Photomask blank, photomask, and manufacturing method of semiconductor element
Номер патента: US20220350238A1
Опубликовано: 03-11-2022
Автор(ы): GeonGon LEE, Hyung-Joo Lee, Inkyun Shin, Min Gyo Jeong, Seong Yoon Kim, Suk Young Choi, Sung Hoon Son
Принадлежит: SKC Solmics Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-11-2022
Автор(ы): GeonGon LEE, Hyung-Joo Lee, Inkyun Shin, Min Gyo Jeong, Seong Yoon Kim, Suk Young Choi, Sung Hoon Son
Принадлежит: SKC Solmics Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Photomask blank, photomask and method of fabricating a semiconductor element
Номер патента: TW202307558A. Автор: 李乾坤,申仁均,李亨周,崔石榮,孫晟熏,金星潤,鄭珉交. Владелец: 南韓商Skc索米克斯股份有限公司. Дата публикации: 2023-02-16.