Reinigungsmodul, Reinigungsvorrichtung und Verfahren zur Reinigung einer Photomaske
Номер патента: DE102014019370A1
Опубликовано: 16-07-2015
Автор(ы): Kun-Lung Hsieh, Yi Hsun PAN
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 16-07-2015
Автор(ы): Kun-Lung Hsieh, Yi Hsun PAN
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Post-baking device and post-baking method for forming black matrix
Номер патента: US10401731B2. Автор: LU Wang. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-03.