Crystal Technologies Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Device, system and method for plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20230349046A1. Автор: Jens-Uwe FUCHS,Ralf Reize,Mirko Tröller,Roland Leichtle. Владелец: Centrotherm International AG. Дата публикации: 2023-11-02.

Decorative film formed body, manufacturing method for a decorative film formed body, mounting method for a transfer base material, satin-plated preparation, container, casing, and vehicle interior/exterior member

Номер патента: US20200207145A1. Автор: Atsushi Yoshida,Norio HAKIRI,Tatsuya Mitsushio,Kohei KIZAKI. Владелец: Oike and Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Decorative film formed body, manufacturing method for a decorative film formed body, mounting method for a transfer base material, satin-plated preparation

Номер патента: EP3674437A1. Автор: Atsushi Yoshida,Norio HAKIRI,Tatsuya Mitsushio,Kohei KIZAKI. Владелец: Oike and Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-01.

Method for efficiently eliminating graphene wrinkles formed by chemical vapor deposition

Номер патента: US12116281B2. Автор: Jie Xu,Libo GAO,Guowen Yuan. Владелец: NANJING UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-10-15.

Method for forming perovskite layer

Номер патента: US20240334719A1. Автор: Kwan Wook Jung. Владелец: Hanwha Solutions Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Apparatus and method for physical vapor deposition

Номер патента: US20240339310A1. Автор: Wen-Cheng Yang,Chyi-Tsong Ni,Yu-Young Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Chemical vapor deposition device capable of reciprocating rotation and lifting

Номер патента: US20240327986A1. Автор: Xueqin Pan,Xiaoliang Jin,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Thermal chemical vapor deposition coating process

Номер патента: US20240359430A1. Автор: Min YUAN. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Coating fibers using directed vapor deposition

Номер патента: US09981880B2. Автор: Kang N. Lee,Adam L. Chamberlain,Andrew J. Lazur. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Method for fabricating shallow trench isolation and semiconductor structure using the same

Номер патента: US09978634B2. Автор: Ching-Wen Chen,Chun-Hsu YEN,Chui-Ya Peng,Bang-Yu HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Apparatus for gas injection in a physical vapor deposition chamber

Номер патента: US09957601B2. Автор: Alan A. Ritchie,Keith A. Miller,Muhammad Rasheed,Kirankumar Savandaiah,Isaac Porras. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Gas shower device, chemical vapor deposition device and method

Номер патента: US09945031B2. Автор: Yong Jiang,Zhiyou Du. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Vapor deposition and vapor deposition method

Номер патента: US09932672B2. Автор: Sang-Joon SEO,Myung-Soo Huh,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG,Jeong-Ho Yi,Cheol-Rae JO,Seung-Hun Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Methods for forming a carbon nanotube-graphene hybrid film on a substrate

Номер патента: US09887361B2. Автор: Bhupesh Chandra,George S. Tulevski,Glenn J. Martyna,Amal Kasry,Ahmed Maarouf,Ageeth A. Bol. Владелец: Egypt Nanotechnology Center EGNC. Дата публикации: 2018-02-06.

Physical vapor deposition system and physical vapor depositing method using the same

Номер патента: US09887073B2. Автор: Hung-Wen Su,Chih-Chien Chi,Pei-Hsuan Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Method for deposition of noble metal nanoparticles on catalysts to promote same, and the compositions so produced

Номер патента: US09873110B2. Автор: Yadollah Mortazavi,Abbas Ali Khodadadi,Mohammad Javad Parnian,Ali Taheri Najafabadi. Владелец: Sensiran. Дата публикации: 2018-01-23.

PVD coating for metal machining

Номер патента: US09856556B2. Автор: Jürgen Müller,Jon Andersson,Jacob Sjölén,Jörg Vetter. Владелец: Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon. Дата публикации: 2018-01-02.

Polylactic acid formed body having a vapor-deposited film and method of producing the same

Номер патента: US09845175B2. Автор: Kazuhiko Yamazaki,Takuro Ito,Satoru Kito,Satomi Ozawa. Владелец: Toyo Seikan Group Holdings Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Chemical vapor deposition process for depositing zinc oxide coatings, method for forming a conductive glass article and the coated glass articles produced thereby

Номер патента: US09776914B2. Автор: Yu Wang,Srikanth Varanasi,David Alan Strickler. Владелец: Pilkington Group Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Manufacturing of diffractive pigments by fluidized bed chemical vapor deposition

Номер патента: US09732228B2. Автор: Alberto Argoitia. Владелец: VIAVI SOLUTIONS INC. Дата публикации: 2017-08-15.

Photoelectric conversion device vapor deposition material, photoelectric conversion device, sensor, and imaging device

Номер патента: US09691999B2. Автор: Mitsumasa Hamano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: US09663855B2. Автор: Jung-Sik Lee,Seok-won JUNG,Myung-Su Heo. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma vapor deposition-based diamond film and preparation method thereof

Номер патента: IES87296Y1. Автор: Wu Jianbo,YANG Chunmei,Jiang Jianhong,MAN Weidong,ZHU Changzheng,GONG Chuang. Владелец: Shanghai Zhengshi Tech Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-13.

Plasma vapor deposition-based diamond film and preparation method thereof

Номер патента: IE20210002U1. Автор: Wu Jianbo,YANG Chunmei,Jiang Jianhong,MAN Weidong,ZHU Changzheng,GONG Chuang. Владелец: Shanghai Zhengshi Tech Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-13.

Physical vapor deposition RF plasma shield deposit control

Номер патента: US09605341B2. Автор: Keith A. Miller. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Vapor deposition systems and methods

Номер патента: US09556519B2. Автор: Jill Svenja Becker,Douwe Johannes Monsma. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Physical vapor deposition of an aluminum nitride film

Номер патента: US09484198B1. Автор: Yung-Chin Yang,Chen-Te Chang,Jyh-Wei Lee. Владелец: Ming Chi University of Technology. Дата публикации: 2016-11-01.

Plasma source and methods for depositing thin film coatings using plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US09478401B2. Автор: Peter Maschwitz. Владелец: AGC Flat Glass North America Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Method for applying a coating to the surface of a steel product

Номер патента: RU2660502C1. Автор: Геннадий Викторович Качалин,Сергей Васильевич Сидоров,Константин Сергеевич Медведев,Алексей Феликсович Медников,Александр Борисович Тхабисимов. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ"). Дата публикации: 2018-07-06.

Catalyst for vapor hydrocarbon conversion

Номер патента: RU2650495C1. Автор: Ольга Леонидовна Овсиенко,Виктор Петрович Томин,Марина Ивановна Целютина. Владелец: Акционерное общество "Ангарский завод катализаторов и органического синтеза" (АО "АЗКиОС"). Дата публикации: 2018-04-16.

Method for manufacturing of optical filter based on graphene

Номер патента: RU2724229C1. Автор: Дмитрий Владимирович Смовж,Павел Евгеньевич Маточкин,Илья Алексеевич Костогруд,Евгений Викторович Бойко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН). Дата публикации: 2020-06-22.

Installation for vacuum deposition of coatings and method for coating substrate

Номер патента: RU2755323C1. Автор: Эрик СИЛЬБЕРБЕРГ,Тиаго РАБЕЛО НУНЕС КАМПОС,Негар ГИЛАНИ. Владелец: Арселормиттал. Дата публикации: 2021-09-15.

Chemical vapor deposition processes using ruthenium precursor and reducing gas

Номер патента: WO2020096976A1. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Philip S.H. Chen. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2020-05-14.

Vapor-deposited foamed body

Номер патента: CA2861849C. Автор: Takeshi Aihara,Kentarou Ichikawa,Nobuhisa Koiso. Владелец: Toyo Seikan Group Holdings Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Method for the production of semiconductor devices using electron beam delineation

Номер патента: US4239788A. Автор: William A. Beck. Владелец: Martin Marietta Corp. Дата публикации: 1980-12-16.

Selective area chemical vapor deposition

Номер патента: CA2028438C. Автор: Michael A. Pickering,Raymond L. Taylor,Joseph T. Keeley,Jitendra Singh Goela. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1993-11-30.

Method of automatically cleaning a vacuum vapor deposition tank

Номер патента: US5492569A. Автор: Junji Nakada. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1996-02-20.

Method for depositing high quality silicon dioxide by pecvd

Номер патента: US5068124A. Автор: John Batey,Elaine Tierney. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1991-11-26.

Apparatus and method for preparing superconducting joints

Номер патента: GB2262106A. Автор: Daniel Scott McAtee,Clifford Lawrence Spiro,Philip George Kosky,Herbert Clark Peters. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1993-06-09.

Method for injecting carbon dioxide into a well

Номер патента: US4212354A. Автор: Jerry H. Guinn. Владелец: Service Fracturing Co. Дата публикации: 1980-07-15.

Method of reducing carbon incorporation into films produced by chemical vapor deposition involving organic precursor compounds

Номер патента: US5661115A. Автор: Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1997-08-26.

Chamber for reducing contamination during chemical vapor deposition

Номер патента: US6114227A. Автор: Joseph P. Ellul,Stephen M. Campbell,Chung J. Lee,Giovanni Antonio Foggiato,David Leksell,Ming Xi Chan,Jeanne L. Luce,David T. Ryan,Iqbal A. Shareef. Владелец: Quester Technology Inc. Дата публикации: 2000-09-05.

Deflection magnetic field type vacuum arc vapor deposition device

Номер патента: US20070023282A1. Автор: Yasuo Murakami. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-01.

Method for tungsten chemical vapor deposition on a semiconductor substrate

Номер патента: EP1219725A1. Автор: Joris Baele,Hans Vercammen. Владелец: Alcatel SA. Дата публикации: 2002-07-03.

Method for the selective deposition of bismuth based ferroelectric thin films by chemical vapor deposition

Номер патента: US6120846A. Автор: Thomas H. Baum,Frank Hintermaier,Bryan Hendrix,Peter Van Buskirk,Jeff Roeder. Владелец: Infineon Technologies North America Corp. Дата публикации: 2000-09-19.

Apparatus for the simultaneous deposition by physical vapor deposition and chemical vapor deposition and method therefor

Номер патента: US6186090B1. Автор: Joachim Doehler,Herbert C. Ovshinsky,II Buddy R. Dotter,Timothy Ellison,Masatsugo Izu. Владелец: Energy Conversion Devices Inc. Дата публикации: 2001-02-13.

Method of reducing carbon incorporation into films produced by chemical vapor deposition involving organic precursor compounds

Номер патента: US5576071A. Автор: Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1996-11-19.

Vapor deposition device, vapor deposition method and organic EL display device

Номер патента: US8658545B2. Автор: Satoshi Inoue,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2014-02-25.

Method for depositing hard coatings on titanium or titanium alloys

Номер патента: US4902535A. Автор: Paul N. Dyer,Diwakar Garg,Leslie E. Schaffer,Carl F. Mueller. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 1990-02-20.

Continuous chemical vapor deposition reactor

Номер патента: CA1068582A. Автор: Roger N. Anderson. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1979-12-25.

Exclusion guard and gas-based substrate protection for chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US5843233A. Автор: Barry L. Chin,Eliot K. Broadbent,Jeffrey C. Benzing,Christopher W. Burkhart,Edward J. McInerney,Everhardus P. van de Ven,Lawrence C. Lane. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 1998-12-01.

Chemical vapor deposition method for the gaas thin film

Номер патента: CA1305910C. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1992-08-04.

Photochemical vapor deposition apparatus and method

Номер патента: CA1181719A. Автор: John W. Peters,Frank L. Gebhart. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1985-01-29.

Method of using NF3 for removing surface deposits from the interior of chemical vapor deposition chambers

Номер патента: US20070107750A1. Автор: Bo Bai,Herbert Sawin,Ju An. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2007-05-17.

Apparatus and method for producing plane-parallel flakes

Номер патента: US6270840B1. Автор: Hilmar H. Weinert. Владелец: Weinert Vakuum Verfahrenstechnik Gmbh. Дата публикации: 2001-08-07.

Method of producing tungsten rhenium alloys by chemical vapor deposition

Номер патента: US3637374A. Автор: Frederick A Glaski,Robert A Holzi,James R Humphrey. Владелец: Fansteel Inc. Дата публикации: 1972-01-25.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: US20220275509A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2022-09-01.

Method for fabricating semiconductor device with composite contact structure

Номер патента: US20230399738A1. Автор: Po-Hung Chen,Yu-Chang Chang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Vapor deposition method for coating a spectacle lens, physical vapor deposition system and crucible for physical vapor deposition

Номер патента: US11866818B2. Автор: Artur Laukart. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2024-01-09.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: EP4298665A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2024-01-03.

Vapor deposition systems and methods, and nanomaterials formed by vapor deposition

Номер патента: WO2023122250A2. Автор: Liangbing Hu,Xizheng Wang. Владелец: University of Maryland, College Park. Дата публикации: 2023-06-29.

Vapor deposition method for coating a spectacle lens, physical vapor deposition system and crucible for physical vapor deposition

Номер патента: US20230265553A1. Автор: Artur Laukart. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2023-08-24.

Organic film vapor deposition method and a scintillator panel

Номер патента: US20020190223A1. Автор: Toshio Takabayashi,Hiroto Sato,Takuya Homme. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2002-12-19.

Method for producing a graphene film

Номер патента: US20230348275A1. Автор: Xinyuan Liu,Zhen Song,Fuqiang Huang,Tongping XIU,Hui Bi,Yufeng Tang. Владелец: Shanghai Institute of Ceramics of CAS. Дата публикации: 2023-11-02.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods

Номер патента: US20230072705A1. Автор: Prerna Goradia. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-03-09.

Method for preventing line bending during metal fill process

Номер патента: US20200144066A1. Автор: Lawrence Schloss,Siew Neo,Michal Danek,Sanjay Gopinath,Joshua Collins,Hanna Bamnolker,Sema Ermez,Adam Jandl. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-05-07.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: WO2023031951A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Prerna Goradia. Дата публикации: 2023-03-09.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11702749B2. Автор: Jing Lu,Jes Asmussen,Yajun Gu,Shreya Nad. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-07-18.

Microwave cvd method for deposition of robust barrier coatings

Номер патента: WO1996032846A1. Автор: Masatsugu Izu,Buddie R. Ii Dotter. Владелец: Energy Conversion Devices, Inc.. Дата публикации: 1996-10-24.

