GERMANIUM SMOOTHING AND CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION PROCESSES.

GERMANIUM SMOOTHING AND CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION PROCESSES

Номер патента: US20170110334A1
Опубликовано: 20-04-2017
Автор(ы): Dinesh Kumar Penigalapati, James A. Tornello, Mahadevaiyer Krishnan, Rachel S. Steiner, Tatsuya Yamanaka, Tatsuyoshi Kawamoto, Yohei Oishi
Принадлежит: International Business Machines Corp, JSR Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Chemical-mechanical polishing (cmp) composition comprising benzotriazole derivatives as corrosion inhibitors

Номер патента: RU2669598C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Мартин КАЛЛЕР,Михаэль ЛАУТЕР,Андреас КЛИПП. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-10-12.

Suspension for chemical mechanical planarization (cmp) and method employing the same

Номер патента: EP4314179A1. Автор: Sridevi R. ALETY,Mark CYFFKA,Niraj Mahadev. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-02-07.

PROCESS FOR MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-x Gex MATERIAL IN PRESENCE OF CMP (CHEMICAL MECHANICAL POLISHING) COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND

Номер патента: RU2605941C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Беттина ДРЕШЕР,Кристоф ЖИЛЛО. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-12-27.

GERMANIUM SMOOTHING AND CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION PROCESSES

Номер патента: US20170218229A1. Автор: Krishnan Mahadevaiyer,Yamanaka Tatsuya,KAWAMOTO Tatsuyoshi,Oishi Yohei,Penigalapati Dinesh Kumar,Steiner Rachel S.,Tornello James A.. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-03.

Germanium smoothing and chemical mechanical planarization processes

Номер патента: US9646842B1. Автор: Mahadevaiyer Krishnan,James A. Tornello,Tatsuya Yamanaka,Tatsuyoshi Kawamoto,Yohei Oishi,Dinesh Kumar Penigalapati,Rachel S. Steiner. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-05-09.

Germanium smoothing and chemical mechanical planarization processes

Номер патента: US9890300B2. Автор: Mahadevaiyer Krishnan,James A. Tornello,Tatsuya Yamanaka,Tatsuyoshi Kawamoto,Yohei Oishi,Dinesh Kumar Penigalapati,Rachel S. Steiner. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12098301B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US11725117B2. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2023-08-15.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US20240002698A1. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-01-04.

Tungsten chemical mechanical planarization (CMP) with low dishing and low erosion topography

Номер патента: US11884859B2. Автор: Agnes Derecskei,Matthias Stender,Bradley J. Brennan. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-01-30.

Chemical mechanical planarization slurry and method of polishing a substrate

Номер патента: WO2023240260A1. Автор: Lin Fu,Renjie Zhou,Stephen BOTTIGLIERI,Chun-Lung Kuan. Владелец: SAINT-GOBAIN CERAMICS & PLASTICS, INC.. Дата публикации: 2023-12-14.

Chemical mechanical planarization slurry and method of polishing a substrate

Номер патента: US20230399543A1. Автор: Lin Fu,Renjie Zhou,Stephen BOTTIGLIERI,Chun-Lung Kuan. Владелец: Saint Gobain Ceramics and Plastics Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: WO2024081201A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-18.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing inorganic particles and polymer particles

Номер патента: RU2579597C2. Автор: Южуо ЛИ,Виджай Иммануэль РАМАН,Михаэль ЛАУТЕР,Шиям Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Даниэль Кво-Хунг ШЕН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-04-10.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C9. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-03-16.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C2. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-02-02.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing non-ionic surfactant and aromatic compound containing acid group

Номер патента: RU2636511C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-11-23.

Chemical mechanical polishing slurry composition for polishing multiple films and polishing method using the same

Номер патента: US20210009859A1. Автор: Jae Ik Lee,Jae Woo Lee,Ji Hye Kim,Bo Hyeok Choi. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Chemical-mechanical polishing compositions comprising one or more polymers selected from the group consisting of n-vinyl-homopolymers and n-vinyl copolymers

Номер патента: MY177867A. Автор: Yongqing Lan,Peter Przybylski,Zhenyu Bao,Julian Prol?. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2020-09-23.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing protein

Номер патента: RU2631875C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Михаэль ЛАУТЕР,Роланд ЛАНГЕ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-09-28.

Chemical-mechanical polishing composition and method for using the same

Номер патента: IL176669A0. Автор: . Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-10-31.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: US20240117220A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, containing film based on silicon oxide dielectric and based on polycrystalline silicon

Номер патента: RU2588620C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Исон Юй-Шен СУ,Аренд Йоукэ КИНГМА,Бастиан Мартен НОЛЛЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Cerium oxide chemical mechanical polishing slurry composition that enhanced polishing non-uniformity

Номер патента: KR20060123878A. Автор: 박종대,공현구,이봉상,손정현. Владелец: 주식회사 동진쎄미켐. Дата публикации: 2006-12-05.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12006446B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-11.

Chemical-mechanical polishing composition and chemical-mechanical polishing method using the same

Номер патента: US20240263039A1. Автор: Hiroshi Kitamura,Tsuyoshi Masuda,Yoshiyuki Matsumura,Akihisa NAMIKI. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

High Oxide Removal Rates Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Planarization Compositions

Номер патента: US20240297049A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-05.

Chemical Mechanical Planarization (CMP) For Copper And Through-Silicon Via (TSV)

Номер патента: US20240006189A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Rung-Je Yang,Robert Vacassy,Keh-Yeuan LI,Ming Shih Tsai. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-01-04.

Chemical mechanical planarization (cmp) for copper and through-silicon via (tsv)

Номер патента: EP4259736A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Rung-Je Yang,Robert Vacassy,Keh-Yeuan LI,Ming Shih Tsai. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-10-18.

Composition for chemical mechanical polishing and method for polishing

Номер патента: US20230203344A1. Автор: Kouhei Yoshio,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Chemical mechanical polishing slurry composition for polishing boron silicon compound, chemical mechanical polishing method and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230123263A1. Автор: Ungyu Paik,Hyun Goo Kang,Dong Hyeok Kim,Cheolmin SHIN,Taeseup SONG,Jong Young Cho. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2023-04-20.

