Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP4293421A1
Опубликовано: 20-12-2023
Автор(ы): Ayumi Goda, Ryohei Gorai
Принадлежит: Toppan Photomasks Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US20240118604A1. Автор: Ayumi Goda,Ryohei Gorai. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Reflective mask blank, and reflective mask

Номер патента: EP4184245A1. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-24.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP4276531A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-11-15.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US20240272542A1. Автор: Hideaki Nakano,Daisuke Miyawaki,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP4350435A1. Автор: Hideaki Nakano,Daisuke Miyawaki,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-04-10.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US20240053670A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US20240077796A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP3650936A1. Автор: Toru Komizo,Norihito Fukugami. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-13.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240295807A1. Автор: Kenichi Sasaki,Yuya Nagata,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP4293422A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-12-20.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US20240126160A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP4279990A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-11-22.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US11906896B2. Автор: Toru Komizo,Norihito Fukugami,Genta Watanabe,Eisuke NARITA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-02-20.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP3882698A1. Автор: Toru Komizo,Norihito Fukugami,Genta Watanabe,Eisuke NARITA. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-22.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP3650935A1. Автор: Toru Komizo,Norihito Fukugami. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-13.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US20200218143A1. Автор: Toru Komizo,Norihito Fukugami. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-09.

Reflective photomask blank, method for manufacturing reflective photomask, and reflective photomask

Номер патента: US20230333460A1. Автор: Takeshi Ishii,Keisuke Sakurai,Shohei Mimura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Reflective photomask blank, method for manufacturing reflective photomask, and reflective photomask

Номер патента: EP4261614A1. Автор: Takeshi Ishii,Keisuke Sakurai,Shohei Mimura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-18.

Reflective photomask and method for manufacturing reflective photomask

Номер патента: US20240288763A1. Автор: Hideaki Nakano,Daisuke Miyawaki,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Reflective photomask and method for manufacturing reflective photomask

Номер патента: EP4357850A1. Автор: Hideaki Nakano,Daisuke Miyawaki,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-04-24.

Reflective photomask and method for fabricating the same

Номер патента: US11829063B2. Автор: Jong Ju PARK,Sang Uk Park,Jong Keun OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-28.

Photomask blank, and manufacturing method thereof

Номер патента: US11774845B2. Автор: Hideo Kaneko,Kouhei Sasamoto. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Photomask blank and photomask for suppressing heat absorption

Номер патента: US20160363855A1. Автор: Tae Joong Ha. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2016-12-15.

Photomask blank and photomask for suppressing heat absorption

Номер патента: US20150227040A1. Автор: Tae Joong Ha. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2015-08-13.

Photomask blank and photomask for suppressing heat absorption

Номер патента: US09454073B2. Автор: Tae Joong Ha. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2016-09-27.

Photomask blank, photomask, and method for manufacturing photomask

Номер патента: EP4451057A1. Автор: Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Photomask blank

Номер патента: US09541823B2. Автор: Hideo Kaneko,Hideo Nakagawa,Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Photomask blank, manufacturing method of photomask and photomask

Номер патента: US20230148427A1. Автор: Naoki Matsuhashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-11.

Photomask blank, manufacturing method of photomask and photomask

Номер патента: EP4180870A1. Автор: Naoki Matsuhashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-17.

Photomask blank and photomask for suppressing heat absorption

Номер патента: US10036950B2. Автор: Tae Joong Ha. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2018-07-31.

Photomask blank, method for producing photomask, and photomask

Номер патента: EP3979001A1. Автор: Kouhei Sasamoto,Naoki Matsuhashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-06.

Photomask blank, method for producing photomask, and photomask

Номер патента: US11971653B2. Автор: Kouhei Sasamoto,Naoki Matsuhashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Reflective mask blank and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: EP4332676A2. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Reflective mask blank and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240077797A1. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Reflective mask blank and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: EP4332676A3. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-13.

Reflective photomask and method of fabricating the same

Номер патента: US7807318B2. Автор: Seong-Sue Kim,Sang-gyun Woo,Jin-Hong Park,Han-ku Cho,Suk-joo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-10-05.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US12111565B2. Автор: Norihito Fukugami,Ayumi Goda. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US20230375908A1. Автор: Kazuaki Matsui,Ayumi Goda. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US20230143851A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-05-11.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP4145222A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-03-08.

Reflective photomask and reflective photomask blank

Номер патента: US20120021344A1. Автор: Tadashi Matsuo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-01-26.

Reflective photomask blank, and method for manufacturing reflective photomask

Номер патента: EP4276532A1. Автор: Takeshi Ishii,Keisuke Sakurai,Shohei Mimura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-15.

Reflective Photomask Blank, and Method for Manufacturing Reflective Photomask

Номер патента: US20230367199A1. Автор: Takeshi Ishii,Keisuke Sakurai,Shohei Mimura. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Reflective mask blank, reflective mask, reflective mask manufacturing method, and reflective mask correction method

Номер патента: EP4080283A1. Автор: Kazuaki Matsui,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2022-10-26.

Photomask blank and method for manufacturing photomask blank

Номер патента: US09488906B2. Автор: Yoshio Kawai,Satoshi Watanabe,Akira Ikeda,Takashi Yoshii,Hideo Kaneko,Toyohisa Sakurada,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Photomask blank and method for manufacturing photomask blank

Номер патента: US09709885B2. Автор: Yoshio Kawai,Satoshi Watanabe,Akira Ikeda,Takashi Yoshii,Hideo Kaneko,Toyohisa Sakurada,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Photomask blanks, photomasks fabricated using the same, and methods of fabricating photomask using the same

Номер патента: US20160238926A1. Автор: Eui Sang PARK,Kung Hoon NAM. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2016-08-18.

Photomask blank and manufacturing method thereof, photomask, light pattern exposure method, and design method of transition metal/silicon base material film

Номер патента: EP2428841A3. Автор: Takashi Haraguchi,Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Yukio Inazuki,Ryuji Koitabashi,Yosuke Kojima,Tomohito Hirose. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-02.

Method for manufacturing photomask blank

Номер патента: US20150086909A1. Автор: Yoshio Kawai,Satoshi Watanabe,Akira Ikeda,Takashi Yoshii,Hideo Kaneko,Toyohisa Sakurada,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-26.

Method for manufacturing photomask blank

Номер патента: US9400422B2. Автор: Yoshio Kawai,Satoshi Watanabe,Akira Ikeda,Takashi Yoshii,Hideo Kaneko,Toyohisa Sakurada,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-26.

Mask blank and mask and fabrication method thereof

Номер патента: US09921467B2. Автор: Chih-Chiang Tu,Chun-Lang Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: US20240103354A1. Автор: Takahiro Onoue,Tsutomu Shoki,Yohei IKEBE,Hirofumi Kozakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP4145221A4. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-07-03.

REFLECTIVE PHOTOMASK BLANK AND REFLECTIVE PHOTOMASK

Номер патента: US20200159106A1. Автор: Fukugami Norihito,KOMIZO Toru. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-21.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: JP6888675B2. Автор: 福上　典仁,典仁 福上,透 古溝,古溝　透. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2021-06-16.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: WO2022149530A1. Автор: 顯二郎 市川,歩美 合田,秀亮 中野,悠斗 山形. Владелец: 株式会社トッパンフォトマスク. Дата публикации: 2022-07-14.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP4067994A4. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-01-03.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: SG11201913862WA. Автор: Toru Komizo,Norihito Fukugami. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

REFLECTIVE PHOTOMASK BLANK AND REFLECTIVE PHOTOMASK

Номер патента: US20220011662A1. Автор: Fukugami Norihito,Watanabe Genta,KOMIZO Toru,NARITA Eisuke. Владелец: . Дата публикации: 2022-01-13.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US20200218143A1. Автор: Toru Komizo,Norihito Fukugami. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-09.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: JP2022124344A. Автор: Hideaki Nakano,顯二郎 市川,歩美 合田,秀亮 中野,悠斗 山形,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2022-08-25.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: CN115443433A. Автор: 中野秀亮,合田步美,市川显二郎. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2022-12-06.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: TW202029279A. Автор: 古溝透,福上典仁,渡邊原太,成田英輔. Владелец: 日商凸版印刷股份有限公司. Дата публикации: 2020-08-01.

Reflective photomask, method of fabricating the same, and exposure apparatus using the reflective photomask

Номер патента: US20170108767A1. Автор: Seongsue Kim,Insung Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-04-20.

Photomask blank, and manufacturing method thereof

Номер патента: EP3933504C0. Автор: Hideo Kaneko,Kouhei Sasamoto. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-31.

Photomask blank, and manufacturing method thereof

Номер патента: EP3933504B1. Автор: Hideo Kaneko,Kouhei Sasamoto. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-31.

Optically semitransmissive film, photomask blank and photomask, and method for designing optically semitransmissive film

Номер патента: US20110207032A1. Автор: Osamu Nozawa,Yuki Shiota. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-08-25.

Photomask blank, manufacturing method of photomask and photomask

Номер патента: EP4180870B1. Автор: Naoki Matsuhashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Optically semitransmissive film, photomask blank and photomask, and method for designing optically semitransmissive film

Номер патента: EP2657768A2. Автор: Osamu Nozawa,Yuki Shiota. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-10-30.

Optically semitransmissive film, photomask blank and photomask, and method for designing optically semitransmissive film

Номер патента: US8486588B2. Автор: Osamu Nozawa,Yuki Shiota. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-07-16.

Photomask blank, manufacturing method of photomask and photomask

Номер патента: EP4180870C0. Автор: Naoki Matsuhashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Photomask blank and phase shift mask

Номер патента: JP4507216B2. Автор: 順 野澤,勇樹 塩田. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2010-07-21.

Photomask blank and photomask

Номер патента: KR101004395B1. Автор: 오사무 노자와,유키 시오타. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2010-12-28.

Photomask blank and phase shift mask

Номер патента: JP4330622B2. Автор: 順 野澤,勇樹 塩田. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2009-09-16.

Photomask blank, and manufacturing method thereof

Номер патента: EP3933504A1. Автор: Hideo Kaneko,Kouhei Sasamoto. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-05.

Photomask blank, photomask manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: KR101302630B1. Автор: 아츠시 코미나토,타케유키 야마다,미노루 사카모토,마사히로 하시모토. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-09-03.

Semitransmitting film, photomask blank, photomask, and semitransmitting film designing method

Номер патента: KR100967995B1. Автор: 오사무 노자와,유키 시오타. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2010-07-07.

Semitransmitting film, photomask blank, photomask, and semitransmitting film designing method

Номер патента: TW200606577A. Автор: Osamu Nozawa,Yuki Shiota. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2006-02-16.

Photomask blank, photomask manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: WO2006006540A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Minoru Sakamoto,Atsushi Kominato,Takeyuki Yamada. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2006-01-19.

A transmissive embedded phase shifter-photomask blank

Номер патента: TW505829B. Автор: Roger Harquail French,Hakki Ufuk Alpay,Franklin Dean Kalk. Владелец: Dupont Photomasks Inc. Дата публикации: 2002-10-11.

Half-tone stacked film, photomask-blank, photomask and fabrication method thereof

Номер патента: EP1688789B1. Автор: Yukio Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Inazuki,Satoshi Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Okazaki,Tadashi Toppan Printing Co. Ltd. Saga,Hiroki Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Yoshikawa,Yoshinori Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Kinase,Motohiko Toppan Printing Co. Ltd. Morita. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2009-04-22.

Photomask blank, photomask manufacturing method and photomask

Номер патента: JP7044095B2. Автор: 紘平 笹本,直樹 松橋. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-30.

Photomask blank

Номер патента: KR101942120B1. Автор: 히데오 나카가와,히데오 가네코,유키오 이나즈키,고우헤이 사사모토,소우이치 후카야. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2019-01-24.

Photomask blank, photomask using the same, and method for manufacturing semiconductor element

Номер патента: CN115453817A. Автор: 金泰完,李乾坤,金星润,申仁均,崔石荣,金修衒,孙晟熏,郑珉交,李亨周,曹河铉. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-09.

Substrate with film for reflective mask blank, reflective mask blank, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: EP4160311A1. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-05.

Substrate with film for reflective mask blank, reflective mask blank, and method for manufacturing reflective mask

Номер патента: US12124162B2. Автор: Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Mask blanks and methods for depositing layers on mask blank

Номер патента: US12019367B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Wen-Chang Hsueh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: EP4152093A1. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-03-22.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240280890A1. Автор: Takuma Kato,Yusuke Ono,Takeshi Okato,Daijiro AKAGI,Ryusuke OISHI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Mask blank, and transfer mask

Номер патента: US09952498B2. Автор: Toshiyuki Suzuki,Shigenori Ishihara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Reflective photomask blanks and reflective photomasks

Номер патента: US09454074B2. Автор: Hwan-Seok Seo,Su-Young Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-09-27.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: US20200159106A1. Автор: Toru Komizo,Norihito Fukugami. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Reflective photomask and method of fabricating the same

Номер патента: US20100233593A1. Автор: Yunsong Jeong,Ni-Eun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-09-16.

Reflective photomask and production method therefor

Номер патента: US09927692B2. Автор: Tomohiro Imoto,Norihito Fukugami,Genta Watanabe. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Reflective photomask, method for manufacturing same and program for making mask pattern

Номер патента: US09841667B2. Автор: Takashi Kamo. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2017-12-12.

Reflective photomask and method of fabricating the same

Номер патента: US8142962B2. Автор: Yunsong Jeong,Ni-Eun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-03-27.

Method of fabricating reflective photomask

Номер патента: US09726970B2. Автор: Choong Han RYU. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-08-08.

Repair of reflective photomask used in semiconductor process

Номер патента: US5780187A. Автор: Christophe Pierrat. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1998-07-14.

Reflective photomask and reflection-type mask blank

Номер патента: US20170108766A1. Автор: Thorsten Schedel,Markus Bender. Владелец: Advanced Mask Technology Center GmbH and Co KG. Дата публикации: 2017-04-20.

Photomask blank and method of fabricating a photomask using the same

Номер патента: US20170131628A1. Автор: Dong Sik Jang. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-05-11.

Photomask blank and method of fabricating a photomask using the same

Номер патента: US10317791B2. Автор: Dong Sik Jang. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2019-06-11.

Photomask blank

Номер патента: US09864266B2. Автор: Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Photomask blank

Номер патента: US9864269B2. Автор: Kouhei Sasamoto. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Photomask blank, manufacturing method of photomask and photomask

Номер патента: US20210173296A1. Автор: Naoki Matsuhashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-10.

Halftone phase shift-type photomask blank, method of manufacturing thereof, and halftone phase shift-type photomask

Номер патента: EP3798727A3. Автор: Keisuke Sakurai,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-21.

Photomask blank, manufacturing method of photomask and photomask

Номер патента: EP3832388A1. Автор: Naoki Matsuhashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-09.

Photomask blank, manufacturing method of photomask and photomask

Номер патента: US11402744B2. Автор: Naoki Matsuhashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-02.

Mask blank and method of fabricating phase shift mask from the same

Номер патента: US20030194620A1. Автор: Yong-Hoon Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-16.

Substrate with Film for Reflective Mask Blank, and Reflective Mask Blank

Номер патента: US20240248388A1. Автор: Hideo Kaneko,Tsuneo Terasawa,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Reflective mask blank, method of manufacturing thereof, and reflective mask

Номер патента: US12050396B2. Автор: Takuro Yamamoto,Shohei Mimura,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: EP4145222A4. Автор: Hideaki Nakano,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2024-11-06.

Reflective photomask blanks and reflective photomask

Номер патента: EP3979000A1. Автор: Norihito Fukugami,Ayumi Goda. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2022-04-06.

Photomask Assembly with Reflective Photomask and Method of Manufacturing a Reflective Photomask

Номер патента: US20200225571A1. Автор: Bender Markus,Schedel Thorsten,Schenke Andreas. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-16.

Photomask assembly with reflective photomask and method of manufacturing a reflective photomask

Номер патента: KR20200088777A. Автор: 마르쿠스 벤데르,쏘르스텐 쉐델,안드레아스 쉔케. Владелец: 어드밴스드 마스크 테크놀로지 센터 게엠바하 운트 코 카게. Дата публикации: 2020-07-23.

Substrate with conductive film, substrate with multilayer reflective film, reflective photomask base, reflective photomask and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: TWI708993B. Автор: 小林巧,浜本和宏,淺川竜男,笑喜勉. Владелец: 日商Ｈｏｙａ股份有限公司. Дата публикации: 2020-11-01.

Reflective photomask and method of fabricating, reflective illumination system and method of process using the same

Номер патента: US8119309B2. Автор: Seong-Sue Kim,In-sung Kim,Dong-gun Lee,Hwan-Seok Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-02-21.

Reflective photomask and method of fabricating the same

Номер патента: US20070178393A1. Автор: Seong-Sue Kim,Sang-gyun Woo,Jin-Hong Park,Han-ku Cho,Suk-joo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-08-02.

A reflective photomask for monitoring pattern shift

Номер патента: KR20100091061A. Автор: 김성수,서환석,이동근,김인성. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2010-08-18.

Reflective Photomask, Method for Inspecting Same and Mask Blank

Номер патента: US20160266058A1. Автор: Kosuke TAKAI,Masato Naka. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-09-15.

Photomask blanks and photomask

Номер патента: TW201013312A. Автор: Yosuke Matsumoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2010-04-01.

Photomask blank and method for manufacturing photomask

Номер патента: US20130309600A1. Автор: Hideo Nakagawa,Kouhei Sasamoto,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-21.

Photomask blank and method for manufacturing photomask blank

Номер патента: KR20150034113A. Автор: 사토시 와타나베,아키라 이케다,요시오 가와이,히데오 가네코,유키오 이나즈키,도요히사 사쿠라다,다카시 요시이. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2015-04-02.

Photomask blank and making method, photomask, light pattern exposure method, and design method of transition metal/silicon base material film

Номер патента: TW201227167A. Автор: Takashi Haraguchi,Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Yukio Inazuki,Ryuji Koitabashi,Yosuke Kojima,Tomohito Hirose. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2012-07-01.

Photomask blank, and preparation method thereof

Номер патента: US20180180986A1. Автор: Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-28.

PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK FOR SUPPRESSING HEAT ABSORPTION

Номер патента: US20160363855A1. Автор: HA Tae Joong. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-15.

Methods of Manufacturing Photomask Blank and Photomask

Номер патента: KR100843417B1. Автор: 가쯔야 오꾸무라,히데오 가네꼬,유끼오 이나즈끼,데쯔시 쯔까모또,마사유끼 모기. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2008-07-03.

Method for manufacturing photomask blank and photomask

Номер патента: JP2004199035A. Автор: Katsuya Okumura,勝弥 奥村,Hideo Kaneko,英雄 金子,判臣 稲月,哲史 塚本,Sadaomi Inazuki,Tetsushi Tsukamoto,Tadayuki Mogi,均之 茂木. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2004-07-15.

Photomask blank, and method of manufacturing photomask

Номер патента: KR102442936B1. Автор: 고헤이 사사모토,유키오 이나즈키,나오키 마츠하시. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-09-14.

Photomask, photomask blank, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: CN115268208A. Автор: 金星润,金圭勋,申仁均,崔石荣,金修衒,孙晟熏,郑珉交,李亨周. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-01.

Photomask blank, and preparation method thereof

Номер патента: TW201839498A. Автор: 高坂卓郎,稲月判臣. Владелец: 日商信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2018-11-01.

Photomask blank, and preparation method thereof

Номер патента: KR102260707B1. Автор: 유키오 이나즈키,다쿠로 고사카. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2021-06-07.

Photomask blank and photomask manufacturing method

Номер патента: JP4258631B2. Автор: 勝弥 奥村,英雄 金子,判臣 稲月,哲史 塚本,均之 茂木. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-04-30.

Methods of manufacturing photomask blank and photomask

Номер патента: EP1426820A2. Автор: Hideo c/o New Functional Mat. Research Ctr Kaneko,Yukio New Functional Mat. Research Ctr Inazuki,Tetsushi New Functional Mat. Res. Ctr Tsukamoto,Masayuki New Functional Mat. Research Ctr Mogi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-09.

Photomask blank, and preparation method thereof

Номер патента: TWI738949B. Автор: 高坂卓郎,稲月判臣. Владелец: 日商信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2021-09-11.

Method for manufacturing photomask blank

Номер патента: US20150086909A1. Автор: Yoshio Kawai,Satoshi Watanabe,Akira Ikeda,Takashi Yoshii,Hideo Kaneko,Toyohisa Sakurada,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-26.

PHOTOMASK BLANKS, PHOTOMASKS FABRICATED USING THE SAME, AND METHODS OF FABRICATING PHOTOMASK USING THE SAME

Номер патента: US20160238926A1. Автор: PARK Eui Sang,NAM Kung Hoon. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-18.

Photomask blank, photomask and fabrication method thereof

Номер патента: KR20090104733A. Автор: 하시모토 마사히로,이와시타 히로유키,코미나토 아츠시. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2009-10-06.

Photomask blank, method of manufacturing the same, photomask, and method of manufacturing the same

Номер патента: US9389501B2. Автор: Toshiyuki Suzuki,Masahiro Hashimoto,Hiroyuki Iwashita. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-07-12.

Photomask blank, photomask and method of manufacturing the same

Номер патента: KR101623206B1. Автор: 마사히로 하시모또,히데아끼 미쯔이. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2016-05-20.

Photomask blank, photomask, and methods of manufacturing these

Номер патента: TWI481949B. Автор: Masahiro Hashimoto,Hiroyuki Iwashita,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-04-21.

Method for manufacturing photomask blank

Номер патента: EP2863259B1. Автор: Yoshio Kawai,Satoshi Watanabe,Akira Ikeda,Takashi Yoshii,Hideo Kaneko,Toyohisa Sakurada,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-06.

Method of fabricating photomask blank

Номер патента: US20080076040A1. Автор: Hiroki Yoshikawa,Noriyasu Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2008-03-27.

Reflective mask blank, and manufacturing method of reflective mask

Номер патента: US20240337916A1. Автор: Shohei Mimura,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Reflective mask blank, and manufacturing method of reflective mask

Номер патента: EP4443235A2. Автор: Shohei Mimura,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka,Taiga OGOSE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Photomask blank and method for preparing photomask

Номер патента: US09880459B2. Автор: Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Inorganic material film, photomask blank, and method for manufacturing photomask

Номер патента: US20170003584A1. Автор: Hideo Nakagawa,Kouhei Sasamoto,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-05.

Inorganic material film, photomask blank, and method for manufacturing photomask

Номер патента: US09851633B2. Автор: Hideo Nakagawa,Kouhei Sasamoto,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Devices, systems, and methods of generating and providing a target topographic map for finishing a photomask blank subject to functional requirements on flatness

Номер патента: WO2021061477A1. Автор: Christopher Alan Lee,David L Aronstein,Katherine Nicole BALLMAN. Владелец: CORNING INCORPORATED. Дата публикации: 2021-04-01.

Devices, systems, and methods of generating and providing a target topographic map for finishing a photomask blank subject to functional requirements on flatness

Номер патента: US20210097676A1. Автор: Christopher Alan Lee,Katherine Nicole BALLMAN,David L. Aronstein. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2021-04-01.

Devices, systems, and methods of generating and providing a target topographic map for finishing a photomask blank subject to functional requirements on flatness

Номер патента: US11551347B2. Автор: Christopher Alan Lee,David L Aronstein,Katherine Nicole BALLMAN. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2023-01-10.

Binary photomask blank, preparation thereof, and preparation of binary photomask

Номер патента: US09651858B2. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Photomask blank and photomask

Номер патента: US4720442A. Автор: Takashi Hatano,Norihiko Shinkai,Takeshi Haranoh,Junetsu Kanazawa. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 1988-01-19.

Ion-beam deposition process for manufacturing attenuated phase shift photomask blanks

Номер патента: US6756160B2. Автор: Peter Francis Carcia. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2004-06-29.

Methods for making reticle blanks, and for making reticles therefrom, for charged-particle-beam microlithography

Номер патента: US6355385B1. Автор: Shin-Ichi Takahashi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-03-12.

X-ray mask blank and manufacturing method for the same, and manufacturing method for X-ray mask

Номер патента: US5999590A. Автор: Takamitsu Kawahara,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 1999-12-07.

Reflective photomask blank, reflective photomask, and integrated circuit device manufactured by using reflective photomask

Номер патента: US20150037544A1. Автор: Hyung-ho Ko,Jin-Su Kim,Jae-Hyuck Choi,Han-Shin Lee,Soo-Wan KOH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2015-02-05.

Reflective photomask blank, reflective photomask and integrated circuit device manufactured by using photomask

Номер патента: KR102171266B1. Автор: 이한신,최재혁,고형호,김진수,고수완. Владелец: 삼성전자 주식회사. Дата публикации: 2020-10-28.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: KR102109129B1. Автор: 서환석,이수영. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2020-05-08.

Reflective photomask blank, reflective photomask, and method for manufacturing semiconductor device using same

Номер патента: KR100906026B1. Автор: 고이찌로 가나야마,다다시 마쯔오,야스시 니시야마. Владелец: 도판 인사츠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2009-07-02.

Reflective photomask blank, reflective photomask, and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: JP5003159B2. Автор: 正 松尾,泰史 西山,浩一郎 金山. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2012-08-15.

REFLECTIVE PHOTOMASK AND REFLECTION-TYPE MASK BLANK

Номер патента: US20170108766A1. Автор: Bender Markus,Schedel Thorsten. Владелец: Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG. Дата публикации: 2017-04-20.

Method of manufacturing photomask blank and photomask blank

Номер патента: US20170123306A1. Автор: Yukio Inazuki,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-04.

Method of manufacturing photomask blank and photomask blank

Номер патента: US09581892B2. Автор: Yukio Inazuki,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

METHOD OF FABRICATING REFLECTIVE PHOTOMASK

Номер патента: US20170123304A1. Автор: RYU Choong Han. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-04.

REFLECTIVE PHOTOMASK AND PRODUCTION METHOD THEREFOR

Номер патента: US20160178997A1. Автор: Imoto Tomohiro,Fukugami Norihito,Watanabe Genta. Владелец: TOPPAN PRINTING CO., LTD.. Дата публикации: 2016-06-23.

