DEVICE FOR FEEDING HIGH-FREQUENCY POWER AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME
Номер патента: US20170071053A1
Опубликовано: 09-03-2017
Автор(ы): Chang Won Lee, Jae Seung Lee
Принадлежит: AP SYSTEMS INC
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 09-03-2017
Автор(ы): Chang Won Lee, Jae Seung Lee
Принадлежит: AP SYSTEMS INC
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Plasma processing device, high-frequency power supply circuit, and impedance matching method
Номер патента: US20240120179A1. Автор: Kazunori Koga,Masaharu Shiratani,Tatsuo Matsudo,Takahiro Shindo,Kunihiro KAMATAKI. Владелец: Kyushu University NUC. Дата публикации: 2024-04-11.