Aluminum thin film microarray chip substrates for biosensing via surface plasmon resonance spectroscopy and imaging

Номер патента: US20220397533A1. Автор: Ichiro Tanabe,Quan Jason Cheng,Alexander Scott Lambert,Santino Nicholas Valiulis,Alexander Scott Malinick,Bochao LI. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2022-12-15.

Chemical vapor deposition of chalcogenide materials via alternating layers

Номер патента: US20090022883A1. Автор: Stanford R. Ovshinsky,Smuruthi Kamepalli. Владелец: Ovonyx Inc. Дата публикации: 2009-01-22.

Thermal chemical vapor deposition coating

Номер патента: US20180258529A1. Автор: James B. Mattzela,Paul H. Silvis,Gary A. Barone,Thomas F. Vezza,William David Grove. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-09-13.

Vapor deposition mask, frame-equipped vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation body, vapor deposition pattern forming method, method for producing organic semiconductor element, and method for producing organic el display

Номер патента: US20190211437A1. Автор: Katsunari Obata,Kumiko Hokari,Yasuko Sone. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2019-07-11.

Vapor deposition mask, frame-equipped vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation body, vapor deposition pattern forming method, method for producing organic semiconductor element, and method for producing organic el display

Номер патента: US20210222283A1. Автор: Katsunari Obata,Kumiko Hokari,Yasuko Sone. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2021-07-22.

Truncated susceptor for vapor-phase deposition

Номер патента: WO2000068472A8. Автор: Tetsuzo Ueda,David J Miller,Glenn S Solomon. Владелец: CBL Technologies Inc. Дата публикации: 2001-04-19.

Truncated susceptor for vapor-phase deposition

Номер патента: EP1190121A1. Автор: Tetsuzo Ueda,David J. Miller,Glenn S. Solomon. Владелец: CBL Technologies Inc. Дата публикации: 2002-03-27.

Systems and methods for vaporizing hydrocarbons using electrically-powered heating

Номер патента: EP4363529A1. Автор: Arno Johannes Maria OPRINS,Michael Edward HUCKMAN,Joseph William SCHROER,Balamurali Krishna Nair. Владелец: SABIC Global Technologies BV. Дата публикации: 2024-05-08.

Vapor deposition method for coating a spectacle lens, physical vapor deposition system and crucible for physical vapor deposition

Номер патента: EP4211288A1. Автор: Artur Laukart. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2023-07-19.

Chemical vapor deposition processes using ruthenium precursor and reducing gas

Номер патента: US11987878B2. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Philip S. H. Chen. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Organic film vapor deposition method and a scintillator panel

Номер патента: US20020192372A1. Автор: Toshio Takabayashi,Hiroto Sato,Takuya Homme. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2002-12-19.

Method of chemical vapor deposition of metal films

Номер патента: EP1021589A1. Автор: Chantal Arena,Joseph T. Hillman,Emmanuel Guidotti,Ronald T. Bertram. Владелец: Tokyo Electron Arizona Inc. Дата публикации: 2000-07-26.

Vapor deposition systems and methods, and nanomaterials formed by vapor deposition

Номер патента: WO2023122250A3. Автор: Liangbing Hu,Xizheng Wang. Владелец: University of Maryland, College Park. Дата публикации: 2023-08-17.

Method for producing a graphene film

Номер патента: US20180362393A1. Автор: Xinyuan Liu,Zhen Song,Fuqiang Huang,Tongping XIU,Hui Bi,Yufeng Tang. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2018-12-20.

Vapor deposition method for coating a spectacle lens, physical vapor deposition system and crucible for physical vapor deposition

Номер патента: WO2022184585A1. Автор: Artur Laukart. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2022-09-09.

Method for vaporizing and reforming liquid fuels

Номер патента: CA2624762A1. Автор: Thomas Aicher,Lothar Griesser. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-04-19.

A chemical vapor deposition chamber article

Номер патента: WO2020242292A8. Автор: Marcus Gerardus Van Munster,Guiming SONG. Владелец: Schunk Xycarb Technology B.V.. Дата публикации: 2021-01-28.

Method For Vaporizing Lactic Acid, Apparatus For Vaporizing Lactic Acid, And Method For Preparing Acrylic Acid From Lactic Acid

Номер патента: US20230382842A1. Автор: Jiyoung LEE,Daeho Hong,Inho Choi,Hoiin Jeong,Yong O Im. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Methods of depositing aluminum nitride templating layers using thermal pulsed chemical vapor deposition for the enhancement of aluminum nitride thick films and related films

Номер патента: US20240052493A1. Автор: Andrew Kummel,Aaron McLeod,Scott UEDA. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2024-02-15.

Method for manufacturing optical member having water-repellent thin film

Номер патента: EP1255129A3. Автор: Shigetoshi Kono. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2004-04-14.

Methods for processing a semiconductor substrate

Номер патента: US20240222097A1. Автор: Yu-Hsiang Cheng,Bo-Lin WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Vacuum vapor-deposition apparatus

Номер патента: US20090314212A1. Автор: Chung-Pei Wang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2009-12-24.

Synthesis of advanced scintillators via vapor deposition techniques

Номер патента: US20100200757A1. Автор: Vinod K. Sarin,Stephen Gibson Topping. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-08-12.

Apparatus for gas injection in a physical vapor deposition chamber

Номер патента: US20140261177A1. Автор: Alan A. Ritchie,Keith A. Miller,Muhammad Rasheed,Kirankumar Savandaiah,Isaac Porras. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Thin film batteries and methods for manufacturing same

Номер патента: EP2291876A2. Автор: Michael Stowell,Nety Krishna,Byung Sung Kwak. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-03-09.

Preparation method for polytetrafluoroethylene composition, polytetrafluoroethylene composition, forming product, conductive pipe, heat conduction film, and substrate ccl

Номер патента: EP3892681A1. Автор: Taku Yamanaka,Shuji Tagashira,Katsusada Tokuhira,Haijun Yang,Zhengmao Quan. Владелец: Daikin Fluorochemicals China Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-13.

Preparation method for polytetrafluoroethylene composition, polytetrafluoroethylene composition, forming product, conductive pipe, heat conduction film, and substrate ccl

Номер патента: US20210332228A1. Автор: Taku Yamanaka,Shuji Tagashira,Katsusada Tokuhira,Haijun Yang,Zhengmao Quan. Владелец: Daikin Fluorochemicals China Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Vapor deposition crucible

Номер патента: US20060013949A1. Автор: Makoto Adachi,Takeshi Mitsuishi,Takeshi Imizu,Ken-Ichi Shinde. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-01-19.

Set comprising a physical vapor deposition machine and an obstruction device, method for coating and obstruction device

Номер патента: WO2023247173A1. Автор: Francis Henky,Mark Mildebrath. Владелец: Essilor International. Дата публикации: 2023-12-28.

Methods and apparatus for physical vapor deposition (pvd) dielectric deposition

Номер патента: US20210050195A1. Автор: Jothilingam RAMALINGAM,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-02-18.

Processing system and method for chemical vapor deposition

Номер патента: EP1100980A2. Автор: Joseph T. Hillman. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2001-05-23.

Base substrate for group iii-v compound crystals and production method for same

Номер патента: US20230250552A1. Автор: Yoshihiro Kubota,Kazutoshi Nagata. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Process and aparatus for atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2009073292A1. Автор: Robert P. Haley,Mark G.C. Vreys,Christina A. Rhoton,Alphonsus J.P. De Rijcke. Владелец: Dow Global Technologies Inc.. Дата публикации: 2009-06-11.

Vapor deposition of dissimilar materials

Номер патента: US20060105195A1. Автор: Monika Kinstler,David Rutz,Robert Memmen,Igor Belousov,Igor Malashenko,Gregory Serhiyenko,Anatoli Shelkovoi,Evgeniy Shelkovoy. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-05-18.

Electron beam physical vapor deposition apparatus

Номер патента: EP1121475A1. Автор: Robert William Bruce,David John Wortman,Rudolfo Viguie,David Vincent Rigney,Antonio Frank Maricocchi,William Seth Willen,John Douglas Evans, Sr.. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-08-08.

Variable-temperature vapor deposition process

Номер патента: WO2024138229A1. Автор: . Владелец: Great Lakes Crystal Technologies, Inc.. Дата публикации: 2024-06-27.

Laminate and production method therefor

Номер патента: US12116466B2. Автор: Katsuyoshi Takeshita,Tomohiro Ito,Tomonori Miyamoto,Masayoshi Tokuda,Hideyuki WAKIYASU. Владелец: Nikon Essilor Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Magnetically enhanced high density plasma-chemical vapor deposition plasma source for depositing diamond and diamond-like films

Номер патента: US09951414B2. Автор: Roman Chistyakov,Bassam Hanna Abraham. Владелец: IonQuest Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Methods of vapor deposition with multiple vapor sources

Номер патента: US09873942B2. Автор: Mohith Verghese,Eric Shero,Jan Willem Maes,Christophe Pomarede,Chang-gong Wang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-01-23.

Vapor deposition method and method for producing an organic electroluminescence display device

Номер патента: US09741932B2. Автор: Satoshi Inoue,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Vapor deposition methods to form group 8-containing films

Номер патента: US09738971B2. Автор: Satoko GATINEAU,Grigory Nikiforov. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-08-22.

Method for manufacturing negative electrode active material for non-aqueous electrolyte secondary battery

Номер патента: US09537142B2. Автор: Tetsuo Nakanishi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material

Номер патента: US11492703B2. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Katja Väyrynen,Timo Hatanpää,Anton Vihervaara. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-11-08.

Deposition systems and processes for transport polymerization and chemical vapor deposition

Номер патента: US6086679A. Автор: HUI Wang,Chung J. Lee,Giovanni Antonio Foggiato. Владелец: Quester Technology Inc. Дата публикации: 2000-07-11.

Precursor compound for atomic layer deposition(ald), chemical vapor deposition(cvd) and ald/cvd deposition using the same

Номер патента: KR20210093011A. Автор: 박정우,석장현,문기영,염규현,이현경. Владелец: 주식회사 한솔케미칼. Дата публикации: 2021-07-27.

Methods for atomic layer deposition of hafnium-containing high-K dielectric materials

Номер патента: US8282992B2. Автор: Pravin Narwankar,Shreyas Kher,Nyi Oo Myo,Steve Poppe,Craig R. Metzner,Paul Deaten,Kenric Cho. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-10-09.

Method for ethylene epoxydation

Номер патента: RU2263670C2. Автор: Уэйн Эррол ЭВАНС,Питер Ингрэхэм ЧИПМЭН. Владелец: Шелл Интернэшнл Рисерч Маатсхаппий Б.В.. Дата публикации: 2005-11-10.

Vapor-deposited film

Номер патента: CA2453596A1. Автор: Noboru Sasaki,Hiroshi Suzuki,Takayuki Nakajima,Takeshi Kanetaka,Miki Oohashi,Ryoji Ishii. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-06.

Method for grading the band gaps of amorphous alloys and devices

Номер патента: CA1192819A. Автор: Stanford R. Ovshinsky,David Adler. Владелец: Energy Conversion Devices Inc. Дата публикации: 1985-09-03.

Method for producing articles by chemical vapor deposition and the articles produced therefrom

Номер патента: CA2068152A1. Автор: Thomas R. Anthony,Robert H. Ettinger,Charles D. Iacovangelo,William L. Mowrey,Sidney P. Young,David W. Woodruff. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1992-12-13.

Method for depositing a thin layer on a substrate by laser pulse vapor deposition

Номер патента: US5578350A. Автор: Klaus Schubert,Hermann Mai,Reiner Dietsch. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 1996-11-26.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US5803974A. Автор: Tadahiro Ohmi,Nobumasa Suzuki,Nobuo Mikoshiba,Kazuo Tsubouchi,Kazuya Masu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-09-08.

Highly hard thin film and method for production thereof

Номер патента: US5648174A. Автор: Tsuyoshi Masumoto,Akihisa Inoue,Hiroshi Yamagata,Junichi Nagahora. Владелец: Yoshida Kogyo KK. Дата публикации: 1997-07-15.

Reductive elimination chemical vapor deposition processes utilizing organometallic precursor compounds in semiconductor wafer processing

Номер патента: US5384289A. Автор: Donald L. Westmoreland. Владелец: Micron Semiconductor Inc. Дата публикации: 1995-01-24.

Method for depositing fine-grained alumina coatings on cutting tools

Номер патента: US6139921A. Автор: Ingolf Endler,Mats Sjöstrand,Björn Ljungberg,Albrecht Leonhardt,Christine Taschner. Владелец: Sandvik Ab. Дата публикации: 2000-10-31.

Process and apparatus for supplying zinc vapor continuously to a chemical vapor deposition process from a continuous supply of solid zinc

Номер патента: US5383969A. Автор: Michael A. Pickering,Jeffery L. Kirsch,James C. Macdonald,Alexander Teverovsky. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1995-01-24.

Atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4834020A. Автор: Lawrence D. Bartholomew,Nicholas M. Gralenski,Michael A. Richie,Michael L. Hersh. Владелец: Watkins Johnson Co. Дата публикации: 1989-05-30.

Vapor deposition of thin films comprising gold

Номер патента: US10145009B2. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Timo Hatanpää,Maarit Mäkelä. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-12-04.

Method for making a diamond/carbon/carbon composite useful as an integral dielectric heat sink

Номер патента: US5389400A. Автор: Max L. Lake,Jyh-Ming Ting. Владелец: Applied Sciences Inc. Дата публикации: 1995-02-14.

Method to prevent backside growth on substrates in a vapor deposition system

Номер патента: CA2023278C. Автор: Jitendra S. Goela,Raymond L. Taylor,Roy D. Jaworski. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1993-08-31.

Zn-Mg alloy vapor deposition plated metals of high corrosion resistance, as well as method of producing them

Номер патента: US5002837A. Автор: Hiroshi Satoh,Masao Toyama,Shingo Nomura,Hirohiko Sakai,Shoji Miyake,Koki Ikeda,Kazutoshi Shimogori,Hidetoshi Shimoto,Junji Kawahuku. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 1991-03-26.

Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material

Номер патента: US11952658B2. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Katja Väyrynen,Timo Hatanpää. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-09.

Chemical vapor deposition apparatus and method for forming parylene film

Номер патента: US20110151121A1. Автор: Chun-Hao Chang,Chuan-Sheng Zhuang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2011-06-23.

Methods for controlling physical vapor deposition metal film adhesion to substrates and surfaces

Номер патента: AU2019217883B2. Автор: Akhil Srinivasan,Yifei Wang. Владелец: Medtronic Minimed Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Chemical vapor deposition system and method

Номер патента: WO2006116776A3. Автор: Eunsung Park,Kevin Casey,Catherine E Talor. Владелец: Catherine E Talor. Дата публикации: 2007-05-03.

