Photomask-blank, photomask and fabrication method thereof
Номер патента: KR101374498B1
Опубликовано: 13-03-2014
Автор(ы): 다카시 하라구치, 마사히데 이와카타, 사토시 오카자키, 요시노리 기나세, 유이치 후쿠시마, 유키오 이나즈키, 히로키 요시카와
Принадлежит: 도판 인사츠 가부시키가이샤, 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
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Опубликовано: 13-03-2014
Автор(ы): 다카시 하라구치, 마사히데 이와카타, 사토시 오카자키, 요시노리 기나세, 유이치 후쿠시마, 유키오 이나즈키, 히로키 요시카와
Принадлежит: 도판 인사츠 가부시키가이샤, 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
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Photomask-blank, photomask and fabrication method thereof
Номер патента: KR101204632B1. Автор: 요시노리 기나세,히로키 요시카와,유키오 이나즈키,다카시 하라구치,사토시 오카자키,마사히데 이와카타,유이치 후쿠시마. Владелец: 도판 인사츠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2012-11-23.