SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING FIN GATE, RESISTIVE MEMORY DEVICE INCLUDING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
Номер патента: US20150048296A1
Опубликовано: 19-02-2015
Автор(ы): Nam Kyun PARK
Принадлежит: SK hynix Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 19-02-2015
Автор(ы): Nam Kyun PARK
Принадлежит: SK hynix Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Two-dimensional material structure, semiconductor device including the two-dimensional material structure, and method of manufacturing the semiconductor device
Номер патента: US20230112883A1. Автор: Minsu Seol,Keunwook SHIN,Changseok Lee,JunYoung KWON,Minseok YOO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-13.