Silicon compounds and methods for depositing films using same

Номер патента: EP4325548A2. Автор: XINJIAN LEI,Manchao Xiao,Daniel P. Spence,William Robert Entley,Jennifer Lynn Anne Achtyl,Robert Gordon Ridgeway,Raymond Nicholas VIRTIS. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-02-21.

Method for the co-evaporation and deposition of materials with differing vapor pressures

Номер патента: US20170356080A1. Автор: Derek D. Hass. Владелец: Directed Vapor Technologies International Inc. Дата публикации: 2017-12-14.

Vapor deposition equipment including a selenization process for fabricating cigs film

Номер патента: US20160293789A1. Автор: Wen-Chueh Pan,Jen-Chieh Li,Chui-Yu Chiu,Tsang-Ming Hsu,Shih-Shan Wei,Tsan-Tung Chen. Владелец: National Chung Shan Institute of Science and Technology NCSIST. Дата публикации: 2016-10-06.

Chemical-vapor-deposition silicon carbide bulk having improved etching characteristic

Номер патента: US11859309B2. Автор: Kang Suk Kim,Young Ju Kim,Hak Jun AHN,Youn Woong JUNG,Jun Baek SONG,Won Geun SON. Владелец: DS TECHNO Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Aerosol assisted chemical vapor deposition methods useful for making dye-sensitized solar cells with platinum dialkyldithiocarbamate complexes

Номер патента: US11742151B2. Автор: Muhammad Ali Ehsan,Abdul REHMAN,Abbas Saeed Hakeem. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2023-08-29.

Method and chamber for backside physical vapor deposition

Номер патента: US20230335393A1. Автор: Yong Cao,Kevin Vincent Moraes,Shane Lavan,Jothilingam RAMALINGAM,Chunming Zhou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Masking substrates for application of protective coatings

Номер патента: US20150092370A1. Автор: David James Astle,Tyler Christensen Child,Vimal Kumar Kasagani,Cameron LaMar Loose,Blake LeRoy Stevens,Max Ernest Sorenson. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2015-04-02.

Silicon Compounds and Methods for Depositing Films Using Same

Номер патента: US20190385840A1. Автор: XINJIAN LEI,William Robert Entley,Jennifer Lynn Anne Achtyl,Robert G. Ridgeway,Raymond N. Vrtis. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2019-12-19.

Methods for forming protective coatings containing crystallized aluminum oxide

Номер патента: EP4025722A1. Автор: Pravin K. Narwankar,Yuriy Melnik,Kenichi Ohno,Sukti Chatterjee,Thomas Knisley,Lance A Scudder,David Alexander Britz,Eric H. Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-07-13.

Methods for forming protective coatings containing crystallized aluminum oxide

Номер патента: US20210071299A1. Автор: Pravin K. Narwankar,Yuriy Melnik,Kenichi Ohno,Lance A. Scudder,Sukti Chatterjee,Thomas Knisley,David Alexander Britz,Eric H. Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-03-11.

Apparatus for in situ deposition of multilayer structures via atomic layer deposition and ultra-high vacuum physical or chemical vapor deposition

Номер патента: US20160040288A1. Автор: Rongtao Lu,Judy Z. Wu,Allen Hase,Alan Elliot. Владелец: University of Kansas. Дата публикации: 2016-02-11.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11854775B2. Автор: Timothy A. Grotjohn,Jes Asmussen. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-12-26.

Conductive flakes manufactured by combined sputtering and vapor deposition

Номер патента: US7754106B2. Автор: Angelo Yializis,Michael G. Mikhael. Владелец: Sigma Labs Inc. Дата публикации: 2010-07-13.

Techniques for Marking a Substrate using a Physical Vapor Deposition Material

Номер патента: US20180072021A1. Автор: Stephen Paul Zadesky,Douglas Weber,Christopher Prest,David Pakula. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2018-03-15.

System for cadmium telluride (cdte) reclamation in a vapor deposition caonveyor assembly

Номер патента: MY154653A. Автор: Reed Max William,Pavol Mark Jeffrey,Rathweg Christopher. Владелец: Primestar Solar Inc. Дата публикации: 2015-07-15.

Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material

Номер патента: US11814715B2. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Katja Väyrynen,Timo Hatanpää,Anton Vihervaara. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-11-14.

Silicon compounds and methods for depositing films using same

Номер патента: EP4325548A3. Автор: XINJIAN LEI,Manchao Xiao,Daniel P. Spence,William Robert Entley,Jennifer Lynn Anne Achtyl,Robert Gordon Ridgeway,Raymond Nicholas VIRTIS. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-04-10.

Apparatus and method for chemical vapor deposition control

Номер патента: EP2580368A1. Автор: Eric J. Strang,Jacques Faguet,Eric M. Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-04-17.

Method for preparing an optical ZnS material from zinc and sulfur raw material sources by using a feeding device to replenish the sulfur raw material source

Номер патента: US11746438B2. Автор: Xu Zhang,Xun Qian,Cunxin Huang,Hongtao Xiao,Kehong Zhang. Владелец: Sinoma Synthetic Crystals Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Physical vapor deposition with impedance matching network

Номер патента: EP2398930A1. Автор: Youming Li,Jeffrey Birkmeyer,Takamichi Fujii,Takayuki Naono,Yoshikazu Hishinuma. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-12-28.

Physical vapor deposition with impedance matching network

Номер патента: WO2010096533A1. Автор: Youming Li,Jeffrey Birkmeyer,Takamichi Fujii,Takayuki Naono,Yoshikazu Hishinuma. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2010-08-26.

Selective deposition of metal oxide by pulsed chemical vapor deposition

Номер патента: US20210317573A1. Автор: Srinivas D. Nemani,James Huang,Keith Tatseun WONG,Andrew C. Kummel,Yunil CHO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-10-14.

Selective deposition of metal oxide by pulsed chemical vapor deposition

Номер патента: US20230122224A1. Автор: Srinivas D. Nemani,James Huang,Keith Tatseun WONG,Andrew C. Kummel,Yunil CHO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-04-20.

Selective deposition of metal oxide by pulsed chemical vapor deposition

Номер патента: WO2021206792A1. Автор: Srinivas D. Nemani,James Huang,Keith Tatseun WONG,Andrew C. Kummel,Yunil CHO. Владелец: The Regents of the University of California. Дата публикации: 2021-10-14.

Carbon hard masks for patterning applications and methods related thereto

Номер патента: US11784042B2. Автор: Yang Yang,Abhijit Basu Mallick,Pramit MANNA,Kartik Ramaswamy,Eswaranand VENKATASUBRAMANIAN,Takehito KOSHIZAWA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Metal organic chemical vapor deposition apparatus for solar cell

Номер патента: US20160225933A1. Автор: Heonmin Lee,Dongjoo YOU,Wonki Yoon. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2016-08-04.

Method for the production of electrical resistor bodies,and electrical resistor bodies produced in accordance with said method

Номер патента: US3679471A. Автор: Hugo Wyss. Владелец: Individual. Дата публикации: 1972-07-25.

Methods for depositing polymer layer for sensor applications via hot wire chemical vapor deposition

Номер патента: EP3551780A1. Автор: Pravin K. Narwankar,Yuriy Melnik,Colin NEIKIRK. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-16.

Organometallic compound, precursor composition comprising same, and method for manufacturing thin film using same

Номер патента: US20230257406A1. Автор: Min-Sung Park,Jang-Hyeon Seok,Hyo-Suk Kim,Min-Hyuk Nim,Jung-Woo Park. Владелец: Hansol Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

A method for depositing a transition metal dichalcogenide

Номер патента: EP4353863A1. Автор: Benjamin Groven,Vladislav VORONENKOV,Dries VRANCKX. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2024-04-17.

Trim component having textured surface supporting pvd-deposited metal-inclusive coating, and/or method of making the same

Номер патента: US20190111860A1. Автор: Xuequn Hu,Jerry Lawrence LOGSDON. Владелец: SRG Global LLC. Дата публикации: 2019-04-18.

Apparatus and methods for depositing material within a through via

Номер патента: US20240167147A1. Автор: Harish Penmethsa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

System and methods for depositing material on a substrate

Номер патента: US20240170269A1. Автор: Harish Penmethsa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Evaporation source for use in vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230357919A1. Автор: Hironori Wakamatsu,Toshimitsu Nakamura,Fumitsugu Yanagihori,Masashi UMEHARA. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Vapor deposition of molybdenum using a bis(alkyl-arene) molybdenum precursor

Номер патента: EP3740600A1. Автор: Thomas H. Baum,Shuang Meng,Bryan C. Hendrix,Philip S.H. Chen,JR. Robert WRIGHT. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2020-11-25.

System and methods for depositing material on a substrate

Номер патента: WO2024107257A1. Автор: Harish V. PENMETHSA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-23.

Methods for thin film deposition

Номер патента: US20170032956A1. Автор: Antti Niskanen,Yukihiro Mori,Suvi Haukka,Eva Tois,Hidemi Suemori,Jun Kawahara,Raija Matero,Jaako Anttila. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-02-02.

Method and apparatus for asymmetric selective physical vapor deposition

Номер патента: US20190276926A1. Автор: Joung Joo Lee,Keith Miller,Sudarsan Srinivasan,Xianmin Tang,Bencherki Mebarki,Sree Rangasai KESAPRAGADA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-09-12.

Method for manufacturing metallized film

Номер патента: US20180223422A1. Автор: Hiroshi Adachi,Masaki Shiba,Shinsuke Itoi,Yukinori Takamoto. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-09.

Selective deposition of metal oxide by pulsed chemical vapor deposition

Номер патента: US11993842B2. Автор: Srinivas D. Nemani,James Huang,Keith Tatseun WONG,Andrew C. Kummel,Yunil CHO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-28.

Apparatus and methods for depositing material within a through via

Номер патента: WO2024107259A1. Автор: Harish V. PENMETHSA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-23.

Enhancing performance stability of electroactive polymers by vapor-deposited organic networks

Номер патента: US20190055371A1. Автор: T. Alan Hatton,Karen K. Gleason,Andong Liu,Xianwen Mao. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2019-02-21.

Methods for depositing polymer layer for sensor applications via hot wire chemical vapor deposition

Номер патента: WO2018106886A1. Автор: Pravin K. Narwankar,Yuriy Melnik,Colin NEIKIRK. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-06-14.

Thin metal coating methods for high conductivity graphane-metal composites and methods of manufacture

Номер патента: US20180100233A1. Автор: James J. Farquhar,Choon Ming SEAH. Владелец: Fourte' International Sdn Bhd. Дата публикации: 2018-04-12.

Multifunctional product in the form of electrically conductive and/or electrically and/or magnetically polarizable and/or thermally conductive paste or ink or glue, method for the production thereof and use of said product

Номер патента: WO2020250165A1. Автор: Vittorio Pellegrini,Francesco Bonaccorso,Sebastiano Bellani,Leyla Najafi,Reinier OROPESA-NUÑEZ,Andrea GAMUCCI. Владелец: Bedimensional S.P.A.. Дата публикации: 2020-12-17.

Oven for curing a powder coated product, a powder coating system and method for curing a powder coated product

Номер патента: NL2034080B1. Автор: Gerrit Hannessen Pieter. Владелец: Qimarox Patenten B V. Дата публикации: 2024-08-23.

Metal-based membranes for vapor intrusion mitigation

Номер патента: US20180327623A1. Автор: Hieu Nguyen,Scott B. Wilson,Kristen A. THORESON. Владелец: Regenesis Bioremediation Products Inc. Дата публикации: 2018-11-15.

Substrate for electronic device and production method therefor

Номер патента: EP4442870A1. Автор: Hiroji Aga,Toru Ishizuka,Kosei Sugawara,Kazunori Hagimoto,Ippei Kubono. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Production system for vapor-grown carbon nanofibers

Номер патента: US09738525B2. Автор: Chun-Shan Wang,Teng-Hui WANG. Владелец: Yonyu Applied Technology Material Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Colourless monocrystalline diamond and method for production thereof

Номер патента: RU2473720C2. Автор: Стивен Дейвид УИЛЛЬЯМС,Даниел Джеймс ТУИТЧЕН,Филип Морис МАРТИНОУ,Джеффри Алан СКАРСБРУК,Айан ФРИЛ. Владелец: Элемент Сикс Лимитед. Дата публикации: 2013-01-27.

Chemical vapor deposition method of silicon dioxide film

Номер патента: US5360646A. Автор: Katsumi Morita. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1994-11-01.

Method for chemical infiltration or vapor deposition

Номер патента: RU2738718C2. Автор: Стефан ГУЖАР,Адриен ДЕЛЬКАМ,Седрик ДЕСКАМ. Владелец: Сафран Серамикс. Дата публикации: 2020-12-15.

Method for manufacturing polycrystalline silicone in the form of large-area plates and chamber for silicone deposition

Номер патента: RU2158324C1. Автор: В.В. Добровенский,Ю.А. Канатаев,М.К. Юлин. Владелец: Закрытое акционерное общество "Панджшер-Холдинг". Дата публикации: 2000-10-27.

Method for producing metal mask for screen printing

Номер патента: US20090032507A1. Автор: Shozo Ishibashi,Keiji Mase. Владелец: Fuji Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2009-02-05.

Method for fabricating a magnetic thin-film head

Номер патента: US5695656A. Автор: Deok-yeong Park,Kuk-hyun Sunwoo. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 1997-12-09.

Organic optoelectronic device and method for manufacturing the same

Номер патента: US20180277788A1. Автор: Sheng-Yang Huang,Feng-wen Yen,Cheng-Hao Chang,Ching-Yan Chao. Владелец: Luminescence Technology Corp. Дата публикации: 2018-09-27.

Photolithographic arrangement for use in semiconductor industry, has metal mask with transparent mask carrier and adjusted to transmit modulated radiation by surface plasmon through metal mask

Номер патента: DE102005001671A1. Автор: Reinhard Dr. März. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2006-07-27.

Photoresist pattern formation through etching where the imaging exposure changes in a given direction in the desired pattern and inclined vapor deposition is utilized to deposit a film

Номер патента: US5366849A. Автор: Yoshikazu Nakagawa,Masayuki Sonobe. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 1994-11-22.

Method for manufacturing of metal mask

Номер патента: KR100901327B1. Автор: 공석일. Владелец: 주식회사 티이피. Дата публикации: 2009-06-09.