Polishing composition, method for fabricating thereof and method of chemical mechanical polishing using the same

Номер патента: US09493677B2. Автор: Dae Soon Lim,Dong Hee Shin,Dong Hyeon LEE,Il Ho YANG,Yang Bok Lee,Seung Koo Lee. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2016-11-15.

Composition for chemical-mechanical polishing containing polyvinyl phosphon acid and derivatives thereof

Номер патента: RU2598046C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН,Виджай Иммануил РАМАН,Южио ЛИ,Кристиан ШАДЕ,Исон Ю-Шен СУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-09-20.

Slurry compositions for polishing metal layers, chemical mechanical polishing apparatuses using the same, and methods for fabricating semiconductor devices using the same

Номер патента: US20230193080A1. Автор: Sang Kyun Kim,Byung Keun Hwang,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Chemical mechanical polishing composition containing composite silica particles, method of making the silica composite particles and method of polishing a substrate

Номер патента: US11718769B2. Автор: Yi Guo. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-08-08.

Cerium oxide particles, chemical mechanical polishing slurry composition comprising same, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230348753A1. Автор: Jeong Ho Lee,Seok Joo Kim. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Slurry composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230104949A1. Автор: Sangkyun Kim,Hyosan Lee,Sanghyun Park,Yearin BYUN,Inkwon KIM,Wonki HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-06.

Chemical mechanical planarization using amino-polyorganosiloxane-coated abrasives

Номер патента: WO2023178286A1. Автор: Gerhard Jonschker,Matthias Stender,René LUTZ. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-09-21.

Pad-ln-a-bottle chemical mechanical planarization polishing with cost-effective non-porous solid polishing pads

Номер патента: EP4430134A1. Автор: Xiaobo Shi,Mark Leonard O'Neill,Robert Vacassy,John G. LANGAN,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,James A. Schlueter. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-18.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US20230416570A1. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Stable chemical mechanical planarization polishing compositions and methods for high rate silicon oxide removal

Номер патента: WO2023178003A1. Автор: LU Gan,Maitland GRAHAM,Ramon BERNASCONI,Maxwell WARNEKE. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-09-21.

Water polishing composition and method of chemical-mechanical polishing of substrate materials for electric, mechanical and optical devices

Номер патента: RU2577281C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Харви Уэйн ПИНДЕР,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-03-10.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates having polysilicon and silicon oxide dielectric films

Номер патента: RU2573672C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Вей Лан Уиллиам ЧИУ,Харви Уэйн ПИНДЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-01-27.

Silicon nitride chemical mechanical polishing slurry with silicon nitride removal rate enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US20220315800A1. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Stabilized Chemical Mechanical Polishing Composition And Method Of Polishing A Substrate

Номер патента: US20110306211A1. Автор: Yi Guo,Zhendong Liu,Kancharla-Arun Kumar Reddy,Guangyun Zhang. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Chemical mechanical polishing composition

Номер патента: US11993729B2. Автор: Yongqing Lan,Sheik Ansar Usman Ibrahim,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Te Yu Wei,Christian Daeschlein,Reza M Golzarian. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-05-28.

Silicon nitride chemical mechanical polishing slurry with silicon nitride removal rate enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US11999877B2. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Chemical mechanical planarization polishing for shallow trench isolation

Номер патента: EP4413088A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-14.

Chemical mechanical planarization for shallow trench isolation

Номер патента: WO2024173029A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,LU Gan,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-08-22.

Chemical mechanical polishing apparatus and method for performing cerium oxide-based chemical mechanical polishing

Номер патента: CN111318955A. Автор: 李善雄. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2020-06-23.

Chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230352310A1. Автор: Sang Kyun Kim,Hyo San LEE,In Kwon Kim,Yearin BYUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-02.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation set, method of preparing chemical mechanical polishing aqueous dispersion, chemical mechanical polishing aqueous dispersion, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20080318427A1. Автор: Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Eiichirou KUNITANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-12-25.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation set, method of preparing chemical mechanical polishing aqueous dispersion, chemical mechanical polishing aqueous dispersion, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US8470195B2. Автор: Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Eiichirou KUNITANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-06-25.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation set, method of preparing chemical mechanical polishing aqueous dispersion, chemical mechanical polishing aqueous dispersion, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: KR101469994B1. Автор: 가즈히또 우찌꾸라,히로따까 시다,에이이찌로 구니따니. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-12-05.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation set, method of preparing chemical mechanical polishing aqueous dispersion, chemical mechanical polishing aqueous dispersion, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: EP2017318A3. Автор: Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Eiichirou KUNITANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-01-13.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation set, method of preparing chemical mechanical polishing aqueous dispersion, chemical mechanical polishing aqueous dispersion, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: EP2017318B1. Автор: Eiichirou c/o JSR Corporation Kunitani,Hirotaka c/o JSR Corporation Shida,Kazuhito c/o JSR Corporation Uchikura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-05-30.

Preparation set for chemical mechanical polishing aqueous dispersion, preparation method for chemical mechanical polishing aqueous dispersion, chemical mechanical polishing aqueous dispersion, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: TW200900491A. Автор: Hirotaka Shida,Kazuhito Uchikura,Eiichirou KUNITANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-01-01.

Polishing slurry and chemical mechanical planarization method using the same

Номер патента: US9068110B2. Автор: Dae Soon Lim,Dong Hee Shin,Dong Hyeon LEE,Il Ho YANG,Yang Bok Lee. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2015-06-30.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: EP2131389A1. Автор: Taichi Matsumoto,Tomikazu Ueno,Michiaki Andou. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-12-09.

Slurry composition for primary chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20100151684A1. Автор: Seung-Beom Cho,Dong-Mok Shin,Eun-Mi Choi. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2010-06-17.

Chemical/mechanical polishing slurry, and chemical mechanical polishing process and shallow trench isolation process employing the same

Номер патента: US6540935B2. Автор: Jong-Won Lee,Sang-rok Hah,Jae-dong Lee,Bo-an Yoon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-04-01.