Reflective photomask and method for optimizing thicknesses of layers in the same

Номер патента: KR101361130B1. Автор: 허성민,안병섭,황보창권,강희영. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2014-02-12.

Reflection photomask, fabricating method of the same

Номер патента: KR100630728B1. Автор: 장승혁,김훈,김석필,송이헌,김원주. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2006-10-02.

Reflective photomask and manufacturing method thereof

Номер патента: TW202111421A. Автор: 李信昌,陳慶煌,孫啟元,林華泰,陳明威. Владелец: 台灣積體電路製造股份有限公司. Дата публикации: 2021-03-16.

Reflective photomask and production method therefor

Номер патента: EP3043375A1. Автор: Tomohiro Imoto,Norihito Fukugami,Genta Watanabe. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-13.

Reflective photomask and production method therefor

Номер патента: EP3043375B1. Автор: Tomohiro Imoto,Norihito Fukugami,Genta Watanabe. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-10-11.

Reflective photomask and production method therefor

Номер патента: EP3043375C0. Автор: Tomohiro Imoto,Norihito Fukugami,Genta Watanabe. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2023-10-11.

REFLECTIVE PHOTOMASK AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20220283489A1. Автор: Park Sang Uk,Oh Jong Keun,PARK Jong Ju. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-08.

REFLECTIVE PHOTOMASK, METHOD FOR MANUFACTURING SAME AND PROGRAM FOR MAKING MASK PATTERN

Номер патента: US20160274452A1. Автор: KAMO Takashi. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-22.

Method of manufacturing photomask blank and photomask blank

Номер патента: US20150010853A1. Автор: Yukio Inazuki,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-08.

PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20170023855A1. Автор: WATANABE Satoshi,Kaneko Hideo,INAZUKI Yukio,Ikeda Akira,KAWAI Yoshio,YOSHII Takashi,SAKURADA Toyohisa. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2017-01-26.

Halftone phase shift photomask, halftone phase shift photomask blank, and method of producing the blank.

Номер патента: EP0643331A3. Автор: Masahiro Takahashi,Hiroyuki Miyashita,Hiroshi Mohri,Naoya Hayashi. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1996-09-18.

Method of manufacturing photomask blank and photomask blank

Номер патента: EP2821853B1. Автор: Yukio Inazuki,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-02-17.

Phase shift photomask blank, phase shift photomask and phase shift photomask blank

Номер патента: TWI684060B. Автор: 稲月判臣,髙坂卓郎. Владелец: 日商信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2020-02-01.

Photomask blank, photomask and photomask blank manufacturing method

Номер патента: JP6082421B2. Автор: 博明 宍戸,雅広 橋本,淳志 小湊,浩之 岩下,守男 細谷,細谷　守男. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-02-15.

Halftone phase shift photomask, blank halftone phase shift mask, and method of making the blank mask

Номер патента: DE69423686D1. Автор: Masahiro Takahashi,Hiroyuki Miyashita,Hiroshi Mohri,Naoya Hayashi. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2000-05-04.

Phase shift photomask blank, phase shift photomask, and manufacturing method of phase shift photomask blank having a phase shift film which is thinner and advantageous for photomask pattern formation

Номер патента: TW201702733A. Автор: 稲月判臣,髙坂卓郎. Владелец: 信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2017-01-16.

OPTICALLY SEMITRANSMISSIVE FILM, PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK, AND METHOD FOR DESIGNING OPTICALLY SEMITRANSMISSIVE FILM

Номер патента: US20130309602A1. Автор: Nozawa Osamu,SHIOTA Yuki. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-21.

Half-tone phase shift photomask blank and half-tone phase shift photomask and methods of fabricating the same

Номер патента: KR101656456B1. Автор: 이혜경,우상균,김훈,장일용,남동석. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2016-09-12.

Phase shift-type photomask blank, method of preparing a photomask and phase shift-type photomask

Номер патента: EP3629084C0. Автор: Takuro Kosaka,Ryoken Ozawa. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-07.

Photomask blank, method for manufacturing photomask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: SG195487A1. Автор: Hideo Nakagawa,Kouhei Sasamoto,Souichi Fukaya. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2013-12-30.

Method for preparing halftone phase shift photomask blank

Номер патента: US09778560B2. Автор: Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Photomask blank and method of manufacturing photomask, and method of manufacturing display deⅵce

Номер патента: KR20190078506A. Автор: 마미 나카무라,세이지 츠보이. Владелец: 호야 일렉트로닉스 말레이지아 센드리안 베르하드. Дата публикации: 2019-07-04.

Phase-shift photomask-blank, phase-shift photomask and fabrication method thereof

Номер патента: TWI336812B. Автор: Hiroki Yoshikawa,Satoshi Okazaki,Yukio Inazuki,Tamotsu Maruyama. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2011-02-01.

PHOTOMASK BLANK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

Номер патента: US20130288163A1. Автор: FUKAYA Souichi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2013-10-31.

PHOTOMASK BLANK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

Номер патента: US20140120460A2. Автор: FUKAYA Souichi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2014-05-01.

PHASE SHIFT-TYPE PHOTOMASK BLANK AND PHASE SHIFT-TYPE PHOTOMASK

Номер патента: US20200096856A1. Автор: KOSAKA Takuro,OZAWA Ryoken. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2020-03-26.

PHOTOMASK BLANK AND METHOD OF FABRICATING A PHOTOMASK USING THE SAME

Номер патента: US20170131628A1. Автор: JANG Dong Sik. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-11.

PHOTOMASK BLANK, AND PREPARATION METHOD THEREOF

Номер патента: US20180180985A1. Автор: INAZUKI Yukio,KOSAKA Takuro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2018-06-28.

PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR PREPARING PHOTOMASK

Номер патента: US20170255095A1. Автор: Kaneko Hideo,INAZUKI Yukio,KOSAKA Takuro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2017-09-07.

PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR PREPARING PHOTOMASK

Номер патента: US20200264502A1. Автор: Kaneko Hideo,INAZUKI Yukio,KOSAKA Takuro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2020-08-20.

Photomask blank and method for manufacturing photomask

Номер патента: KR101319311B1. Автор: 도시유키 스즈키,야스시 오쿠보,오사무 노자와,모리오 호소야,아츠시 고미나토. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-10-16.

Photomask, photomask substrate, method for manufacturing photomask substrate, photomask blank, and method for manufacturing display device

Номер патента: CN106933026B. Автор: 山口昇. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-12-29.

Photomask, method for designing photomask, photomask blank, and method for manufacturing display device

Номер патента: KR101898327B1. Автор: 슈헤이 고바야시. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-09-12.

Phase shift photomask blank and phase shift photomask

Номер патента: JP6927177B2. Автор: 卓郎 ▲高▼坂,良兼 小澤. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-25.

Photomask blank and method for preparing photomask

Номер патента: KR20170102811A. Автор: 히데오 가네코,유키오 이나즈키,다쿠로 고사카. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2017-09-12.

Photomask blank, and process for production of photomask

Номер патента: EP2515169A1. Автор: Hiroki Yoshikawa,Yukio Inazuki,Ryuji Koitabashi,Yosuke Kojima. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-24.

Phase shift photomask, phase shift photomask blank, and process for fabricating them

Номер патента: EP0585872A3. Автор: Hiroyuki Miyashita,Koichi Mikami,Yukio Iimura,Norihiro Tarumoto. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1996-07-24.

Phase shift-type photomask blank and phase shift-type photomask

Номер патента: KR102493632B1. Автор: 다쿠로 고사카,료켄 오자와. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2023-02-01.

Photomask blank, and process for production of photomask

Номер патента: CN102656516A. Автор: 吉川博树,稻月判臣,小板桥龙二,小岛洋介. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-05.

Photomask blank and method for preparing photomask

Номер патента: KR102374972B1. Автор: 히데오 가네코,유키오 이나즈키,다쿠로 고사카. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-03-16.

Photomask blank and method of manufacturing photomask

Номер патента: TW201131286A. Автор: Hiroki Yoshikawa,Yukio Inazuki,Ryuji Koitabashi,Yosuke Kojima. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2011-09-16.

Photomask blank, method for manufacturing photomask, and method for manufacturing phase shift mask

Номер патента: US20130309601A1. Автор: Hideo Nakagawa,Kouhei Sasamoto,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-21.

PHOTOMASK BLANK, MAKING METHOD, AND PHOTOMASK

Номер патента: US20170082917A1. Автор: Igarashi Shinichi,FUKAYA Souichi,YOSHII Takashi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2017-03-23.

Halftone phase shift photomask blank, halftone phase shift photomask and pattern exposure method

Номер патента: US20150125785A1. Автор: Hideo Kaneko,Toyohisa Sakurada,Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-07.

PHOTOMASK BLANK, MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK AND PHOTOMASK

Номер патента: US20210173296A1. Автор: MATSUHASHI Naoki. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2021-06-10.

PHOTOMASK BLANK INCLUDING A THIN CHROMIUM HARDMASK

Номер патента: US20180164674A1. Автор: Wistrom Richard. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-14.

PHOTOMASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, AND PHOTOMASK

Номер патента: US20190369482A1. Автор: INAZUKI Yukio,Sasamoto Kouhei. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2019-12-05.

Photomask blank, photomask, and manufacturing method of semiconductor element

Номер патента: US20220350238A1. Автор: Suk Young Choi,Inkyun Shin,Sung Hoon Son,Min Gyo Jeong,Hyung-Joo Lee,GeonGon LEE,Seong Yoon Kim. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-03.

Halftone phase shift photomask, blank for halftone phase shift photomask for the same, and pattern formation method using the same

Номер патента: JP4197378B2. Автор: 弘 毛利,本永稔明,初田千秋,伊藤範人,直也 林,小野寺俊雄,松尾隆弘,透 小川,中澤啓輔. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2008-12-17.

Photomask blank, photomask production method, and display device production method

Номер патента: JP2021149092A. Автор: Masaru Tanabe,順一 安森,勝 田辺,敬司 浅川,Takashi Asakawa,Junichi Yasumori. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-09-27.

Halftone phase shift photomask blank, halftone phase shift photomask and pattern exposure method

Номер патента: KR101709381B1. Автор: 히데오 가네코,유키오 이나즈키,도요히사 사쿠라다,다쿠로 고사카,고우헤이 사사모토. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2017-02-22.

Photomask blank

Номер патента: CN106502041B. Автор: 笹本纮平. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-26.

Photomask blank, photomask and method for manufacturing the photomask

Номер патента: KR101808981B1. Автор: 마사히로 하시모또,히로유끼 이와시따,히로아끼 시시도,아쯔시 고미나또. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-12-13.

Photomask and photomask blank

Номер патента: US5597667A. Автор: Shuji Nakao. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1997-01-28.

Photomask blank, photomask and fabrication method thereof

Номер патента: EP1746460B1. Автор: Takashi Haraguchi,Hiroshi Kubota,Yuichi Fukushima,Hiroki Yoshikawa,Satoshi Okazaki,Masahide Iwakata,Tadashi Saga,Tamotsu Maruyama,Yoshinori Kinase. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-06.

Photomask blank having backside conductive layer and photomask fabricated using the same

Номер патента: CN114200769A. Автор: 梁澈圭,公拮寓,徐暻原. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-18.

Halftone phase shift photomask blank, halftone phase shift photomask and pattern exposure method

Номер патента: IL235229A0. Автор: . Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2015-01-29.

Half-tone phase shift photomask blank, half-tone phase shift photomask and pattern exposure method

Номер патента: CN104635415B. Автор: 稻月判臣,金子英雄,高坂卓郎,笹本纮平,樱田丰久. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-03.

Photomask blank, photomask, and methods of manufacturing the same

Номер патента: US20110212392A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Hiroyuki Iwashita,Hiroaki Shishido,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-09-01.

Photomask substrate, photomask blank, photomask, method of manufacturing a photomask substrate, method of manufacturing a photomask, and method of manufacturing a display device

Номер патента: TW201740185A. Автор: 山口昇. Владелец: Ｈｏｙａ股份有限公司. Дата публикации: 2017-11-16.

Photomask substrate, method of manufacturing a photomask substrate, photomask blank, photomask, pattern transfer method, method of manufacturing liquid crystal display, and proximity gap evaluating method

Номер патента: TWI506355B. Автор: Toshiyuki Tanaka,Hisami Ikebe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-11-01.

Photomask blank, method for manufacturing photomask, and method for manufacturing display device

Номер патента: CN113406855A. Автор: 田边胜,浅川敬司,安森顺一. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-09-17.

Photomask blank, production method of photomask, and photomask

Номер патента: JP2023065616A. Автор: Naoki Matsuhashi,直樹 松橋. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-12.

Photomask blank

Номер патента: EP3139211A2. Автор: Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-08.

Photomask blank

Номер патента: JP6451561B2. Автор: 判臣 稲月,紘平 笹本,稲月　判臣. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-16.

Photomask blank, photomask manufacturing method, and mask pattern forming method

Номер патента: KR20170121208A. Автор: 히데오 가네코,유키오 이나즈키,도요히사 사쿠라다,시게오 이리에,다카시 요시이,게이치 마스나가. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2017-11-01.

Photomask blank, photomask and method of fabricating a semiconductor element

Номер патента: TW202307558A. Автор: 李乾坤,申仁均,李亨周,崔石榮,孫晟熏,金星潤,鄭珉交. Владелец: 南韓商Ｓｋｃ索米克斯股份有限公司. Дата публикации: 2023-02-16.

Photomask Blank

Номер патента: KR20170028261A. Автор: 유키오 이나즈키,고우헤이 사사모토. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2017-03-13.

Photomask blank, photomask and method for manufacturing the photomask

Номер патента: KR101681338B1. Автор: 마사히로 하시모또,히로유끼 이와시따,히로아끼 시시도,아쯔시 고미나또. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2016-11-30.

Manufacturing method of photomask and photomask blank

Номер патента: TW202217439A. Автор: 笹本紘平. Владелец: 日商信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2022-05-01.

Photomask substrate (photomask blank), photomask manufacturing method and mask pattern forming method

Номер патента: TWI684062B. Автор: 金子英雄,稲月判臣,吉井崇,入江重夫,増永恵一,桜田豊久. Владелец: 日商信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2020-02-01.

Photomask blank, manufacturing method of photomask and photomask

Номер патента: EP3832388B1. Автор: Naoki Matsuhashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-14.

Photomask blank

Номер патента: EP3633452C0. Автор: Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-13.

Photomask blank

Номер патента: EP3633452B1. Автор: Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-13.

Phase-shift photomask-blank, phase-shift photomask and fabrication method thereof

Номер патента: TW200710559A. Автор: Hiroki Yoshikawa,Satoshi Okazaki,Yukio Inazuki,Tamotsu Maruyama. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2007-03-16.

Halftone Phase Shift-Type Photomask Blank, Method of Manufacturing thereof, and Halftone Phase Shift-Type Photomask

Номер патента: SG10202009482VA. Автор: Keisuke Sakurai,Takuro Kosaka. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2021-04-29.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: US20240241433A1. Автор: Takuma Kato,Keishi Tsukiyama,Yukihiro Iwata,Toshiyuki Uno,Hiroshi HANEKAWA,Sadatatsu IKEDA,Daijiro AKAGI,Ryusuke OISHI,Chikako HANZAWA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Euv exposure mask blanks and their fabrication process, and euv exposure mask

Номер патента: US20070015065A1. Автор: Tsukasa Abe,Shiho Sasaki. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2007-01-18.

Ultra-smooth layer ultraviolet lithography mirrors and blanks, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: US20140268083A1. Автор: Abhijit Basu Mallick,Nitin K. Ingle,Ralf Hofmann,Cara Beasley,Soumendra N. Barman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US20240272541A1. Автор: Kenichi Sasaki,Ichiro Ishikawa,Wataru Nishida,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask

Номер патента: US12105412B2. Автор: Kenichi Sasaki,Ichiro Ishikawa,Wataru Nishida,Hiroaki IWAOKA,Daijiro AKAGI. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Reflective mask blank and reflective mask

Номер патента: US12124164B2. Автор: Takuma Kato,Keishi Tsukiyama,Yukihiro Iwata,Toshiyuki Uno,Hiroshi HANEKAWA,Sadatatsu IKEDA,Daijiro AKAGI,Ryusuke OISHI,Chikako HANZAWA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Mask blank and method of manufacturing phase shift mask

Номер патента: US09494852B2. Автор: Yasushi Okubo,Ryo Ohkubo. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Reflective mask blank and method for manufacturing same, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150301441A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Osamu Maruyama,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2015-10-22.

Reflective mask blank and method for manufacturing same, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20160282711A1. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Osamu Maruyama,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-09-29.

Reflective mask blank for EUV lithography and process for its production, as well as substrate with reflective layer for such mask blank and process for its production

Номер патента: US09720316B2. Автор: Masaki Mikami. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Reflective mask blank and method for manufacturing same, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09535318B2. Автор: Kazuhiro Hamamoto,Osamu Maruyama,Tsutomu Shoki,Tatsuo ASAKAWA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Reflective mask blank and process for producing the reflective mask blank

Номер патента: US09927693B2. Автор: Kazuyuki Hayashi,Junichi Kageyama,Hiroshi HANEKAWA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Reflection type mask blank and method for manufacturing same

Номер патента: US20240231215A9. Автор: Masaru Hori,Takayoshi Tsutsumi,Wataru Nishida. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Reflective element for mask blank and process for producing reflective element for mask blank

Номер патента: US20170235218A1. Автор: Toshiyuki Uno. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-17.

Photomask blank, photomask and method of manufacture

Номер патента: US20010019801A1. Автор: Hideo Kaneko,Satoshi Okazaki,Yukio Inazuki,Tamotsu Maruyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2001-09-06.

Preparation of photomask blank and photomask

Номер патента: US20050260505A1. Автор: Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Noriyasu Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2005-11-24.

Photomask blank and photomask

Номер патента: US20170153540A1. Автор: Chang-Ming Dai. Владелец: Crowningtek Inc. Дата публикации: 2017-06-01.

Photomask blank and process for making a photomask blank using gradual compositional transition between strata

Номер патента: US5230971A. Автор: Hakki U. Alpay. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1993-07-27.

Photomask blank

Номер патента: US09618838B2. Автор: Yukio Inazuki,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Method of evaluating photomask blank-associated substrate

Номер патента: US20190384166A1. Автор: Takahiro KISHITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-19.

Photomask blank, photomask, and making method

Номер патента: SG188719A1. Автор: Nishikawa Kazuhiro,Igarashi Shinichi,YOSHIKAWA Hiroki,INAZUKI Yukio. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2013-04-30.

Photomask blank and manufacturing method thereof

Номер патента: SG194284A1. Автор: Souichi Fukaya. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2013-11-29.

Method of evaluating photomask blank-associated substrate

Номер патента: US11137678B2. Автор: Takahiro KISHITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-05.

Photomask blank and manufacturing method thereof

Номер патента: US20130288163A1. Автор: Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-10-31.

Photomask blank and manufacturing method thereof

Номер патента: US20140120460A2. Автор: Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-01.

Photomask blanks, photomasks fabricated using the same, and methods of fabricating photomask using the same

Номер патента: US9664998B2. Автор: Eui Sang PARK,Kung Hoon NAM. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-05-30.

Method of manufacturing mask blank and method of manufacturing transfer mask

Номер патента: US09664997B2. Автор: Hiroaki Shishido,Osamu Nozawa,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Photolithography method, photolithography mask blanks, and method of making

Номер патента: EP1240556A1. Автор: Daniel R. Sempolinski,Richard S. Priestley,Chunzhe C. Yu. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2002-09-18.

Method of annealing reflective photomask by using laser

Номер патента: US20240184192A1. Автор: Jongju Park,Raewon Yi,Hakseung Han,Sanguk Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-06.

Method of annealing reflective photomask by using laser

Номер патента: US11934092B2. Автор: Jongju Park,Raewon Yi,Hakseung Han,Sanguk Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-19.

Designing of photomask blank and photomask blank

Номер патента: US09798229B2. Автор: Hideo Kaneko,Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Halftone phase shift photomask blank and making method

Номер патента: US09645485B2. Автор: Hideo Kaneko,Toyohisa Sakurada,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Method for Preparing Photomask Blank, Photomask Blank, Method for Preparing Photomask, Photomask, and Metallic Chromium Target

Номер патента: SG10201800448XA. Автор: Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto,Tsutomu Yuri. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2018-09-27.

Method for preparing photomask blank, photomask blank, method for preparing photomask, photomask, and metallic chromium target

Номер патента: US20180224737A1. Автор: Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto,Tsutomu Yuri. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-09.

Photomask blank manufacturing method, photomask blank, photomask, and pattern transfer method

Номер патента: US09689066B2. Автор: Hiroki Yoshikawa,Hideo Nakagawa,Yukio Inazuki,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Photomask making method, photomask blank and dry etching method

Номер патента: US9164374B2. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hideo Kaneko,Shinichi Igarashi,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-10-20.

Phase shift mask blank and phase shift mask

Номер патента: US20110111332A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Hiroyuki Iwashita,Hiroaki Shishido,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-05-12.

Photomask blank manufacturing method, photomask blank, photomask, and pattern transfer method

Номер патента: US20130309599A1. Автор: Hiroki Yoshikawa,Hideo Nakagawa,Yukio Inazuki,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-21.

Photomask blank, resist pattern forming process, and method for making photomask

Номер патента: US09904169B2. Автор: Satoshi Watanabe,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Photomask blank, making method, and photomask

Номер патента: US09952501B2. Автор: Takashi Yoshii,Shinichi Igarashi,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Halftone phase shift photomask blank, making method, and halftone phase shift photomask

Номер патента: US09897911B2. Автор: Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Phase-shifting photomask blank and method of manufacturing the same as well as phase-shifting photomask

Номер патента: US5952128A. Автор: Atsushi Hayashi,Akira Chiba,Nobuyuki Yoshioka,Tsuneo Yamamoto,Yoshihiro Saito,Junji Miyazaki,Akihiko Isao,Susumu Kawada. Владелец: Ulvac Coating Corp. Дата публикации: 1999-09-14.

Photomask producing method and photomask blank

Номер патента: US7709161B2. Автор: Yasushi Okubo,Mutsumi Hara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2010-05-04.

Photomask blank, photomask, methods of manufacturing the same and methods of forming micropattern

Номер патента: US20050142463A1. Автор: Masao Ushida,Masaru Mitsui,Haruhiko Yamagata. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2005-06-30.

Halftone phase shift photomask blank, making method, and halftone phase shift photomask

Номер патента: US20170059983A1. Автор: Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-02.

Attenuated embedded phase shift photomask blanks

Номер патента: US20030194568A1. Автор: Marie Angelopoulos,Robert Lang,Michael Hibbs,Katherina Babich,Arpan Mahorowala,S. Chey,Kenneth Racette. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2003-10-16.

LIGHT-REFLECTIVE PHOTOMASK AND MASK BLANK FOR EUV EXPOSURE, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20140242499A1. Автор: TAKAI Kosuke. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2014-08-28.

Half-tone phase shift mask blank, half-tone phase shift mask fabricated from the blank, method of pattern transfer using the phase shift mask, and process of fabricating photomask blank

Номер патента: TW518450B. Автор: Hideaki Mitsui,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2003-01-21.

Photomask blank, photomask and photomask blank manufacturing method

Номер патента: JP5562835B2. Автор: 博明 宍戸,雅広 橋本,淳志 小湊,浩之 岩下. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2014-07-30.

PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20140057199A1. Автор: Kominato Atsushi,Hashimoto Masahiro,SHISHIDO Hiroaki,IWASHITA Hiroyuki,Hosoya Morio. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2014-02-27.

Photomask blank and process for producing the same, process for producing photomask, and process for producing semiconductor device

Номер патента: KR101541982B1. Автор: 야스시 오꾸보,마사오 우시다,히로유끼 이와시따,다께유끼 야마다. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2015-08-04.

Photomask blank and process for producing the same, process for producing photomask, and process for producing semiconductor device

Номер патента: WO2007037383A1. Автор: Yasushi Okubo,Hiroyuki Iwashita,Masao Ushida,Takeyuki Yamada. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2007-04-05.

Photomask blank and process for producing the same, process for producing photomask, and process for producing semiconductor device

Номер патента: TW200720837A. Автор: Yasushi Okubo,Hiroyuki Iwashita,Masao Ushida,Takeyuki Yamada. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-06-01.

Photomask blank and process for producing the same, process for producing photomask, and process for producing semiconductor device

Номер патента: KR101503932B1. Автор: 야스시 오꾸보,마사오 우시다,히로유끼 이와시따,다께유끼 야마다. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2015-03-18.

Photomask blank and method of producing the same, method of producing photomask, and method of producing semiconductor device

Номер патента: US20090233182A1. Автор: Yasushi Okubo,Hiroyuki Iwashita,Masao Ushida,Takeyuki Yamada. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2009-09-17.

Photomask blank and method of producing the same, method of producing photomask, and method of producing semiconductor device

Номер патента: US7901842B2. Автор: Yasushi Okubo,Hiroyuki Iwashita,Masao Ushida,Takeyuki Yamada. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-03-08.

Method for preparing halftone phase shift photomask blank

Номер патента: US09778559B2. Автор: Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Method for preparing halftone phase shift photomask blank

Номер патента: US20160291454A1. Автор: Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Ion-beam deposition process for manufacturing multilayered attenuated phase shift photomask blanks

Номер патента: AU2002307450A1. Автор: Peter Francis Carcia,Laurent Dieu. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2002-11-05.

PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR PREPARING PHOTOMASK

Номер патента: US20170031237A1. Автор: INAZUKI Yukio,FUKAYA Souichi,Sasamoto Kouhei. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2017-02-02.

Photomask blank and photomask

Номер патента: JP5115953B2. Автор: 正男 牛田,勝 三井. Владелец: Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd. Дата публикации: 2013-01-09.

Photomask Blank and Photomask

Номер патента: KR100596110B1. Автор: 히데오 가네꼬,유끼오 이나즈끼,사또시 오까자끼. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2006-07-05.