Heater for vaporizer device with air preheating element and method for producing the same

Номер патента: EP4221521A1. Автор: Richard C. Fuisz,Joseph M. Fuisz,Anatolii GORDOVSKYI,Yurii LYPSKYI. Владелец: Fuisz Hnb Technologies LLC. Дата публикации: 2023-08-09.

Systems for vaporizing that include marinized vaporizer units, and methods for making and using such systems

Номер патента: US20190353304A1. Автор: David Franklin. Владелец: Atlantic, Gulf & Pacific Company Of Manila, Inc.. Дата публикации: 2019-11-21.

Manufacturing method for exposure mask, generating method for mask substrate information, mask substrate, exposure mask, manufacturing method for semiconductor device and server

Номер патента: US20050244726A1. Автор: Masamitsu Itoh. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2005-11-03.

Heater for vaporizer device with air preheating element and method for producing the same

Номер патента: US20210212382A1. Автор: Richard Fuisz,Joseph Fuisz,Anatolii GORDOVSKYI,Yurii LYPSKYI. Владелец: Fuisz Hnb Technologies LLC. Дата публикации: 2021-07-15.

Heater for vaporizer device with air preheating element and method for producing the same

Номер патента: EP4087418A1. Автор: Richard C. Fuisz,Joseph M. Fuisz,Anatolii GORDOVSKYI,Yurii LYPSKYI. Владелец: Fuisz Hnb Technologies LLC. Дата публикации: 2022-11-16.

Heater for vaporizer device with air preheating element and method for producing the same

Номер патента: US20230363453A1. Автор: Richard C. Fuisz,Joseph M. Fuisz,Anatolii GORDOVSKYI,Yurii LYPSKYI. Владелец: Fuisz Hnb Technologies LLC. Дата публикации: 2023-11-16.

Heater for vaporizer device with air preheating element and method for producing the same

Номер патента: WO2021142195A1. Автор: Richard C. Fuisz,Joseph M. Fuisz,Anatolii GORDOVSKYI,Yurii LYPSKYI. Владелец: Fuisz Hnb Technologies LLC. Дата публикации: 2021-07-15.

VAPOR DEPOSITION APPARATUS, METHOD OF FORMING THIN FILM BY USING VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY APPARATUS

Номер патента: US20140113395A1. Автор: Kim Jae-Hyun,JUNG Suk-Won,Huh Myung-Soo,Kim Jin-Kwang,Key Sung-Hun,KIM In-Kyo,Shim Chang-Woo,JANG Cheol-Min. Владелец: . Дата публикации: 2014-04-24.

Willowherbs beverage production method with high content of gamma-aminobutyric acid

Номер патента: RU2706553C1. Автор: Игорь Васильевич Лисиненко,Ирина Николаевна Лисиненко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "МАЙ". Дата публикации: 2019-11-19.

Method for producing agent for treatment of nonscarring alopecia

Номер патента: RU2583552C1. Автор: Ольга Юрьевна Олисова,Ксения Геннадьевна Егорова,Алигейдар Агаалекпер оглы Рагимов,Станислав Генрихович Лощ. Владелец: Ксения Геннадьевна Егорова. Дата публикации: 2016-05-10.

HEATER FOR VAPORIZER DEVICE WITH AIR PREHEATING ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

Номер патента: US20210212382A1. Автор: Gordovskyi Anatolii,Fuisz Joseph,FUISZ Richard,LYPSKYI Yurii. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-15.

Heater for vaporizer device with air preheating element and method for producing the same

Номер патента: EP4087418A4. Автор: Richard C. Fuisz,Joseph M. Fuisz,Anatolii GORDOVSKYI,Yurii LYPSKYI. Владелец: Fuisz Hnb Technologies LLC. Дата публикации: 2024-05-01.

Mask for forming non-vapor deposition part of electrophotographic sensitive body

Номер патента: JPH01111860A. Автор: Hitoshi Kono,等 河野,Masanao Murata,正直 村田,Akiya Morita,日也 森田. Владелец: Shinko Electric Co Ltd. Дата публикации: 1989-04-28.

Method for coring and slicing a cvd diamond product and apparatus for carrying it out

Номер патента: US20230218052A1. Автор: Bernold Richerzhagen,Jérémie Diboine,Jérôme Genton,Amédée Zryd. Владелец: SYNOVA SA. Дата публикации: 2023-07-13.

Method for coring and slicing a cvd diamond product and apparatus for carrying it out

Номер патента: WO2021254955A1. Автор: Bernold Richerzhagen,Jérémie Diboine,Jérôme Genton,Amédée Zryd. Владелец: Synova S.A.. Дата публикации: 2021-12-23.

Method for coring and slicing a cvd diamond product and apparatus for carrying it out

Номер патента: CA3179581A1. Автор: Bernold Richerzhagen,Jérémie Diboine,Jérôme Genton,Amédée Zryd. Владелец: SYNOVA SA. Дата публикации: 2021-12-23.

Heating assembly, aerosol-generating device and a method for heating an aerosol-forming substrate

Номер патента: EP3542591A1. Автор: Jacques Robert,Michel BESSANT,Jean-Yves VOLLMER. Владелец: PHILIP MORRIS PRODUCTS SA. Дата публикации: 2019-09-25.

Heating assembly, aerosol-generating device and a method for heating an aerosol-forming substrate

Номер патента: US20190269174A1. Автор: Jacques Robert,Michel BESSANT,Jean-Yves VOLLMER. Владелец: PHILIP MORRIS PRODUCTS SA. Дата публикации: 2019-09-05.

ICE, REFRIGERANT, ICE PRODUCTION METHOD, METHOD FOR PRODUCING COOLED ARTICLE, METHOD FOR PRODUCING REFRIGERATED ARTICLE OF PLANT/ANIMAL OR PORTION THEREOF, REFRIGERATING MATERIAL FOR PLANT/ANIMAL OR PORTION THEREOF, METHOD FOR PRODUCING FROZEN FRESH PLANT/ANIMAL OR PORTION THEREOF, DEFROSTED ARTICLE OR PROCESSED ARTICLE THEREOF, AND FREEZING MATERIAL FOR FRESH PLANT/ANIMAL OR PORTION THEREOF

Номер патента: US20180325133A1. Автор: HIROKANE Yoshio,IZUTSU Tadao,AKIYAMA Tomoaki. Владелец: . Дата публикации: 2018-11-15.

ICE,REFRIGERANT, ICE PRODUCTION METHOD,METHOD FOR PRODUCING COOLED ARTICLE,METHOD FOR PRODUCING REFRIGERATED ARTICLE OF PLANT/ANIMAL ORP ORTION THEREOF,REFRIGERATING MATERIAL FOR PLANT/ANIMAL ORP ORTION THEREOF,METHOD FOR PRODUCING FROZEN FRESH PLANT/ANIMAL OR PORTION THEREOF,DEFROSTED ARTICLE ORP ROCESSED ARTICLE THEREOF,A NDF REEZING MATERIAL FORF RESH PLANT/ANlMAL ORP ORTION THEREOF

Номер патента: KR102176437B1. Автор: 요시오 히로카네,타다오 이즈츠. Владелец: 블랑테크 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-11-09.

Steel pipe roundness prediction method, steel pipe roundness control method, steel pipe production method, method for generating steel pipe roundness prediction model, and steel pipe roundness prediction device

Номер патента: EP4151330A4. Автор: Yukio Takashima,Masayuki Horie,Kosuke Hinata. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2023-11-08.

Method for determining building regulations for an additive production method, method for creating a database with corrective measures for the management of an additives production process and a computer program product

Номер патента: EP3671489A1. Автор: Frank Heinrichsdorff,Daniel Reznik,Katharina Eissing,Darya KASTSIAN. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2020-06-24.

Electrode production method, method for producing electricity storage device, and electrode production apparatus

Номер патента: EP3890064A4. Автор: Kazunari AITA,Kenji Nansaka,Shinya Otani,Shintarou AONO,Kouichi FUKUNAGA. Владелец: Musashi Energy Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-10.

Electrode production method, method for producing electricity storage device, and electrode production apparatus

Номер патента: WO2020110433A1. Автор: 相田　一成,慎也 大谷,健二 南坂,福永　浩一,慎太郎 青野. Владелец: Ｊｍエナジー株式会社. Дата публикации: 2020-06-04.

Substrate for mask blank, substrate with multilayer reflective film, transmissive mask blank, reflective mask blank, transmissive mask, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR20140095462A. Автор: 도시히꼬 오리하라,가즈히로 하마모또,히로후미 고자까이,준이찌 호리까와,요우이찌 우수이,즈또무 쇼끼. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-08-01.

Apparatus for manufacturing directly silicon substrate for solar cell using continuous casting, method of manufacturing silicon substrate using the apparatus and silicon substrate manufactured the method for solar cell

Номер патента: KR101080757B1. Автор: 이재우,김동국,유권종,장보윤,김준수,안영수,윤우영. Владелец: 한국에너지기술연구원. Дата публикации: 2011-11-07.

Substrate for mask blank, substrate with multilayer reflective film, transmissive mask blank, reflective mask blank, transmissive mask, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR101640333B1. Автор: 도시히꼬 오리하라,가즈히로 하마모또,히로후미 고자까이,준이찌 호리까와,요우이찌 우수이,즈또무 쇼끼. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2016-07-15.

Mask for partition exposure, patterning method using the same, and method for manufacturing liquid crystal display using the same

Номер патента: KR101274690B1. Автор: 최선영,원대현. Владелец: 엘지디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2013-06-12.

Phase-shift mask blank for display device manufacture, phase-shift mask for display device manufacture and its manufacturing method, and method for manufacturing display device

Номер патента: KR101935171B1. Автор: 세이지 즈보이,마사오 우시다,유따까 요시까와. Владелец: 호야 일렉트로닉스 말레이지아 센드리안 베르하드. Дата публикации: 2019-01-03.

Metal stencil mask for fine pattern printing with stencil protection bridge and method for manufacturing the same

Номер патента: KR20220056359A. Автор: 정성일,김판겸,하태규. Владелец: 한국전기연구원. Дата публикации: 2022-05-06.

Mask for the selective growth of a solid, a manufacturing method for the mask, and a method for selectively growing a solid using the mask

Номер патента: US6596186B2. Автор: Kazunobu Tanaka,Satoshi Yamasaki,Doo-Sup Hwang,Tetsuji Yasuda,Kazuyuki Ikuta. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-07-22.

Phase-shift mask blank for display device manufacture, phase-shift mask for display device manufacture and its manufacturing method, and method for manufacturing display device

Номер патента: TWI655670B. Автор: 牛田正男,吉川裕,坪井誠治. Владелец: 馬來西亞商Hoya電子馬來西亞私人股份有限公司. Дата публикации: 2019-04-01.

Phase-shift mask blank for display device manufacture, phase-shift mask for display device manufacture and its manufacturing method, and method for manufacturing display device

Номер патента: TWI591422B. Автор: 牛田正男,吉川裕,坪井誠治. Владелец: Ｈｏｙａ電子馬來西亞私人股份有限公司. Дата публикации: 2017-07-11.

Vacuum hold-down system, vacuum table mask for use with a vacuum hold-down table, and method for providing vacuum hold-down

Номер патента: TWI509730B. Автор: Asher KATZ. Владелец: Orbotech Ltd. Дата публикации: 2015-11-21.

Mask for radiation dosimetry

Номер патента: EP3223905A1. Автор: Emiliano D'Agostino,Luana DE FREITAS NASCIMENTO,Filip VANHAVERE,Clarita SALDARRIAGA VARGAS,Marijke DE SAINT-HUBERT. Владелец: SCK CEN. Дата публикации: 2017-10-04.

Patterning method using metal mask and method of fabricating semiconductor device including the same patterning method

Номер патента: US9607853B2. Автор: Jae-Hong Park,Dong-Chan Kim,Kyung-yub Jeon,Je-woo Han,Gyung-Jin Min. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-28.

Patterning method using metal mask and method of fabricating semiconductor device including the same patterning method

Номер патента: US09607853B2. Автор: Jae-Hong Park,Dong-Chan Kim,Kyung-yub Jeon,Je-woo Han,Gyung-Jin Min. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-28.

Method for preparing self-aligned surface channel field effect transistor and power device

Номер патента: US20200373390A1. Автор: CUI Yu,Yuangang WANG,Zhihong FENG,Xubo Song,Chuangjie Zhou,Zezhao HE,Yuanjie Lv,Shixiong LIANG. Владелец: CETC 13 Research Institute. Дата публикации: 2020-11-26.

Metal mask and screen printing apparatus

Номер патента: US09789682B2. Автор: Takuya Hirose. Владелец: Nissan Motor Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Pixel structure for OLED display and metal mask thereof

Номер патента: US09728588B2. Автор: Yong Qiu,Chaochi PENG,Shenfu Zhang. Владелец: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Control over dislocations and strains in mask-free processes with help of substrate patterning and methods for fabrication of devices

Номер патента: RU2570220C2. Автор: КЕНЕЛЬ Ханс ФОН,Леонида МИЛЬО. Владелец: Пайлгроут Тек С.р.л.. Дата публикации: 2015-12-10.

Base paper for metallized paper and metallized paper

Номер патента: EP4269689A1. Автор: Yasutomo Noishiki,Yuta SHAMOTO,Miyoko Tanaka,Misaki Wakabayashi. Владелец: Oji Holdings Corp. Дата публикации: 2023-11-01.

Electrode formation system for solar cell and electrode formation method for solar cell

Номер патента: GB201214225D0. Автор: . Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2012-09-19.

Method for manufacturing display apparatus, display apparatus, display module, and electronic device

Номер патента: US20230420614A1. Автор: Shunpei Yamazaki,Kenichi Okazaki,Shingo Eguchi,Daiki NAKAMURA,Tomoya Aoyama. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Use of removable metal mask to control induction welding of thermoplastic composite edges

Номер патента: EP4212313A1. Автор: Milan Mitrovic,Michael Van Tooren,Jonathan S. Huang. Владелец: Rohr Inc. Дата публикации: 2023-07-19.

Evaporator device for an inhaler, consumption unit, inhaler, and production method

Номер патента: US12127591B2. Автор: Thomas Mueller,Niklas Romming,Lasse Cornils,Tim Ullner,Jan Jaklin,Gunnar Niebuhr. Владелец: Koerber Technologies GmbH. Дата публикации: 2024-10-29.

Fabrication Method For Microelectronic Components And Microchip Inks Used In Electrostatic Assembly

Номер патента: US20150243528A1. Автор: Eugene M. Chow,Gregory L. Whiting,JengPing Lu,René A. Lujan. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2015-08-27.