Chemical / mechanical polishing slurry and chemical / mechanical polishing process and shallow ditch isolation process using the polishing process

Номер патента: DE10160174B4. Автор: Bo-Un Yoon,Sang-rok Hah,Jae-dong Lee,Jong-won Sungnam Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-04-13.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20050037693A1. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Nobuyuki Kurashima,Hiroyuki Yano,Masayuki Hattori,Yukiteru Matsui,Nobuo Kawahashi,Kazuo Nishimoto,Kazuhito Uchikura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-02-17.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US6935928B2. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Nobuyuki Kurashima,Hiroyuki Yano,Masayuki Hattori,Yukiteru Matsui,Nobuo Kawahashi,Kazuo Nishimoto,Kazuhito Uchikura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-08-30.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishng and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: US20100099260A1. Автор: Taichi Matsumoto,Tomikazu Ueno,Michiaki Andou. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-04-22.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: KR101431299B1. Автор: 미치아키 안도,도미카즈 우에노,다이치 마츠모토. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-08-20.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion and chemical mechanical polishing method

Номер патента: TWI291987B. Автор: Gaku Minamihaba,Dai Fukushima,Nobuyuki Kurashima,Hiroyuki Yano,Masayuki Hattori,Yukiteru Matsui,Nobuo Kawahashi,Kazuo Nishimoto,Kazuhito Uchikura. Владелец: Toshiba Kk. Дата публикации: 2008-01-01.

Chemical/mechanical polishing slurry, and chemical mechanical polishing process and shallow trench isolation process employing the same

Номер патента: US20030148616A1. Автор: Bo-Un Yoon,Jong-Won Lee,Sang-rok Hah,Jae-dong Lee. Владелец: Hah Sang-Rok. Дата публикации: 2003-08-07.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: JP5403262B2. Автор: 富和植野,民智明安藤,太一松本. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-29.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method using same

Номер патента: WO2011016323A1. Автор: 康孝亀井,達慶河本,馬場　淳,祐吾田井. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-02-10.

Slurry composition for primary chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: KR101084676B1. Автор: 신동목,최은미,조승범. Владелец: 주식회사 엘지화학. Дата публикации: 2011-11-22.

High oxide film removal rate shallow trench (STI) chemical mechanical planarization (CMP) polishing

Номер патента: US12091581B2. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Mark Leonard O'Neill,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-17.

Tri azole- and/or tri azoli um-based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: EP4408944A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Matthias Stender,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-07.

Neutral to alkaline chemical mechanical polishing compositions and methods for tungsten

Номер патента: US11591495B2. Автор: Yi Guo,Tony Quan Tran. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-02-28.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, method for producing the same, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JP5177430B2. Автор: 富和植野,憲彦池田,充目野. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-04-03.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: US8574330B2. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Tomohisa Konno,Masayuki Motonari,Yuuji Namie. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-11-05.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: US20090221213A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Tomohisa Konno,Masayuki Motonari,Yuuji Namie. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-09-03.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: WO2008044477A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Tomohisa Konno,Masayuki Motonari,Yuuji Namie. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2008-04-17.

Method and slurry for tuning low-k versus copper removal rates during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1936674A3. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Rachel Dianne Mcconnell,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2010-04-28.

Removal of defects by in-situ etching during chemical-mechanical polishing processing

Номер патента: EP4235751A2. Автор: Scott B. Singer,Joseph C. Boisvert,Daniel C. Law,Christopher M. Fetzer. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-08-30.

Removal of defects by in-situ etching during chemical-mechanical polishing processing

Номер патента: EP4235751A3. Автор: Scott B. Singer,Joseph C. Boisvert,Daniel C. Law,Christopher M. Fetzer. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-11-15.

Method of chemical-mechanical polishing of thick layers of cobalt-containing alloys

Номер патента: RU2687649C2. Автор: Валентина Александровна Гайдедей. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "КРОКУС НАНОЭЛЕКТРОНИКА". Дата публикации: 2019-05-15.

Semiconductor Chemical Mechanical Polishing Sludge Recycling Method

Номер патента: US20240316608A1. Автор: Shao-Hua Hu,Hsin-Hui Chou,Ya-Min Hsieh,Wen-Ming Cheng,Hsing-Wen HSIEH,Chin-An KUAN. Владелец: Transcene Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Chemical mechanical polishing solution

Номер патента: US11746257B2. Автор: JIAN Ma,Kai Song,Ying Yao,Jianfen JING,Xinyuan CAI,Guohao WANG,Junya YANG,Pengcheng BIAN. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Slurry for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20040021125A1. Автор: Yasuaki Tsuchiya,Shin Sakurai,Kenichi Aoyagi,Toshiji Taiji,Tomoyuki Ito. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-02-05.

Indium phosphide smoothing and chemical mechanical planarization processes

Номер патента: US20170110332A1. Автор: Mahadevaiyer Krishnan,James A. Tornello,Tatsuya Yamanaka,Tatsuyoshi Kawamoto,Yohei Oishi,Dinesh Kumar Penigalapati,Rachel S. Steiner,Henry A. Beveridge. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-04-20.

GROUP III ARSENIDE MATERIAL SMOOTHING AND CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION PROCESSES

Номер патента: US20170110333A1. Автор: Krishnan Mahadevaiyer,Yamanaka Tatsuya,KAWAMOTO Tatsuyoshi,Beveridge Henry A.,Oishi Yohei,Penigalapati Dinesh Kumar,Steiner Rachel S.,Tornello James A.. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-20.

INDIUM PHOSPHIDE SMOOTHING AND CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION PROCESSES

Номер патента: US20180166292A1. Автор: Krishnan Mahadevaiyer,Yamanaka Tatsuya,KAWAMOTO Tatsuyoshi,Beveridge Henry A.,Oishi Yohei,Penigalapati Dinesh Kumar,Steiner Rachel S.,Tornello James A.. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-14.

Group III arsenide material smoothing and chemical mechanical planarization processes

Номер патента: US9646841B1. Автор: Mahadevaiyer Krishnan,James A. Tornello,Tatsuya Yamanaka,Tatsuyoshi Kawamoto,Yohei Oishi,Dinesh Kumar Penigalapati,Rachel S. Steiner,Henry A. Beveridge. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-05-09.