Photomask, the method of manufacturing photomask, photomask blank and the method of manufacturing display device

Номер патента: KR102168149B1. Автор: 유따까 요시까와,히로유끼 스가와라,노부히사 이마시끼. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-10-20.

Photomask blank and photomask

Номер патента: JPS62280742A. Автор: 正男 牛田,Masao Ushida. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 1987-12-05.

Photomask, the method of manufacturing photomask, photomask blank and the method of manufacturing display device

Номер патента: KR102195658B1. Автор: 유따까 요시까와,히로유끼 스가와라,노부히사 이마시끼. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-12-28.

Inorganic material film, photomask blank and method for manufacturing photomask

Номер патента: CN106324978B. Автор: 笹本纮平,中川秀夫,深谷创一. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-15.

PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20170068154A1. Автор: INAZUKI Yukio,Sasamoto Kouhei. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2017-03-09.

DEVICES, SYSTEMS, AND METHODS OF GENERATING AND PROVIDING A TARGET TOPOGRAPHIC MAP FOR FINISHING A PHOTOMASK BLANK SUBJECT TO FUNCTIONAL REQUIREMENTS ON FLATNESS

Номер патента: US20210097676A1. Автор: Aronstein David L.,Lee Christopher Alan,Ballman Katherine Nicole. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-01.

PHOTOMASK BLANK, RESIST PATTERN FORMING PROCESS, AND METHOD FOR MAKING PHOTOMASK

Номер патента: US20160147142A1. Автор: WATANABE Satoshi,Masunaga Keiichi,Domon Daisuke,Adachi Teppei. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2016-05-26.

Binary photomask blank, preparation thereof, and preparation of binary photomask

Номер патента: KR102181325B1. Автор: 가즈히로 니시카와,유키오 이나즈키,다쿠로 고사카. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2020-11-20.

Ion-beam deposition process for manufacturing attenuated phase shift photomask blanks

Номер патента: WO2002086620A3. Автор: Peter Francis Carcia. Владелец: Peter Francis Carcia. Дата публикации: 2003-09-12.

Photomask blank, resist pattern forming process, and method for making photomask

Номер патента: TWI574106B. Автор: 增永惠一,土門大將,渡邊聰,阿達鐵平. Владелец: 信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2017-03-11.

Photomask blank, photomask manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: TW200731005A. Автор: Hiroyuki Iwashita,Masao Ushida,Takeyuki Yamada. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-08-16.

Ion-beam deposition process for manufacturing attenuated phase shift photomask blanks

Номер патента: WO2002086620A2. Автор: Peter Francis Carcia. Владелец: E.I. Du Pont De Nemours and Company. Дата публикации: 2002-10-31.

Photomask blank, photomask, method for its production and method for producing a semiconductor device

Номер патента: DE112009002348T5. Автор: Masahiro Hashimoto,Atsushi Kominato. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-01-19.

Photomask blank defect inspection method, sorting method, and manufacturing method

Номер патента: JP6394544B2. Автор: 恒男 寺澤,洋 福田,大祐 岩井,隆裕 木下,敦 横畑,岩井　大祐. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-26.

Photomask blank

Номер патента: US9798230B2. Автор: Kouhei Sasamoto,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Photomask blank

Номер патента: JPS57147634A. Автор: Shigekazu Matsui,Osamu Nagarekawa. Владелец: Hoya Electronics Corp. Дата публикации: 1982-09-11.

Ion-beam deposition process for manufacturing multilayered attenuated phase shift photomask blanks

Номер патента: WO2002086621A2. Автор: Peter Francis Carcia,Laurent Dieu. Владелец: E.I. Du Pont De Nemours and Company. Дата публикации: 2002-10-31.

Photomask blank, photomask, process for producing same, and process for producing semiconductor device

Номер патента: WO2010038445A1. Автор: 小湊淳志,橋本雅広. Владелец: Hoya株式会社. Дата публикации: 2010-04-08.

Defect inspecting method, sorting method and producing method for photomask blank

Номер патента: US9829442B2. Автор: Hiroshi Fukuda,Tsuneo Terasawa,Daisuke Iwai,Takahiro KISHITA,Atsushi YOKOHATA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Ion-beam deposition process for manufacturing attenuated phase shift photomask blanks

Номер патента: US20020187405A1. Автор: Peter Carcia. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-12.

Photomask blank, photomask, process for producing same, and process for producing semiconductor device

Номер патента: CN102165369A. Автор: 桥本雅广,小凑淳志. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-08-24.

Devices, systems, and methods of generating and providing a target topographic map for finishing a photomask blank subject to functional requirements on flatness

Номер патента: EP4034943A4. Автор: Christopher Alan Lee,David L Aronstein,Katherine Nicole BALLMAN. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2023-10-04.

Reflective Photomask Blanks and Reflective Photomasks

Номер патента: US20150010854A1. Автор: SEO Hwan-seok,Lee Su-young. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-08.

Photomask blank and making method

Номер патента: EP3415987B1. Автор: Tsuneo Terasawa,Shigeo Irie,Takahiro KISHITA,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-29.

Photomask blank and photomask

Номер патента: TW201107868A. Автор: Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Yukio Inazuki. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2011-03-01.

Photomask blank and method of manufacturing photomask blank, method of manufacturing photomask, and method of manufacturing display deⅵce

Номер патента: KR102277835B1. Автор: 마미 나카무라,세이지 쯔보이. Владелец: 호야 일렉트로닉스 말레이지아 센드리안 베르하드. Дата публикации: 2021-07-15.

Photomask blank and method of manufacturing photomask blank, method of manufacturing photomask, and method of manufacturing display deⅵce

Номер патента: KR102365488B1. Автор: 마미 나카무라,세이지 쯔보이. Владелец: 호야 일렉트로닉스 말레이지아 센드리안 베르하드. Дата публикации: 2022-02-18.

DESIGNING OF PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20160033859A1. Автор: Kaneko Hideo,INAZUKI Yukio,FUKAYA Souichi,Sasamoto Kouhei. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2016-02-04.

Photomask Blank Substrate, Photomask Blank and Photomask

Номер патента: KR100591602B1. Автор: 나카츠마사유키,누마나미츠네오,모기마사유키,이토마사미츠,하기와라츠네유키,곤도나오토. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2006-06-20.

Substrate for photomask blank, photomask blank and photomask

Номер патента: DE102004035560B4. Автор: Naoto Kondo,Tsuneyuki Hagiwara,Masayuki Mogi,Masamitsu Itoh,Masayuki Nakatsu,Tsuneo Numanami. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-05-17.

Photomask blank substrate, photomask blank and photomask

Номер патента: TW200510918A. Автор: Naoto Kondo,Tsuneyuki Hagiwara,Masayuki Mogi,Masamitsu Itoh,Masayuki Nakatsu,Tsuneo Numanami. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2005-03-16.

PHOTOMASK BLANK MANUFACTURING METHOD, PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD

Номер патента: US20130309599A1. Автор: YOSHIKAWA Hiroki,INAZUKI Yukio,FUKAYA Souichi,Nakagawa Hideo. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-21.

Photomask blank, method for manufacturing photomask blank, photomask, method for manufacturing photomask, photomask intermediate, and method for transferring pattern

Номер патента: TW200827926A. Автор: Kazuhisa Imura,Katsuhiko Nakanishi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2008-07-01.

Photomask blank, photomask blank making method, and photomask making method

Номер патента: US20190033703A1. Автор: Hideo Kaneko,Shigeo Irie,Takuro Kosaka,Naoki KAWAURA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-31.

Manufacturing method of photomask blank, photomask blank, manufacturing method of photomask, photomask, and chrome metal target

Номер патента: KR102297163B1. Автор: 고헤이 사사모토,유키오 이나즈키,츠토무 유리. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2021-09-01.

Photomask blank, photomask blank making method, and photomask making method

Номер патента: US11073756B2. Автор: Hideo Kaneko,Shigeo Irie,Takuro Kosaka,Naoki KAWAURA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-27.

Method for manufacturing substrate for photomask blank, method for manufacturing photomask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: CN102822743A. Автор: 田边胜. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-12-12.

Photomask blank, photomask blank manufacturing method and photomask manufacturing method

Номер патента: JP6753375B2. Автор: 英雄 金子,重夫 入江,金子　英雄,卓郎 ▲高▼坂,直樹 川浦. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-09.

Method of manufacturing a photomask blank and a photomask using the same, and manufacturing method of the display device

Номер патента: KR101846065B1. Автор: 세이지 즈보이,마사오 우시다,준이찌 야스모리,겐지 아야마. Владелец: 호야 일렉트로닉스 말레이지아 센드리안 베르하드. Дата публикации: 2018-04-05.

Photomask blank and method for manufacturing the same, and method for manufacturing photomask

Номер патента: KR101676031B1. Автор: 마사루 다나베. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2016-11-14.

Photomask blank, photomask, and making method

Номер патента: EP2568335B1. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hiroki Yoshikawa,Shinichi Igarashi,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-25.

PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK

Номер патента: US20130309600A1. Автор: FUKAYA Souichi,Nakagawa Hideo,Sasamoto Kouhei. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2013-11-21.

INORGANIC MATERIAL FILM, PHOTOMASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK

Номер патента: US20170003584A1. Автор: FUKAYA Souichi,Nakagawa Hideo,Sasamoto Kouhei. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2017-01-05.

PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK

Номер патента: US20190004420A1. Автор: INAZUKI Yukio,KOSAKA Takuro,OZAWA Ryoken. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2019-01-03.

Photomask blank and photomask

Номер патента: US20170153540A1. Автор: Chang-Ming Dai. Владелец: Crowningtek Inc. Дата публикации: 2017-06-01.

PHOTOMASK BLANK, AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK

Номер патента: US20200192215A1. Автор: INAZUKI Yukio,Sasamoto Kouhei,MATSUHASHI Naoki. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2020-06-18.

PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK FOR SUPPRESSING HEAT ABSORPTION

Номер патента: US20150227040A1. Автор: HA Tae Joong. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-13.

PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK USING THE SAME

Номер патента: US20220350237A1. Автор: Lee Hyung-Joo,SON SUNG HOON,KIM Kyuhun,KIM Suhyeon,Shin Inkyun,Choi Suk Young,Kim Seong Yoon,JEONG Min Gyo. Владелец: SKC solmics Co., Ltd.. Дата публикации: 2022-11-03.

Binary photomask blank and binary photomask making method

Номер патента: KR101787910B1. Автор: 히데오 가네꼬,히로끼 요시까와,유끼오 이나즈끼,가즈히로 니시까와. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2017-10-18.

Method of manufacturing photomask blank and method of manufacturing photomask

Номер патента: KR101724046B1. Автор: 하시모토 마사히로,이와시타 히로유키,코미나토 아츠시. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-04-06.

Binary photomask blank and binary photomask manufacture method

Номер патента: CN102375326B. Автор: 吉川博树,稻月判臣,金子英雄,西川和宏. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-19.

Method of manufacturing photomask blank and method of manufacturing photomask

Номер патента: KR101255414B1. Автор: 도시유끼 스즈끼,마사히로 하시모또,료 오꾸보,가즈야 사까이,가즈노리 오노. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-04-17.

Binary photomask blank and binary photomask making method

Номер патента: EP2418542A2. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hiroki Yoshikawa,Yukio Inazuki,Hideo Kanekko. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-02-15.

Substrate for photomask, photomask blank and photomask

Номер патента: KR100541376B1. Автор: 류 오타구로,코이치 하시구치. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-01-11.

Photomask blank and manufacturing method thereof

Номер патента: JPWO2009123166A1. Автор: 博明 宍戸,雅広 橋本,淳志 小湊,浩之 岩下. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-07-28.

Binary photomask blank and binary photomask making method

Номер патента: EP2418542B1. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-13.

Photomask blank and method for manufacturing the same

Номер патента: KR20110002054A. Автор: 마사히로 하시모또,히로유끼 이와시따,히로아끼 시시도,아쯔시 고미나또. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2011-01-06.

Photomask blank and its production

Номер патента: JPS61124942A. Автор: Sumiyoshi Kanazawa,金沢　純悦. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 1986-06-12.

Photomask blank and manufacturing process of photomask

Номер патента: KR100779956B1. Автор: 오타구로류. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2007-11-28.

Binary photomask blank and binary photomask making method

Номер патента: US8980503B2. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-17.

Preparation of photomask blank and photomask

Номер патента: TWI373789B. Автор: Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Noriyasu Fukushima. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2012-10-01.

Photomask blank and photomask

Номер патента: TW533334B. Автор: Hideo Kaneko,Yukio Inazuki,Tsutomu Shinagawa,Tetsushi Tsukamoto,Tomatsu Maruyama. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2003-05-21.

Photomask blank and photomask

Номер патента: EP2302453B1. Автор: Takashi Haraguchi,Yuichi Fukushima,Hiroki Yoshikawa,Mikio Takagi,Satoshi Okazaki,Yukio Inazuki,Masahide Iwakata,Tadashi Saga. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-01.

PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK, AND METHODS OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20130230795A1. Автор: Kominato Atsushi,Hashimoto Masahiro,SHISHIDO Hiroaki,IWASHITA Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2013-09-05.

PHOTOMASK BLANK, PROCESS FOR PRODUCTION OF PHOTOMASK, AND CHROMIUM-CONTAINING MATERIAL FILM

Номер патента: US20130230796A1. Автор: YOSHIKAWA Hiroki,INAZUKI Yukio,FUKAYA Souichi,Nakagawa Hideo,Yamamoto Tsuneo. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2013-09-05.

BINARY PHOTOMASK BLANK, PREPARATION THEREOF, AND PREPARATION OF BINARY PHOTOMASK

Номер патента: US20160018729A1. Автор: Nishikawa Kazuhiro,INAZUKI Yukio,KOSAKA Takuro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2016-01-21.

PHOTOMASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, PHOTOMASK, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20140127614A1. Автор: Hashimoto Masahiro,IWASHITA Hiroyuki,SUZUKI Toshiyuki. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2014-05-08.

Photomask blank

Номер патента: US20160077424A1. Автор: Yukio Inazuki,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-17.

PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20160077425A1. Автор: FUKAYA Souichi,Sasamoto Kouhei. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2016-03-17.

Evaluation method of defect size of photomask blank, selection method, and manufacturing method

Номер патента: US20160116837A1. Автор: Hiroshi Fukuda,Tsuneo Terasawa,Daisuke Iwai,Takahiro KISHITA,Atsushi YOKOHATA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-28.

PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20180259843A1. Автор: INAZUKI Yukio,FUKAYA Souichi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2018-09-13.

PHOTOMASK BLANK, RESIST PATTERN FORMING PROCESS, AND METHOD FOR MAKING PHOTOMASK

Номер патента: US20160299431A1. Автор: WATANABE Satoshi,Masunaga Keiichi,Domon Daisuke,Adachi Teppei. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2016-10-13.

METHOD OF EVALUATING PHOTOMASK BLANK-ASSOCIATED SUBSTRATE

Номер патента: US20190384166A1. Автор: KISHITA Takahiro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2019-12-19.

Photomask blank, Binary photomask and Phase shift photomask

Номер патента: KR101323578B1. Автор: 남기수,양철규,강긍원. Владелец: 주식회사 에스앤에스텍. Дата публикации: 2013-11-01.

Multi-gray scale photomask, photomask blank, method of manufacturing multi-gray scale photomask and pattern transfer method

Номер патента: KR101287708B1. Автор: 유따까 요시까와,도모노리 후꾸모또. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2013-07-24.

Photomask blank, photomask and method for manufacturing the same, and method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: JP5036544B2. Автор: 雅広 橋本,靖 大久保,淳志 小湊,浩之 岩下,剛之 山田. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-09-26.

Photomask Blank having alignment pattern and photomask which use the same and the preparing method of the same

Номер патента: KR101918380B1. Автор: 마사노리 하시모토. Владелец: 가부시키가이샤 에스케이 일렉트로닉스. Дата публикации: 2018-11-13.

Evaluation method of defect size of photomask blank, selection method, and manufacturing method

Номер патента: US9772551B2. Автор: Hiroshi Fukuda,Tsuneo Terasawa,Daisuke Iwai,Takahiro KISHITA,Atsushi YOKOHATA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Method for selecting substrates for a photomask blank

Номер патента: DE102004035610B4. Автор: Naoto Kondo,Tsuneyuki Hagiwara,Masayuki Mogi,Masayuki Nakatsu,Tsuneo Numanami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2021-01-21.

Method of Selecting Photomask Blank Substrates

Номер патента: KR100604214B1. Автор: 나카츠마사유키,누마나미츠네오,모기마사유키,이토마사미츠,하기와라츠네유키,곤도나오토. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2006-07-24.

Photomask blank, resist pattern forming process, and photomask preparation process

Номер патента: TWI465847B. Автор: Satoshi Watanabe,Tamotsu Watanabe,Takanobu Takeda,Keiichi Masunaga,Ryuji Koitabashi. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2014-12-21.

Ion-beam deposition process for manufacture of binary photomask blanks

Номер патента: US20030194616A1. Автор: Laurent Dieu,Peter Carcia. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-16.

Photomask blank, method for manufacturing photomask, and method for manufacturing display device

Номер патента: KR20220135170A. Автор: 마사루 타나베,케이시 아사카와,준이치 야스모리. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-10-06.

Photomask blank, Photomask and method of manufacture

Номер патента: EP1241524A3. Автор: Tsutomu Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Shinagawa,Tamotsu Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Maruyama,Hideo Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Kaneko,Mikio Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Kojima,Yukio Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Inazuki,Satoshi Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. Okazaki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2003-05-07.

Multi-gray scale photomask, photomask blank, method of manufacturing multi-gray scale photomask and pattern transfer method

Номер патента: CN101989043B. Автор: 吉川裕,福元友德. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-12-12.

Photomask blank, photomask and fabrication method thereof

Номер патента: KR101586344B1. Автор: 노자와 오사무. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2016-01-18.

Photomask blank, processing method, and etching method

Номер патента: CN101846876A. Автор: 渡边聪,金子英雄,白井省三,河合义夫,小板桥龙二,五十岚慎一. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-09-29.

Photomask blank

Номер патента: EP2998794A3. Автор: Yukio Inazuki,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-13.

Photomask Blank, Photomask and Method of Manufacture

Номер патента: KR100651117B1. Автор: 히데오 가네꼬,미끼오 고지마,유끼오 이나즈끼,다모쯔 마루야마,사또시 오까자끼,쯔또무 시나가와. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2006-11-29.

Photomask blank used for semiconductor device fabrication, has resist film which remains only on support and peripheral areas of circumferential portion of substrate

Номер патента: DE10245204A1. Автор: Mitsuaki Hata. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2003-05-22.

Process for producing substrates for photomask blanks

Номер патента: DE102004035617B4. Автор: Tsuneyuki Hagiwara,Masayuki Mogi,Masayuki Nakatsu,Tsuneo Numanami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-06-21.

Light pattern exposure method, photomask, and photomask blank

Номер патента: TWI498670B. Автор: Takashi Haraguchi,Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Yukio Inazuki,Ryuji Koitabashi,Yosuke Kojima,Tomohito Hirose. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2015-09-01.

Photomask blank, photomask using the same, and method for manufacturing semiconductor element

Номер патента: CN115373214A. Автор: 李乾坤,金星润,申仁均,崔石荣,孙晟熏,郑珉交,李亨周. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-22.

Methods for defect inspection, sorting and manufacturing photomask blanks

Номер патента: TW201841220A. Автор: 裕,福田洋,岩井大祐,寺澤恒男,横畑敦. Владелец: 日商信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2018-11-16.

Photomask blank, processing method, and etching method

Номер патента: TW201107870A. Автор: Yoshio Kawai,Satoshi Watanabe,Hideo Kaneko,Shinichi Igarashi,Ryuji Koitabashi,Shozo Shirai. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2011-03-01.

Photomask blank

Номер патента: JPS5990852A. Автор: Shigekazu Matsui,Koichi Maruyama,正男 牛田,Kenichi Kagaya,Masao Ushida,光一 丸山,松井　茂和,加賀谷　健一. Владелец: HOSAKA GLASS KK. Дата публикации: 1984-05-25.

Photomask blank, photomask, and photomask manufacturing method

Номер патента: US8518609B2. Автор: Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-08-27.

Photomask blank, photomask and photomask manufacturing method

Номер патента: JP6432636B2. Автор: 洋介 小嶋,好史 坂本,達也 長友. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2018-12-05.

light pattern exposure method, photomask and photomask blank

Номер патента: CN103135362B. Автор: 吉川博树,稻月判臣,金子英雄,原口崇,小板桥龙二,小岛洋介,广濑智一. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2015-09-30.

Photomask blank, photomask, and photomask manufacturing method

Номер патента: EP3608718A1. Автор: Yoshifumi Sakamoto,Yosuke Kojima,Tatsuya NAGATOMO. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-12.

Method of making photomask blank substrates

Номер патента: TWI336024B. Автор: Naoto Kondo,Tsuneyuki Hagiwara,Masayuki Mogi,Masayuki Nakatsu,Tsuneo Numanami. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2011-01-11.

Method for evaluating defect size of photomask blank, selection method and manufacturing method

Номер патента: JP6428555B2. Автор: 恒男 寺澤,洋 福田,大祐 岩井,隆裕 木下,敦 横畑,岩井　大祐. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-28.

Light pattern exposure method, photomask, and photomask blank

Номер патента: CN103135362A. Автор: 吉川博树,稻月判臣,金子英雄,原口崇,小板桥龙二,小岛洋介,广濑智一. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2013-06-05.

Photomask blank, photomask and fabrication method thereof

Номер патента: KR20150037796A. Автор: 노자와 오사무. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2015-04-08.

Photomask blank, photomask and fabrication method thereof

Номер патента: KR20090104732A. Автор: 노자와 오사무. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2009-10-06.

Photomask blank, photomask and manufacturing method thereof

Номер патента: JP5464186B2. Автор: 和宏 西川,博樹 吉川,判臣 稲月,慎一 五十嵐. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-09.

Photomask and photomask blank

Номер патента: DE3170637D1. Автор: Yoji Sasaki,Satoru Kaneki,Yuzi Kikuchi. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1985-06-27.

Defect dimension evaluation method of photomask blank, selection method thereof and manufacturing method thereof

Номер патента: JP2016085211A. Автор: Hiroshi Fukuda,Takahiro Kinoshita,Tsuneo Terasawa,恒男 寺澤,Daisuke Iwai,洋 福田,Atsushi YOKOHATA,大祐 岩井,隆裕 木下,敦 横畑,岩井　大祐. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-19.

Photomask blank, processing method, and etching method

Номер патента: KR101478384B1. Автор: 히데오 가네꼬,사또시 와따나베,요시오 가와이,류지 고이따바시,쇼조 시라이,신이찌 이가라시. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-12-31.

Photomask blank, photomask, and making method

Номер патента: US8841048B2. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hiroki Yoshikawa,Shinichi Igarashi,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-23.

Mask blank and transfer mask

Номер патента: US09746764B2. Автор: Yasushi Sakaida,Rikimaru Sakamoto,Masahiro Hashimoto,Ryuta Mizuochi,Masaki Nagai,Takahiro Hiromatsu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Mask blank and making method

Номер патента: US20160266485A1. Автор: Hideo Kaneko,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-15.

Method for manufacturing mask blank and coating apparatus

Номер патента: MY150671A. Автор: Keishi Asakawa,Ryoji Miyata. Владелец: Hoya Electronics Malaysia Sendirian Berhad. Дата публикации: 2014-02-28.

Defect inspection apparatus, method for inspecting defect, and method for manufacturing photomask blank

Номер патента: US11940391B2. Автор: Tsuneo Terasawa,Takumi Yoshino,Ryusei TERASHIMA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Illumination device for a display having a plate shaped optical unit with transmissive and reflective sections where light beams from mutually different directions are incident thereon

Номер патента: US11829060B2. Автор: Shingo Ohkawa,Gen Yonezawa. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2023-11-28.

Light source device with light splitting mirror and reflection mirror for reducing influence on uniformity of intensity distribution of beam flux, and projection device

Номер патента: US09977319B2. Автор: Hiroshi Ogino. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Projection apparatus having polarizing plate which absorbes and reflects output light, and vehicle

Номер патента: US09904052B2. Автор: Shoichi Matsuda,Yoshiaki Asanoi. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Reflective photomask blank and its manufacturing method, reflective photomask, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: JP2007294840A. Автор: Tadashi Matsuo,正 松尾,浩一郎 金山,Koichiro Kanayama,信平 田村,Shinpei Tamura. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2007-11-08.

Reflective photomask blank, process for producing the same, reflective photomask and process for producing semiconductor device

Номер патента: WO2007116562A1. Автор: Tadashi Matsuo,Koichiro Kanayama,Shinpei Tamura. Владелец: TOPPAN PRINTING CO., LTD.. Дата публикации: 2007-10-18.

Reflective photomask blank, process for producing the same, reflective photomask and process for producing semiconductor device

Номер патента: EP2015139B1. Автор: Tadashi Matsuo,Koichiro Kanayama,Shinpei Tamura. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-01.

Reflection photomask, method of fabricating reflection photomask and method of fabricating integrated circuit using the same

Номер патента: KR100455383B1. Автор: 이병택. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2004-11-06.

METHOD OF ANNEALING REFLECTIVE PHOTOMASK BY USING LASER

Номер патента: US20210223680A1. Автор: Park Jongju,Park Sanguk,Han Hakseung,Yi Raewon. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-22.

Reflection photomasks with a capping layer and methods for manufacturing the same

Номер патента: US20030198874A1. Автор: Byoung-Taek Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-10-23.

Method of annealing reflective photomask by using laser

Номер патента: US20230073206A1. Автор: Jongju Park,Raewon Yi,Hakseung Han,Sanguk Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-09.

Multi-tone photomask, photomask blank, and pattern transfer method

Номер патента: TW201017328A. Автор: Masaru Mitsui. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2010-05-01.

Method for preparing photomask blank and method for preparing photomask

Номер патента: EP3361314B1. Автор: Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto,Tsutomu Yuri. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-29.

