Photomask blank and photomask
Номер патента: EP2312392B1
Опубликовано: 08-05-2013
Автор(ы): Hiroki Yoshikawa, Kazuaki Chiba, Satoshi Okazaki, Tadashi Saga, Takashi Haraguchi, Yosuke Kojima, Yuichi Fukushima, Yukio Inazuki
Принадлежит: Shin Etsu Chemical Co Ltd, Toppan Printing Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 08-05-2013
Автор(ы): Hiroki Yoshikawa, Kazuaki Chiba, Satoshi Okazaki, Tadashi Saga, Takashi Haraguchi, Yosuke Kojima, Yuichi Fukushima, Yukio Inazuki
Принадлежит: Shin Etsu Chemical Co Ltd, Toppan Printing Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Photomask blank and photomask
Номер патента: JP4509050B2. Автор: 智 岡崎,博樹 吉川,判臣 稲月,祐一 福島,和明 千葉,崇 原口,洋介 小嶋,匡 佐賀. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2010-07-21.