Indium phosphide smoothing and chemical mechanical planarization processes

Номер патента: US9916985B2. Автор: Mahadevaiyer Krishnan,James A. Tornello,Tatsuya Yamanaka,Tatsuyoshi Kawamoto,Yohei Oishi,Dinesh Kumar Penigalapati,Rachel S. Steiner,Henry A. Beveridge. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Indium phosphide smoothing and chemical mechanical planarization processes

Номер патента: US10262866B2. Автор: Mahadevaiyer Krishnan,James A. Tornello,Tatsuya Yamanaka,Tatsuyoshi Kawamoto,Yohei Oishi,Dinesh Kumar Penigalapati,Rachel S. Steiner,Henry A. Beveridge. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-04-16.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, chemical mechanical polishing method, and chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation kit

Номер патента: US20090291620A1. Автор: Masayuki Motonari,Eiichirou KUNITANI,Atsushi Baba,Shoei Tsuji. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-11-26.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, chemical mechanical polishing method, and chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation kit

Номер патента: US8262435B2. Автор: Masayuki Motonari,Eiichirou KUNITANI,Atsushi Baba,Shoei Tsuji. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-09-11.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and method for preparing the same, kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: US20100221918A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Mitsuru Meno,Yuuji Shimoyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-09-02.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and method for preparing the same, kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: WO2009031389A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Mitsuru Meno,Yuuji Shimoyama. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2009-03-12.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion and preparation method thereof, kit for preparing chemical mechanical polishing aqueous dispersion, and chemical mechanical polishing method of semiconductor device

Номер патента: JPWO2009031389A1. Автор: 裕貴仕田,充目野,彰浩竹村,裕司下山. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-12-09.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, chemical mechanical polishing method, and chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation kit

Номер патента: EP2123726A1. Автор: Masayuki Motonari,Eiichirou KUNITANI,Atsushi Baba,Shoei Tsuji. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-11-25.

Chemical mechanical grinding water system dispersion and preparation of the chemical mechanical grinding water system dispersion and chemical mechanical grinding method

Номер патента: TWI461518B. Автор: Hirotaka Shida,Takafumi Shimizu,Eiichirou KUNITANI,Atsushi Baba. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-11-21.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, kit for preparing the dispersion, method for preparing chemical mechanical polishing aqueous dispersion using the kit, and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: JP5408437B2. Автор: 裕貴仕田,彰浩竹村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-02-05.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for preparing the dispersion, method for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing using the kit, and chemical mechanical polishing method for semiconductor device

Номер патента: WO2009098951A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2009-08-13.

Compositions for use in a chemical-mechanical planarization process

Номер патента: US6471735B1. Автор: Ashutosh Misra,Joe G. Hoffman,Anthony J. Schleisman. Владелец: Air Liquide America Corp. Дата публикации: 2002-10-29.

Composition for use in a chemical-mechanical planarization process

Номер патента: EP1077241A2. Автор: Ashutosh Misra,Joe G. Hoffman,Anthony J. Schleisman. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2001-02-21.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion and chemical mechanical polishing method

Номер патента: EP1616927A1. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Norihiko Ikeda,Kazuo Nishimoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-01-18.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US7550020B2. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Norihiko Ikeda,Kazuo Nishimoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-06-23.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: WO2009098924A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Kazuhito Uchikura,Takafumi Shimizu,Masatoshi Ikeda,Shou Kubouchi,Yousuke Shibata. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2009-08-13.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: KR101563023B1. Автор: 히로타카 시다,다카후미 시미즈,마사토시 이케다,쇼 구보우치,요스케 시바타,미치아키 안도,가즈히토 우치쿠라,아키히로 다케무라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2015-10-23.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JP4292117B2. Автор: 雅幸服部,憲彦池田,信夫川橋,和男西元. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-07-08.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing

Номер патента: DE602005002409T2. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Norihiko Ikeda,Kazuo Nishimoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-06-12.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20110081780A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Kazuhito Uchikura,Michiaki Andou,Takafumi Shimizu,Masatoshi Ikeda,Shou Kubouchi,Yousuke Shibata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-04-07.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US8506359B2. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Kazuhito Uchikura,Takafumi Shimizu,Masatoshi Ikeda,Shou Kubouchi,Yousuke Shibata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-08-13.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion and chemical mechanical polishing method

Номер патента: EP1616927B1. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Norihiko Ikeda,Kazuo Nishimoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-09-12.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: WO2009104517A1. Автор: 和一内倉,裕貴仕田,民智明安藤,彰浩竹村,正俊池田,翔窪内,崇文清水,陽介柴田. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2009-08-27.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: TW200944583A. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Kazuhito Uchikura,Michiaki Andou,Takafumi Shimizu,Masatoshi Ikeda,Shou Kubouchi,Yousuke Shibata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-11-01.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20110059680A1. Автор: Masayuki Motonari,Takashi Matsuda,Tomikazu Ueno,Eiichirou KUNITANI,Takahiro Iijima. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-03-10.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation set and chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation method

Номер патента: JPWO2009028256A1. Автор: 和一内倉,裕貴仕田,剛史矢野. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-11-25.

Double-sided adhesive tape for adhering polishing pad allowing easy air bubble discharge, and chemical-mechanical polishing apparatus using same

Номер патента: EP4450577A1. Автор: JEONG Yeon Jeong,Seung Geun Kim,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Kang Mun Cho. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Polycationic polymer or copolymer having different cation types for slurries in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2023201189A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-10-19.

Composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR20010096326A. Автор: 김석진,이길성,이재석,장두원. Владелец: 안복현. Дата публикации: 2001-11-07.

Pad-in-a-bottle and single platen chemical mechanical-planarization for back-end applications

Номер патента: EP4430655A1. Автор: Xiaobo Shi,Mark Leonard O'Neill,Robert Vacassy,John G. LANGAN,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,James A. Schlueter. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-18.

Chemical mechanical polishing slurry composition and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240318040A1. Автор: Seungho Park,Sanghyun Park,Boyun KIM,Yearin BYUN,Jeongwon Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, method of preparing the same, chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation kit, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US8480920B2. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Taichi Abe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-09.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, method of preparing the same, chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparation kit, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20100252774A1. Автор: Hirotaka Shida,Akihiro Takemura,Taichi Abe. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-10-07.

Slurry compositions for use in a chemical-mechanical planarization process having non-spherical abrasive particles

Номер патента: WO2004083328A2. Автор: Sharad Mathur,Hamad Moini,Ivan Petrovic. Владелец: Engelhard Corporation. Дата публикации: 2004-09-30.