Photomask blank, process for production of photomask, and chromium-containing material film

Номер патента: US09488907B2. Автор: Tsuneo Yamamoto,Hiroki Yoshikawa,Hideo Nakagawa,Yukio Inazuki,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

PHOTOMASK BLANK SUBSTRATE CONTAINER, METHOD FOR STORING PHOTOMASK BLANK SUBSTRATE AND METHOD FOR TRANSPORTING PHOTOMASK BLANK SUBSTRATE

Номер патента: US20170293220A1. Автор: KOITABASHI Ryuji,ITO Shogo. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2017-10-12.

Container for storing photomask blanks substrate, keeping method of photomask blanks substrate, and conveying method of photomask blanks substrate

Номер патента: KR102382330B1. Автор: 쇼고 이토,류지 고이타바시. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-04-01.

METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20150010853A1. Автор: INAZUKI Yukio,FUKAYA Souichi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2015-01-08.

PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20150086908A1. Автор: WATANABE Satoshi,Kaneko Hideo,INAZUKI Yukio,Ikeda Akira,KAWAI Yoshio,YOSHII Takashi,SAKURADA Toyohisa. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-26.

METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20170123306A1. Автор: INAZUKI Yukio,FUKAYA Souichi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2017-05-04.

Method of designing photomask blank, and photomask blank

Номер патента: KR102116205B1. Автор: 고헤이 사사모토,히데오 가네코,유키오 이나즈키,소이치 후카야. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2020-05-27.

Defect classifying method, sorting method for photomask blank, and producing method for photomask blank

Номер патента: KR102139005B1. Автор: 히로시 후쿠다,다이스케 이와이,쓰네오 데라사와. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2020-07-28.

Designing of photomask blank and photomask blank

Номер патента: EP2980645B1. Автор: Hideo Kaneko,Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-29.

Apparatus for forming resist, photomask blank, and method of manufacturing photomask blank

Номер патента: TW201205199A. Автор: Kee-Soo Nam,Dong-Geun Kim,Du-Hun Geum. Владелец: S & Amp S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2012-02-01.

SPUTTER DEPOSITION METHOD, SPUTTERING SYSTEM, MANUFACTURE OF PHOTOMASK BLANK, AND PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20150159264A1. Автор: INAZUKI Yukio,FUKAYA Souichi,Nakagawa Hideo,Sasamoto Kouhei. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2015-06-11.

Photomask blank, reflective mask blank, photomask, reflective mask and manufacturing method thereof

Номер патента: KR101450946B1. Автор: 노자와 오사무. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-10-21.

Method for inspecting photomask blank or intermediate thereof, method for determining dosage of high-energy radiation, and method for manufacturing photomask blank or its intermediate

Номер патента: CN101852984B. Автор: 吉川博树,稻月判臣,金子英雄. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-21.

METHOD FOR PREPARING PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK BLANK, METHOD FOR PREPARING PHOTOMASK, PHOTOMASK, AND METALLIC CHROMIUM TARGET

Номер патента: US20180224737A1. Автор: INAZUKI Yukio,Sasamoto Kouhei,YURI Tsutomu. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2018-08-09.

Method for inspecting photomask blank or intermediate thereof, method for determining dosage of high-energy radiation, and method for manufacturing photomask blank

Номер патента: KR101250125B1. Автор: 히데오 가네꼬,히로끼 요시까와,유끼오 이나즈끼. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2013-04-03.

Glass regeneration treating method, repeat glass substrate and photomask blank and photomask using it

Номер патента: CN109298594A. Автор: 木下一树,二岛悟,青木阳祐,板仓敬二郎,木下树. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2019-02-01.

Method and apparatus for producing a photomask blank, and apparatus for removing an unnecessary portion of a film

Номер патента: US7238454B2. Автор: Hideo Kobayashi,Keishi Asakawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-07-03.

Resist coating method, resist coating apparatus, and manufacturing method of photomask blank and photomask using resist coating method

Номер патента: TW201231171A. Автор: Koji Matsumoto. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-08-01.

Chemically amplified resist composition, photomask blank, method for forming resist pattern, and method for producing polymer compound

Номер патента: US20220404701A1. Автор: Naoya Inoue,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-22.

Method for manufacturing photomask and photomask blanks, and recycling photomask

Номер патента: KR100774048B1. Автор: 타나카토시히코,하세가와노리오,테라사와츠네오. Владелец: 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼. Дата публикации: 2007-11-06.

Vacuum ultraviolet transmitting direct deposit vitrified silicon oxyfluoride lithography glass photomask blanks

Номер патента: US20020018942A1. Автор: John Brown,Susan Schiefelbein,Lisa Moore,Robert Pavlik,Stephen Currie. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2002-02-14.

Photomask making method, photomask blank and dry etching method

Номер патента: US20130034806A1. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hideo Kaneko,Shinichi Igarashi,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-02-07.

HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK BLANK AND MAKING METHOD

Номер патента: US20160033858A1. Автор: Kaneko Hideo,INAZUKI Yukio,KOSAKA Takuro,SAKURADA Toyohisa. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2016-02-04.

HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK BLANK AND MAKING METHOD

Номер патента: US20190064650A1. Автор: Kaneko Hideo,INAZUKI Yukio,KOSAKA Takuro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2019-02-28.

PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR PRODUCING PHOTOMASK

Номер патента: US20190146329A1. Автор: INAZUKI Yukio,Sasamoto Kouhei,MATSUHASHI Naoki. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2019-05-16.

HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK BLANK AND MAKING METHOD

Номер патента: US20170212417A1. Автор: Kaneko Hideo,INAZUKI Yukio,KOSAKA Takuro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2017-07-27.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film, photomask blank and method of forming pattern

Номер патента: US20140370425A1. Автор: Koutarou Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-12-18.

PHOTOMASK BLANK AND MAKING METHOD

Номер патента: US20180356721A1. Автор: TERASAWA Tsuneo,KOSAKA Takuro,KISHITA Takahiro,IRIE Shigeo. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2018-12-13.

Monomer, polymer, negative resist composition, photomask blank, and resist pattern forming process

Номер патента: US20190361347A1. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Masayoshi Sagehashi,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Photomask blank and phase shift photomask

Номер патента: KR100317211B1. Автор: 히로시 모리,게이지 하시모또,마사히로 다까하시,와따루 고또,유끼오 이이무라. Владелец: 기타지마 요시토시. Дата публикации: 2001-12-24.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film, photomask blank and method of forming pattern

Номер патента: KR101724563B1. Автор: 코우타로우 타카하시. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-04-07.

Photomask blank and photomask using the same

Номер патента: KR102402742B1. Автор: 이형주,김수현,김규훈,김성윤,신인균,최석영,손성훈,정민교. Владелец: 에스케이씨솔믹스 주식회사. Дата публикации: 2022-05-26.

Halftone phase shift photomask blank and making method

Номер патента: KR102191944B1. Автор: 히데오 가네코,유키오 이나즈키,다쿠로 고사카. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2020-12-17.

Photomask blank and photomask

Номер патента: JP4509050B2. Автор: 智 岡崎,博樹 吉川,判臣 稲月,祐一 福島,和明 千葉,崇 原口,洋介 小嶋,匡 佐賀. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2010-07-21.

Multi-tone photomask, method of manufacturing a multi-tone photomask, multi-tone photomask blank and pattern transfer method

Номер патента: TW201142484A. Автор: Yutaka Yoshikawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-12-01.

Photomask blank and photomask making method

Номер патента: US7767367B2. Автор: Takashi Haraguchi,Yuichi Fukushima,Hiroki Yoshikawa,Satoshi Okazaki,Yukio Inazuki,Kazuaki Chiba,Yosuke Kojima,Tadashi Saga. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2010-08-03.

Photomask blank and photomask

Номер патента: EP1832925A3. Автор: Takashi Haraguchi,Yuichi Fukushima,Kazuaki Chiba,Yosuke Kojima,Tadashi Saga,Hiroki c/o New Functional Materials Research Center Yoshikawa,Yukio c/o New Functional Materials Research Center Inazuki,Satoshi c/o New Functional Materials Research Center Okazaki. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2009-12-09.

Photomask Blanks and Phase Shift Photomasks

Номер патента: KR940004383A. Автор: 히로시 모리,게이지 하시모또,마사히로 다까하시,와따루 고또,유끼오 이이무라. Владелец: 다이니뽄인사쯔 가부시끼가이샤. Дата публикации: 1994-03-15.

Photomask blank and method for producing photomask

Номер патента: EP3492981A1. Автор: Yukio Inazuki,Kouhei Sasamoto,Naoki Matsuhashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-05.

Halftone mask, photomask blank, and method of manufacturing halftone mask

Номер патента: JP6259508B1. Автор: 昌宏 美作,慎吾 山田,久美子 森山. Владелец: SK Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-10.

Photomask blank and photomask

Номер патента: EP2312392B1. Автор: Takashi Haraguchi,Yuichi Fukushima,Hiroki Yoshikawa,Satoshi Okazaki,Yukio Inazuki,Kazuaki Chiba,Yosuke Kojima,Tadashi Saga. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-08.

Photomask blank, and photomask

Номер патента: KR102293214B1. Автор: 유키오 이나즈키,다쿠로 고사카,료켄 오자와. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2021-08-24.

Halftone phase shift photomask blank and making method

Номер патента: EP2983044A3. Автор: Hideo Kaneko,Toyohisa Sakurada,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-22.

Halftone phase shift photomask blank and making method

Номер патента: EP3196698B1. Автор: Hideo Kaneko,Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-03.

Photomask blank and photomask

Номер патента: TW200848918A. Автор: Masao Ushida,Masaru Mitsui. Владелец: Hoya Electronics Malaysia Sendirian Berhad. Дата публикации: 2008-12-16.

Photomask making method, photomask blank and dry etching method

Номер патента: TWI457697B. Автор: Kazuhiro Nishikawa,Hideo Kaneko,Shinichi Igarashi,Yukio Inazuki. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2014-10-21.

Halftone mask, photomask blank, and method for manufacturing halftone mask

Номер патента: WO2018123940A1. Автор: 昌宏 美作. Владелец: 株式会社エスケーエレクトロニクス. Дата публикации: 2018-07-05.

Monomer, polymer, negative resist composition, photomask blank, and resist pattern forming process

Номер патента: EP3572876A1. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Masayoshi Sagehashi,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-27.

Photomask blank and photomask

Номер патента: CN102621802B. Автор: 吉川博树,稻月判臣,冈崎智,原口崇,佐贺匡,福岛佑一,小岛洋介,千叶和明. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-17.

Monomer, polymer, negative resist composition, photomask blank, and resist pattern forming process

Номер патента: US11548844B2. Автор: Naoya Inoue,Satoshi Watanabe,Masayoshi Sagehashi,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-10.

Photomask blank and photomask manufacturing method

Номер патента: JP6564734B2. Автор: 判臣 稲月,紘平 笹本,稲月　判臣,創一 深谷. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-21.

Novel photomask blank and photomask

Номер патента: JPS6146952A. Автор: Atsushi Nakayama,淳 中山,Norihiko Shinkai,Shotaro Okumiya,新開　紀彦,奥宮　正太郎. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 1986-03-07.

Photomask blank and phase shift photomask

Номер патента: EP0582308A3. Автор: Masahiro Takahashi,Hiroshi Mohri,Keiji Hashimoto,Waturu Goto. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1996-07-03.

Photomask blank and photomask making method

Номер патента: US20070212619A1. Автор: Takashi Haraguchi,Yuichi Fukushima,Hiroki Yoshikawa,Satoshi Okazaki,Yukio Inazuki,Kazuaki Chiba,Yosuke Kojima,Tadashi Saga. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2007-09-13.

Photomask blank and photomask making method

Номер патента: EP1832926A3. Автор: Takashi Haraguchi,Yuichi Fukushima,Kazuaki Chiba,Yosuke Kojima,Tadashi Saga,Hiroki New Functional Materials Res. Ctr. . Yoshikawa,Yukio New Functional Materials Research Ctr. Inazuki,Sathoshi New Functional Materials Research Ctr. Okazaki. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-26.

Photomask blank and photomask

Номер патента: JP6729508B2. Автор: 判臣 稲月,稲月　判臣,卓郎 ▲高▼坂,良兼 小澤. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-22.

Photomask blank and photomask

Номер патента: TW201921097A. Автор: 稲月判臣,髙坂卓郎,小澤良兼. Владелец: 日商信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2019-06-01.

Sputtering target material, silicon-containing film forming method, and photomask blank

Номер патента: US20120100467A1. Автор: Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Yokio INAZUKI. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-04-26.

LIGHT PATTERN EXPOSURE METHOD, PHOTOMASK, AND PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20130130160A1. Автор: YOSHIKAWA Hiroki,Kaneko Hideo,INAZUKI Yukio,KOITABASHI Ryuji,KOJIMA Yosuke,HARAGUCHI Takashi,HIROSE Tomohito. Владелец: . Дата публикации: 2013-05-23.

PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK, AND PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200012185A1. Автор: KOJIMA Yosuke,Sakamoto Yoshifumi,NAGATOMO Tatsuya. Владелец: TOPPAN PRINTING CO., LTD.. Дата публикации: 2020-01-09.

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING PROCESS, AND PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20180039177A1. Автор: OHASHI Masaki,WATANABE Satoshi,Masunaga Keiichi,Kotake Masaaki. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2018-02-08.

Halftone phase shift photomask blank, making method, and halftone phase shift photomask

Номер патента: US20170059983A1. Автор: Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-02.

PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20170068156A1. Автор: Sasamoto Kouhei. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2017-03-09.

DEFECT INSPECTING METHOD, SORTING METHOD AND PRODUCING METHOD FOR PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20170068158A1. Автор: Fukuda Hiroshi,TERASAWA Tsuneo,IWAI Daisuke,KISHITA Takahiro,YOKOHATA Atsushi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2017-03-09.

HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK BLANK, MAKING METHOD, AND HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK

Номер патента: US20180088456A1. Автор: Kaneko Hideo,INAZUKI Yukio,KOSAKA Takuro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2018-03-29.

HALFTONE PHASE SHIFT-TYPE PHOTOMASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING THEREOF, AND HALFTONE PHASE SHIFT-TYPE PHOTOMASK

Номер патента: US20210096455A1. Автор: KOSAKA Takuro,SAKURAI Keisuke. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2021-04-01.

PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20150160549A1. Автор: Kaneko Hideo,INAZUKI Yukio,FUKAYA Souichi,Nakagawa Hideo,Sasamoto Kouhei. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2015-06-11.

PHOTOMASK BLANK, PROCESS FOR PRODUCTION OF PHOTOMASK, AND CHROMIUM-CONTAINING MATERIAL FILM

Номер патента: US20150192849A1. Автор: YOSHIKAWA Hiroki,INAZUKI Yukio,FUKAYA Souichi,Nakagawa Hideo,Yamamoto Tsuneo. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2015-07-09.

CONTAINER FOR STORING PHOTOMASK BLANKS

Номер патента: US20160216603A1. Автор: Fukuda Hiroshi,KOITABASHI Ryuji,Nakagawa Hideo,Suzuki Tsutomu,KOSAKA Takuro,KISHITA Takahiro,OHORI Shinichi. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-28.

HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK BLANK, MAKING METHOD, AND HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK

Номер патента: US20200249561A1. Автор: Kaneko Hideo,INAZUKI Yukio,KOSAKA Takuro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2020-08-06.

HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20180259842A1. Автор: INAZUKI Yukio,FUKAYA Souichi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2018-09-13.

PHOTOMASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND MASK PATTERN FORMATION METHOD

Номер патента: US20180267398A1. Автор: Masunaga Keiichi,Kaneko Hideo,INAZUKI Yukio,YOSHII Takashi,SAKURADA Toyohisa,IRIE Shigeo. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2018-09-20.

METHOD FOR PREPARING HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20160291454A1. Автор: INAZUKI Yukio,KOSAKA Takuro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2016-10-06.

METHOD FOR PREPARING HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20160291455A1. Автор: KOSAKA Takuro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2016-10-06.

DEFECT INSPECTING METHOD, SORTING METHOD, AND PRODUCING METHOD FOR PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20160377553A1. Автор: Fukuda Hiroshi,TERASAWA Tsuneo,IWAI Daisuke,KISHITA Takahiro,YOKOHATA Atsushi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2016-12-29.

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, PHOTOMASK BLANK, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING POLYMER COMPOUND

Номер патента: US20220404701A1. Автор: INOUE Naoya,Masunaga Keiichi,Funatsu Kenji,Kotake Masaaki. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2022-12-22.

Photomask blank

Номер патента: JP5606264B2. Автор: 英雄 金子,博樹 吉川,判臣 稲月. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-15.

Photomask blank, photomask and fabrication method thereof

Номер патента: KR101536195B1. Автор: 노자와 오사무. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2015-07-13.

Phase shift photomask blanks, phase shift photomasks, and manufacturing methods thereof.

Номер патента: JP3397933B2. Автор: 信行 吉岡,昭彦 ▲いさお▼,前 川田,厚 林,和行 前床. Владелец: Ulvac Coating Corp. Дата публикации: 2003-04-21.

Photomask blank, photomask, and pattern transfer method using photomask

Номер патента: KR101029162B1. Автор: 미츠히로 구레이시,히데아키 미츠이. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2011-04-12.

Photomask blank

Номер патента: JPS59119353A. Автор: Shigekazu Matsui,Koichi Maruyama,正男 牛田,Kenichi Kagaya,Masao Ushida,光一 丸山,松井　茂和,加賀谷　健一. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 1984-07-10.

Attenuated embedded phase shift photomask blanks

Номер патента: KR100734834B1. Автор: 안겔로포울로스마리,바비치캐써리나,브룩스카메론제임스,체이제이,구아르니에리리차드,히브스마이클스트레이트,라세트케네쓰크리스토퍼. Владелец: 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션. Дата публикации: 2007-07-06.

Photomask Blanks, Photomasks and Photomask Manufacturing Methods

Номер патента: KR101053752B1. Автор: 마사오 우시다,마사루 미쯔이. Владелец: 호야 일렉트로닉스 말레이지아 센드리안 베르하드. Дата публикации: 2011-08-02.

Sputtering target material, silicon-containing film forming method, and photomask blank

Номер патента: KR102059722B1. Автор: 히데오 가네꼬,히로끼 요시까와,유끼오 이나즈끼. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2019-12-26.

Photomask blank

Номер патента: JPS6095437A. Автор: Shigekazu Matsui,松井　茂和. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 1985-05-28.

Four-gradation photomask manufacturing method and photomask blank for use therein

Номер патента: CN101025564A. Автор: 佐野道明. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-08-29.

Photomask blank, photomask, methods of manufacturing the same, and method of forming micropattern

Номер патента: EP1022614A4. Автор: Masao Ushida,Masaru Mitsui,Haruhiko Yamagata. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2001-08-29.

Half tone phase shift type photomask blank, manufacturing method therefor and half tone phase shift type photomask

Номер патента: TW202219626A. Автор: 金子英雄,稲月判臣,髙坂卓郎. Владелец: 日商信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2022-05-16.

Method of manufacturing photomask blank

Номер патента: KR100587827B1. Автор: 토시유키 스즈키,마사루 미츠이,시게노리 이시하라. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-06-12.

Defect inspecting method, sorting method, and producing method for photomask blank

Номер патента: US9829787B2. Автор: Hiroshi Fukuda,Tsuneo Terasawa,Daisuke Iwai,Takahiro KISHITA,Atsushi YOKOHATA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Attenuated embedded phase shift photomask blanks

Номер патента: KR100781621B1. Автор: 안젤로포울로스마리,바비치캐서리나,체이에스제이,힙스마이클스트레이트,랭로버트엔,마호로왈라아판프라빈,라세트케네스크리스토퍼. Владелец: 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션. Дата публикации: 2007-12-07.

Phase Shift Photomask Blanks, Phase Shift Photomask and Their Manufacturing Method

Номер патента: KR100349042B1. Автор: 노부유끼 요시오까,아쓰시 하야시. Владелец: 아루박꾸세이마꾸가부시끼가이샤. Дата публикации: 2003-03-26.

Sputtering target material, silicon-containing film forming method, and photomask blank

Номер патента: TWI568863B. Автор: 稻月判臣,金子英雄,吉川博樹. Владелец: 信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2017-02-01.

Attenuated embedded phase shift photomask blanks

Номер патента: WO2002069037A2. Автор: Marie Angelopoulos,Katherina Babich,Cameron James Brooks,Jay Chey,Richard Guarnieri,Michael Straight Hibbs,Kenneth Christopher Racette. Владелец: Ibm United Kingdom Limited. Дата публикации: 2002-09-06.

Photomask blank

Номер патента: CN101140416B. Автор: 吉川博树,稻月判臣,冈崎智,原口崇,佐贺匡,福岛佑一. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-27.

Method for preparing halftone phase shift photomask blank

Номер патента: KR20160117320A. Автор: 다쿠로 고사카. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2016-10-10.

Photomask blank

Номер патента: KR102260135B1. Автор: 유키오 이나즈키,소이치 후카야. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2021-06-04.

Photomask blank, resist pattern forming process, and method for making photomask

Номер патента: KR102043484B1. Автор: 사토시 와타나베,케이이치 마스나가,다이스케 도몬,테페이 아다치. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2019-11-11.

Photomask blank design method

Номер патента: JP6675156B2. Автор: 英雄 金子,判臣 稲月,紘平 笹本,金子　英雄,稲月　判臣,創一 深谷. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-01.

Positive resist composition, resist pattern forming process, and photomask blank

Номер патента: EP3279734A1. Автор: Masaki Ohashi,Satoshi Watanabe,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-07.

Photomask blank, process for production of photomask, and chromium-containing material film

Номер патента: EP2645166A1. Автор: Tsuneo Yamamoto,Hiroki Yoshikawa,Hideo Nakagawa,Yukio Inazuki,Souichi Fukaya. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-10-02.

Projection lithography photomask blanks, preforms and method of making

Номер патента: KR20010111498A. Автор: 리사 에이. 무어,죠지 이. 벌키,찰스 씨. 유. Владелец: 알프레드 엘. 미첼슨. Дата публикации: 2001-12-19.

Photomask blank, preparation method and photomask

Номер патента: CN106547167B. Автор: 五十岚慎一,深谷创一,吉井崇. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-26.

Photomask blank, making method, and photomask

Номер патента: KR101923272B1. Автор: 다카시 요시이,신이치 이가라시,소우이치 후카야. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2018-11-28.

Photomask blank, photomask and manufacturing method thereof

Номер патента: JP5281362B2. Автор: 博明 宍戸,雅広 橋本,淳志 小湊,浩之 岩下. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-09-04.

Four-gradation photomask manufacturing method and photomask blank for use therein

Номер патента: KR101100522B1. Автор: 미치아키 사노. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2011-12-29.

Photomask blank, resist pattern forming process, and method for making photomask

Номер патента: EP3079015B1. Автор: Satoshi Watanabe,Daisuke Domon,Keiichi Masunaga,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-29.

Photomask blank, method for manufacturing photomask, and method for manufacturing display device

Номер патента: CN113391515A. Автор: 田边胜,浅川敬司,安森顺一. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-09-14.

Photomask blank, photomask, and method of manufacture

Номер патента: US20080090159A1. Автор: Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Satoshi Okazaki,Yukio Inazuki,Noriyasu Fukushima. Владелец: Noriyasu Fukushima. Дата публикации: 2008-04-17.

Photomask blank manufacturing method and manufacturing apparatus, and unnecessary film removing apparatus

Номер патента: JP4184128B2. Автор: 英雄 小林,敬司 浅川. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2008-11-19.

Substrate for photomask blank applied with marking

Номер патента: JPS5915938A. Автор: Kazufumi Asakawa,浅川　一文. Владелец: Hoya Electronics Corp. Дата публикации: 1984-01-27.

Photomask Blank, Photomask and Method for Producing Those

Номер патента: US20070259276A1. Автор: Takashi Haraguchi,Yuichi Fukushima,Hiroki Yoshikawa,Mikio Takagi,Satoshi Okazaki,Yukio Inazuki,Masahide Iwakata,Tadashi Saga,Yoshinori Kinase. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-11-08.

Photomask blank, photomask and method for manufacturing same

Номер патента: TW200609667A. Автор: Takashi Haraguchi,Yuichi Fukushima,Hiroki Yoshikawa,Mikio Takagi,Satoshi Okazaki,Yukio Inazuki,Masahide Iwakata,Tadashi Saga,Yoshinori Kinase. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2006-03-16.

Photomask blank, process for production of photomask, and chromium-containing material film

Номер патента: CN103229099A. Автор: 吉川博树,稻月判臣,中川秀夫,深谷创一,山本恒雄. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-07-31.

Photomask blank, process for production of photomask, and chromium-containing material film

Номер патента: KR101374484B1. Автор: 히로키 요시카와,히데오 나카가와,유키오 이나즈키,소우이치 후카야,츠네오 야마모토. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-03-13.

Methods and system for defect inspection, sorting and manufacturing photomask blanks

Номер патента: EP3355115B1. Автор: Hiroshi Fukuda,Tsuneo Terasawa,Daisuke Iwai,Takahiro KISHITA,Atsushi YOKOHATA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-31.

Defect inspection method, sorting method and manufacturing method of photomask blank

Номер патента: CN108362711B. Автор: 寺泽恒男,福田洋,岩井大祐,横畑敦,木下隆裕. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-15.

Photomask blank

Номер патента: US20070248897A1. Автор: Takashi Haraguchi,Yuichi Fukushima,Hiroki Yoshikawa,Satoshi Okazaki,Yukio Inazuki,Tadashi Saga. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL Co Ltd and TOPPAN PRINTING Co Ltd. Дата публикации: 2007-10-25.

Photomask blank, photomask, and methods of manufacturing the same

Номер патента: US20090214961A1. Автор: Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2009-08-27.

Halftone phase shift photomask blank

Номер патента: TW201843522A. Автор: 稲月判臣,深谷創一. Владелец: 日商信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2018-12-16.

Container for storing photomask blanks

Номер патента: EP3045973A4. Автор: Hiroshi Fukuda,Takahiro Kinoshita,Tsutomu Suzuki,Hideo Nakagawa,Ryuji Koitabashi,Takuro Takasaka,Shinichi Ohori. Владелец: Shin Etsu Polymer Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-22.