A self aligning method for forming a selective emitter and metallization in a solar cell

Номер патента: EP1112597A1. Автор: Martin Andrew Green,Stuart Ross Wenham. Владелец: Unisearch Ltd. Дата публикации: 2001-07-04.

The making method a metal-mask for oled full-color, and the metal-mask make by this method

Номер патента: KR20050091506A. Автор: 김태식,박호영. Владелец: 풍원정밀(주). Дата публикации: 2005-09-15.

Process and machinery for step-and-repeat vacuum-deposition or large-area thin-film-electronics matrix-circuits on monolithic glass panes through small perforated metal masks

Номер патента: CA1298634C. Автор: Djamshid Tizabi,Albert G. Fischer. Владелец: Enichem SpA. Дата публикации: 1992-04-07.

Display device, electro-optical device, electric equipment, metal mask, and pixel array

Номер патента: US20180254306A1. Автор: Yojiro Matsueda. Владелец: Tianma Japan Ltd. Дата публикации: 2018-09-06.

Method for defining submicron features in semiconductor devices

Номер патента: CA1186809A. Автор: Rafael M. Levin. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1985-05-07.

Zinc Oxide-Based Mask For Selective Reactive Ion Etching

Номер патента: US20180294163A1. Автор: Yun Seog Lee,Devendra K Sadana,Joel P De Souza. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-10-11.

Organic electroluminescent device and method for fabricating same

Номер патента: US20010030508A1. Автор: Koji Utsugi,Masashi Tamegai. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2001-10-18.

Zinc oxide-based mask for selective reactive ion etching

Номер патента: US10134601B2. Автор: Yun Seog Lee,Devendra K. Sadana,Joel P. de Souza. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-11-20.

Method for manufacturing piezoelectric element

Номер патента: US20120152889A1. Автор: Yoshiaki Yoshida,Yutaka Kokaze,Masahisa Ueda. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-06-21.

Control method and apparatus for vaporization amount, and vaporization apparatus

Номер патента: EP4197647A1. Автор: Zhonghua Tan,Zhaolin ZUO. Владелец: Shenzhen Moore Vaporization Health and Medical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-21.

Solid Phase Carrier for Vapor Delivery

Номер патента: US20240207177A1. Автор: Michael Baker. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-27.

Manufacturing method for vapor chamber, vapor chamber and middle frame vapor chamber

Номер патента: US12130085B2. Автор: Guang Chen,Xuehua Li,Quanyao Yu,Pingping Liang. Владелец: Dongguan Lingjie Precision Machining Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Display substrate, drive method therefor, display apparatus, and high-precision metal mask template

Номер патента: EP4236654A1. Автор: Lujiang Huangfu,Kuo Sun,Shanshan BAI,Zhenzhen LI. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Display substrate, fine metal mask set and manufacturing method thereof

Номер патента: US20210271010A1. Автор: Lujiang Huangfu,Jianpeng Wu,Fengli JI,Chang Luo. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-02.

Vaporizer for vaporization of liquefied gases and method of vaporizing liquefied gas

Номер патента: WO2021083547A9. Автор: Neil Wilson,David De Nardis. Владелец: Cryostar SAS. Дата публикации: 2021-06-24.

Vaporizer for vaporization of liquefied gases and method of vaporizing liquefied gas

Номер патента: EP4051947A1. Автор: Neil Wilson,David De Nardis. Владелец: Cryostar SAS. Дата публикации: 2022-09-07.

Device for vaporizing a fluid, particularly a fogging fluid or extinguishing fluid

Номер патента: US20050011651A1. Автор: Peter Lell. Владелец: Pyroglobe Gmbh. Дата публикации: 2005-01-20.

Apparatus for Vaporization of Liquid

Номер патента: US20080193112A1. Автор: Greg A. Whyatt,Michael R. Powell. Владелец: Battelle Memorial Institute Inc. Дата публикации: 2008-08-14.

Apparatus for vaporization of liquid

Номер патента: EP2115354A2. Автор: Greg A. Whyatt,Michael R. Powell. Владелец: Battelle Memorial Institute Inc. Дата публикации: 2009-11-11.

Method for vapor-phase analysis of combinations of water-soluble volatile and low-volatility reservoir indicators

Номер патента: RU2720658C1. Автор: Сергей Александрович Нечаев,Людмила Артемовна Онучак,Юрий Иванович Арутюнов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью «КимТэк». Дата публикации: 2020-05-12.

Ir-spectrometric system for vapor-phase monitoring of chemical composition of liquid hydrocarbon mixes in a tank and method of performing spectrometric measurements with its use

Номер патента: RU2700331C1. Автор: Дарья Сергеевна Нехорошева,Валерия Михайловна Куклина,Любовь Степановна Клименко. Владелец: Дарья Сергеевна Нехорошева. Дата публикации: 2019-09-16.

Semiconductor element, method for manufacturing the same, liquid crystal display device, and method for manufacturing the same

Номер патента: US8518728B2. Автор: Yohei Kanno,Gen Fujii. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-27.

Method for manufactunring a multilayer circuit structure having embedded trace layers

Номер патента: US20220201853A1. Автор: Chih-Liang Chu,Yu Cheng Yuan,Christian Mathias Schmid. Владелец: Gebrueder Schmid GmbH and Co. Дата публикации: 2022-06-23.

An apparatus and method for adminstring terpene- enriched vapors

Номер патента: EP3765134A1. Автор: Carmi Raz,Aharon M. Eyal,Noa Raz. Владелец: Buzzelet Development and Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-01-20.

Mask for charged particle beam exposure, and method of forming the same

Номер патента: US20050008946A1. Автор: Kenichi Morimoto,Yoshinori Kinase,Yuki Aritsuka. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2005-01-13.

Vapor dosing platform for vaporization cartridges

Номер патента: AU2019321671A1. Автор: Yisroel Kirsh,Akiva WAGNER,Robert Stephen Walter Bates,Andrew James Weitz,Sidney Primas,Jeroen Arnold Norbert KOOLS,Prasad K. PANCHALAN. Владелец: Vapor Dosing Technologies Inc. Дата публикации: 2021-04-08.

Apparatus for vaporization of liquid

Номер патента: WO2008100836A2. Автор: Greg A. Whyatt,Michael R. Powell. Владелец: BATTELLE MEMORIAL INSTITUTE. Дата публикации: 2008-08-21.

Device for Vaporization of Concentrated Phyto Material Extracts

Номер патента: US20200222642A1. Автор: Michael Alexander Trzecieski. Владелец: Vapium Inc. Дата публикации: 2020-07-16.

Electric sensor for vapors of hydrazine

Номер патента: RU2646419C1. Автор: Александр Васильевич Баранов,Юлия Александровна Громова,Владимир Григорьевич Маслов,Анна Олеговна Орлова,Анатолий Валентинович Фёдоров,Сергей Александрович Черевков,Алексей Юрьевич Дубовик,Екатерина Петровна Колесова,Максим Андреевич Миропольцев,Иван Алексеевич Резник. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО). Дата публикации: 2018-03-05.

Evaporator device for an inhaler, consumption unit, inhaler, and production method

Номер патента: US20220151295A1. Автор: Thomas Mueller,Niklas Romming,Lasse Cornils,Tim Ullner,Jan Jaklin,Gunnar Niebuhr. Владелец: HAUNI MASCHINENBAU GMBH. Дата публикации: 2022-05-19.

Adapter for vaporization attachments

Номер патента: US20240277947A1. Автор: Elie Atalla,Patrick Bissen. Владелец: Kind Distribution LLC. Дата публикации: 2024-08-22.

Cartridges for vaporizer devices

Номер патента: US12109355B2. Автор: Christopher James ROSSER,Simon J. Smith. Владелец: Juul Labs Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Device and method for vaporizing game attractants

Номер патента: US09980478B2. Автор: Daniel Corey Roebuck. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-05-29.

Methods and systems for vapor cooling

Номер патента: US09943111B2. Автор: Gene Fein,John Cameron,Dean Becker. Владелец: Lunatech LLC. Дата публикации: 2018-04-17.

Permeable electric thermal resistor foil for vaporizing fluids from single-use mouthpieces with vaporizer membranes

Номер патента: US09814265B2. Автор: Arno Rinker,Philipp Litzenberger. Владелец: PHILIP MORRIS PRODUCTS SA. Дата публикации: 2017-11-14.

Methods for depositing dielectric films via physical vapor deposition processes

Номер патента: US09633839B2. Автор: Yong Cao,Yana Cheng,Xianmin Tang,Rongjun Wang,Thanh X. Nguyen,Srinivas Guggilla,Weimin Zeng,Daniel Lee Diehl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Method for producing a solar cell with a selective emitter

Номер патента: GB2499192A. Автор: Rob Steeman,Jenny Lam. Владелец: REC CELLS Pte Ltd. Дата публикации: 2013-08-14.

Method for surgical treatment of patients with ronchopathy and obstructive sleep apnea syndrome

Номер патента: RU2760295C1. Автор: Эрик Нариманович Праздников,Михаил Леонидович Стаханов,Владимир Борисович Князьков,Илья Владимирович КНЯЗЬКОВ. Владелец: Владимир Борисович Князьков. Дата публикации: 2021-11-23.

Manufacturing method for vapor chamber, vapor chamber and middle frame vapor chamber

Номер патента: EP4199670A1. Автор: Guang Chen,Xuehua Li,Quanyao Yu,Pingping Liang. Владелец: Dongguan Lingjie Precision Machining Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-21.

Manufacturing method for vapor chamber, vapor chamber and middle frame vapor chamber

Номер патента: US20230366632A1. Автор: Guang Chen,Xuehua Li,Quanyao Yu,Pingping Liang. Владелец: Dongguan Lingjie Precision Machining Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Control method and apparatus for vaporization amount, and vaporization apparatus

Номер патента: US20230182158A1. Автор: Zhonghua Tan,Zhaolin ZUO. Владелец: Shenzhen Moore Vaporization Health and Medical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Microfluidic-based apparatus and method for vaporization of liquids

Номер патента: US20240246007A1. Автор: Carl D. Meinhart,Brian Piorek,Nicholas B. Judy. Владелец: Numerical Design Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Cartridges for vaporizer devices

Номер патента: EP3876763A1. Автор: Andrew J. STRATTON. Владелец: Juul Labs Inc. Дата публикации: 2021-09-15.

Cartridges for Vaporizer Devices

Номер патента: US20200138118A1. Автор: Andrew J. STRATTON. Владелец: Juul Labs Inc. Дата публикации: 2020-05-07.

Cartridges for vaporizer devices

Номер патента: US12053024B2. Автор: Ariel Atkins,Esteban Leon Duque,Alexander M. HOOPAI,Christopher James ROSSER,Andrew J. STRATTON,Norbert WESELY. Владелец: Juul Labs Inc. Дата публикации: 2024-08-06.

Cartridges for Vaporizer Devices

Номер патента: US20240358080A1. Автор: Ariel Atkins,Esteban Leon Duque,Alexander M. HOOPAI,Christopher James ROSSER,Andrew J. STRATTON,Norbert WESELY. Владелец: Juul Labs Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Cartridges for vaporizer devices with combined wicking and heating element

Номер патента: US12133951B2. Автор: Andrew J. STRATTON,James P. WESTLEY,Emily K. Pettitt. Владелец: Juul Labs Inc. Дата публикации: 2024-11-05.

Method and apparatus for vaporizing a liquid

Номер патента: US12072065B2. Автор: Aurélie LUONG,Bhadri Prasad. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2024-08-27.

Vapor deposition deposited photoresist, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: US09829805B2. Автор: Timothy W. Weidman,Paul Deaton,Timothy Michaelson,Barry Lee Chin,Majeed Foad. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Method for manufacturing OLED device and OLED device manufactured therewith

Номер патента: US09660209B2. Автор: Yifan Wang,Yawei Liu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

AMOLED display devices and methods for producing the sub-pixel structure thereof

Номер патента: US09472600B2. Автор: Bin Zhang,Chung Che Tsou,Hsin Chih LIN. Владелец: EverDisplay Optronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-18.

Electronic vaporizing device and methods for use

Номер патента: US09427022B2. Автор: Saroj Kumar Sahu,Artem Mishin,Howard Allen Wilson,James JUMA,Adam J. Tavin,Jason R. Levin. Владелец: UpToke LLC. Дата публикации: 2016-08-30.

Smoking product core production method and device

Номер патента: RU2410993C2. Автор: Питер Рекс УАЙТ,Уилльям Дейвид ЛУИС. Владелец: Бритиш Америкэн Тобэкко (Инвестментс) Лимитед. Дата публикации: 2011-02-10.

Vapor data repositories and methods for providing vapor data

Номер патента: US20210307405A1. Автор: Steven L. Hecker,Aric Jennings,Kyle Patrick Crane Rodrigues. Владелец: Green Labs Group Inc. Дата публикации: 2021-10-07.

Method and apparatus for vaporizing liquids or the like with a concealable vaporizer pen

Номер патента: US20180352608A1. Автор: Dana E. Shoched. Владелец: DES Products Ltd d/b/a O2VAPE. Дата публикации: 2018-12-06.

Vaporizing devices and related methods for controlling an amount of substance being vaporized for consumption by a user

Номер патента: US20180177958A1. Автор: Robin Wilder,Elizabeth Brooke Green. Владелец: Se Research And Design LLC. Дата публикации: 2018-06-28.

Method for depositing materials on a substrate

Номер патента: WO2005048329A1. Автор: Noriaki Fukiage,Katherina Babich. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2005-05-26.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2002062593A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2002-08-15.

Apparatus and method for reflective image display with dielectric layer

Номер патента: US11982918B2. Автор: Michiel Koen CALLENS,Thomas Johansson,Robert J. Fleming,Steven GOU,Graham Beales. Владелец: Wuxi Clearink Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1397260A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-03-17.

Manufacturing method for vapor chamber without injection tube and apparatus thereof

Номер патента: US20210080191A1. Автор: San-Hsi WANG. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-03-18.

Apparatus and method for reflective image display with dielectric layer

Номер патента: EP3785063A1. Автор: Michiel Koen CALLENS,Thomas Johansson,Robert J. Fleming,Steven GOU,Graham Beales. Владелец: Concord HK International Education Ltd. Дата публикации: 2021-03-03.

Method and Device for Vaporizing of Phyto Material

Номер патента: US20180304032A9. Автор: Michael Alexander Trzecieski. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-10-25.