Slurry compositions for use in a chemical-mechanical planarization process having non-spherical abrasive particles

Номер патента: WO2004083328A3. Автор: Sharad Mathur,Hamad Moini,Ivan Petrovic. Владелец: Engelhard Corp. Дата публикации: 2004-11-11.

Slurry compositions for use in a chemical-mechanical planarization process

Номер патента: US20040216388A1. Автор: Sharad Mathur,Ivan Petrovic,Ahmad Moini. Владелец: Engelhard Corp. Дата публикации: 2004-11-04.

Slurry compositions for use in a chemical-mechanical planarization process having non-spherical abrasive particles

Номер патента: EP1620517A2. Автор: Sharad Mathur,Hamad Moini,Ivan Petrovic. Владелец: Engelhard Corp. Дата публикации: 2006-02-01.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method using same

Номер патента: EP2533274A1. Автор: Akihiro Takemura,Tomohisa Konno,Tatsuya Yamanaka,Kouhei Yoshio. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-12-12.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method using same

Номер патента: WO2011093153A1. Автор: 達也山中,彰浩竹村,金野　智久,浩平吉尾. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2011-08-04.

Composition for chemical-mechanical polishing and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US12104087B2. Автор: Pengyu Wang,Yasutaka Kamei,Norihiko Sugie,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Tri azole- and/or tri azoli um-based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: WO2023056324A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Matthias Stender,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-04-06.

Modified water-soluble polysaccharides having different cation types for slurries in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024073209A1. Автор: Xiaobo Shi,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI,Sana MA. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-04-04.

Pad-in-a-bottle (pib) technology for copper and through-silicon via (tsv) chemical-mechanical planarization (cmp)

Номер патента: US20230287242A1. Автор: Xiaobo Shi,Ara Philipossian,Mark O'Neill,Yasa Sampurno,John Langan. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-09-14.

Chemical mechanical polishing composition and polishing method

Номер патента: US20240254365A1. Автор: Yasutaka Kamei,Kohei Nishimura,Koki Ishimaki,Shuhei Nakamura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, having structured or unstructured dielectric layers with low dielectric constant

Номер патента: RU2589482C2. Автор: Виджай Иммануэль РАМАН,Франк РИТТИГ,Юйчжо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method and the kit for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW200734435A. Автор: Masayuki Motonari,Eiichirou KUNITANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-09-16.

Aqueous slurry composition for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: KR101202720B1. Автор: 신동목,최은미,조승범,하현철. Владелец: 주식회사 엘지화학. Дата публикации: 2012-11-19.

An aqueous slurry composition for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: WO2009107986A1. Автор: Seung-Beom Cho,Dong-Mok Shin,Eun-Mi Choi,Hyun-Chul Ha. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2009-09-03.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JPWO2007060869A1. Автор: 英一郎國谷,正之元成,元成　正之. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-05-07.

Aqueous slurry composition for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20100184291A1. Автор: Seung-Beom Cho,Dong-Mok Shin,Eun-Mi Choi,Hyun-Chul Ha. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2010-07-22.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: WO2007060869A1. Автор: Masayuki Motonari,Eiichirou KUNITANI. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2007-05-31.

An aqueous slurry composition for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: EP2247682A4. Автор: Seung-Beom Cho,Dong-Mok Shin,Eun-Mi Choi,Hyun-Chul Ha. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2012-03-14.

An aqueous slurry composition for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: EP2247682A1. Автор: Seung-Beom Cho,Dong-Mok Shin,Eun-Mi Choi,Hyun-Chul Ha. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2010-11-10.

POLISHING SLURRY AND CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20130178064A1. Автор: LEE Dong Hyeon,LIM Dae Soon,YANG Il Ho,SHIN Dong Hee,LEE Yang Bok. Владелец: . Дата публикации: 2013-07-11.

Erosion inhibitor for chemical mechanical polishing, slurry for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: WO2012161202A1. Автор: 穣竹越,加藤　充,知大岡本,晋哉加藤. Владелец: 株式会社クラレ. Дата публикации: 2012-11-29.

Erosion inhibitor for chemical mechanical polishing, slurrry for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: IL229522A0. Автор: . Владелец: Kuraray Co. Дата публикации: 2014-01-30.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JP5361306B2. Автор: 裕貴仕田,信一平沢,岳西岡,充目野,彰浩竹村,太一阿部,健次岩出. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-12-04.

Slurry for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: WO2013180079A1. Автор: 加藤　充,知大岡本,晋哉加藤. Владелец: 株式会社クラレ. Дата публикации: 2013-12-05.

Slurry for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: EP2858097A4. Автор: Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-06.

Slurry for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US9437446B2. Автор: Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-06.

Phosphonium Based Polymers And Copolymers As Additives For Chemical Mechanical Planarization Slurries

Номер патента: US20240261931A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Stender,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-08.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20200354609A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-11-12.

Phosphonium based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: EP4352120A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Stender,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-04-17.

Chemical mechanical polishing composition for polishing sapphire surface and methods of using same

Номер патента: RU2661219C2. Автор: Аллен С. БЬЮЛИК,Хидеаки НИСИЗАВА,Казуки МОРИЯМА,Коити ЙОСИДА,Сундзи ЕЗАВА,Селванатхан АРУМУГАМ. Владелец: РОМ ЭНД ХААС ЭЛЕКТРОНИК МАТИРИАЛЗ СиЭмПи ХОЛДИНГЗ, ИНК.. Дата публикации: 2018-07-13.

Composition for post chemical-mechanical-polishing cleaning

Номер патента: WO2017108748A2. Автор: Andreas Klipp,Peter Przybylski,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Te Yu Wei,Christian DÄSCHLEIN,Roelf-Peter BAUMANN. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-06-29.

Tungsten chemical mechanical polishing slurries

Номер патента: EP4441158A1. Автор: Bradley Brennan,Agnes Derecskei,Matthias Stender. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-10-09.

Chemical mechanical polishing apparatus, slurry, and method of using the same

Номер патента: US11351648B2. Автор: Hsun-Chung KUANG,Tung-He Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-06-07.

Chemical mechanical polishing apparatus, slurry, and method of using the same

Номер патента: US20180361525A1. Автор: Hsun-Chung KUANG,Tung-He Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-12-20.

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20140011360A1. Автор: NAMIE Yuuji,Konno Tomohisa,Motonari Masayuki,Shida Hirotaka,Takemura Akihiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2014-01-09.