Photomask, photomask blank, method of manufacturing a photomask, and method of manufacturing an electronic device

Номер патента: TW201940959A. Автор: 剱持大介. Владелец: 日商Ｈｏｙａ股份有限公司. Дата публикации: 2019-10-16.

Etching method and photomask blank processing method

Номер патента: EP2251741A3. Автор: Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Shinichi Igarashi,Yukio Inazuki,Yoshinori Kinase. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-19.

Halftone phase shift photomask blank, making method, and halftone phase shift photomask

Номер патента: EP3136171B1. Автор: Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-25.

Method for inspecting and judging photomask blank or intermediate thereof

Номер патента: EP2237109B1. Автор: Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Yukio Inazuki. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-10.

Container for storing photomask blanks

Номер патента: EP3045973B1. Автор: Hiroshi Fukuda,Takahiro Kinoshita,Tsutomu Suzuki,Hideo Nakagawa,Ryuji Koitabashi,Takuro Takasaka,Shinichi Ohori. Владелец: Shin Etsu Polymer Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-11.

Acceptable defects positioning and manufacturing method for large-scaled photomask blanks

Номер патента: TW200534037A. Автор: Ming-Feng Ho. Владелец: Allied Integrated Patterning Corp. Дата публикации: 2005-10-16.

Chemically amplified resist composition, photomask blank, method for forming resist pattern, and method for producing polymer compound

Номер патента: EP4089481A2. Автор: Naoya Inoue,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-16.

Method for inspecting and judging photomask blank or intermediate thereof

Номер патента: TW201107871A. Автор: Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Yukio Inazuki. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2011-03-01.

Chemically amplified resist composition, photomask blank, method for forming resist pattern, and method for producing polymer compound

Номер патента: EP4089481A3. Автор: Naoya Inoue,Kenji Funatsu,Keiichi Masunaga,Masaaki Kotake. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-23.

Mask blank, method of manufacturing mask blank and method of manufacturing transfer mask

Номер патента: US20160161844A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Takahiro Hiromatsu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-06-09.

Mask blank, method of manufacturing mask blank and method of manufacturing transfer mask

Номер патента: US09927697B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Takahiro Hiromatsu. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Reflective mask blank for EUV lithography, substrate with funtion film for the mask blank, and methods for their production

Номер патента: US09618836B2. Автор: Kazuyuki Hayashi,Junichi Kageyama. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Glass substrate for mask blank, and method for producing the same

Номер патента: US09684232B2. Автор: Yusuke Hirabayashi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Production method of template, template blank, and template substrate for imprinting, production method of template for imprinting, and template

Номер патента: US20190086798A1. Автор: Kouji Yoshida,Katsutoshi Suzuki,Koji Ichimura,Takaharu Nagai. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2019-03-21.

Mask blank and method of manufacturing an imprint mold

Номер патента: US8273505B2. Автор: Takashi Sato,Mitsuhiro Kureishi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-09-25.

Mask blank and method for manufacturing transfer mask

Номер патента: US20090233190A1. Автор: Masahiro Hashimoto. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2009-09-17.

Mask blank and method of manufacturing an imprinting mold

Номер патента: US8883022B2. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2014-11-11.

Mask blank and method of manufacturing an imprinting mold

Номер патента: US20130105441A1. Автор: Masahiro Hashimoto,Osamu Nozawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-05-02.

Mask blank and phase shift mask

Номер патента: US20240361683A1. Автор: Hiroaki Shishido,Yasutaka HORIGOME,Keishi AKIYAMA. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: US09612521B2. Автор: Kevin Moraes,Ralf Hofmann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Methods for manufacturing half tone type phase shift mask blank, photo mask and half tone type phase shift mask, and half tone type phase shift mask blank, half tone type phase shift mask, photo mask blank, and photo mask manufactured thereby

Номер патента: TW522286B. Автор: Hideaki Mitsui,Osamu Nozawa,Masaru Mitsui. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2003-03-01.

Lens blank and lens elements as well as method for their production

Номер патента: US20100296160A1. Автор: Eric Eva. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-11-25.

Defect inspection device, defect inspection method, and method for manufacturing photomask blank

Номер патента: CN115201216A. Автор: 寺泽恒男,寺岛隆世,吉野巧. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-18.

Photomask-blank, photomask and fabrication method thereof

Номер патента: KR101204632B1. Автор: 요시노리 기나세,히로키 요시카와,유키오 이나즈키,다카시 하라구치,사토시 오카자키,마사히데 이와카타,유이치 후쿠시마. Владелец: 도판 인사츠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2012-11-23.

Defect inspection device, defect inspection method, and method for manufacturing photomask blank

Номер патента: TW202303127A. Автор: 吉野巧,寺澤恒男,寺島𨺓世. Владелец: 日商信越化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2023-01-16.

Photomask blank, photomask and fabrication method thereof

Номер патента: US20060088774A1. Автор: Takashi Haraguchi,Yuichi Fukushima,Hiroki Yoshikawa,Satoshi Okazaki,Yukio Inazuki,Masahide Iwakata,Yoshinori Kinase. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-04-27.

Photomask-blank, photomask and fabrication method thereof

Номер патента: KR101374498B1. Автор: 요시노리 기나세,히로키 요시카와,유키오 이나즈키,다카시 하라구치,사토시 오카자키,마사히데 이와카타,유이치 후쿠시마. Владелец: 도판 인사츠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-03-13.

Coating method and coating apparatus, and method of manufacturing a photomask blank

Номер патента: TW200836842A. Автор: Katsuhiko Nakanishi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2008-09-16.

Apparatus for measuring patterns on a reflective photomask

Номер патента: US20130250286A1. Автор: In-kyun Shin,Young-Keun Yoon,Hak-Seung Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-09-26.

Optical glass, near-infrared cut filter, glass element for press molding, optical element blank, and optical elements

Номер патента: US20240092683A1. Автор: Hironori Oguma,Katsuyuki Mukogawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Fluid lenses, lens blanks, and methods of manufacturing the same

Номер патента: US09535264B2. Автор: Urban Schnell,Amitava Gupta. Владелец: Adlens Beacon Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Method for designing a mould for casting a semi-finished ophthalmic lens blank and computer program product for carrying out said method

Номер патента: US09824087B2. Автор: Matthieu Guillot,Jerome Moine,Carlos Rego. Владелец: Essilor International Compagnie Generale dOptique SA. Дата публикации: 2017-11-21.

Method for lofting blanks and compounding plates for shell structures

Номер патента: US4953094A. Автор: John S. Letcher, Jr.. Владелец: AeroHydro Inc. Дата публикации: 1990-08-28.

Composite blanks and display packages made therefrom

Номер патента: GB1249307A. Автор: Harold Raymond Hamblin. Владелец: Mardon Son & Hall Ltd. Дата публикации: 1971-10-13.

Lathe for generating ophthalmic products from blanks, and a method of operating the lathe

Номер патента: AU2533592A. Автор: Ray Gregory,Stephen Kulan,William D. Brennan,Ronald T. Hyslop,Johnny Ellis,Larry Penner,James K. Hays. Владелец: Coburn Optical Industries Inc. Дата публикации: 1993-04-01.

A system of a dental blank and an associated shade guide

Номер патента: EP3068336A1. Автор: Malte Korten,Helmar Mayr. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2016-09-21.

System of a dental blank and an associated shade guide

Номер патента: US11826215B2. Автор: Malte Korten,Helmar B. Mayr. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2023-11-28.

Method for manufacturing eyeglass for providing light to an eye, blank and set of eyeglasses

Номер патента: WO2021121618A1. Автор: Günter Rudolph,Matthias Hillenbrand,Thomas Nobis,Tobias Schmitt-Manderbach,Leonid YANOVITZ,Ofir RIMER-COHEN,Ben SAAR. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 2021-06-24.

Device for measuring complex transfer coefficients and reflection of microwave devices with frequency conversion

Номер патента: RU2687980C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Аким Алексеевич Бабенко,Даниил Русланович Фролов,Дмитрий Викторович Нереуцкий,Антон Сергеевич Левченко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВО "КубГУ"). Дата публикации: 2019-05-17.

Method for calibrating two-channel superheterodyne receiver in meter of complex transmission and reflection coefficients of microwave devices with frequency conversion

Номер патента: RU2673781C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Аким Алексеевич Бабенко,Даниил Русланович Фролов,Антон Сергеевич Левченко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВО "КубГУ"). Дата публикации: 2018-11-29.

Device for measuring complex transmission and reflection coefficients of microwave devices with frequency conversion

Номер патента: RU2649861C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Аким Алексеевич Бабенко,Даниил Русланович Фролов,Антон Сергеевич Левченко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВО "КубГУ"). Дата публикации: 2018-04-10.

Device for compensating for direct and reflected from stationary object of radar signals of radio transmitter in bistatic radar system receiver

Номер патента: RU2734233C1. Автор: Владислав Викторович Кирюшкин,Виктор Григорьевич Маркин,Владимир Андреевич Шуваев,Евгений Михайлович Красов,Сергей Иванович Бабусенко,Александр Викторович Журавлев. Владелец: Акционерное общество научно-внедренческое предприятие "ПРОТЕК". Дата публикации: 2020-10-13.

Device for measuring complex transmission and reflection coefficients of microwave devices with frequency conversion

Номер патента: RU2682079C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Аким Алексеевич Бабенко,Даниил Русланович Фролов,Антон Сергеевич Левченко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВО "КубГУ"). Дата публикации: 2019-03-14.

Method of forming colour security image within sheet material visible in transmitted light and reflected on front and back surfaces of said material by set of coaxial entry holes and sheet material therefor

Номер патента: RU2555500C1. Автор: Григорий Аврамович Радуцкий,Сергей Николаевич Максимовский. Владелец: Сергей Николаевич Максимовский. Дата публикации: 2015-07-10.

Device for measuring complex transmission and reflection coefficients of microwave devices with frequency conversion up

Номер патента: RU2646948C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Аким Алексеевич Бабенко,Даниил Русланович Фролов,Антон Сергеевич Левченко,Александр Викторович Гноевой,Николай Андреевич Яковенко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВО "КубГУ"). Дата публикации: 2018-03-12.

Beam pattern and reflecting surface antenna system control device

Номер патента: RU2725514C1. Автор: Степан Михайлович Слободян,Дмитрий Анатольевич Барчуков,Роман Викторович Вавилов,Роман Игоревич Якимюк. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Тверской государственный технический университет". Дата публикации: 2020-07-02.

Phase modulator system, having beam splitter and linear polarisation phase modulator, and method of splitting light beam incident on said phase modulator and reflected therefrom

Номер патента: RU2451313C2. Автор: Пал КОППА,Аттила БАРОЧИ,Габор ЭРДЕЙ,Эмеке ЛЕРИНЦ,Юдит РЕМЕНЬИ,Ференц УЙХЕЛЬИ. Владелец: Байер Инновейшн Гмбх. Дата публикации: 2012-05-20.

Method for spatial compensation of direct and reflected signals when a reflected signal from an air target is detected by a bistatic radar system

Номер патента: RU2739938C1. Автор: Владислав Викторович Кирюшкин,Виктор Григорьевич Маркин,Владимир Андреевич Шуваев,Евгений Михайлович Красов. Владелец: Акционерное общество научно-внедренческое предприятие "ПРОТЕК". Дата публикации: 2020-12-30.

Improved optical devices and reflection control techniques

Номер патента: WO1994012899A1. Автор: Peter W. J. Jones. Владелец: Tenebraex Corporation. Дата публикации: 1994-06-09.

Reflectivity and resolution x-ray dispersive and reflective structures and method of making the structures

Номер патента: CA1223090A. Автор: Stanford R. Ovshinsky,John E. Keem,James L. Wood,Keith L. Hart,Steven A. Flessa,Lennard Sztaba. Владелец: Ovonic Synthetic Materials Co Inc. Дата публикации: 1987-06-16.

Semi-reflective film and reflective film for optical information recording medium optical information recordi medium and sputtering target

Номер патента: SG118417A1. Автор: Nakai Junichi,TAUCHI Yuuki,Takagi Katsutoshi. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2006-01-27.

Acoustic room with absorption and reflection (diffusion/scattering) balancing system

Номер патента: WO2023187487A1. Автор: Roshan GEORGE THOMAS. Владелец: George Thomas Roshan. Дата публикации: 2023-10-05.

Detection and Estimation of Direct and Reflected Navigation Satellite Signal Parameters in a Multipath Environment

Номер патента: US20230350075A1. Автор: Emre Tapucu,Dmitry Kuznetsov. Владелец: Avago Technologies International Sales Pte Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Image-based detection of surfaces that provide specular reflections and reflection modification

Номер патента: US11900569B2. Автор: Peter Meier,Daniel Kurz,Mohamed Selim Ben Himane,Brian Chris Clark. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

Windshield, display system, and reflective polarizer

Номер патента: US20240027757A1. Автор: Matthew B. Johnson,Adam D. Haag,Brianna N. Wheeler. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2024-01-25.

3d microgeometry and reflectance modeling

Номер патента: WO2022259110A1. Автор: CHEN Fu,Mohammad Gharavi-Alkhansari. Владелец: SONY CORPORATION OF AMERICA. Дата публикации: 2022-12-15.

System and method for object recognition utilizing separate detection of luminescence and reflectance

Номер патента: WO2023198580A1. Автор: Matthew Ian CHILDERS,Yunus Emre Kurtoglu. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2023-10-19.

Multi-Modal System for Fluorescence and Reflectance Imaging

Номер патента: US20240008736A1. Автор: Noah Bareket,James Ogg,Richard Graham,Manish D Kulkarni. Владелец: Netra Systems Inc USA. Дата публикации: 2024-01-11.

Image-based detection of surfaces that provide specular reflections and reflection modification

Номер патента: US20240062346A1. Автор: Peter Meier,Daniel Kurz,Mohamed Selim Ben Himane,Brian Chris Clark. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2024-02-22.

Blocker having light transmission and reflection device

Номер патента: US11768390B2. Автор: Hyun Chul Lee,Dong Kun Oh. Владелец: Huvitz Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Chemical and biological detection method and device based on measurements of fluorescence and reflectivity

Номер патента: EP2212678A1. Автор: Andrew David Pris,Eugene Barash. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2010-08-04.

Low-cost device and method for measuring radar transmission and reflectance of coated articles

Номер патента: US11768162B2. Автор: Neil Richard Murphy. Владелец: AXALTA COATING SYSTEMS IP CO LLC. Дата публикации: 2023-09-26.

Backlight Including Wide-Web Turning Film and Reflective Polarizer with Quarter-Wave Retarder

Номер патента: US20210278586A1. Автор: Gary T. Boyd,Matthew B. Johnson,Kenneth A. Epstein,Quinn D. Sanford. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2021-09-09.

Low-cost device and method for measuring radar transmission and reflectance of coated articles

Номер патента: US11585763B2. Автор: Neil Richard Murphy. Владелец: AXALTA COATING SYSTEMS IP CO LLC. Дата публикации: 2023-02-21.

Detection and estimation of direct and reflected navigation satellite signal parameters in a multipath environment

Номер патента: EP4270059A1. Автор: Emre Tapucu,Dmitry Kuznetsov. Владелец: Avago Technologies International Sales Pte Ltd. Дата публикации: 2023-11-01.

Reflective member and reflection module including reflective member

Номер патента: US11953660B2. Автор: Jin Se KIM,So Mi YANG. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Reflective member and reflection module including reflective member

Номер патента: US20220082735A1. Автор: Jin Se KIM,So Mi YANG. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-17.

Reflection rate detection device and reflection rate detection method for liquid crystal panel

Номер патента: US11977285B2. Автор: Bo Hai. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-07.

Processing method for reflective polarization member, and reflective polarization member

Номер патента: US20210252814A1. Автор: Mitsuru Naruse. Владелец: Tokai Rika Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-19.

Reflective member and reflection module including reflective member

Номер патента: US20240210662A1. Автор: Jin Se KIM,So Mi YANG. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Low-cost device and method for measuring radar transmission and reflectance of coated articles

Номер патента: US20220163462A1. Автор: Neil Richard Murphy. Владелец: AXALTA COATING SYSTEMS IP CO LLC. Дата публикации: 2022-05-26.

Low-cost device and method for measuring radar transmission and reflectance of coated articles

Номер патента: US20230160838A1. Автор: Neil Richard Murphy. Владелец: AXALTA COATING SYSTEMS IP CO LLC. Дата публикации: 2023-05-25.

Method for determining heat and reflected heat in thermal image

Номер патента: EP4372676A1. Автор: Song Hae Ye,Ju Sik KIM,Won Kyu Lee,Seon Woo Lee,I Seul JEON,Sung Mok MIN,Hee In Lee,Dong Heon Choi,Jang Woo Kwon. Владелец: Atg Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-22.

Object detection and tracking for autonomous driving utilizing shadows and reflections

Номер патента: US12033333B2. Автор: Wenlong Yang,Tomer RIDER,Daniel Pohl. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

Analysis method for transmission and reflection coefficients of wire mesh of mesh antenna

Номер патента: US12021302B1. Автор: Xiaofei Wu,NA Li,Yiqun Zhang,Yusheng Li,Zhuolin LI,Naigang Hu,Yongxi HE,Jianli Yang,Zhilong Tan,Qingyan Qin. Владелец: Xidian University. Дата публикации: 2024-06-25.

3d microgeometry and reflectance modeling

Номер патента: EP4327291A1. Автор: CHEN Fu,Mohammad Gharavi-Alkhansari. Владелец: Sony Corp of America. Дата публикации: 2024-02-28.

Anisotropy analysis using direct and reflected arrivals in seismic survey data

Номер патента: US20160054464A1. Автор: Daniel Joseph QUINN,Ran Zhou,Donghong Pei,Bruce Edward CORNISH. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2016-02-25.

Generating a velocity model using subsurface azimuth and reflection angle dependent full waveform inversion

Номер патента: US20180335532A1. Автор: Constantinos Tsingas,Young Seo Kim,Wooden Jeong. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2018-11-22.

Reflection rate detection device and reflection rate detection method for liquid crystal panel

Номер патента: US20230152612A1. Автор: Bo Hai. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-18.

Methods and apparatus for a self-aligned digital projection and reflected glare reduction imaging system

Номер патента: US12072286B2. Автор: Joshua M. Weisberger,Brett F. Bathel. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 2024-08-27.

Reflection-type aerial image formation device and reflection-type aerial image formation method

Номер патента: EP4242729A1. Автор: Makoto Otsubo. Владелец: Asukanet Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-13.

µ-POLYOXO CROSSLINKED PHTHALOCYANINE COMPOUND, PREPARING METHOD THEREOF, AND NEAR INFRARED RAY ABSORBING AND REFLECTING COMPOSITION USING THE SAME

Номер патента: US20150183938A1. Автор: Shi Surk KIM,Je Young Park,In Ja Lee,Woo Sung Lim. Владелец: Nano CMS Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-02.

Inversion method and system for seismic wavelet and reflection coefficient

Номер патента: US20240241277A1. Автор: Jinghuai GAO,Wenhao XU,Yajun TIAN. Владелец: Xian Jiaotong University. Дата публикации: 2024-07-18.

Method for determining heat and reflected heat in thermal image

Номер патента: US20240314266A1. Автор: Song Hae Ye,Ju Sik KIM,Won Kyu Lee,Seon Woo Lee,I Seul JEON,Sung Mok MIN,Hee In Lee,Dong Heon Choi,Jang Woo Kwon. Владелец: Atg Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Display device with photovoltaic cells integrated into the screen and improved screen luminosity and reflectivity

Номер патента: US09711673B2. Автор: Badre KERZABI,Alain Cenne,Cyril Chappaz,Sylvain De Vecchi. Владелец: Sunpartner Technologies SAS. Дата публикации: 2017-07-18.

Assembly for analyzing a light pattern caused by refraction and reflection at a precious stone

Номер патента: US09702825B2. Автор: Karlheinz Eder. Владелец: D Swarovski KG. Дата публикации: 2017-07-11.

Method for determining a change in distance to a movable and reflective target by means of interferometer to determine if the movement of the reflective target is really executable

Номер патента: US09638519B2. Автор: Tomasz Kwiatkowski,Thomas Luthi. Владелец: LEICA GEOSYSTEMS AG. Дата публикации: 2017-05-02.

DEFECT CLASSIFICATION METHOD, METHOD OF SORTING PHOTOMASK BLANKS, AND METHOD OF MANUFACTURING MASK BLANK

Номер патента: US20190331608A1. Автор: Fukuda Hiroshi,TERASAWA Tsuneo,IWAI Daisuke. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2019-10-31.

Coating apparatus and method of manufacturing photomask blank

Номер патента: TW200700166A. Автор: Takahiro Ishizaki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-01-01.

METHODS FOR DEFECT INSPECTION, SORTING, AND MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20180209916A1. Автор: Fukuda Hiroshi,TERASAWA Tsuneo,IWAI Daisuke,KISHITA Takahiro,YOKOHATA Atsushi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2018-07-26.

Optical glass, optical element blank, and optical element

Номер патента: US20230138435A1. Автор: Shungo Kuwatani. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2023-05-04.

Multi-panel display device, blank, and method of forming the device

Номер патента: US20150104780A1. Автор: Stephen P. Dashe. Владелец: Artskills. Дата публикации: 2015-04-16.

Multi-panel display device, blank, and method of forming the device

Номер патента: US20150302780A1. Автор: Stephen P. Dashe. Владелец: Artskills Inc. Дата публикации: 2015-10-22.

Multi-panel display device, blank, and method of forming the device

Номер патента: US20170032708A1. Автор: Stephen P. Dashe. Владелец: Artskills Inc. Дата публикации: 2017-02-02.

Multi-panel display device, blank, and method of forming the device

Номер патента: US20150147743A1. Автор: Stephen P. Dashe. Владелец: Artskills Inc. Дата публикации: 2015-05-28.

Multi-panel display device, blank, and method of forming the device

Номер патента: US09741266B2. Автор: Stephen P. Dashe. Владелец: Artskills Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Multi-panel display device, blank, and method of forming the device

Номер патента: US09495886B2. Автор: Stephen P. Dashe. Владелец: Artskills Inc. Дата публикации: 2016-11-15.

Method for manufacturing disk-shaped glass blank and method for manufacturing glass substrate for magnetic disk

Номер патента: US12077465B2. Автор: Shuhei Azuma. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Multi-panel display device, blank, and method of forming the device

Номер патента: US20170345343A1. Автор: Stephen P. Dashe. Владелец: Artskills Inc. Дата публикации: 2017-11-30.

Electro-optical printed circuit board, a blank and a method of making an electro-optical printed circuit board

Номер патента: US20090028496A1. Автор: Richard Charles Alexander Pitwon. Владелец: Xyratex Technology Ltd. Дата публикации: 2009-01-29.

User-portable radio telephone delivery container, related blank and method

Номер патента: EP2013095B1. Автор: Mika Mattila. Владелец: Nokia Oyj. Дата публикации: 2012-08-01.

Hot-rolled steel sheet for variable-thickness rolled blank, variable-thickness rolled blank, and method for producing same

Номер патента: RU2661692C2. Автор: Нацуко СУГИУРА,Эйсаку САКУРАДА,Тацуо ЙОКОИ,Киеюки ФУКУИ. Владелец: Ниппон Стил Энд Сумитомо Метал Корпорейшн. Дата публикации: 2018-07-19.

Container blank and container manufactured from it

Номер патента: RU2343094C2. Автор: Оке РОСЕН. Владелец: Эко Лин Ресерч Энд Дивелопмент А/С. Дата публикации: 2009-01-10.

Device for continuous heat treatment of electrically conducting continuous blanks and unit with sliding contact element

Номер патента: RU2591930C2. Автор: Герхард ХЕРБСТ,Райнер ШВАРЦ. Владелец: Шунк Коленштоффтехник Гмбх. Дата публикации: 2016-07-20.

Layout of slab storerooms and furnaces for separate charging of cold blanks and hot blanks of thick plate, and furnace charging method

Номер патента: US20220316801A1. Автор: Bin Liu,Guofeng Chen. Владелец: Baosteel Zhanjiang Iron and Steel Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-06.

Uncoiling, blanking and forming method

Номер патента: US09815104B2. Автор: QIAN Xiang,Saidan Yang,Ruimin Wu,Shengbo Pan,Chengguo Jin,Junliang Qiao,Guoqiang Dai. Владелец: Baoshan Iron and Steel Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Method for producing straight-seam pipe with butt joint of metal blank and tube-forming device

Номер патента: RU2641937C1. Автор: Вячеслав Геннадьевич Баландин. Владелец: Вячеслав Геннадьевич Баландин. Дата публикации: 2018-01-23.

Housing blank and activation member blank for a medicament delivery device, a kit comprising such blanks, and a medicament delivery device

Номер патента: EP3074063A1. Автор: Anders Holmqvist. Владелец: CAREBAY EUROPE LTD. Дата публикации: 2016-10-05.

Method and machine for realising a box starting from a cardboard blank and for boxing a plurality of articles with the box

Номер патента: US12060182B2. Автор: Giuseppe Ponti. Владелец: CMC SpA. Дата публикации: 2024-08-13.

Quartz crystal blank and quartz crystal resonator unit

Номер патента: US20180212588A1. Автор: Hiroyuki Yamamoto,Masaru Asai,Hiroaki Kaida. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-26.

Flat blanks and containers made of wood or derivatives thereof

Номер патента: WO2024170993A1. Автор: Hélder Manuel GASPAR CORDEIRO,Irene SOFIA CARVALHO FERREIRA,Carlos MANUEL DA COSTA VIEIRA,Inês ORFÃO FERREIRA,Andreia FRANCO FERNANDES LOPES,Nuno MANUEL ROSA DOS SANTOS ÓRFÃO. Владелец: Fwfi – Freshwood Forms Industry, Lda. Дата публикации: 2024-08-22.

Quartz crystal blank and quartz crystal resonator unit

Номер патента: US09985603B2. Автор: Hiroyuki Yamamoto,Masaru Asai,Hiroaki Kaida. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Methods for joining two blanks and blanks and products obtained

Номер патента: US09616513B2. Автор: Michel Garcia,Elisenda Vila I Ferrer,Cristina CARRASCOSA GARCÍA. Владелец: Autotech Engineering SL. Дата публикации: 2017-04-11.

