Photomask blank manufacturing method and manufacturing apparatus, and unnecessary film removing apparatus
Номер патента: JP4184128B2
Опубликовано: 19-11-2008
Автор(ы): 敬司 浅川, 英雄 小林
Принадлежит: Hoya Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 19-11-2008
Автор(ы): 敬司 浅川, 英雄 小林
Принадлежит: Hoya Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Photomask blank and photomask manufacturing method
Номер патента: JP6564734B2. Автор: 判臣 稲月,紘平 笹本,稲月 判臣,創一 深谷. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-21.