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20210035812A1. Автор: KIM Do Yoon,TAKAI Kenji. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-04.

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND POLISHING PAD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING DEVICE

Номер патента: US20210066086A1. Автор: MOON Deuk Kyu,Jung Moon Il,KIM Do Yoon,TAKAI Kenji,YOON Min Hee. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-04.

Chemical mechanical polishing agent kit and chemical mechanical polishing method using the same

Номер патента: US20040237413A1. Автор: Hirotaka Shida,Masayuki Hattori,Tomohisa Konno,Nobuo Kawahashi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-12-02.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing process

Номер патента: TW572980B. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari,Kazuhito Uchikura. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co. Дата публикации: 2004-01-21.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion for use in polishing copper and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JP3837277B2. Автор: 学南幅,博之矢野,正之元成,雅幸服部,信夫川橋. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-10-25.

Chemical mechanical polishing kit and chemical mechanical polishing method using same

Номер патента: DE602004007718T2. Автор: Hirotaka Shida,Masayuki Hattori,Tomohisa Konno,Nobuo Kawahashi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-04-30.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing process

Номер патента: EP1116762A1. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari,Kazuhito Uchikura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2001-07-18.

Aqueous Dispersion for Chemical Mechanical Polishing and Chemical Mechanical Polishing Process

Номер патента: KR100719982B1. Автор: 마사유끼 핫또리,마사유끼 모또나리,노부오 가와하시,가즈히또 우찌꾸라. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2007-05-18.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing process

Номер патента: US6579153B2. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari,Kazuhito Uchikura. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2003-06-17.

Chemical/mechanical polishing slurry and chemical mechanical polishing method using the same

Номер патента: US6863592B2. Автор: Jong-Won Lee,Chang-ki Hong,Jae-dong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-03-08.

Chemical mechanical polishing agent kit and chemical mechanical polishing method using the same

Номер патента: TWI292931B. Автор: Hirotaka Shida,Masayuki Hattori,Tomohisa Konno,Nobuo Kawahashi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-01-21.

Chemical mechanical polishing slurry and chemical mechanical polishing method using the same

Номер патента: KR100442873B1. Автор: 윤보언,이재동,한용필. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2004-08-02.

Chemical mechanical polishing slurry and chemical mechanical polishing method using the same

Номер патента: KR100464429B1. Автор: 이종원,홍창기,이재동. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2005-01-03.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20010008828A1. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari,Kazuhito Uchikura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2001-07-19.

Chemical mechanical polishing agent kit and chemical mechanical polishing method using the same

Номер патента: EP1477538B1. Автор: Hirotaka Shida,Masayuki Hattori,Tomohisa Konno,Nobuo Kawahashi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-07-25.

Method for producing semiconductor element and chemical solution to be used in method for producing semiconductor element

Номер патента: US12104260B2. Автор: Kazuhiro Takahashi,Yukihisa Wada. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US20020100895A1. Автор: Ting-Chang Chang,Cheng-Jer Yang,Huang-Chung Cheng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-08-01.

Membrane coating compound for chemical mechanical polishing process, membrane including the same, and polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240189960A1. Автор: Sangkyun Kim,Yearin BYUN,Inkwon KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-13.

Fabrication of a Polishing Pad for Chemical Mechanical Polishing

Номер патента: US20230347471A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Ming-Shiuan She,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

SLURRY FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD

Номер патента: US20150147884A1. Автор: Kato Shinya,KATO Mitsuru,OKAMOTO Chihiro. Владелец: KURARAY CO., LTD.. Дата публикации: 2015-05-28.

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SLURRY AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PROCESS USING THE SAME

Номер патента: US20190359859A1. Автор: LIANG WEI-WEI. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-28.

Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for their preparation and chemical-mechanical polishing process

Номер патента: DE602006002900D1. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Kazuhito Uchikura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-11-13.

Method and apparatus for recovery of water and slurry abrasives used for chemical and mechanical planarization

Номер патента: US5928492A. Автор: Glenn A. Roberson, Jr.,Gary L. Corlett. Владелец: Lucid Treatment Systems Inc. Дата публикации: 1999-07-27.

Detergent composition and chemical-mechanical polishing composition

Номер патента: US20230174892A1. Автор: Yuichi Sakanishi. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09776300B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Fabrication of porogen residues free low-k materials with improved mechanical and chemical resistance

Номер патента: US20120052692A1. Автор: Quoc Toan Le,Mikhaïl Baklanov,Patrick Verdonck,Laurent Souriau. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2012-03-01.

Polishing etchant composition for chemical-mechanical polishing of cadmium-zinc telluride

Номер патента: RU2627711C1. Автор: Алексей Сергеевич Кашуба,Медина Рефатовна Лакманова,Анна Владимировна Погожева. Владелец: Акционерное общество "НПО "Орион". Дата публикации: 2017-08-10.

Chemical mechanical polishing pads for improved removal rate and planarization

Номер патента: US20230294240A1. Автор: Bainian Qian,George C. Jacob,Nan-Rong Chiou,Jonathan G. Weis. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-09-21.

Composition for post chemical-mechanical-polishing cleaning

Номер патента: WO2017211653A1. Автор: Andreas Klipp,Peter Przybylski,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Christian Daeschlein,Ivan GARCIA ROMERO. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-12-14.

Polishing slurry and method for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US20020098700A1. Автор: James Alwan,Craig Carpenter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Apparatus and method for supplying chemicals in chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US20030089456A1. Автор: Sue-ryeon Kim,Seung-un Kim,Seung-ki Chae,Je-Gu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-05-15.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20050227451A1. Автор: Hirotaka Shida,Masayuki Hattori,Tomohisa Konno,Nobuo Kawahashi,Kiyonobu Kubota. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-10-13.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US7378349B2. Автор: Hirotaka Shida,Masayuki Hattori,Tomohisa Konno,Nobuo Kawahashi,Kiyonobu Kubota. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-05-27.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion and chemical mechanical polishing method

Номер патента: EP1586614B1. Автор: Masayuki JSR Corporation Hattori,Nobuo JSR Corporation Kawahashi,Tomohisa JSR Corporation Konno,Hirotaka JSR Corporation Shida,Kiyonobu JSR Corporation Kubota. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-09-15.