Method for forming blanks and press for performing the method

Номер патента: RU2205721C2. Автор: Питер Р. ДЖЕПСОН,Хьюго Э. ДЕЛГАДО,Тимоти Э. ХАУСОН,Джек М. ХАЙЗЭК,Пол Д. АНТАЯ,Томас Ф. ДОЭРТИ,Пол Дж. ГАРГОЛИНСКИ,Мартин М. МОРРА,Джеймс Э. ШЭННОН III. Владелец: Ваймэн Гордон Компани. Дата публикации: 2003-06-10.

Method for connecting contact surfaces of electrical component blanks and device therefor

Номер патента: US20010020327A1. Автор: Karlheinz Ullrich,Armin Lotz,Karl-Heinz Wienand. Владелец: Heraeus Electro Nite International NV. Дата публикации: 2001-09-13.

Foldable lens box blank and ophthalmic lens box formed therefrom

Номер патента: US20030075465A1. Автор: Gregory Mathias,Mehmed Temim. Владелец: Vision Ease Lens Inc. Дата публикации: 2003-04-24.

Carton box for vials, blank and packaging process

Номер патента: EP1259432A1. Автор: Gianpaolo Belloli,Alessandro Resta,Giacinto De Fiori. Владелец: Ingenius Srl. Дата публикации: 2002-11-27.

Method for manufacturing toilet blank, and toilet blank

Номер патента: CA3209192A1. Автор: Yulin Li,Xiaolong He,Zhongde FAN,Wenbin Hu,Yongze LIU,Miaogen SHEN,Fengfeng TUO. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-09-15.

Method for producing an SiO2 blank and apparatus for performing said method

Номер патента: US20020090466A1. Автор: Heinz Fabian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-11.

Method of forming a butt weld joint having a carbon content-dependent, predetermined quenching factor in a welded steel blank and a hot press-formed part made therefrom

Номер патента: CA3207139A1. Автор: Maria POIRIER,Cristian ALVAREZ,Thierry LIZON. Владелец: ArcelorMittal SA. Дата публикации: 2019-05-31.

Kit of blanks, and a package

Номер патента: EP4410698A1. Автор: Piotr Pszonak. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2024-08-07.

Method for Manufacturing Toilet Blank, and Toilet Blank

Номер патента: US20240253269A1. Автор: Yulin Li,Xiaolong He,Zhongde FAN,Wenbin Hu,Yongze LIU,Miaogen SHEN,Fengfeng TUO. Владелец: Lixil Sanitary Manufacturing Shanghai Co Ltd AS. Дата публикации: 2024-08-01.

Method for erecting tubular blanks and a station, in which this method is carried out

Номер патента: US20070072755A1. Автор: Giuseppe Monti. Владелец: Marchesini Group SpA. Дата публикации: 2007-03-29.

Blank, method for producing blank, and member

Номер патента: US20240227077A9. Автор: Yasuhiro Ito,Masahiko Abe. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Blank configured to be erected into a package, a package formed by such a blank, and a method of erecting a blank

Номер патента: SE2230393A1. Автор: Daniel AXELSSON. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2024-06-03.

Carton, carton blank and method of construction therefor

Номер патента: EP2303709A1. Автор: Philippe LeBras. Владелец: Meadwestvaco Packaging Systems LLC. Дата публикации: 2011-04-06.

Carton, carton blank and method of construction therefor

Номер патента: WO2010005887A1. Автор: Philippe LeBras. Владелец: MEADWESTVACO PACKAGING SYSTEMS, LLC. Дата публикации: 2010-01-14.

Methods of making holes in blanks and associated system therewith

Номер патента: RU2667558C2. Автор: Дональд Е. ГЕНРИ,Фрэнк П. ХЕСС,Брайан А. ТОМПСОН. Владелец: Зе Боинг Компани. Дата публикации: 2018-09-21.

Method of continuous casting of blanks and device for its implementation

Номер патента: RU2658761C2. Автор: Олег Степанович Лехов,Александр Викторович Михалёв,Игорь Владиславович Ухлов. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Российский государственный профессионально-педагогический университет". Дата публикации: 2018-06-22.

Method for making a key, key blank and series key

Номер патента: WO2016189193A1. Автор: Tuure Aalto. Владелец: Sarjoitin Oy. Дата публикации: 2016-12-01.

Method for making a key, key blank and series key

Номер патента: EP3303735A1. Автор: Tuure Aalto. Владелец: Sarjoitin Oy. Дата публикации: 2018-04-11.

Method for grinding convex working surfaces and outer diameters of shaft-like blanks and grinding machine tool for performing the same

Номер патента: RU2247641C2. Автор: Эрвин ЮНКЕР. Владелец: Эрвин Юнкер Машиненфабрик Гмбх. Дата публикации: 2005-03-10.

Blank and method for producing press-moulded article

Номер патента: RU2673259C2. Автор: Ясухару ТАНАКА,Такаси МИЯГИ,Мисао ОГАВА,Тосимицу АСО. Владелец: Ниппон Стил Энд Сумитомо Метал Корпорейшн. Дата публикации: 2018-11-23.

Method of slotting openings in plastic blank and a device for its implementation

Номер патента: RU2651001C1. Автор: Иосиф Отарович Сааташвили. Владелец: Иосиф Отарович Сааташвили. Дата публикации: 2018-04-18.

Blank and single-piece blade unit for intermediate casing of gas turbine engine

Номер патента: RU2645510C2. Автор: Матье ЖИМА,Доминик Мари Кристиан КУПЕ,Ян МАРШАЛЬ,Тьерри Жорж Поль ПАПЕН. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2018-02-21.

Kit of parts containing dental mill blank and colouring solution

Номер патента: RU2685716C2. Автор: Михаель ЙАНС,Ганс Р. ШНАГЛ. Владелец: 3М Инновейтив Пропертиз Компани. Дата публикации: 2019-04-23.

Method for continuous casting of hollow blanks and a device for its implementation

Номер патента: RU2758485C1. Автор: Олег Степанович Лехов. Владелец: Олег Степанович Лехов. Дата публикации: 2021-10-28.

Blank and draw apparatus with gap control and method

Номер патента: CA1079169A. Автор: Elton G. Kaminski,James I. Byrd. Владелец: Stolle Corp. Дата публикации: 1980-06-10.

Folding ice-cream carton, carton blank, and method

Номер патента: US4431129A. Автор: Thomas W. Froom. Владелец: RENDOLL PAPER CORP. Дата публикации: 1984-02-14.

Video composite transmission system integrating encoded data channels into blanking and synchronizing signal

Номер патента: CA1127752A. Автор: Marcel Briand,Georges Pannetier. Владелец: Individual. Дата публикации: 1982-07-13.

Circularly knit brassiere having knit-in-lift and support panels, and a blank and method for making same

Номер патента: US5592836A. Автор: Harold G. Osborne,Thomas F. Schuster. Владелец: Alba Waldensian Inc. Дата публикации: 1997-01-14.

Method and device for fine blanking and forming a workpiece

Номер патента: CA2639502C. Автор: Ulrich Schlatter. Владелец: Feintool International Holding AG. Дата публикации: 2017-01-03.

Folding ice-cream carton, carton blank, and method

Номер патента: USRE33010E. Автор: Thomas W. Froom. Владелец: SOMERVILLE PACKAGING CORP. Дата публикации: 1989-08-08.

Quartz crystal blank and quartz crystal resonator unit

Номер патента: US9985604B2. Автор: Hiroyuki Yamamoto,Ryuichi Kawai,Hiroshi IBARAGI. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Blanking and forming press tool

Номер патента: GB1350829A. Автор: . Владелец: Zaklad Doswiadczalny Pras Auto. Дата публикации: 1974-04-24.

Blank and draw apparatus with gap control

Номер патента: US4125009A. Автор: Elton G. Kaminski,James I. Byrd. Владелец: Stolle Corp. Дата публикации: 1978-11-14.

Carton, carton blank and method for forming the carton

Номер патента: CA2292648C. Автор: Joseph Christopher Walsh. Владелец: Graphic Packaging International LLC. Дата публикации: 2007-05-08.

Method of forming a butt weld joint having a carbon content-dependent, predetermined quenching factor in a precoated welded steel blank and a hot press-formed part made therefrom

Номер патента: CA3082963C. Автор: Maria POIRIER,Cristian ALVAREZ,Thierry LIZON. Владелец: ArcelorMittal SA. Дата публикации: 2023-09-26.

Method for manufacturing toilet blank, and toilet blank

Номер патента: EP4306282A1. Автор: Yulin Li,Xiaolong He,Zhongde FAN,Wenbin Hu,Yongze LIU,Miaogen SHEN,Fengfeng TUO. Владелец: Lixil Sanitary Manufacturing Shanghai Co Ltd AS. Дата публикации: 2024-01-17.

Methods for joining two blanks and blanks and products obtained

Номер патента: US20230294202A1. Автор: Antoine RIQUELME,Elisenda Vila I Ferrer,Mireia ILLANA GREGORI,Pedro RUBIO. Владелец: Autotech Engineering SL Aka Autotech Engineering Ltda Soc. Дата публикации: 2023-09-21.

Method for joining two blanks and blanks and products obtained

Номер патента: US11813696B2. Автор: Antoine RIQUELME,Elisenda Vila I Ferrer,Pedro RUBIO SÁNCHEZ,Mireia ILLANA GREGORI. Владелец: Autotech Engineering SL. Дата публикации: 2023-11-14.

System and method of box-blank and liner combination packaging

Номер патента: WO2024030991A1. Автор: David T. Hengami. Владелец: Hengami David T. Дата публикации: 2024-02-08.

Quartz crystal blank and quartz crystal resonator unit

Номер патента: US20180083594A1. Автор: Hiroyuki Yamamoto,Ryuichi Kawai,Hiroshi lbaragi. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-22.

Crystal resonator including blank and supporting portion

Номер патента: US9543923B2. Автор: Takashi Yamaguchi,Hiroaki Yamada. Владелец: Nihon Dempa Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Package for storing liquid food, a blank forming a part of said package, a reel of blanks and method for producing a tactile pattern on fiber-based packaging material

Номер патента: RU2597587C2. Автор: Аллен ВОНГ,Ханна ЛЕЙОН,Пол ЛЕВЕНДАЛЬ,Гвидо ВИНЕР,Пер-Горан ХЕЙДЕ,Андерс ГРИМ,Йоахим БЬЮРЕНХЕЙМ. Владелец: ТЕТРА ЛАВАЛЬ ХОЛДИНГЗ ЭНД ФАЙНЭНС С.А.. Дата публикации: 2016-09-10.

Cutting blank and three-dimensional structure made therefrom

Номер патента: RU2704885C2. Автор: Уве ТАЙС,Юрген КОЛЛМАНН. Владелец: Майр-Мельнхоф Картон Аг. Дата публикации: 2019-10-31.

Metal working drill/endmill blank and its method of manufacture

Номер патента: US6086980A. Автор: Stephen Foster,Alistair Grearson,Gary McCarthy,Helene Ouchterlony. Владелец: Sandvik Ab. Дата публикации: 2000-07-11.

Controlled oriented discharge of cups from a blanking and forming press

Номер патента: CA1176112A. Автор: James I. Byrd. Владелец: Stolle Corp. Дата публикации: 1984-10-16.

Method and apparatus for duplicating keys using tip-referenced alignment between key blank and master key

Номер патента: CA2120245C. Автор: George L. Heredia,Robert E. Almblad,Mike A. Mueller. Владелец: Axxess Entry Technologies Inc. Дата публикации: 1995-10-17.

Cartons, packages, blanks, and containers having dispensing and opening features

Номер патента: CA2695961C. Автор: Kelly R. Fitzwater,Norman L. Jesch,Alan Fontaine. Владелец: Graphic Packaging International LLC. Дата публикации: 2013-05-21.

Book package blank and method and machine for its fabrication

Номер патента: CA2067443C. Автор: Tarmo Janhonen. Владелец: Pussikeskus Oy. Дата публикации: 2003-11-25.

Universal cutting blade blank and method for forming a cutting blade therefrom

Номер патента: US5477755A. Автор: Richard L. Kitchen,Richard C. Blakesley. Владелец: Gleason Works. Дата публикации: 1995-12-26.

Diamond wire drawing die blanks and methods of making the same

Номер патента: US3978744A. Автор: Neil J. Zachman. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 1976-09-07.

Method of making blanks and clad parts

Номер патента: US5495656A. Автор: John P. Waggoner. Владелец: Amcast Industrial Corp. Дата публикации: 1996-03-05.

Carton with vent openings, blank and folding method

Номер патента: CA2650925C. Автор: Andrea Coltri-Johnson. Владелец: Graphic Packaging International LLC. Дата публикации: 2011-07-05.

Improvements in Machines for Making Cardboard Box Blanks and Printing thereon.

Номер патента: GB191206257A. Автор: . Владелец: MAB PATENT BOX Co Ltd. Дата публикации: 1913-02-13.

Crt blanking and brightness control circuit

Номер патента: US3678191A. Автор: Robert L Peters,Kenneth F Koch. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 1972-07-18.

Telescoping boxes, blanks, and systems for pour-style bag-in-box dispensed products

Номер патента: WO2021028735A1. Автор: JR. Carl Anthony BULLS. Владелец: GEORGIA-PACIFIC CORRUGATED LLC. Дата публикации: 2021-02-18.

Blank and method for manufacturing the same

Номер патента: WO2023208533A1. Автор: Stefan Fecher,Christian Kohler,Martin Kutzner,Lothar Völkl,Sven GIESE. Владелец: DeguDent GmbH. Дата публикации: 2023-11-02.

Method of controlling an edger device, machine programmed to edge an ophthalmic lens blank, and computer program

Номер патента: US20080058983A1. Автор: Kurt William Schaeffer. Владелец: Kurt William Schaeffer. Дата публикации: 2008-03-06.

Blank, method for producing blank, and member

Номер патента: EP4316726A1. Автор: Yasuhiro Ito,Masahiko Abe. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2024-02-07.

Transport device for transporting coin blanks and method for producing a coin

Номер патента: US20180201052A1. Автор: Carsten Brechling,Simon Kneer,Horst Jaeschke,Wolfgang Hoyler. Владелец: L Schuler GmbH. Дата публикации: 2018-07-19.

Blank, method for producing blank, and member

Номер патента: US20240131626A1. Автор: Yasuhiro Ito,Masahiko Abe. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

System and methods for downlink physical resource blocks blanking and related operations in the cellular systems operating in shared spectrum

Номер патента: EP4336767A1. Автор: Sunil Kaimalettu,Manoharan Ramalingam. Владелец: Mavenir Systems Inc. Дата публикации: 2024-03-13.

Dental composite blank and method for manufacturing same

Номер патента: US11998409B2. Автор: Jong-Ho Kang,Myung-Hwan Oh,Hyun-Chul YOO,Yun-ki Kim,Joung-Lim HOO. Владелец: Vericom Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

System and methods for downlink physical resource blocks blanking and related operations in the cellular systems operating in shared spectrum

Номер патента: US20240107328A1. Автор: Sunil Kaimalettu,Manoharan Ramalingam. Владелец: Mavenir Systems Inc. Дата публикации: 2024-03-28.

Plant for creating pre-compacted ceramic powder blanks and for feeding them to the forming cavity of a press

Номер патента: EP1375097A3. Автор: Ermes c/o L.B. Officine Meccaniche S.p.a. Bigi. Владелец: L B Officine Meccaniche SpA. Дата публикации: 2005-06-29.

Ultra-high frequency at-cut quartz blank and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240106409A1. Автор: Xiaowei Zhang,Yang Wan,Dayong Huang. Владелец: Taijing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Method for the production of a flange on a metal blank, and transmission part

Номер патента: CA2546338C. Автор: Udo Friese. Владелец: WF Maschinenbau und Blechformtecknik GmbH and Co KG. Дата публикации: 2012-01-10.

Blanking and forming assembly for production of splices and press using said assembly

Номер патента: EP1428591A1. Автор: Valentino Marchioro,Mario Casella,Roberto Bernadelle. Владелец: Autosplice Europe GmbH. Дата публикации: 2004-06-16.

Package, especially bundle for cigarette packs, as well as package blank and method for producing the package

Номер патента: CA2082904C. Автор: Heinz Focke. Владелец: Focke and Co GmbH and Co KG. Дата публикации: 2002-06-18.

Adhesive-bonded blank for a packaging capsule, method for producing this blank, and use of an adhesive-bonded blank erected to form a filled packaging capsule

Номер патента: EP1345813A1. Автор: Fredrik Konstenius,Per Hagelqvist. Владелец: A&R Carton AB. Дата публикации: 2003-09-24.

Variable flange beam blank and method of continuous casting

Номер патента: CA2165289C. Автор: William J. Wilde. Владелец: ISG Technologies Inc USA. Дата публикации: 2004-06-01.

Light-scattering and reflecting coatings

Номер патента: RU2706063C1. Автор: Чжэнсун ЛО,Вэй Ван,Веньфу ЯН,Гехун ЧЖАН,Джон Роберт ШНАЙДЕР. Владелец: Ппг Коутингз (Тяньцзинь) Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-11-13.

Spherical solar power generator with multiple refraction and reflection of rays in concentrator

Номер патента: RU2616741C2. Автор: Тагир Абдурашидович Исмаилов,Хаджимурат Магомедович Гаджиев,Залина Асамутдиновна Исмаилова,Саврина Казимовна Акимова,Кистаман Мудуновна Давыдова. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Дагестанский государственный технический университет". Дата публикации: 2017-04-18.

Device with light-transmitting and reflecting properties

Номер патента: RU2258946C2. Автор: Ричард В. КЛАЙКМЭН,Нейл Д. ЛУБАРТ,Чарльз Р. МЭЙФИЛД. Владелец: Тривиум Текнолоджиз, Инк.. Дата публикации: 2005-08-20.

Method of power supply of an aircraft with the use of solar batteries using diffused and reflected light from the underlying surface and an aircraft for implementing this method

Номер патента: RU2672310C1. Автор: Михаил Валерьевич Лифшиц. Владелец: Акционерное общество "РОТЕК" (АО "РОТЕК"). Дата публикации: 2018-11-13.

Electron-emitting device and reflecting panel comprising such device

Номер патента: RU2432636C2. Автор: Наофуми АОКИ,Содзи НИСИДА. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2011-10-27.

Glazing possessing selective transmission and reflection spectra

Номер патента: US4348453A. Автор: Sabatino Cohen. Владелец: Saint Gobain Vitrage SA. Дата публикации: 1982-09-07.

Reflecting membrane production method and reflecting membrane produced under such method

Номер патента: RU2422062C2. Автор: Габриэле Беате ВИТТМАНН,ДЕ ВЕН Хенрикус Йоаннес Мария ВАН. Владелец: Симпатекс Текнолоджиз Гмбх. Дата публикации: 2011-06-27.

Heated and reflecting automobile glazing

Номер патента: US5075535A. Автор: Alfred Hans,Gunther Termath. Владелец: Saint Gobain Vitrage International SA. Дата публикации: 1991-12-24.

Fiber product including reflective treads, and reflective implement provided by using said fiber product including reflective threads

Номер патента: US5804275A. Автор: Yoshihiko Tsunefuji. Владелец: Tsunefuji and Co Ltd. Дата публикации: 1998-09-08.

Glazing possessing selective transmission and reflection spectra

Номер патента: CA1169722A. Автор: Sabatino Cohen. Владелец: Saint Gobain Vitrage International SA. Дата публикации: 1984-06-26.

Paper sheet material with a glittering and reflective surface appearance

Номер патента: WO2023222572A1. Автор: Luca Monacelli. Владелец: Gruppo Cordenons S.P.A.. Дата публикации: 2023-11-23.

Devices and methods including an led and reflective die attach material

Номер патента: US20160056353A1. Автор: Tao Tong,Hongtao Ma,Qifeng Shan. Владелец: Luminus Inc. Дата публикации: 2016-02-25.

Reflective prismatic fiber and reflective material incorporating said reflective prismatic fibers

Номер патента: WO2023215631A1. Автор: Don Chernoff. Владелец: Chernoff Don. Дата публикации: 2023-11-09.

Systems, methods, and devices for characterizing ear canal acoustic impedance, admittance, and reflectance by pole-zero fitting

Номер патента: US20150265189A1. Автор: Sarah Robinson,Jont B Allen. Владелец: Mimosa Acoustics Inc. Дата публикации: 2015-09-24.

Capability identification and modification through hardware introspection and reflection

Номер патента: WO2014150065A2. Автор: John E. MCDOWALL. Владелец: CISCO TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2014-09-25.

Capability identification and modification through hardware introspection and reflection

Номер патента: EP2974433A2. Автор: John E. MCDOWALL. Владелец: Cisco Technology Inc. Дата публикации: 2016-01-20.

Window having metal layer that transmits microwave signals and reflects infrared signals

Номер патента: US20220194846A1. Автор: Nicholas Francis Borrelli,Alexandre Mikhailovich Bratkovski. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2022-06-23.

Feedback circuit for line load compensation and reflection reduction

Номер патента: CA2635600A1. Автор: Lance Weston,David Mole,Richard H. Hinkson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-07-12.

Feedback circuit for line load compensation and reflection reduction

Номер патента: EP1969723A2. Автор: Lance Weston,David Mole,Richard H. Hinkson. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2008-09-17.

Window having metal layer that transmits microwave signals and reflects infrared signals

Номер патента: WO2020210289A1. Автор: Nicholas Francis Borrelli,Alexandre Mikhailovich Bratkovski. Владелец: CORNING INCORPORATED. Дата публикации: 2020-10-15.

Uplink pdu sets and reflective qos in radio access networks

Номер патента: US20240267778A1. Автор: Linhai He,Sitaramanjaneyulu Kanamarlapudi. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Antenna system and phase control of emitted and reflected signals

Номер патента: US20240250422A1. Автор: Hong Tang,Bowen ZHENG,Hualiang ZHANG. Владелец: University of Massachusetts UMass. Дата публикации: 2024-07-25.

Uplink pdu sets and reflective qos in radio access networks

Номер патента: WO2024163072A1. Автор: Linhai He,Sitaramanjaneyulu Kanamarlapudi. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2024-08-08.

Compositions and methods for providing metallic and reflective qualities to an object illuminated with ultraviolet light

Номер патента: US09884971B2. Автор: Susan Dain. Владелец: Disney Enterprises Inc. Дата публикации: 2018-02-06.

Systems, methods, and devices for characterizing ear canal acoustic impedance, admittance, and reflectance by pole-zero fitting

Номер патента: US09872640B2. Автор: Sarah Robinson,Jont B Allen. Владелец: Mimosa Acoustics Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Reflective photomask

Номер патента: JP2022144633A. Автор: Hideaki Nakano,顯二郎 市川,歩美 合田,秀亮 中野,悠斗 山形,Ayumi Goda,Kenjiro ICHIKAWA,Yuto YAMAGATA. Владелец: Toppan Photomasks Inc. Дата публикации: 2022-10-03.

Magnetron sputtering system and photomask blank production method based on the same

Номер патента: EP1221495B1. Автор: Satoshi c/o New Funct. Mat. Res. Ctr. Okazaki,Masataka c/o New Funct.Mat.Res.Ctr. Watanabe,Hideo c/o New Funct. Mat. Res. Ctr. Kaneko,Ken c/o Magn.Mat.Res. & Development Ctr. Ohashi,Hideki c/o Magn. Mat. Res. & Dev. Ctr. Kobayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2005-10-19.

Polishing method for square photomask substrate, square photomask substrate, photomask blanks and photomask

Номер патента: JP4025960B2. Автор: 遊 石井,俊市朗 兒嶋,智 岡崎,二郎 森谷,秀和 小澤,政孝 渡辺. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-26.

SPUTTERING TARGET MATERIAL, SILICON-CONTAINING FILM FORMING METHOD, AND PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20140110256A1. Автор: YOSHIKAWA Hiroki,Kaneko Hideo,INAZUKI Yukio. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2014-04-24.

Magnetron sputtering system and photomask blank production method based on the same

Номер патента: US6666957B2. Автор: Hideki Kobayashi,Hideo Kaneko,Satoshi Okazaki,Masataka Watanabe,Ken Ohashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2003-12-23.

Magnetron sputtering system and photomask blank production method based on the same

Номер патента: TWI229142B. Автор: Hideki Kobayashi,Hideo Kaneko,Satoshi Okazaki,Masataka Watanabe,Ken Ohashi. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2005-03-11.

Carton, blank, and method of folding

Номер патента: CA3111890A1. Автор: David G. Couture,Jeffrey S. James. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2021-09-13.

A composite container with separable top, a blank and methods for separating a rim from a tubular body

Номер патента: SE1851334A1. Автор: Eva Sunning. Владелец: A & R Carton Lund AB. Дата публикации: 2020-04-27.

A blank and a package

Номер патента: WO2024176185A1. Автор: Mika Tuhkunen,Vesa PENTTINEN. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2024-08-29.

Blank and methods of constructing a container from the blank

Номер патента: US09850022B2. Автор: Gayle Katherine Martinez. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2017-12-26.

High strength polymer-based cartridge casing for blank and subsonic ammunition

Номер патента: EP2663831A1. Автор: Sy Wiley,Charles Padgett. Владелец: PCP AMMUNITION CO LLC. Дата публикации: 2013-11-20.

A method and machine for realising a box starting from a cardboard blank and for boxing a plurality of articles with the box

Номер патента: AU2020251012A8. Автор: Giuseppe Ponti. Владелец: CMC SpA. Дата публикации: 2021-11-18.

A method and machine for realising a box starting from a cardboard blank and for boxing a plurality of articles with the box

Номер патента: AU2020251012A1. Автор: Giuseppe Ponti. Владелец: CMC SpA. Дата публикации: 2021-11-11.

A method and machine for realising a box starting from a cardboard blank and for boxing a plurality of articles with the box

Номер патента: EP3947166A1. Автор: Giuseppe Ponti. Владелец: CMC SpA. Дата публикации: 2022-02-09.