High density plasma chemical vapor deposition process

Номер патента: US20020030033A1. Автор: Water Lur,Shih-Wei Sun,Chih-Chien Liu,Ta-Shan Tseng,W.B. Shieh,J.Y. Wu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-14.

Device and method for reducing contact resistance of a metal

Номер патента: US09892963B2. Автор: Hung-Wen Su,Yu-Hung Lin,Ya-Lien Lee,Kuei-Pin Lee,Yu-Min Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Multiple step thin film deposition method for high conformality

Номер патента: US09859403B1. Автор: Praneet Adusumilli,Domingo A. Ferrer,Nicolas L. Breil,Neal A. Makela. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-01-02.

System and method for increasing power output from an organic vapor turbine

Номер патента: WO2020026022A1. Автор: Anton Fiterman. Владелец: Ormat Technologies Inc.. Дата публикации: 2020-02-06.

Method and device for vaporizing phyto material

Номер патента: US20180221604A1. Автор: Michael Alexander Trzecieski. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-08-09.

Device for Vaporization of Concentrated Phyto Material Extracts

Номер патента: US20210307395A1. Автор: Michael Trzecieski. Владелец: GS Holistic, LLC. Дата публикации: 2021-10-07.

Microfluidic-based apparatus and method for vaporization of liquids

Номер патента: US11821623B2. Автор: Carl D. Meinhart,Brian Piorek,Nicholas B. Judy. Владелец: Numerical Design Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Cartridges with uninterrupted airflow and vapor paths for vaporizer devices

Номер патента: US11980710B2. Автор: Adam Bowen,Ariel Atkins,Christopher James ROSSER. Владелец: Juul Labs Inc. Дата публикации: 2024-05-14.

Vaporiser device, in particular a sterilisation vaporiser device, for vaporizing a liquid and/or an aerosol

Номер патента: US20230270169A1. Автор: Markus Zimmermann,Jürgen Haak,Korbinian Tomschi. Владелец: Ampack Gmbh. Дата публикации: 2023-08-31.

Resistance measurement method and apparatus for vaporizer, electronic vaporization device, and storage medium

Номер патента: US20240035895A1. Автор: Huakai Yuan,Pengfei DU. Владелец: Shenzhen Verdewell Technology Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Microfluidic-based apparatus and method for vaporization of liquids

Номер патента: US20240191870A1. Автор: Carl D. Meinhart,Brian Piorek,Nicholas B. Judy. Владелец: Numerical Design Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

Vape devices, including cartridges, tablets, sensors, and controls for vape devices, and methods for making and using the same

Номер патента: EP3764828A1. Автор: Michael Wong,Mark Jones,Stephen Davis,Andrew Stewart,Paul Weaver,Yan VERMETTE,Peter Popplewell,Steven Penney,Ben GEILING,John Piccoli,Tom SHIPLEY. Владелец: Canopy Growth Corp. Дата публикации: 2021-01-20.

METHOD FOR OBTAINING GAS-SENSITIVE ELEMENT BASED ON MULTI-LAYERED STRUCTURE OF POROUS SILICON ON THE INSULATOR AND SnOX

Номер патента: RU2674406C1. Автор: Валерий Викторович Болотов,Константин Евгеньевич Ивлев,Егор Владимирович Князев,Владислав Евгеньевич Росликов,Екатерина Александровна Росликова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Омский научный центр Сибирского отделения Российской академии наук (ОНЦ СО РАН). Дата публикации: 2018-12-07.

Superconducting wire and method for formation thereof

Номер патента: RU2597247C2. Автор: Сын-Хён МУН,Чжае Хун ЛИ,Хун-Чжу ЛИ. Владелец: Санам Ко., Лтд.. Дата публикации: 2016-09-10.

Energy-efficient evaporation process with means for vapor recovery

Номер патента: CA1193570A. Автор: Ulrich Merten. Владелец: Bend Research Inc. Дата публикации: 1985-09-17.

Electric vaporizer for vaporizing resins in vehicle cabins

Номер патента: WO1997039778A1. Автор: Matteo Bevilacqua,Carlo Alberto Zaccagna. Владелец: D'arienzo, Anna, Maria. Дата публикации: 1997-10-30.

Cartridges for vaporized devices

Номер патента: WO2020081527A1. Автор: James P. WESTLEY,Simon J. Smith,Christopher J. Rosser. Владелец: JUUL Labs, Inc.. Дата публикации: 2020-04-23.

Apparatus and Method For Fabricating Photovoltaic Modules Using Heated Pocket Deposition In a Vacuum

Номер патента: US20100055827A1. Автор: Kurt L. Barth,Robert A. Enzenroth,Walajabad S. Sampath. Владелец: AVA Solar Inc. Дата публикации: 2010-03-04.

Cartridges for vaporizer devices

Номер патента: WO2024030298A1. Автор: Eric Joseph Johnson,Steven Christensen,Ariel Atkins,Esteban Leon Duque,Jason King,Christopher L. BELISLE,Alexander M. HOOPAI,Matthew Rios,Andrew J. STRATTON,James P. WESTLEY,Joshua A. DE GROMOBOY DABROWICKI. Владелец: JUUL Labs, Inc.. Дата публикации: 2024-02-08.

Method for forming wick part for vapor chamber, and method for manufacturing vapor chamber

Номер патента: EP4353396A1. Автор: Jong Min Lee,Jae Ho JANG,Kang Hyun Lee,Hang Hyeon CHO. Владелец: KMW Inc. Дата публикации: 2024-04-17.

Vapor dosing platform for vaporization cartridges

Номер патента: EP3836997A1. Автор: Yisroel Kirsh,Akiva WAGNER,Robert Stephen Walter Bates,Andrew James Weitz,Sidney Primas,Jeroen Arnold Norbert KOOLS,Prasad K PANCHALAN. Владелец: Vapor Dosing Technologies Inc. Дата публикации: 2021-06-23.

Device for Vaporization of Concentrated Phyto Material Extracts

Номер патента: US20170065776A1. Автор: Michael Alexander Trzecieski. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-03-09.

Systems and methods for selective tungsten deposition in vias

Номер патента: WO2012047571A2. Автор: Wei Lei,Michal Danek,Juwen Gao,Rajkumar Jakkaraju. Владелец: Novellus Systems Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Scintillator panel, radiation detector, and methods for manufacturing the same

Номер патента: US9530530B2. Автор: Toru Den,Tomoyuki Oike,Nobuhiro Yasui,Yoshinori Shibutani. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-27.

Cartridges for Vaporizer Devices

Номер патента: US20240032596A1. Автор: Eric Joseph Johnson,Steven Christensen,Ariel Atkins,Esteban Leon Duque,Jason King,Christopher L. BELISLE,Alexander M. HOOPAI,Matthew Rios,Andrew J. STRATTON,James P. WESTLEY,Joshua A. DE GROMOBOY DABROWICKI. Владелец: Juul Labs Inc. Дата публикации: 2024-02-01.

Vapor dosing platform for vaporization cartridges

Номер патента: CA3150295A1. Автор: Yisroel Kirsh,Akiva WAGNER,Robert Stephen Walter Bates,Andrew James Weitz,Sidney Primas,Jeroen Arnold Norbert KOOLS,Prasad K. PANCHALAN. Владелец: Vapor Dosing Technologies Inc. Дата публикации: 2020-02-20.

Method and device for vaporization injection of high volumes in gas chromatographic analysis

Номер патента: EP1459060A2. Автор: Paolo Magni,Thomas Porzano. Владелец: Thermo Finnigan Italia SpA. Дата публикации: 2004-09-22.

Method for forming wick part for vapor-chamber and method for manufacturig vapor chamber

Номер патента: US20240181570A1. Автор: Jong Min Lee,Jae Ho JANG,Kang Hyun Lee,Hang Hyeon CHO. Владелец: KMW Inc. Дата публикации: 2024-06-06.

Copper porous body for vaporization members, evaporative cooler and heat pipe

Номер патента: EP3708941A1. Автор: Jun Kato,Toshihiko SAIWAI. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2020-09-16.

Copper porous body for vaporization members, evaporative cooler and heat pipe

Номер патента: US20200224976A1. Автор: Jun Kato,Toshihiko SAIWAI. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2020-07-16.

Production method for color filter

Номер патента: US20070172586A1. Автор: Masafumi Kamada,Yuka Tachikawa,Takayuki Tazaki,Tomoyuki Idehara. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2007-07-26.

Method for forming semiconductor device structure

Номер патента: US20190067012A1. Автор: Yen-Ting Chen,Chun-Hsiung Lin,Sai-Hooi Yeong,Kai-Hsuan LEE,Chun-An Lin,Cheng-Yu Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-02-28.

Production method for color filter

Номер патента: US20070207265A1. Автор: Masafumi Kamada,Yuka Tachikawa,Takayuki Tazaki. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2007-09-06.

Apparatus And Methods For Vaporization And Remediation Of Radioactive Contamination

Номер патента: US20140249345A1. Автор: Ralph H. Hill, Jr.,James A. Moryl,Roland R.V. BENKE,Roberto T. PABALAN,Jeremy R. PRUITT. Владелец: Southwest Research Institute SwRI. Дата публикации: 2014-09-04.

Saw for cutting silicon into seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: EP2731770A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: SunEdison Inc. Дата публикации: 2014-05-21.

Systems and methods for vaporization of a liquid

Номер патента: WO2023156934A1. Автор: Thomas William Bradshaw,Luke James MANN,Duncan Stuart GLASBY,Richard Alexander BAKER,Daniel Grant MCKELVEY. Владелец: BENNAMANN SERVICES LTD. Дата публикации: 2023-08-24.

Two-phase immersion-cooling heat-dissipation structure having shortened evacuation route for vapor bubbles

Номер патента: US20240276676A1. Автор: Chun-Te Wu,Ching-Ming Yang,Tze-Yang Yeh,Yu-Wei Chiu. Владелец: Amulaire Thermal Tech Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Apparatus and method for vaporizing oils

Номер патента: US12070074B2. Автор: Arash Janfada,Tashfiq ALAM,Sanad ARIDAH. Владелец: Clir Technologies Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

Interconnection system and method for producing the same

Номер патента: US20020045334A1. Автор: Kazunori Matsuura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-18.

Adapter for vaporizing devices

Номер патента: US20030231877A1. Автор: Christopher Wolpert,Donald Richardson,Phillip Bradley,Scott Richert. Владелец: Dial Corp. Дата публикации: 2003-12-18.

Pressure accumulator at high pressure side and waste heat re-use device for vapor compressed air conditioning or refrigeration equipment

Номер патента: US20020174677A1. Автор: Wei Fang,Way-Jone Hsiao. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-11-28.

Cartridges for vaporizer devices

Номер патента: US12082618B2. Автор: Esteban Leon Duque,Christopher James ROSSER,Andrew J. STRATTON,Joshua A. DE GROMOBOY DABROWICKI. Владелец: Juul Labs Inc. Дата публикации: 2024-09-10.

A handheld device for vaporizing liquid to be inhaled by a user and a method for manufacturing a handheld device

Номер патента: EP4434563A1. Автор: Samuel FREIENMUTH,Torsten PRENTER. Владелец: Eqoy International Group Ag. Дата публикации: 2024-09-25.

Supporting structure for vapor chamber

Номер патента: US09664458B2. Автор: Sheng-Huang Lin. Владелец: Asia Vital Components Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Method for producing thin films of silicon carbide on silicon by pyrolysis of polymer films obtained by molecular layer deposition

Номер патента: RU2749573C9. Автор: Ильмутдин Магомедович Абдулагатов,Муртазали Хулатаевич Рабаданов,Рустам Русланович Амашаев,Азиз Ильмутдинович Абдулагатов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "ДАГЕСТАНСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ". Дата публикации: 2021-08-17.

HDP-CVD method for spacer formation

Номер патента: US6133151A. Автор: Ching-Fu Lin. Владелец: Worldwide Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2000-10-17.

Disposable assembly for vaporizing e-liquid and a method of using the same

Номер патента: US10869502B2. Автор: Thomas Fornarelli. Владелец: 14Th Round Inc. Дата публикации: 2020-12-22.

Method for improving conformity and contact bottom coverage of sputtered titanium nitride barrier layers

Номер патента: US5833817A. Автор: Chen-Hua Douglas Yu,Chia Shiung Tsai,Ying Yin Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1998-11-10.

Process and apparatus for vaporizing liquefied natural gas

Номер патента: US3552134A. Автор: Edwin M Arenson. Владелец: Black Sivalls and Bryson Inc. Дата публикации: 1971-01-05.

Cartridges for vaporizer devices

Номер патента: WO2020097067A1. Автор: Ariel Atkins,Esteban Leon Duque,Alexander M. HOOPAI,Christopher James ROSSER,Andrew J. STRATTON,Norbert WESELY. Владелец: JUUL Labs, Inc.. Дата публикации: 2020-05-14.

Device and method for reducing contact resistance of a metal

Номер патента: US20190252247A1. Автор: Hung-Wen Su,Yu-Hung Lin,Ya-Lien Lee,Kuei-Pin Lee,Yu-Min Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-08-15.

Microfluidic-based apparatus and method for vaporization of liquids

Номер патента: US11883762B2. Автор: Carl D. Meinhart,Brian Piorek,Nicholas B. Judy. Владелец: Numerical Design Inc. Дата публикации: 2024-01-30.

Method for selective thin film deposition

Номер патента: US20170352691A1. Автор: Carolyn Rae Ellinger. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2017-12-07.

Cartridges for vaporizer devices

Номер патента: US11838997B2. Автор: Christopher James ROSSER,Samuel L. Stean. Владелец: Juul Labs Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Cartridges for Vaporizer Devices

Номер патента: US20200138115A1. Автор: Andrew J. STRATTON,James P. WESTLEY,Emily K. Pettitt. Владелец: Juul Labs Inc. Дата публикации: 2020-05-07.

Cartridges for vaporizer devices

Номер патента: EP3876766A1. Автор: Ariel Atkins,Esteban Leon Duque,Alexander M. HOOPAI,Christopher James ROSSER,Andrew J. STRATTON,Norbert WESELY. Владелец: Juul Labs Inc. Дата публикации: 2021-09-15.

Cartridges for vaporizer devices

Номер патента: CA3118710A1. Автор: Ariel Atkins,Esteban Leon Duque,Alexander M. HOOPAI,Christopher James ROSSER,Andrew J. STRATTON,Norbert WESELY. Владелец: Juul Labs Inc. Дата публикации: 2020-05-14.