Precursor compositions for atomic layer deposition and chemical vapor deposition of titanate, lanthanate, and tantalate dielectric films

Номер патента: US09534285B2. Автор: Thomas H. Baum,Jeffrey F. Roeder,Tianniu Chen,Chongying Xu,Thomas M. Cameron. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Precursor compositions for atomic layer deposition and chemical vapor deposition of titanate, lanthanate, and tantalate dielectric films

Номер патента: WO2007106788A2. Автор: Thomas H. Baum,Jeffrey F. Roeder,Tianniu Chen,Chongying Xu,Thomas M. Cameron. Владелец: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.. Дата публикации: 2007-09-20.

Stopper for chemical mechanical planarization, method for manufacturing same, and chemical mechanical planarization method

Номер патента: US20070151951A1. Автор: Norihiko Ikeda,Eiji Hayashi,Mutsuhiko Yoshioka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-07-05.

Stopper for chemical mechanical planarization, method for manufacturing same, and chemical mechanical planarization method

Номер патента: TW200420687A. Автор: Norihiko Ikeda,Eiji Hayashi,Mutsuhiko Yoshioka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-10-16.

Soft polysiloxane core-shell abrasives for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024191746A1. Автор: Gerhard Jonschker,Matthias Stender. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-09-19.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion and chemical mechanical polishing method

Номер патента: EP1566420A1. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Norihiko Ikeda,Kazuo Nishimoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-08-24.

Precursor and process design for photo-assisted metal atomic layer deposition (ALD) and chemical vapor deposition (CVD)

Номер патента: US09932671B2. Автор: Florian Gstrein,James M. Blackwell,Robert L. Bristol,Paul A. Zimmerman,Scott B. Clendenning,Patricio E. Romero,Harsono S. Simka,Grant M. Kloster. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Selective area deposition of metal films by atomic layer deposition (ALD) and chemical vapor deposition (CVD)

Номер патента: US09583389B2. Автор: Florian Gstrein,Scott B. Clendenning,Patricio E. Romero,Jeanette M. Roberts. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Planarization process

Номер патента: US09633855B2. Автор: Huilong Zhu. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2017-04-25.

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING DEVICE AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD

Номер патента: US20180151388A1. Автор: TANG Qiang. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-31.

Systems, methods and apparatus for post-chemical mechanical planarization substrate cleaning

Номер патента: US09844800B2. Автор: Brian J. Brown,Steven M. Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

Chemical mechanical planarization topography control via implant

Номер патента: US09401285B2. Автор: Andrew Carswell,Lequn Liu,Tony M. Lindenberg,Kyle Ritter,Mark Morley. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2016-07-26.

Methods and apparatus for post-chemical mechanical planarization substrate cleaning

Номер патента: US09711381B2. Автор: Sen-Hou Ko,Lakshmanan Karuppiah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Chemical Mechanical Planarization Pad Having Polishing Layer with Multi-lobed Embedded Features

Номер патента: US20240009798A1. Автор: Bainian Qian,Donna M. Alden,Sheng-Huan Tseng. Владелец: Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holidngs Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09586305B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US11986921B2. Автор: Byoung Ho Kwon,Yong Hee Lee,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-21.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US20220118582A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE,Youg Hee LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-21.

Deposition systems and processes for transport polymerization and chemical vapor deposition

Номер патента: US6086679A. Автор: HUI Wang,Chung J. Lee,Giovanni Antonio Foggiato. Владелец: Quester Technology Inc. Дата публикации: 2000-07-11.

Economical and environmentally friendly chemical mechanical polishing for III-V compound semiconductor device fabrication

Номер патента: US09601482B1. Автор: Alexander Reznicek,Devendra K. Sadana,Keith E. Fogel,Charan V. Surisetty. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and cmp pads made therewith

Номер патента: US20180148537A1. Автор: Michael E. Mills,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-05-31.

Methods and systems for chemical mechanical polish and clean

Номер патента: US09449841B2. Автор: Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Shich-Chang Suen,Ying-Liang Chuang,Ming-Liang Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240145254A1. Автор: Hyo-Jung Kim,Dong Hoon KWON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Recycle method and device for recycle of waste water containing suspension from semiconductor processing process, in particular, chemical-mechanical finishing

Номер патента: RU2520474C2. Автор: Франц БРУММЕР. Владелец: Хигхк-Фэктори Гмбх. Дата публикации: 2014-06-27.

Chemical mechanical polishing pad and preparation thereof

Номер патента: US20230112228A1. Автор: Bainian Qian,Michael E. Mills,Lyla M. El-Sayed,Bradley K. Taylor,Robert M. Blomquist,Kancharla-Arun REDDY,Shijing Xia. Владелец: DuPont Electronics Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Method and system for chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20230274929A1. Автор: Yi-Chang Liu,Chih-I Peng,Hsiu-Ming Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Chemical mechanical planarization slurry processing techniques and systems and methods for polishing substrate using the same

Номер патента: WO2022177767A9. Автор: Jason Keleher,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,Katherine WORTMON-OTTO,Abigail LINHART,Kiana A. CAHUE. Владелец: Araca, Inc.. Дата публикации: 2023-05-19.

Chemical mechanical planarization slurry processing techniques and systems and methods for polishing substrate using the same

Номер патента: EP4272241A1. Автор: Jason Keleher,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,Abigail LINHART,Kiana A. CAHUE,Katherine WORTMAN-OTTO. Владелец: Araca Inc. Дата публикации: 2023-11-08.

Methods for reducing scratch defects in chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230377898A1. Автор: William Weilun HONG,Ying-Tsung Chen,Wan-Chun Pan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Disk/pad clean with wafer and wafer edge/bevel clean module for chemical mechanical polishing

Номер патента: US09508575B2. Автор: Hui Chen,Sen-Hou Ko. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-11-29.

Slurryless Mechanical Planarization for Substrate Reclamation

Номер патента: US20090270017A1. Автор: Eric J. White,Graham M. Bates,David Domina,James L. Hardy, JR.. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-10-29.

Mechanisms for forming oxide layer over exposed polysilicon during a chemical mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US09711374B2. Автор: William Weilun HONG,Ying-Tsung Chen,Chih-Yu Chang,Che-Hao Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Method of fabricating semiconductor structure using planarization process and cleaning process

Номер патента: US09748111B2. Автор: Chueh-Yang Liu,Yu-Ren Wang,Yi-Liang Ye,Kuang-Hsiu Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Surface conversion in chemical mechanical polishing

Номер патента: US11804378B2. Автор: Chih-Chao Yang,Cornelius Brown Peethala,Donald F Canaperi,Raghuveer R Patlolla,Mary Breton. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-10-31.