Blank formed of fabric for manufacturing no-show socks, no-show socks formed of blank and manufacturing method of no-show socks

Номер патента: US20240251883A1. Автор: Donghwan Kim,Tonghyun SHIM. Владелец: Ondo Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Gear blank, and method for manufacturing same and method for finishing same

Номер патента: EP4446616A1. Автор: Kazuaki Takido,Naoki Sakai,Kenji Tasaki. Владелец: Gohsyu Corp. Дата публикации: 2024-10-16.

A composite container with separable top, a body blank, and a method of separating a top end portion from a main body of the container

Номер патента: WO2020046196A8. Автор: Eva Sunning. Владелец: AR Packaging Systems AB. Дата публикации: 2021-03-25.

Container for articles, relative blank and method of making

Номер патента: US12006097B2. Автор: Luca Federici,Luca Paradiso. Владелец: GD SpA. Дата публикации: 2024-06-11.

Packaging containers and associated container blanks and packaging methods

Номер патента: EP4132858A1. Автор: Alex N. BARRETT. Владелец: WestRock Packaging Systems LLC. Дата публикации: 2023-02-15.

Packaging containers and associated container blanks and packaging methods

Номер патента: WO2021174042A1. Автор: Alex N. BARRETT. Владелец: WestRock Packaging Systems, LLC. Дата публикации: 2021-09-02.

A blank and a method for forming a box

Номер патента: GB2618993A. Автор: Brookes Linsey. Владелец: Swanline Print Ltd. Дата публикации: 2023-11-29.

Product containers, packaging methods, and blanks and methods for making product containers

Номер патента: CA3172674A1. Автор: Jonathan Lyon,Kevin M. Simpkins. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2023-03-08.

Blank configured to be erected into a package, a package formed by such a blank, and a method of erecting a blank

Номер патента: WO2024116113A1. Автор: Daniel AXELSSON. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2024-06-06.

Foldable lens box blank and ophthalmic lens box formed therefrom

Номер патента: EP1436208B8. Автор: Mehmed Temim,Gregory T. Mathias. Владелец: Temin Mehmed. Дата публикации: 2012-03-07.

Containers, blanks, and methods for dispensing web material

Номер патента: CA3113038A1. Автор: Jessica Weninger,Melissa Medrano,Kyle Russo. Владелец: Reynolds Consumer Products Inc. Дата публикации: 2021-09-23.

Method for producing a welded metal blank and thus obtained welded metal blank

Номер патента: CA3092928C. Автор: Wolfram Ehling,Niko VAN DER BORGHT. Владелец: ArcelorMittal SA. Дата публикации: 2023-09-26.

A pack for consumer goods and a packaging blank and a method for folding a pack for consumer goods

Номер патента: US20180282056A1. Автор: Oleksandr ZHURBA,Andrew Pearson,Kazuhiro Nishide. Владелец: JT INTERNATIONAL SA. Дата публикации: 2018-10-04.

Adjustable basket filler, blank and method of making

Номер патента: US4359076A. Автор: Garrett J. Kyte. Владелец: Individual. Дата публикации: 1982-11-16.

Foldable lens box blank and ophthalmic lens box formed therefrom

Номер патента: EP1436208A1. Автор: Gregory T. Mathias,Mehmed Temin. Владелец: Vision Ease Lens Inc. Дата публикации: 2004-07-14.

Foldable lens box blank and ophthalmic lens box formed therefrom

Номер патента: EP1436208B1. Автор: Gregory T. Mathias,Mehmed Temin. Владелец: Vision Ease Lens Inc. Дата публикации: 2011-05-18.

Set of colored porous zirconia dental mill blanks and process of production

Номер патента: EP4225579A1. Автор: Gallus Schechner,Michael Jahns,Hans R. Schnagl. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2023-08-16.

Bouquet holder, bouquet, blank and method

Номер патента: NL2023789B1. Автор: De Jonge Sarah. Владелец: Hammerhead Group LLC. Дата публикации: 2021-05-17.

Locking arrangement, carton, blank and method

Номер патента: EP2928788A1. Автор: Kelly A. Harrigan,Aaron L Bates,Bobby L MILLER, Jr. Владелец: Meadwestvaco Packaging Systems LLC. Дата публикации: 2015-10-14.

Manufacture of blanks for recording discs utilizing coextrusion and blanks and records made thereby

Номер патента: WO1981001981A1. Автор: D Dover,R Lindmark. Владелец: Fuller Co H. Дата публикации: 1981-07-23.

A blank and a relative packet of cigarettes

Номер патента: EP1353861A1. Автор: Fiorenzo Draghetti,Stefano Gamberi. Владелец: GD SpA. Дата публикации: 2003-10-22.

A blank and a relative packet of cigarettes

Номер патента: AU2002220987A1. Автор: Fiorenzo Draghetti,Stefano Gamberi. Владелец: GD SpA. Дата публикации: 2002-07-01.

Mandrel for holding a lens blank and method of making a lens using the same

Номер патента: US12103138B2. Автор: Patrick H. Benz,Andrew A. Larson. Владелец: Benz Research and Development Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Narrowing high strength polymer-based cartridge for blank and subsonic ammunition

Номер патента: US09995561B2. Автор: Tony Padgett. Владелец: PCP Tactical LLC. Дата публикации: 2018-06-12.

Blanks and methods for forming a shelf-ready display container

Номер патента: US09994356B2. Автор: David G. Couture. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2018-06-12.

Device and method for preventing a tool from breaking when fine blanking and/or forming a workpiece

Номер патента: US09566635B2. Автор: Alfio Christofaro,Hans-Rudi Honegger,Juerg Ochsenbein. Владелец: Feintool International Holding AG. Дата публикации: 2017-02-14.

Dual handle cooler box design, blank and methods

Номер патента: US09499294B1. Автор: Donn J. COSTANZO, JR.. Владелец: Thatbox Design LLC. Дата публикации: 2016-11-22.

Method for continuous casting of metallic blanks and plant for performing the same

Номер патента: RU2229957C2. Автор: Хайнц ХЕДЛЬ,Михель ШТИФТИНГЕР,Андреас АЙХИНГЕР,Курт ЭНГЕЛЬ,Жан-Франсуа МАРЬОТОН,Жерар ЗЮРИТА,Винсен ГИЙО,Катрин ЛОП. Владелец: Соллак-Фо. Дата публикации: 2004-06-10.

Method of production of hollow items, in particular plastic blanks, and device for its realization

Номер патента: RU2127190C1. Автор: Куипер Дирк Де. Владелец: Симеко А.Г.. Дата публикации: 1999-03-10.

Recyclable blanks and containers made therefrom having controlled fluid permeability

Номер патента: WO2023014671A9. Автор: John D. Benson,William T. MCDONNELL. Владелец: WestRock MWV, LLC. Дата публикации: 2023-03-30.

Recyclable blanks and containers made therefrom having controlled fluid permeability

Номер патента: EP4381131A1. Автор: John D. Benson,William T. MCDONNELL. Владелец: WestRock MWV LLC. Дата публикации: 2024-06-12.

Chip Blanking and Processing in SCDMA to mitigate impulse and burst noise

Номер патента: EP1359680A3. Автор: Thomas J. Kolze. Владелец: Broadcom Corp. Дата публикации: 2005-11-16.

Methods and machine for forming a container from a blank and applying an identification tag

Номер патента: US20240228099A9. Автор: Amer Aganovic,Theodore Hammond,John Philip DWYER,Craig William Buscema. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2024-07-11.

Container Fabricated From A Blank and Method of Forming The Same

Номер патента: US20120266566A1. Автор: Stephen James Holland. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-10-25.

Carton box made out of several blanks and having triangular corner columns

Номер патента: NZ332062A. Автор: Ilias Tsamourgelis. Владелец: Ilias Tsamourgelis. Дата публикации: 2000-06-23.

Magazine for packs of blanks, and method for making containers from blanks

Номер патента: CA3157636A1. Автор: Andrea Biondi,Antonio Vitali,Salvatore Carboni. Владелец: GD SpA. Дата публикации: 2021-06-10.

Magazine for packs of blanks, and method for making containers from blanks

Номер патента: EP4069615A1. Автор: Andrea Biondi,Antonio Vitali,Salvatore Carboni. Владелец: GD SpA. Дата публикации: 2022-10-12.

Packaging blank and package

Номер патента: WO2023208705A1. Автор: Pietro Martini,Giulio Bertani,Daniele Golfieri. Владелец: TETRA LAVAL HOLDINGS & FINANCE S.A.. Дата публикации: 2023-11-02.

Synchronising Ring For A Synchronising Apparatus, A Friction Lining Blank And Also A Method For The Manufacture Of A Synchronising Ring

Номер патента: US20090133982A1. Автор: Marcus Spreckels,Ulf Christoffer. Владелец: Sulzer Euroflamm Germany Gmbh. Дата публикации: 2009-05-28.

Method for the manufacture of a blank and blank

Номер патента: CA3109893A1. Автор: Stefan Fecher,Andreas Gebhardt,Christian Kohler,Lothar Voelkl,Martin Kutzner,Tobias Kranz,Heiner Horhold,Tanja Oefner,Martin Haizmann,Andrea Burns. Владелец: Dentsply Sirona Inc. Дата публикации: 2020-02-20.

Blank and method for making coupon cards

Номер патента: US20040051301A1. Автор: Ronald Eisele,Irving Michlin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-03-18.

A blank, and a package formed from a blank

Номер патента: EP4410697A1. Автор: Tomasz PAJAK. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2024-08-07.

Container, blank and method for forming a container having a bottom wall with an opening

Номер патента: WO2024167993A1. Автор: Bradford J. Walling,John Valencia,Alyssa J. SCHERER,Tom J. WHATLING,Marcellino Santoro, JR.,Eric M. O'MALLEY. Владелец: WestRock Shared Services, LLC. Дата публикации: 2024-08-15.

Key combination element in key blank and key

Номер патента: EP3918159A1. Автор: Effi Ben-Aharon,Izhak KAISER,Eyal Morsky. Владелец: Mul T Lock Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-12-08.

Key combination element in key blank and key

Номер патента: WO2020157742A1. Автор: Effi Ben-Aharon,Izhak KAISER,Eyal Morsky. Владелец: MUL-T-LOCK TECHNOLOGIES LTD.. Дата публикации: 2020-08-06.

Key combination element in key blank and key

Номер патента: US20220098897A1. Автор: Effi Ben-Aharon,Izhak KAISER,Eyal Morsky. Владелец: Mul T Lock Technologies Ltd. Дата публикации: 2022-03-31.

Key combination element in key blank and key

Номер патента: CA3127937A1. Автор: Effi Ben-Aharon,Izhak KAISER,Eyal Morsky. Владелец: Mul T Lock Technologies Ltd. Дата публикации: 2020-08-06.

Key combination element in key blank and key

Номер патента: AU2020213442A1. Автор: Effi Ben-Aharon,Izhak KAISER,Eyal Morsky. Владелец: Mul T Lock Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-08-12.

Heat treatment furnace and method for heat treatment of a pre-coated steel sheet blank and method for production of a motor vehicle part

Номер патента: US20170183754A1. Автор: Georg Frost,Markus Kettler,Karsten Bake. Владелец: Benteler Automobiltechnik GmbH. Дата публикации: 2017-06-29.

Blank and methods of constructing a container from the blank

Номер патента: CA2892642C. Автор: Jeffrey S. James,Jory B. Mack,Timothy A. Tripp. Владелец: Rock Tenn Shared Services LLC. Дата публикации: 2022-08-16.

Method and device for stretching and forming a foil blank and product produced herewith

Номер патента: US20110308293A1. Автор: Thomas Halletz,Juergen Feil,Wolfgang Eglseer. Владелец: KIEFEL GMBH. Дата публикации: 2011-12-22.

Dental mill blank and dental prosthesis

Номер патента: US12115031B2. Автор: Atsushi Matsumoto,Hiroyuki Sakamoto,Shinichiro Kato,Yoshihisa Ito. Владелец: Kuraray Noritake Dental Inc. Дата публикации: 2024-10-15.

Packaging blank and package

Номер патента: AU2023261998A1. Автор: Pietro Martini,Giulio Bertani,Daniele Golfieri. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2024-10-10.

Can packaging, can packaging blank and apparatus and method for production thereof

Номер патента: US12059718B2. Автор: Stephan Ebner,Gustav-Konstantin Gross. Владелец: Linhardt GmbH and Co KG. Дата публикации: 2024-08-13.

Cardboard box having a centring tab, blank, set of blanks and method for producing such a box

Номер патента: US09957085B2. Автор: Arnaud Guerin,Olivier Bourdin,Nicolas Le Lay. Владелец: Otor Sa. Дата публикации: 2018-05-01.

Mandrel for holding an intraocular lens blank and method of making an intraocular lens using the same

Номер патента: US09919487B2. Автор: Patrick H. Benz,Andrew Larson. Владелец: Benz Research and Development Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Blank and methods of constructing a container from the blank

Номер патента: US09908660B2. Автор: Jeffrey Scott James,Jory B. Mack,Timothy A. Tripp. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2018-03-06.

Box design, blanks and methods

Номер патента: US09828133B1. Автор: Donn J. COSTANZO, JR.. Владелец: Thatbox Design LLC. Дата публикации: 2017-11-28.

Glass, glass material for press molding, optical element blank, and optical element

Номер патента: US09650285B2. Автор: Tomoaki Negishi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Container, container blank, and method of forming a container

Номер патента: AU2023200260A1. Автор: Mark Delafosse,Matthew TURLEY. Владелец: Uniqco IP Pty Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Sheet metal blank and method for producing a sheet metal component having a laser-welding-compliant triangular corner

Номер патента: US09586288B2. Автор: Joerg Heusel. Владелец: Trumpf Werkzeugmaschinen SE and Co KG. Дата публикации: 2017-03-07.

Blanks and methods for forming containers having stacking platforms

Номер патента: US09566756B2. Автор: David Joe Brundage. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2017-02-14.

Blank and methods of constructing a container from the blank

Номер патента: US09415895B2. Автор: Jeffrey S. James,Jory B. Mack,Timothy A. Tripp. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2016-08-16.

Dental blank and method of making a dental ceramic blank

Номер патента: WO2009049127A2. Автор: Martin Goetzinger,Ingo W. Wagner,Thomas Sprengart. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2009-04-16.

Dental blank and method of making a dental ceramic blank

Номер патента: EP2207498A2. Автор: Martin Goetzinger,Ingo W. Wagner,Thomas Sprengart. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2010-07-21.

Packaging systems for multiple potted plants and associated blanks and packaging methods

Номер патента: EP4172052A1. Автор: David G. Couture,Kenneth C. Smith,Michael L. Karpeichik. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2023-05-03.

Dental blank and positioning aid for dental blanks

Номер патента: US20230372071A1. Автор: Heinrich Steger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-11-23.

Erectable container, blank and method

Номер патента: WO2017120282A1. Автор: Kurt Wolf,Jennifer EHLER. Владелец: LBP MANUFACTURING LLC. Дата публикации: 2017-07-13.

Cutting tool blank and cutting tool

Номер патента: EP4374996A1. Автор: Michael Magin,Mathieu Schellenberger. Владелец: Ceratizit Hard Material Solutions SA RL. Дата публикации: 2024-05-29.

Blank for forming a wrap-around, pack made out of this blank, and method of forming a series of such blanks

Номер патента: EP3129216A1. Автор: Adam Lunn,Kevin DUDMAN. Владелец: Coveris Flexibles UK Ltd. Дата публикации: 2017-02-15.

Dental abutment blank, method of manufacturing a dental abutment blank and method of manufacturing a dental prosthesis from such a blank

Номер патента: US12059313B2. Автор: Lars Jinton. Владелец: Neoss Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Shield molding blank and shield

Номер патента: US20200391269A1. Автор: Tadakatsu Kato,Koki Enami,Sakae MISHINA. Владелец: Nichias Corp. Дата публикации: 2020-12-17.

Blanks and methods for forming a shelf-ready display container

Номер патента: US20170267399A1. Автор: Craig W. Buscema. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2017-09-21.

Foldable blank and collapsible package

Номер патента: US20240253851A1. Автор: Aaron R. Bentz. Владелец: Amcor Flexibles North America Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Dental abutment blank, method of manufacturing a dental abutment blank and method of manufacturing a dental prosthesis from such a blank

Номер патента: EP3528740A1. Автор: Lars Jinton. Владелец: Neoss Ltd. Дата публикации: 2019-08-28.

Blanks and methods for forming a shelf-ready display container

Номер патента: US09938040B2. Автор: Craig W. Buscema. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2018-04-10.

Blank and packaging produced therefrom

Номер патента: US09889962B2. Автор: James Mcdonald,Gert De Smedt,Fredrik Jacobsson. Владелец: DS Smith Packaging Deutschland Stiftung and Co KG. Дата публикации: 2018-02-13.

Method for producing turbine engine parts, and resulting blank and mould

Номер патента: US09844843B2. Автор: Serge Fargeas,Patrick Emilien Paul Emile Huchin,Marc Soisson,Anthony Texier,Karine Deschandol,Sebastien Digard Brou De Cuissart,Valery Piaton. Владелец: SNECMA SAS. Дата публикации: 2017-12-19.

Forging device for the production of a piston blank, and method for the production of the piston blank by means of said forging device

Номер патента: US09782823B2. Автор: Juergen Friedrich,Wolfgang Janisch,Roland GRUNERT,Timo SENG,Armin Wenzel. Владелец: MAHLE International GmbH. Дата публикации: 2017-10-10.

Key blank and carrier adapted for positioning a key blank in a cutter during bit cutting

Номер патента: US09764393B2. Автор: Michael A. Mueller,George Lynn Hagen,Kenneth C. Booth,Scott Basham,Mark Tarter,Ryan Hamblin,Carl Ito. Владелец: Hillman Group Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Process for producing a blank, and a blank

Номер патента: US09737465B2. Автор: Stefan Fecher,Markus Vollmann,Martin Kutzner,Udo Schusser,Heiner Horhold. Владелец: DENTSPLY INTERNATIONAL INC. Дата публикации: 2017-08-22.

Blank and packaging for pack of pots with connection/deformation sections

Номер патента: US09586739B2. Автор: Fabien Jego. Владелец: AUTOMATISATION ET RENOVATION DU CONDITIONNEMENT DANS LES INDUSTRIES LAITIERES ARCIL. Дата публикации: 2017-03-07.

Key blank and carrier adapted for positioning a key blank in a cutter during bit cutting

Номер патента: US09586272B1. Автор: Michael A. Mueller,George Lynn Hagen,Kenneth C. Booth,Scott Basham,Mark Tarter,Ryan Hamblin,Carl Ito. Владелец: Hillman Group Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Screw plug made of a metallic material, method for the production thereof, corresponding blank, and corresponding tool

Номер патента: US09567882B2. Автор: Hartmut Flaig. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-02-14.

Carton blank and gable top carton produced from the same

Номер патента: AU2020344942A1. Автор: Martin Kurt WIESER. Владелец: Elopak Asa. Дата публикации: 2022-04-07.

Carton blank and gable top carton produced from the same

Номер патента: AU2020344942B2. Автор: Martin Kurt WIESER. Владелец: Elopak Asa. Дата публикации: 2024-04-11.

Carton blank and gable top carton produced from the same

Номер патента: EP4028331A1. Автор: Martin Kurt WIESER. Владелец: Elopak Asa. Дата публикации: 2022-07-20.

Laminate Construct, Blanks And Containers Formed Therefrom, Sealing Apparatus Therefor, And Associated Methods

Номер патента: US20240150096A1. Автор: Stefan Bengtsson,Simon Holka,Nils LAGERWALL. Владелец: Graphic Packaging International LLC. Дата публикации: 2024-05-09.

Ammunition blank and corresponding bolt

Номер патента: US20240230293A1. Автор: Johnathon M. Hall,Jacqueline K. McNally,Virgil L. White. Владелец: Sig Sauer Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Aluminum coated blank and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240226982A9. Автор: Chang Yong Lee,Jeong Seok Kim,Sung Ryul Kim,Joo Sik Hyun,Yoo Dong Chung. Владелец: Hyundai Steel Co. Дата публикации: 2024-07-11.

Packaging systems and associated containers, dunnage panels, blanks, and methods

Номер патента: CA3171055A1. Автор: Jonathan Lyon,Kenneth C. Smith,Jeffrey S. James. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2023-02-23.

Stackable carton, blank and method of forming

Номер патента: AU2021345278A9. Автор: John Valencia. Владелец: WestRock Shared Services LLC. Дата публикации: 2024-08-01.

Dispenser carton blank and assembly

Номер патента: US11760558B2. Автор: Richard F. Jones. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-19.

An air-laid blank, a method of producing an air-laid blank and a method of producing a three dimensional product from said air-laid blank

Номер патента: EP4200472A1. Автор: Martin MALMQVIST. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2023-06-28.

Method for manufacturing a three dimensionally shaped article comprising hip/thigh panels and a hoop from a plus-shaped blank, and such an article

Номер патента: EP2079420A1. Автор: Christoph Schmitz. Владелец: Concept For Success C4s Ek. Дата публикации: 2009-07-22.

Tissue dispensers, blanks, and methods of forming the same

Номер патента: WO2024167486A1. Автор: YoonJung Lee,Minkyung KIM,JungNam Kim,Haein Kim,EunJeong KWAK. Владелец: KIMBERLY-CLARK WORLDWIDE, INC.. Дата публикации: 2024-08-15.

A packaging box, a box blank and a packaged product

Номер патента: WO2019021001A1. Автор: Peter Booth,Will Maskell,Olly SIMPSON,Alex MARGETTS,Kelly NGUYEN. Владелец: MARS, INCORPORATED. Дата публикации: 2019-01-31.

Blank and method for the manufacture of at least one molded part

Номер патента: CA3072645C. Автор: Stefan Fecher,Andreas Gebhardt,Lothar Völkl. Владелец: Dentsply Sirona Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Carton blank and gable top carton produced from the same

Номер патента: NZ786204A. Автор: Martin Kurt WIESER. Владелец: Elopak Asa. Дата публикации: 2024-08-30.

Method for producing a torsional profile from a blank, and torsional profile

Номер патента: US09802235B2. Автор: Dieter Friesen,Norbert Niggemeyer,Jan Krull,Eugen Seibel,Paul Kaupmann. Владелец: Benteler Automobiltechnik GmbH. Дата публикации: 2017-10-31.

Printed sheet with foldable frame, blank and method for producing the same

Номер патента: US09706861B2. Автор: Kwok Hee Wong. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-07-18.

Welded blank and part

Номер патента: US09682443B2. Автор: Aurelien Pic,Rene Vierstraete,Pascal Verrier,Bernd Thommes,Wolfram Ehling,Jean-Francois Canourgues. Владелец: ArcelorMittal France SA. Дата публикации: 2017-06-20.

Cardboard box, blank and method of making a cardboard box

Номер патента: US09517857B2. Автор: Heinrich Klein. Владелец: Braun GmbH. Дата публикации: 2016-12-13.

Foldable picture frame with picture, blank and method for producing the same

Номер патента: US09486093B2. Автор: Kwok Hee Wong. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-08.

Iron-chrome blank and method for producing it

Номер патента: RU2313409C2. Автор: Ясуйоси ХИДАКА,Тосиро АНРАКУ,Томио ЯМАКАВА,Ясуфуми КИТАМУРА. Владелец: Сумитомо Метал Индастриз, Лтд.. Дата публикации: 2007-12-27.

Cardboard blank and package formed from said blank folded and glued

Номер патента: AU9167098A. Автор: Veronique Ferry. Владелец: CPC Packaging SAS. Дата публикации: 1999-03-29.

Housing blank and activation member blank for a medicament delivery device, a kit comprising such blanks, and a medicament delivery device

Номер патента: EP3074063B1. Автор: Anders Holmqvist. Владелец: CAREBAY EUROPE LTD. Дата публикации: 2018-05-02.

Blank and method for producing a tooth replacement part

Номер патента: US20190328622A1. Автор: Michael BAURER. Владелец: Dentsply Sirona Inc. Дата публикации: 2019-10-31.

Cylinder head blank and cylinder head manufacturing method

Номер патента: EP4234896A1. Автор: Hidenobu Matsuyama,Yoshitsugu Noshi,Hirohisa SHIBAYAMA,Koukichi Kamada,Naoya TAINAKA,Moriyuki NOGAMI,Masatoshi Inoguchi. Владелец: Nissan Motor Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Method of bonding saw blade cutter saw blade cutter and combination of carton blank and saw blade cutter

Номер патента: GB9617012D0. Автор: . Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1996-09-25.

Foldable Lens Box Blank And Ophthalmic Lens Box Formed Therefrom

Номер патента: US20240182202A1. Автор: Chulkyu KIM,Ilsu Kim,Seungmook Lim,Daehyun Lim. Владелец: Hoya Optical Labs of America Inc. Дата публикации: 2024-06-06.

Transport device for planar packaging blanks, packaging system having a packaging device for planar packaging blanks and method for operating the packaging system

Номер патента: US20240270430A1. Автор: Martin Wagner,August Peutl,Andreas Hack,Oliver Kotz,Ulrich HANSBAUER. Владелец: KRONES AG. Дата публикации: 2024-08-15.

A shoe upper blank and a method of manufacturing thereof

Номер патента: WO2019127209A1. Автор: Ricardo Da Costa Leite,Kuo Lang Pan. Владелец: Rival Shoes Design Limited. Дата публикации: 2019-07-04.

Machine for feeding and pointing hairpin blanks and the like

Номер патента: US1476416A. Автор: Earl R Person. Владелец: DuPont Viscoloid Co. Дата публикации: 1923-12-04.

Foldable lens box blank and ophthalmic lens box formed therefrom

Номер патента: EP4326630A1. Автор: Chulkyu KIM,Ilsu Kim,Seungmook Lim,Daehyun Lim. Владелец: Hoya Optical Labs of America Inc. Дата публикации: 2024-02-28.

Article carrier, blank and method of construction

Номер патента: US12098008B2. Автор: Nathaniel B. Ball,Lauren N. CHESNET. Владелец: WestRock Packaging Systems LLC. Дата публикации: 2024-09-24.