Microfluidic-based apparatus and method for vaporization of liquids

Номер патента: US20200191378A1. Автор: Carl D. Meinhart,Brian Piorek,Nicholas B. Judy. Владелец: Numerical Design Inc. Дата публикации: 2020-06-18.

Barrier paper, container and lid member containing said barrier paper, and method for producing barrier paper

Номер патента: EP4070949A1. Автор: Takayuki Hasegawa,Fumihiko Saito,Shozo Yuki,Motoko Wakamatsu,Tomomi KASHIHARA. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2022-10-12.

Barrier paper, container and lid member containing said barrier paper, and method for producing barrier paper

Номер патента: US20230068867A1. Автор: Takayuki Hasegawa,Fumihiko Saito,Shozo Yuki,Motoko Wakamatsu,Tomomi KASHIHARA. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2023-03-02.

Metal-germanium physical vapor deposition for semiconductor device defect reduction

Номер патента: US20080311747A1. Автор: Noel Russell,Douglas E. Mercer,Doufeng Yue,Peijun J. Chen. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2008-12-18.

Transistor with pi-gate structure and method for producing the same

Номер патента: US20020063293A1. Автор: Yeon-Sik Chae,Jin-Koo Rhee,Hyun-Sik Park,Dan An. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-30.

Multi-Value Nonvolatile Organic Resistive Random Access Memory and Method for Preparing the Same

Номер патента: US20160240778A1. Автор: QIANG LI,Yimao Cai,Ru Huang,Yue Pan,Yichen FANG,Zongwei Wang,Muxi Yu,Yefan Liu. Владелец: PEKING UNIVERSITY. Дата публикации: 2016-08-18.

Method for forming a channel zone of a transistor and PMOS transistor

Номер патента: US20040065909A1. Автор: Hans Weber,Armin Willmeroth,Dirk Ahlers,Jeno Tihanyi,Uwe Wahl. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2004-04-08.

Method for fabricating a semiconductor device

Номер патента: US20020110981A1. Автор: Hirofumi Watatani. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2002-08-15.

Method for fabricating a semiconductor device

Номер патента: US20020019086A1. Автор: Hirofumi Watatani. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2002-02-14.

Method for forming a channel zone of a transistor and NMOS transistor

Номер патента: US7038272B2. Автор: Hans Weber,Armin Willmeroth,Dirk Ahlers,Jeno Tihanyi,Uwe Wahl. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2006-05-02.

Methods for manufacturing semiconductor structures including isolation layer and semiconductor structures including isolation layer

Номер патента: US12119260B2. Автор: YUAN Li. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-10-15.

Prefabricated substrate of array substrate, vapor deposition method, array substrate and display apparatus

Номер патента: US09947902B2. Автор: Lujiang Huangfu,Libin LIU. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Apparatus and method for manufacturing thin film encapsulation

Номер патента: US09853192B2. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Jeong-Ho Yi. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Method for making a perpendicular magnetic recording write head with write pole having thin side gaps and thicker leading gap

Номер патента: US09805747B2. Автор: Suping Song,Brian R. York,Ning Shi,April D. Hixson-Goldsmith,Kyusik Shin. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Fast method for reactor and feature scale coupling in ALD and CVD

Номер патента: US09727672B2. Автор: Angel YANGUAS-GIL,Jeffrey W. Elam. Владелец: UChicago Argonne LLC. Дата публикации: 2017-08-08.

Semiconductor devices and methods for manufacturing semiconductor devices

Номер патента: US09576872B2. Автор: Horst Theuss,Thomas Mueller. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-02-21.

Method for development of oil deposits with large depths of productive horizons and low well yields

Номер патента: RU2713547C9. Автор: Адольф Апполонович Ковалев. Владелец: Адольф Апполонович Ковалев. Дата публикации: 2020-06-23.

Method for fabricating micro-structures with various surface properties in multilayer body by plasma etching

Номер патента: CA2399027C. Автор: Walter Schmidt,Frederic Reymond,Joel S. Rossier. Владелец: DiagnoSwiss SA. Дата публикации: 2010-06-22.

Plasma enhanced chemical vapor deposited (PECVD) silicon nitride barrier layer for high density plasma chemical vapor deposited (HDP-CVD) dielectric layer

Номер патента: US6127238A. Автор: Wei Lu,Yih-Shung Lin,Jia Zhen Zheng,Marvin De-Dui Liao,Kho Liep Chok. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 2000-10-03.

Method of depositing copper using physical vapor deposition

Номер патента: US9728414B2. Автор: Wen Yu,Stephen B. Robie,Jeremias D. Romero. Владелец: Cypress Semiconductor Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Offshore system for vaporizing a liquefied hydrocarbon stream, method of providing such a system, and method of vaporizing a liquefied hydrocarbon stream

Номер патента: EP2045506A1. Автор: Aart Alfons Geurtsen,Ewoud Van Haaften. Владелец: Shell Internationale Research Maatschappij BV. Дата публикации: 2009-04-08.

Cartridges for vaporizer devices

Номер патента: WO2020097341A1. Автор: Christopher James ROSSER. Владелец: JUUL Labs, Inc.. Дата публикации: 2020-05-14.

Base material for display panel, method for manufacturing the base material, and display panel

Номер патента: US20100014033A1. Автор: Kaori Kawasaki,Takanori Aono. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2010-01-21.

Method for forming contacts and vias with improved barrier metal step-coverage

Номер патента: US5970374A. Автор: Yeow Meng Teo. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 1999-10-19.

Process for producing a sheet material having a vapour-deposited metal layer

Номер патента: GB1570357A. Автор: . Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1980-07-02.

Steam generating device, oven and method for operating an oven

Номер патента: EP4327026A1. Автор: Matja PODGOR EK,Matja Es,Rok GROBELNIK,Samo ULIGOJ,Lovro BRDNIK,Andrej BOL INA,Klavdija JANE I,pela PARA UH. Владелец: Gorenje d o o. Дата публикации: 2024-02-28.

Methods for stabilization of self-assembled monolayers (sams) using sequentially pulsed initiated chemical vapor deposition (spicvd)

Номер патента: WO2024019841A1. Автор: Jacques Faguet,Omid Zandi,Ornella Sathoud. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-01-25.

A porous substrate and fabricating method thereof, and a fabricating method for thin film transistor

Номер патента: US20180294442A1. Автор: Fan TANG. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-11.

Display device and method for manufacturing the same

Номер патента: US11849620B2. Автор: Song-yi JEONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-19.

Method and Device for Vaporizing of Phyto Material

Номер патента: US20180110938A1. Автор: Michael Alexander Trzecieski. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-04-26.

Method for producing photoelectric converter and photoelectric converter

Номер патента: US20150001657A1. Автор: Koji Niwa,Shiro Miyazaki,Hironori Kii,Shigeo Aono,Tomofumi HONJO,Yosuke Nishioka. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2015-01-01.

Display device and method for manufacturing the same

Номер патента: US20200212129A1. Автор: Song-yi JEONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Display device and method for manufacturing the same

Номер патента: US11088214B2. Автор: Song-yi JEONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-10.

Methods For Stabilization Of Self-Assembled Monolayers (SAMs) Using Sequentially Pulsed Initiated Chemical Vapor Deposition (spiCVD)

Номер патента: US20240017290A1. Автор: Jacques Faguet,Omid Zandi,Ornella Sathoud. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Method for manufacturing a semiconductor light emitting device

Номер патента: US6200827B1. Автор: Hiroyuki Ota,Yoshinori Kimura. Владелец: Pioneer Electronic Corp. Дата публикации: 2001-03-13.

Vapor deposition paper and method for producing same

Номер патента: EP4279263A1. Автор: Yasutomo Noishiki,Yuta SHAMOTO,Miyoko Tanaka,Misaki Wakabayashi. Владелец: Oji Holdings Corp. Дата публикации: 2023-11-22.

Substrates for vaporizing and delivering an aerosol

Номер патента: CA3171016A1. Автор: Jackie L. White. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-02-28.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A3. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-02-05.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A4. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2009-01-07.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2005-01-05.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2003-10-23.

Substrates for vaporizing and delivering an aerosol

Номер патента: CA3171016C. Автор: Jackie L. White. Владелец: Pathfinder Innovations LLC. Дата публикации: 2023-12-12.

Organic semiconductor element, production method therefor and organic semiconductor device

Номер патента: EP1532688A4. Автор: Akira Unno. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-11-09.

Catalyst-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2024137050A1. Автор: Robert Clark,Tadahiro Ishizaka,Hiroaki Niimi,Kai-Hung YU. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-06-27.

High permeable porous substrate for a solid oxide fuel cell and the production method thereof

Номер патента: US09716277B2. Автор: Shih-Wei Cheng,Chang-Sing Hwang,Chun-Huang Tsai,Chun-Liang Chang,Zong-Yang Chuang Shie,Sheng-Fu Yang,Te-Jung Huang. Владелец: Institute of Nuclear Energy Research. Дата публикации: 2017-07-25.

Method for deposition of silicon films from azidosilane sources

Номер патента: US5013690A. Автор: David A. Roberts,Arthur K. Hochberg,David L. O'Meara. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 1991-05-07.

Single cascade process for vaporization and recovery of residual liquefied natural gas in application related to floating tanks

Номер патента: RU2659858C2. Автор: Пол Рэймонд ДЭВИС,Джеймс Ли Мл. ХАРРИС. Владелец: Конокофиллипс Компани. Дата публикации: 2018-07-04.

Pharmaceuticals microencapsulated by vapor deposited polymers and method

Номер патента: US5393533A. Автор: Ronald J. Versic. Владелец: Dodge Ronald T Co. Дата публикации: 1995-02-28.

Simultaneous deposit and etch method for forming a void-free and gap-filling insulator layer upon a patterned substrate layer

Номер патента: US5858876A. Автор: Peter Chew. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 1999-01-12.

Nanoscale gold catalysts, activating agents, support media, and related methodologies useful for making such catalyst systems especially when the gold is deposited onto the support media using physical vapor deposition

Номер патента: CA2540036C. Автор: Thomas E. Wood,Allen R. Siedle,Marvin E. Jones,Craig S. Chamberlain,Larry A. Brey,Gina M. Buccellato. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2013-10-22.

Method for forming a conductive interconnect in an integrated circuit

Номер патента: US5420072A. Автор: Robert W. Fiordalice,Hisao Kawasaki,Johnson O. Olowolafe. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1995-05-30.

Methods for forming self-aligned contacts using spin-on silicon carbide

Номер патента: WO2022177828A1. Автор: Lior HULI,Junling Sun,Angelique RALEY,Andrew Metz. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-08-25.

Method for integration of dual metal gates and dual high-k dielectrics in cmos devices

Номер патента: US20120094447A1. Автор: Qiuxia Xu,Gaobo Xu. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2012-04-19.

Buffer Layer for Dielectric Protection in Physical Vapor Deposition Metal Liner Applications

Номер патента: US20240145300A1. Автор: Yu Lei,Wei Lei,Sahil Patel,Xingyao Gao,Shirish A. PETHE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Miniaturized mr device comprising a cell culture micro-chamber and method for manufacturing such a device

Номер патента: EP3857247A1. Автор: Giovanni Boero,Juergen Brugger,Marco GRISI,Gaurasundar Marc CONLEY. Владелец: Ecole Polytechnique Federale de Lausanne EPFL. Дата публикации: 2021-08-04.

Methods for Forming Self-Aligned Contacts Using Spin-on Silicon Carbide

Номер патента: US20220262679A1. Автор: Lior HULI,Junling Sun,Angelique RALEY,Andrew Metz. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Multiple step thin film deposition method for high conformality

Номер патента: US20180026118A1. Автор: Praneet Adusumilli,Domingo A. Ferrer,Nicolas L. Breil,Neal A. Makela. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-01-25.

Buffer layer for dielectric protection in physical vapor deposition metal liner applications

Номер патента: WO2024097016A1. Автор: Yu Lei,Wei Lei,Sahil Patel,Xingyao Gao,Shirish A. PETHE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-10.

Device for vaporizing and superheating a substance

Номер патента: FI20226070A1. Автор: Valtteri Haavisto,Reima VIINIKKALA,Kalle VÄHÄTALO,Lauri RANTASALO,John Ritman. Владелец: VAHTERUS OY. Дата публикации: 2024-06-02.

Apparatus for vaporizing a developer medium in developing devices for light-sensitive materials

Номер патента: US3907027A. Автор: Gerhard Marx. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1975-09-23.

Dual-flow tray for vapor-liquid contacting, and its use

Номер патента: US20240226768A9. Автор: Aadam ARYAN. Владелец: Distillation Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Cyclonic injector and method for reagent gasification and decomposition in a hot gas stream

Номер патента: US09861934B2. Автор: James M. Valentine,Eric Lindemann,Thomas V. Eldredge,Jeffrey Michael Broderick,Saiprasad Jangiti. Владелец: Peerless Manufacturing Co. Дата публикации: 2018-01-09.

Integrated cascade process for vaporization and recovery of residual LNG in a floating tank application

Номер патента: US09835373B2. Автор: Paul Raymond Davies,James Lee HARRIS, Jr.. Владелец: ConocoPhillips Co. Дата публикации: 2017-12-05.

Metal mask processing method for vapor deposition and metal mask processing equipment for vapor deposition

Номер патента: JP6759619B2. Автор: 進也 楠. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2020-09-23.

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE

Номер патента: US20120003823A1. Автор: Sasaki Makoto,NISHIGUCHI Taro,HARADA Shin,Okita Kyoko,Namikawa Yasuo. Владелец: Sumitomo Electric Industries, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Diversion dustproof gas control tray for vapor deposition and clean production method in vapor deposition furnace

Номер патента: CN102400110A. Автор: 刘汝强. Владелец: 刘汝强. Дата публикации: 2012-04-04.

ELECTRICALLY EXTENSIVELY HEATABLE, TRANSPARENT OBJECT, METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF, AND USE THEREOF

Номер патента: US20120000896A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for producing thermoplastic liquid crystal polymer film with metal vapor-deposited layer, thermoplastic liquid crystal polymer film with metal vapor-deposited layer using the production method, method for producing metal-clad laminate, and metal-clad laminate

Номер патента: JP6480289B2. Автор: 健 ▲高▼橋,朋宏 高橋,崇裕 中島,砂本　辰也,辰也 砂本. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-06.

Rotary drum in film deposition apparatus for atomic layer chemical vapor deposition and film deposition apparatus for atomic layer chemical vapor deposition

Номер патента: JP2012201899A. Автор: Masato Kon,真人 今. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-22.

