Positive type photosensitive polyimide resin composition
Номер патента: EP1241527A1
Опубликовано: 18-09-2002
Автор(ы): Hiroyoshi Nissan Chemical Industries Ltd. FUKURO, Kazuhisa Nissan Chemical Industries Ltd. ISHII, Takayasu Nissan Chemical Industries Ltd. NIHIRA, Tomonari Nissan Chemical Industries Ltd NAKAYAMA
Принадлежит: Nissan Chemical Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 18-09-2002
Автор(ы): Hiroyoshi Nissan Chemical Industries Ltd. FUKURO, Kazuhisa Nissan Chemical Industries Ltd. ISHII, Takayasu Nissan Chemical Industries Ltd. NIHIRA, Tomonari Nissan Chemical Industries Ltd NAKAYAMA
Принадлежит: Nissan Chemical Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Chemically amplified positive type photoresist composition and pattern forming method using the same
Номер патента: US20190339614A1. Автор: Masato Suzuki,Shunji Kawato,Tetsumasa TAKAICHI,Kazumichi Akashi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2019-11-07.