Blanking and trim die including an integrated power grinding tool

Номер патента: US12083607B2. Автор: Liang Huang,Evangelos Liasi. Владелец: Ford Motor Co. Дата публикации: 2024-09-10.

Method for producing photomask blanks

Номер патента: RU2307423C2. Автор: Сергей Алексеевич Никитин. Владелец: Закрытое акционерное общество "Элма-Фотма". Дата публикации: 2007-09-27.

COMPOSITE GEAR BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120000307A1. Автор: Oolderink Rob,Nizzoli Ermanno,Vandenbruaene Hendrik. Владелец: QUADRANT EPP AG. Дата публикации: 2012-01-05.

Improvements in or relating to Stapling devices for Box-blank and other Machines.

Номер патента: GB189908292A. Автор: Alfred Julius Boult. Владелец: Individual. Дата публикации: 1899-06-10.

Rolling method at creating preset stressed state along cross section of blank and blank for performing the same

Номер патента: RU2311974C2. Автор: Павел Борисович Белявский,Игорь Николаевич Лебединский,Валерий Георгиевич Кнохин,Александр Владимирович Рамзаев,вский Павел Борисович Бел,Александр Петрович Огрызков. Владелец: Закрытое акционерное общество "Волгоградский металлургический завод "Красный Октябрь" ЗАО "ВМЗ "Красный Октябрь". Дата публикации: 2007-12-10.

Method for producing and utilization of wood waste fuel blanks and apparatus for effectuating the same

Номер патента: RU2267257C2. Автор: Андрей Михайлович Способ,Андрей Михайлович Способ (RU). Владелец: Андрей Михайлович Способ. Дата публикации: 2006-01-10.

Method for progressive multi-row blanking and die set for performing the same

Номер патента: RU2304481C2. Автор: Михаил Григорьевич Зарубин,Александр Владимирович Чиннов. Владелец: Открытое акционерное общество "Новосибирский завод химконцентратов". Дата публикации: 2007-08-20.

Method for continuous making of bimetallic laminate blanks and installation for performing the same

Номер патента: RU2195392C1. Автор: А.В. Садовский,В.П. Востриков,К.И. Грамотнев,В.Н. Чернышев,П.В. Востриков,Е.В. Экк. Владелец: Закрытое акционерное общество "ТРАНСКОМ". Дата публикации: 2002-12-27.

Refrigeration method of casting mold while receiving of comtinuous-casted blanks and casting mold for receiving of comtinuous-casted blanks

Номер патента: RU2351427C1. Автор: Валерий Иванович Одиноков,Вячеслав Викторович Стулов. Владелец: Институт машиноведения и металлургии ДВО РАН. Дата публикации: 2009-04-10.

Method of deep drawing parts from thin-sheet blanks and press to this end (versions)

Номер патента: RU2408447C2. Автор: Иван Николаевич Поздов,Константин Иванович Поздов. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает государственный заказчик - Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом". Дата публикации: 2011-01-10.

Key blank and key

Номер патента: AU201617173S. Автор: . Владелец: EVVA Sicherheitstechnologie GmbH. Дата публикации: 2017-01-16.

Key blank and key

Номер патента: AU201615631S. Автор: . Владелец: EVVA Sicherheitstechnologie GmbH. Дата публикации: 2016-11-08.

Cross-screw-rolling mill process tool for piercing-rolling-off of large-diameter electroslag-remelting sleeve blanks and hollow ingots from alloyed hardly-deformed grades of steel and alloys

Номер патента: RU2527582C2. Автор: Александр Анатольевич Федоров,Виктор Николаевич Еремин,Анатолий Васильевич Сафьянов,Валентин Иреклеевич Тазетдинов,Владимир Яковлевич Осадчий,Александр Юрьевич Матюшин,Николай Петрович Климов,Константин Эдуардович Бубнов,Анатолий Андреевич Воронин,Валерий Александрович Головинов,Александр Анатольевич Сафьянов,Владимир Сергеевич Баричко,Владимир Петрович Пашнин. Владелец: Открытое акционерное общество "Челябинский трубопрокатный завод". Дата публикации: 2014-09-10.

Method of piercing of blanks and ingots-blanks of electroslag melting in helical rolling mill to shell-blanks and shell-blanks piercing-rolling to shells

Номер патента: RU2553323C1. Автор: Алексей Иванович Дронов,Анатолий Васильевич Сафьянов,Кирилл Николаевич Никитин,Валентин Иреклеевич Тазетдинов,Владимир Яковлевич Осадчий,Николай Петрович Климов,Константин Эдуардович Бубнов,Владимир Сергеевич Баричко,Александр Алексеевич Лунев,Павел Михайлович Федоров,Валентин Игоревич Чурбанов,Александр Юрьевич Чеботов. Владелец: Открытое акционерное общество "Челябинский трубопрокатный завод". Дата публикации: 2015-06-10.

Blank and a box therefrom having extended life

Номер патента: CA1283642C. Автор: Richard Edwin Bishop. Владелец: Domtar Inc. Дата публикации: 1991-04-30.

Method for making cylindrical articles with bottom from square blank and apparatus for performing the same

Номер патента: RU2217256C2. Автор: В.В. Романов,В.Г. Кондратенко,В.А. Гранкин,А.С. Белобеев. Владелец: Белобеев Анатолий Степанович. Дата публикации: 2003-11-27.

Method for shaping elongated blanks and multi-functional bending-straightening machine tool for performing the same

Номер патента: RU2299107C2. Автор: Олег Сергеевич Куклин,Василий Иванович Попов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный научно-исследовательский институт технологии судостроения" (ФГУП "ЦНИИТС"). Дата публикации: 2007-05-20.

Method of compacting high-density blanks and parts from wetted metal powder at temperature effects

Номер патента: RU2464126C1. Автор: Валерий Николаевич Кокорин,Андрей Иванович Рудской,Сергей Юрьевич Кондратьев,Антон Александрович Митюшкин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет". Дата публикации: 2012-10-20.

Method for forming hollow parts of flat sheet blanks and apparatus for performing the same

Номер патента: RU2242320C2. Автор: М.А. Бабурин,Е.С. Сизов,В.С. Сизов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Технощит". Дата публикации: 2004-12-20.

Improvements in Machines for Trimming Collar Blanks and Analogous Articles.

Номер патента: GB190717712A. Автор: Albert Dixon Fenwick,Charles Norwood. Владелец: Individual. Дата публикации: 1908-07-23.

Method for calibration of inherent s-parameters of devices for measuring complex coefficients of transmission and reflection of microwave four-terminal devices

Номер патента: RU2482504C2. Автор: Константин Станиславович Коротков,Антон Сергеевич Левченко,Дмитрий Николаевич Мильченко,Игорь Николаевич Шевченко. Владелец: ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО "НАУЧНО-ПРОИЗВОДСТВЕННАЯ КОМПАНИЯ "РИТМ" (ОАО "Компания "Ритм"). Дата публикации: 2013-05-20.

Method to determine amplitude-phase error of microwave mixer in metre of complex coefficients of transmission and reflection of microwave quadripoles

Номер патента: RU2499272C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Даниил Русланович Фролов,Денис Николаевич Перечнев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВПО "КубГУ"). Дата публикации: 2013-11-20.

Method of certification of amplitude-phase error of devices for measurement of complex coefficients of transmitting and reflecting of four-pole shf

Номер патента: RU2377591C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Дмитрий Николаевич Мильченко,Игорь Николаевич Шевченко,Юрий Георгиевич Астафьев. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-производственная компания "Ритм". Дата публикации: 2009-12-27.

Device for measuring complex coefficients of transmission and reflection of microwave four terminal networks

Номер патента: RU2377583C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Дмитрий Николаевич Мильченко,Игорь Николаевич Шевченко,Юрий Георгиевич Астафьев. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-производственная компания "Ритм". Дата публикации: 2009-12-27.

Device for measuring absolute complex transmission and reflection coefficients of microwave devices with frequency conversion

Номер патента: RU2524049C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Даниил Русланович Фролов,Антон Сергеевич Левченко,Дмитрий Николаевич Мильченко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВПО "КубГУ"). Дата публикации: 2014-07-27.

Device to measure complex coefficients of transmission and reflection of microwave quadripoles

Номер патента: RU2499271C1. Автор: Константин Станиславович Коротков,Даниил Русланович Фролов,Денис Николаевич Перечнев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВПО "КубГУ"). Дата публикации: 2013-11-20.

Method of measuring local energy frequency spectra and reflection factor of radio wave-absorbing material

Номер патента: RU2321007C1. Автор: Андрей Александрович Гаврилов,Виктор Васильевич Бондаренко,Валерий Евгеньевич Забалуев. Владелец: Федеральное государственное учреждение "Федеральный государственный научно-исследовательский испытательный центр радиоэлектронной борьбы и оценки снижения заметности" Министерства обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2008-03-27.

Device for splitting and recording of direct and reflected microwave power in quasi-optical pathway

Номер патента: RU2548392C1. Автор: Намик Гусейнага оглы Гусейн-заде,Леонид Викторович Колик,Евгений Михайлович Кончеков,Владимир Дмитриевич Степахин,Николай Константинович Харчев,Елена Николаевна Тараканова,Герман Михайлович Батанов,Валентин Дмитриевич Борзосеков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук (ИОФ РАН). Дата публикации: 2015-04-20.

Transmitted and reflected light microscope

Номер патента: RU2419114C2. Автор: Михаил Наумович Сокольский,Наталия Богдановна Скобелева,Сергей Николаевич Натаровский,Елена Викторовна Лобачева. Владелец: Открытое акционерное общество "ЛОМО". Дата публикации: 2011-05-20.

Reflective photomask blank and reflective photomask

Номер патента: JP7059679B2. Автор: 典仁 福上,透 古溝. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2022-04-26.

REFLECTIVE PHOTOMASK AND REFLECTIVE PHOTOMASK BLANK

Номер патента: US20120021344A1. Автор: Matsuo Tadashi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-26.

Reflective photomask blank, reflective photomask, inspection method and inspection apparatus therefor

Номер патента: JP5176817B2. Автор: 真人 今. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2013-04-03.

Reflective mask blank, reflective photomask, and reflective photomask manufacturing method

Номер патента: JP4900656B2. Автор: 正 松尾,泰史 西山. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2012-03-21.

Dust adhesion preventing jig of reflective photomask, fitting method therefor, fitting device therefor, and storage device of reflective photomask

Номер патента: JP2012221988A. Автор: Noriaki Takagi,紀明 高木. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2012-11-12.

REFLECTIVE PHOTOMASK AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120122022A1. Автор: KIM Ni-Eun,Jeong Yunsong. Владелец: . Дата публикации: 2012-05-17.

APPARATUS FOR MEASURING PATTERNS ON A REFLECTIVE PHOTOMASK

Номер патента: US20130250286A1. Автор: YOON Young-keun,Han Hak-seung,SHIN In-Kyun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2013-09-26.

Reflective photomask, gripping apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: JP5304097B2. Автор: 陽 坂田. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2013-10-02.

Reflective photomask for extreme ultraviolet

Номер патента: JP5292747B2. Автор: 正 松尾,陽 坂田,信平 田村. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2013-09-18.

Reflective photomask

Номер патента: JP6852281B2. Автор: 敏雄 小西,原太 渡辺. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2021-03-31.

Photomask blank substrate container, method for storing photomask blank substrate and method for transporting photomask blank substrate

Номер патента: SG10201911072PA. Автор: KOITABASHI Ryuji,ITO Shogo. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2020-01-30.

Photomask blank, method of manufacturing a photomask blank, photomask intermediate, photomask and method of manufacturing a display device

Номер патента: TW201612619A. Автор: Noboru Yamaguchi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-04-01.

Photomask blank and method for adjusting reflectance of photomask blank

Номер патента: JP4335729B2. Автор: 英雄 金子,伸一 高野. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-09-30.

Exposing method and photomask blank used in this exposing method and holder for photomask blank

Номер патента: JPH01142636A. Автор: Takae Hayashi,孝枝 林,Manabu Tomitani,学 富谷. Владелец: Olympus Optical Co Ltd. Дата публикации: 1989-06-05.

PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK BLANK MANUFACTURING METHOD, AND PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120214093A1. Автор: Tanabe Masaru. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2012-08-23.

PHOTOMASK BLANK AND MAKING METHOD, PHOTOMASK, LIGHT PATTERN EXPOSURE METHOD, AND DESIGN METHOD OF TRANSITION METAL/SILICON BASE MATERIAL FILM

Номер патента: US20120064438A1. Автор: YOSHIKAWA Hiroki,Kaneko Hideo,INAZUKI Yukio,KOITABASHI Ryuji,KOJIMA Yosuke,HARAGUCHI Takashi,HIROSE Tomohito. Владелец: . Дата публикации: 2012-03-15.

PHOTOMASK BLANK AND PRODUCTION METHOD THEREOF, AND PHOTOMASK PRODUCTION METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE PRODUCTION METHOD

Номер патента: US20120129084A1. Автор: . Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2012-05-24.

OPTICALLY SEMITRANSMISSIVE FILM, PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK, AND METHOD FOR DESIGNING OPTICALLY SEMITRANSMISSIVE FILM

Номер патента: US20130011772A1. Автор: Nozawa Osamu,SHIOTA Yuki. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2013-01-10.

Method for manufacturing photomask blank

Номер патента: TW200510916A. Автор: Tadashi Hizuchi. Владелец: Dainichi Kiko KK. Дата публикации: 2005-03-16.

Attenuated embedded phase shift photomask blanks

Номер патента: AU2002228202A1. Автор: Marie Angelopoulos,Katherina Babich,Cameron James Brooks,Jay Chey,Richard Guarnieri,Michael Straight Hibbs,Kenneth Christopher Racette. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2002-09-12.

BINARY PHOTOMASK BLANK AND BINARY PHOTOMASK MAKING METHOD

Номер патента: US20120034551A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-02-09.

PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK

Номер патента: US20120251930A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-10-04.

Photomask blank and processing method of the same

Номер патента: JP2016173384A. Автор: Itaru Yoshida,至 吉田. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-29.

How to make photomasks, photomask blanks, and photomasks

Номер патента: JP6806274B2. Автор: 裕之 石井,石井　裕之,裕之 宮下,郁夫 菊地,健史 下村,陽一 三浦,利明 茨木,康弘 菅家. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2021-01-06.

Photomask blank and photomask

Номер патента: JP2785313B2. Автор: 庄一 樋口. Владелец: TOTSUPAN INSATSU KK. Дата публикации: 1998-08-13.

Photomask blanks and photomask manufacturing method

Номер патента: JP4458216B2. Автор: 英雄 金子,智 岡崎,判臣 稲月,政孝 渡邉. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-04-28.

Substrate for photomask, photomask blank and photomask

Номер патента: JP2005300566A. Автор: Koichi Hashiguchi,Tatsu Otaguro,竜 大田黒,浩一 橋口. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2005-10-27.

Photomask blanks and photomask

Номер патента: TW201022850A. Автор: Hiroyuki Nagase. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2010-06-16.

Photomask Blank, Photomask, and Pattern Transfer Method Using Photomask

Номер патента: US20120034553A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-02-09.

PHOTOMASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, PHOTOMASK, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120045713A1. Автор: . Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2012-02-23.

PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK, AND PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120219889A1. Автор: Nozawa Osamu. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2012-08-30.

PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK, AND MAKING METHOD

Номер патента: US20130059235A1. Автор: Nishikawa Kazuhiro,Igarashi Shinichi,YOSHIKAWA Hiroki,INAZUKI Yukio. Владелец: . Дата публикации: 2013-03-07.

Photomask blank manufacturing method

Номер патента: JP3879827B2. Автор: 正幸 中津,篤 田鹿,恒夫 沼波,智 岡崎,二郎 森谷. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-14.

Photomask blank manufacturing method and photomask manufacturing method

Номер патента: JP5377881B2. Автор: 栄史郎 野田. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2013-12-25.

Photomask blank, photomask manufacturing method using the same, and display device manufacturing method

Номер патента: JP6301383B2. Автор: 誠治 坪井,順一 安森,正男 牛田,兼士 阿山. Владелец: Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd. Дата публикации: 2018-03-28.

Photomask blank, photomask manufacturing method using the same, and display device manufacturing method

Номер патента: JP6594742B2. Автор: 誠治 坪井,勉 石井. Владелец: Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd. Дата публикации: 2019-10-23.

Sputtering target and photomask blank manufacturing method using the same

Номер патента: JP4376638B2. Автор: 寿幸 鈴木,重徳 石原. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2009-12-02.

Photomask and photomask blank placement direction changing device

Номер патента: JP4665468B2. Автор: 利一 高橋. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2011-04-06.

Photomask blank, method for manufacturing photomask using the same, and method for manufacturing display device

Номер патента: JP2016188997A. Автор: Seiji Tsuboi,誠治 坪井,順一 安森,正男 牛田,兼士 阿山,Masao Ushida,Junichi Yasumori,Kenji Ayama. Владелец: Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd. Дата публикации: 2016-11-04.

Photomask blank, photomask, and manufacturing method thereof

Номер патента: JP4413828B2. Автор: 智 岡崎,博樹 吉川,判臣 稲月,祐一 福島,崇 原口,政秀 岩片,良紀 木名瀬. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2010-02-10.

Photomask blank, photomask and fabrication method thereof

Номер патента: CN1900819A. Автор: 吉川博树,洼田宽,木名濑良纪,冈崎智,丸山保,原口崇,岩片政秀,福岛祐一,佐贺匡. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2007-01-24.

Photomask blank, photomask, and method of manufacturing photomask

Номер патента: JPH0823687B2. Автор: 利三郎 吉田,明良 村木. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 1996-03-06.

Substrate defect inspection method and photomask blank manufacturing method

Номер патента: JP7088772B2. Автор: 恒男 寺澤,隆裕 木下. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-21.

Method for manufacturing photomask blank, method for reducing warpage, method for improving chemical resistance of film, and photomask

Номер патента: JP4026000B2. Автор: 英雄 金子,判臣 稲月,哲史 塚本,均之 茂木. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-26.

Reflection type photomask blank, reflection type photomask, and pattern transfer method employing the same

Номер патента: JP2011228743A. Автор: Tadashi Matsuo,正 松尾,Yasushi Nishiyama,泰史 西山,浩一郎 金山,Koichiro Kanayama,信平 田村,Shinpei Tamura. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2011-11-10.

Half tone phase shift type photomask blank, half tone phase shift type photomask and pattern exposure method

Номер патента: JP2018063441A. Автор: Hideo Kaneko,Toyohisa Sakurada,豊久 桜田,英雄 金子,判臣 稲月,紘平 笹本,金子　英雄,稲月　判臣,卓郎 ▲高▼坂,Sadaomi Inazuki,Takuro Takasaka,kohei Sasamoto. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-19.

Photomask blank manufacturing method

Номер патента: JP4809749B2. Автор: 智 岡崎,博樹 吉川,判臣 稲月. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-11-09.

Photomask blank manufacturing method

Номер патента: JP4974194B2. Автор: 寿幸 鈴木,重徳 石原,勝 三井. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2012-07-11.

Method for producing photomask blanks

Номер патента: RU2319189C2. Автор: Сергей Алексеевич Никитин. Владелец: Закрытое акционерное общество "Элма-Фотма". Дата публикации: 2008-03-10.

Photomask blank manufacturing method and photomask manufacturing method

Номер патента: JP4614877B2. Автор: 浩之 岩下,正男 牛田,剛之 山田. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-01-19.

Photomask blank manufacturing method

Номер патента: JP3879828B2. Автор: 正幸 中津,篤 田鹿,恒夫 沼波,智 岡崎,二郎 森谷. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-14.

Photomask blank substrate handling and storage method

Номер патента: JP4099658B2. Автор: 渉 草木,政孝 渡辺,慎泰 福島. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2008-06-11.

Photomask blanks

Номер патента: JP5979268B2. Автор: 秀吉 高見澤,望宏 清水,幸弘 藤村,潤平 森本,あすか 馬城. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2016-08-24.

Photomask blanks, photomasks using them, and methods for manufacturing photomasks

Номер патента: JP6803172B2. Автор: 昌典 橋本,橋本　昌典. Владелец: SK Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-23.

Method of manufacturing photomask blank

Номер патента: JP6528877B2. Автор: 判臣 稲月,稲月　判臣,創一 深谷. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-12.

Photomask, its production and photomask blank

Номер патента: JPH1048806A. Автор: 容由 田辺,Yasuyoshi Tanabe. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1998-02-20.

Method of making colored opaque photomask blank material by ion plating method

Номер патента: JPS5334474A. Автор: Hikari Sakaguchi. Владелец: Nippon Chemical Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1978-03-31.

Photomask blank

Номер патента: USD568839S1. Автор: Shigekazu Matsui,Masao Ushida,Masaru Mitsui,Osamu Nagarekawa. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2008-05-13.

Large photomask blank, fabrication method thereof, and photomask using the same

Номер патента: TWI330299B. Автор: Geung-Won Kang,Kee-Soo Nam,Youn-Soo Park. Владелец: S&S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2010-09-11.

Halftone Phase Shift Photomask Blank, Making Method, and Halftone Phase Shift Photomask

Номер патента: SG10201606198VA. Автор: KOSAKA Takuro. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2017-03-30.

Photomask blank

Номер патента: USD537048S1. Автор: Masaru Mitsui. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2007-02-20.

Large photomask blank, fabrication method thereof, and photomask using the same

Номер патента: TW200807146A. Автор: Geung-Won Kang,Kee-Soo Nam,Youn-Soo Park. Владелец: S & Amp S Tech Co Ltd. Дата публикации: 2008-02-01.

A blank and a package

Номер патента: WO2024224336A1. Автор: Petri Aalto. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2024-10-31.

Method for drying of wood blanks and installation for its realization

Номер патента: RU2182291C2. Автор: Ф.Ф. Легуша,С.И. Пугачев,А.А. Ерофеев,В.Э.-Я. Лифсон,Тэ Ан Сун,Н.В. Лапчевский,О.Э. Кильдишева. Владелец: Лифсон Владимир Эля-Яковлевич. Дата публикации: 2002-05-10.

Abrasive tool manufacturing blank and device for its production

Номер патента: RU2147984C1. Автор: Л.А. Барков,В.А. Павлов,В.И. Трусковский,В.Н. Дятлов,Б.А. Чаплыгин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Торговый Дом Абразивные заводы Урала". Дата публикации: 2000-04-27.

Improvements in Machines for Making Cardboard and like Box Blanks, Box Cover Blanks, and similar Articles.

Номер патента: GB189905666A. Автор: Horace Inman. Владелец: Individual. Дата публикации: 1899-12-23.

Ponderous composite blank and method of its manufacture

Номер патента: RU2017847C1. Автор: Б.С. Крылов,А.Н. Трещевский,Ю.Ф. Баландин,В.И. Крахмалев. Владелец: Центральный научно-исследовательский институт материалов. Дата публикации: 1994-08-15.

Method for progressive multirow blanking and die set for performing the same

Номер патента: RU2208494C2. Автор: И.Г. Чапаев,Н.А. Бычихин,М.Г. Зарубин,А.В. Чиннов,А.А. Лузгин. Владелец: Открытое акционерное общество "Новосибирский завод химконцентратов". Дата публикации: 2003-07-20.

Improvements in the Manufacture of Horse-shoe Blanks and in Machinery used in the said Manufacture.

Номер патента: GB189815329A. Автор: Edward Holden,Jabez Lones. Владелец: Individual. Дата публикации: 1899-05-06.

A blank and carton for chips

Номер патента: AU351394S. Автор: . Владелец: Orora Packaging Australia Pty Ltd. Дата публикации: 2013-10-21.

Method of separating and flanging sheet blank and die set for performing the method

Номер патента: RU1568353C. Автор: Н.Ф. Баранов. Владелец: Поволжский авиационный научно-технический центр. Дата публикации: 1995-09-20.

Method of secondary cooling of continuously cast blanks and machine supporting members of continuous casting of metals

Номер патента: RU2098227C1. Автор: Ю.В. Ярыгин,А.В. Куклев,Ю.М. Айзин,В.М. Паршин,В.П. Сидоров,А.А. Клачков,В.А. Федосеенко,А.И. Зубков,К.И. Штанько. Владелец: Оскольский электрометаллургический комбинат. Дата публикации: 1997-12-10.

Improvements in or relating to dentures and denture blanks and to processes of making compositions therefor

Номер патента: AU1566633A. Автор: Groff Frazier. Владелец: Carbide and Carbon Chemicals Corp. Дата публикации: 1934-05-31.

Blanking and piercing die and method of making same

Номер патента: AU4738959A. Автор: Hess Jacob. Владелец: General Bronze Corp. Дата публикации: 1959-10-08.

Blanking and piercing die and method of making same

Номер патента: AU231766B2. Автор: Hess Jacob. Владелец: General Bronze Corp. Дата публикации: 1959-10-08.

Method of producing tubes or the like and capsule for carrying out the method as well as blanks and tubes according to the method

Номер патента: CA1031111A. Автор: Christer Aslund. Владелец: Granges Nyby AB. Дата публикации: 1978-05-16.

Plastic container and blank and method of folding same

Номер патента: CA712009A. Автор: E. Palmer Charles,S. Lemanski Joseph. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1965-06-22.

Smooth brim cup and blank and method for making same

Номер патента: CA776988A. Автор: John P. Aellen, Jr.,H. Fuge Richard. Владелец: American Can Co. Дата публикации: 1968-01-30.

Carton and blank and anchorage of flaps thereof

Номер патента: CA450635A. Автор: J. Cupo William. Владелец: Individual. Дата публикации: 1948-08-24.

Brochure holder and blank and inserts therefor

Номер патента: AU142738S. Автор: . Владелец: Mckinnon Advertising & Associates Pty Ltd. Дата публикации: 2001-01-23.

CUP BLANKING AND FORMING METHOD and TOOLING THEREFOR

Номер патента: AU6459069A. Автор: DENNIS HAWKINS and BILL GENE REID JERRY. Владелец: Continental Can Co Inc. Дата публикации: 1971-06-03.

A light reflector device and blank and method for making the same

Номер патента: DK102493D0. Автор: . Владелец: Riegens As. Дата публикации: 1993-09-13.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.