Vapor deposition mask, vapor deposition mask with frame, and methods for producing same

Номер патента: CN109913802B. Автор: 广部吉纪,武田利彦,西村佑行,小幡胜也,落合洋光,川崎博司,真木淳. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2021-12-21.

MgO VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND PRODUCTION METHOD THEREFOR

Номер патента: JP2003226960A. Автор: Yoshio Kuromitsu,祥郎 黒光,英章 桜井,Hideaki Sakurai,銀二郎 豊口,Ginjiro Toyoguchi. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2003-08-15.

Vapor deposition biodegradable film material and method for producing the same

Номер патента: JP3847145B2. Автор: 正広 中井,徹 藤. Владелец: 株式会社トーツヤ. Дата публикации: 2006-11-15.

Vapor deposition mask, precursor thereof, and method for manufacturing organic semiconductor element

Номер патента: CN110344003B. Автор: 武田利彦,小幡胜也,川崎博司. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2022-03-15.

Pulse-laser-aided chemical vapor deposition growing system device and method for preparing low-dimension material through same

Номер патента: CN106702352A. Автор: 张金星,宋创业,杨振雄. Владелец: Beijing Normal University. Дата публикации: 2017-05-24.

Vapor deposited ceramic coated material and method for manufacturing the same

Номер патента: JP2005213571A. Автор: Akira Kondo,明 近藤. Владелец: Tokai Carbon Co Ltd. Дата публикации: 2005-08-11.

Method for manufacturing vapor deposition mask with metal frame, method for manufacturing organic semiconductor element, method for forming pattern

Номер патента: JP6304412B2. Автор: 小幡　勝也,勝也 小幡,英介 岡本. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2018-04-04.

METHODS FOR ENHANCED PROCESSING CHAMBER CLEANING

Номер патента: US20120000490A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

LAYER HAVING FUNCTIONALITY, METHOD FOR FORMING FLEXIBLE SUBSTRATE HAVING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001181A1. Автор: AOKI Tomoyuki,Tsurume Takuya. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

ANODE-SUPPORTED SOLID OXIDE FUEL CELL COMPRISING A NANOPOROUS LAYER HAVING A PORE GRADIENT STRUCTURE, AND A PRODUCTION METHOD THEREFOR

Номер патента: US20120003565A1. Автор: Lee Jong Ho,KIM Jong Cheol,LEE Hae-Weon,SON Ji-Won,KIM Hae-Ryoung,Noh Ho-Sung. Владелец: KOREA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for manufacturing thin film capacitor and thin film capacitor obtained by the same

Номер патента: US20120001298A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Large Area Nitride Crystal and Method for Making It

Номер патента: US20120000415A1. Автор: Speck James S.,"DEvelyn Mark P.". Владелец: Soraa, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR SPUTTERING A RESISTIVE TRANSPARENT BUFFER THIN FILM FOR USE IN CADMIUM TELLURIDE BASED PHOTOVOLTAIC DEVICES

Номер патента: US20120000768A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, METHOD FOR PRODUCING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, LIQUID CRYSTAL PANEL, METHOD FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL PANEL, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY UNIT, AND TELEVISION RECEIVER

Номер патента: US20120001838A1. Автор: Tsubata Toshihide. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Organometallic films, methods for applying organometallic films to substrates and substrates coated with such films

Номер патента: US20120003481A1. Автор: Hanson Eric L.. Владелец: Aculon, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

ENERGY STORAGE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003535A1. Автор: Yamazaki Shunpei. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Organometallic films, methods for applying organometallic films to substrates and substrates coated with such films

Номер патента: US20120004388A1. Автор: Hanson Eric L.. Владелец: Aculon, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

DECORATION DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING DECORATION DEVICE

Номер патента: US20120003426A1. Автор: . Владелец: SIPIX CHEMICAL INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE FOR SUSPENSION, AND PRODUCTION PROCESS THEREOF

Номер патента: US20120000698A1. Автор: . Владелец: Dai Nippon Printing Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR INSPECTION OF MAGNETIC RECORDING MEDIUM, MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND MAGNETIC RECORDING/REPRODUCING DEVICE

Номер патента: US20120002323A1. Автор: Kato Junya,Maruyama Yoshihiko. Владелец: SHOWA DENKO K.K.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUSES AND METHODS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION

Номер патента: US20120000422A1. Автор: Zheng Bo,Ai Hua,YU SANG HO,UMOTOY Salvador P.,Lam Hyman,Jackson Michael,Yuan Xiaoxiong (John),Wang Hou Gong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR ISOLATING A VIEWPORT

Номер патента: US20120000301A1. Автор: LITTLE Edwin Jackson,PAVOL Mark J.. Владелец: PRIMESTAR SOLAR. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING METAL GATE STACK STRUCTURE IN GATE-FIRST PROCESS

Номер патента: US20120003827A1. Автор: Xu Qiuxia,Li Yongliang. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

STRUCTURE PROVIDED WITH ZEOLITE SEPARATION MEMBRANE, METHOD FOR PRODUCING SAME, METHOD FOR SEPARATING MIXED FLUIDS AND DEVICE FOR SEPARATING MIXED FLUIDS

Номер патента: US20120000358A1. Автор: MORI Nobuhiko,KAWAI Masaaki,SATOH Aya,TOMITA Toshihiro. Владелец: NGK Insulators, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING METAL THIN FILM

Номер патента: US20120000382A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

TRANSPARENT ELECTRICALLY CONDUCTIVE LAYER AND METHOD FOR FORMING SAME

Номер патента: US20120000519A1. Автор: FREY Jonathan Mack. Владелец: PRIMESTAR SOLAR. Дата публикации: 2012-01-05.

THIN FILM ARTICLE AND METHOD FOR FORMING A REDUCED CONDUCTIVE AREA IN TRANSPARENT CONDUCTIVE FILMS FOR PHOTOVOLTAIC MODULES

Номер патента: US20120000520A1. Автор: Feldman-Peabody Scott Daniel,FREY Jonathan Mack. Владелец: PRIMESTAR SOLAR. Дата публикации: 2012-01-05.

FLEXIBLE SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120001173A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20120001180A1. Автор: Yoshizumi Kensuke,YOKOI Tomokazu. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND METHODS FOR MODULATING VASCULAR DEVELOPMENT

Номер патента: US20120003208A1. Автор: Ye Weilan,Parker,Schmidt Maike,Filvaroff Ellen,IV Leon H.,Hongo Jo-Anne S.. Владелец: Genentech, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

NITRIDE CRYSTAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

Номер патента: US20120003446A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Preparing Small Volume Reaction Containers

Номер патента: US20120003675A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR REGION AND METHOD FOR MANUFACTURING POWER STORAGE DEVICE

Номер патента: US20120003807A1. Автор: SHIMAZU Takashi,FURUNO Makoto. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Regenerating an Adsorber or Absorber

Номер патента: US20120004092A1. Автор: RAATSCHEN Willigert,MATTHIAS Carsten,Schauer Lutz,Westermann Helmut. Владелец: Astrium GmbH. Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICES AND METHODS FOR FORMING DOUBLE EMULSION DROPLET COMPOSITIONS AND POLYMER PARTICLES

Номер патента: US20120000777A1. Автор: Garrell Robin L.,Tucker-Schwartz Alexander K.,Shepherd Heather,Chatterjee Debalina. Владелец: The Regents of the University of California. Дата публикации: 2012-01-05.

NITRIDE COMPOUND SEMICONDUCTOR ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120002693A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR EXPOSING A SUBSTRATE TO UV RADIATION USING A REFLECTOR HAVING BOTH ELLIPTICAL AND PARABOLIC REFLECTIVE SECTIONS

Номер патента: US20120003398A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF ELECTROLYTIC CERAMIC COATING FOR METAL, ELECTROLYSIS SOLUTION FOR ELECTROLYTIC CERAMIC COATING FOR METAL, AND METALLIC MATERIAL

Номер патента: US20120000783A1. Автор: Konishi Tomoyoshi,Suda Arata. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120002285A1. Автор: Matsuda Manabu. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR FORMING IMAGE SENSOR WITH SHIELD STRUCTURES

Номер патента: US20120003782A1. Автор: Byun Jeong Soo,Korobov Vladimir,Pohland Oliver. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003820A1. Автор: FURUYA Akira,Kitamura Takamitsu,Nakata Ken,Makabe Isao,Yui Keiichi. Владелец: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Highly productive method of depositing carbon nanotubes and composite films

Номер патента: RU2342316C2. Автор: Станислав Викторович Хартов,Владимир Кириллович Неволин,Сергей Владимирович Бараш. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московский государственный институт электронной техники (технический университет). Дата публикации: 2008-12-27.

IMAGE SENSOR AND MANUFACTURING METHOD FOR SAME

Номер патента: US20120003776A1. Автор: Park Sang Hyuk. Владелец: Intellectual Ventures II LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING GALLIUM NITRIDE WAFER

Номер патента: US20120003824A1. Автор: Lee Ho-jun,KIM Yong-Jin,Lee Dong-Kun,Kim Doo-Soo,Lee Kye-Jin. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Radiation-resistant fibre-optic guide, method for production thereof and method of improving radiation resistance of fibre-optic guide (versions)

Номер патента: RU2537523C1. Автор: Валерий Ефимович Карасик,Алексей Николаевич Гурьянов,Евгений Михайлович Дианов,Алексей Борисович Пнев,Владимир Федорович Хопин,Михаил Юрьевич Салганский,Александр Леонидович Томашук,Павел Федорович Кашайкин. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России). Дата публикации: 2015-01-10.

Reactor for vapor and vapor-carbonic acid conversion of light hydrocarbons for production of gas containing hydrogen and carbon oxide

Номер патента: RU2452559C2. Автор: Игорь Олегович Геращенко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "СинТоп". Дата публикации: 2012-06-10.

Thin beryllium foil production method

Номер патента: RU2036244C1. Автор: Игорь Исакович Папиров,Владимир Сергеевич Шокуров,Геннадий Иванович Волокита,Евгений Семенович Карпов. Владелец: Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт". Дата публикации: 1995-05-27.

OPTICAL BEAM SPLITTER FOR USE IN AN OPTOELECTRONIC MODULE, AND A METHOD FOR PERFORMING OPTICAL BEAM SPLITTING IN AN OPTOELECTRONIC MODULE

Номер патента: US20120002284A1. Автор: Wen Pengyue,McColloch Laurence R.. Владелец: AVAGO TECHNOLOGIES FIBER IP (SINGAPORE) PTE. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Battery assembly for vaporizer

Номер патента: CA170002S. Автор: . Владелец: Kimree Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

SYSTEM AND METHOD FOR OPERATING RFID DEVICES ON SINGLE-USE CONNECTORS

Номер патента: US20120001731A1. Автор: . Владелец: GE HEALTHCARE BIOSCIENCE BIOPROCESS CORP.. Дата публикации: 2012-01-05.

Separator for vapor-liquid mixture

Номер патента: RU2256485C1. Автор: И.Р. Хайрудинов,Э.Г. Теляшев,шев Э.Г. Тел,Р.Р. Загидуллин,Р.М. Загидуллин. Владелец: Государственное унитарное предприятие "Институт нефтехимпереработки "Республики Башкортостан (ГУП "ИНХП" РБ). Дата публикации: 2005-07-20.

Packaging container for vaporizer and capsule

Номер патента: CA169653S. Автор: . Владелец: JT INTERNATIONAL SA. Дата публикации: 2018-07-27.

NON-ELECTRICAL METHODS FOR ILLUMINATION OF AIRBAG EMBLEMS

Номер патента: US20120001406A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR FORMING SILICON OXIDE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003842A1. Автор: Tanaka Yoshinobu,Ueda Hirokazu,Ohsawa Yusuke. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for development of structural oil deposit

Номер патента: RU2704688C1. Автор: Раис Салихович Хисамов,Вадим Валерьевич Ахметгареев,Илгам Гарифзянович Газизов. Владелец: Публичное акционерное общество "Татнефть" им. В.Д.Шашина. Дата публикации: 2019-10-30.

Method for vacuum sputtering of topological thin-film pattern of hybrid microcircuit on substrate

Номер патента: RU2586937C1. Автор: Валерий Григорьевич Эдвабник,Амир Энверович Алямов,Любовь Васильевна Григорьева,Владимир Борисович Цай,Рэм Васильевич Кудрявцев,Денис Юрьевич Сидоров,Светлана Викторовна Юркова. Владелец: ОАО "Научно-исследовательский институт электронных приборов". Дата публикации: 2016-06-10.

An Improved Vaporizing Apparatus for Vaporizing Medicinal Compounds and the like.

Номер патента: GB189730200A. Автор: Arthur Marshall Chambers. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-04-30.

Laser method for production of functional coatings

Номер патента: RU2597447C2. Автор: Александр Федорович Глова,Алексей Юрьевич Лысиков,Сергей Сергеевич Нелюбин,Петр Иванович Перетятько,Юрий Филиппович Рыжков,Вадим Борисович Турундаевский. Владелец: Акционерное общество "Государственный научный центр Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований" (АО "ГНЦ РФ ТРИНИТИ"). Дата публикации: 2016-09-10.

SOLAR CELL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120000517A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR REPAIRING GAS TURBINE BLADES AND GAS TURBINE BLADE

Номер патента: US20120000890A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR STRUCTURE HAVING LOW THERMAL STRESS AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF

Номер патента: US20120001303A1. Автор: TU PO-MIN,HUANG SHIH-CHENG,YANG SHUN-KUEI,HUANG CHIA-HUNG. Владелец: ADVANCED OPTOELECTRONIC TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120002142A1. Автор: Fujiwara Sayuri,Satoh Eiji,Asaoka Yasushi,Deguchi Kazuhiro,Tanimoto Kazunori,MATSUDA TAKAFUMI,MIKUMO KATSUHIRO. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

SOLAR CELL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003781A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

GRIPPING DEVICE, TRANSFER DEVICE, PROCESSING DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD FOR ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20120004773A1. Автор: . Владелец: SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Protective label substance containing diamond microcrystals with active nv-centres, doped with isotopes, method for production thereof, method for protection from counterfeiting and authentication of articles using said label

Номер патента: RU2577224C1. Автор: Сергей Александрович Зибров,Виталий Валентинович Васильев,Владимир Леонидович Величанский,Виктор Моисеевич Рудой,Александр Владимирович Сивак,Алексей Олегович Левченко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Лазерлаб" (ООО "Лазерлаб). Дата публикации: 2016-03-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.