Integrated power generation and chemical production using solid oxide fuel cells

Номер патента: US09755258B2. Автор: Paul J. Berlowitz,Timothy A. Barckholtz,Anita S. Lee. Владелец: ExxonMobil Research and Engineering Co. Дата публикации: 2017-09-05.

Integrated power generation and chemical production using fuel cells at a reduced electrical efficiency

Номер патента: US09419295B2. Автор: Frank Hershkowitz,Paul J. Berlowitz,Timothy Andrew Barckholtz. Владелец: ExxonMobil Research and Engineering Co. Дата публикации: 2016-08-16.

System and process for reclaiming a metal-containing salt solution from a lithium-containing battery material, and chemicals thereof

Номер патента: US20240226839A1. Автор: Liang-Yuh Chen,Min Duan Liu,L. Bin Chen. Владелец: eJoule Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Conductive, electrochemically and chemically stable material

Номер патента: US20240360573A1. Автор: Juergen Hackenberg,Mordechai Kornbluth,Tobias Schuler,Daniil KITCHAEV,Charles Tuffile. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2024-10-31.

Electrically- and chemically-active adlayers for plasma electrodes

Номер патента: US20150252478A1. Автор: Eric R. Dickey,Masato Kon,Bryan Larson Danforth. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-09-10.

Electrically- and chemically-active adlayers for plasma electrodes

Номер патента: EP3114251A1. Автор: Eric R. Dickey,Masato Kon,Bryan Larson Danforth. Владелец: Lotus Applied Technology LLC. Дата публикации: 2017-01-11.

Electrically- and chemically-active adlayers for plasma electrodes

Номер патента: WO2015134377A1. Автор: Eric R. Dickey,Masato Kon,Bryan Larson Danforth. Владелец: Lotus Applied Technology, LLC. Дата публикации: 2015-09-11.

Method for improving Uniformity of Chemical-Mechanical Planarization Process

Номер патента: US20130273669A1. Автор: Tao Yang,Chao Zhao,Junfeng Li. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2013-10-17.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230381923A1. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US12017325B2. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240278383A1. Автор: Dongchan Kim,Byoungho Kwon,Hwiyoung JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Chemical-mechanical planarization pad including patterned structural domains

Номер патента: EP2382651A1. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,Anoop Mathew,Oscar K. Hsu. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2011-11-02.

Carbon and boron implantation for backside chemical mechanical planarization control

Номер патента: US20240266175A1. Автор: Yan Zhang,Jae Young Lee,Naushad Variam,Johannes M. van Meer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: WO2003057405A8. Автор: Xu Cangshan. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2003-10-30.

Method and/or system for chemical mechanical planarization (CMP)

Номер патента: US09997420B2. Автор: Cheng Yen-Wei,Jong-I Mou,Yen-Di Tsen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Chemical mechanical planarization apparatus and methods

Номер патента: US09950405B2. Автор: Wufeng Deng. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Configurable pressure design for multizone chemical mechanical planarization polishing head

Номер патента: US09610672B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Samuel Chu-Chiang Hsu,Gautam Shashank Dandavate. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

In situ monitoring technique and apparatus for chemical/mechanical planarization endpoint detection

Номер патента: CA2036102C. Автор: Gabriel Lorimer Miller,Eric Richard Wagner. Владелец: American Telephone and Telegraph Co Inc. Дата публикации: 1995-04-04.

Rotary body module and chemical mechanical polishing apparatus having the same

Номер патента: US11590628B2. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han,Yungjun Kim,Hyunjoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-28.

Rotary body module and chemical mechanical polishing apparatus having the same

Номер патента: US20210008686A1. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han,Yungjun Kim,Hyunjoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-01-14.

Method of grooving a chemical-mechanical planarization pad

Номер патента: US8758659B2. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,John Erik Aldeborgh,Anoop Mathew,Oscar K. Hsu,Marc C. Jin. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-24.

Chemical Mechanical Polishing Apparatus Including a Multi-Zone Platen

Номер патента: US20230364733A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Chih Hung Chen,Tsung Hsien Chang,Fu-Ming HUANG,Hung Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Chemical mechanical polishing apparatus including a multi-zone platen

Номер патента: US11772228B2. Автор: Chi-hsiang Shen,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Chih Hung Chen,Tsung Hsien Chang,Fu-Ming HUANG,Hung Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Chemical mechanical planarization (cmp) pad conditioner and method of making

Номер патента: EP2652773A2. Автор: Srinivasan Ramanath,Jianhui Wu,Arup K. Khaund,Eric M. Schulz. Владелец: Saint Gobain Abrasifs SA. Дата публикации: 2013-10-23.

Chemical mechanical planarization membrane

Номер патента: US11850702B2. Автор: Chien-Wei Chang,Tzi-Yi Shieh,Ren-Dou Lee,Cheng-Ping Chen,Tsung-Lung Lai,Sheng-Tai Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Configurable pressure design for multizone chemical mechanical planarization polishing head

Номер патента: WO2015199815A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Samuel Chu-Chiang Hsu,Gautam Shashank Dandavate. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-12-30.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: EP1469971A4. Автор: Xu Cangshan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-01-12.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: US20030139124A1. Автор: Cangshan Xu. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-07-24.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703B1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-06.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-12.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of controlling the same

Номер патента: US20240217059A1. Автор: Wonkeun Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-23.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US20160158910A1. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Apparatus and methods for aligning a surface of an active retainer ring with a wafer surface during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1372907A2. Автор: Miguel A. Saldana,Damon Vincent Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-01-02.

Apparatus and methods for aligning a surface of an active retainer ring with a wafer surface during chemical-mechanical polishing

Номер патента: EP1372907B1. Автор: Miguel A. Saldana,Damon Vincent Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2006-11-29.

Light sensitive chemical-mechanical polishing aggregate

Номер патента: US20010028052A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-11.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US20150306730A1. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-10-29.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US09827647B2. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US09333620B2. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Chemical mechanical polishing system for a workpiece, arithmetic system, and method of producing simulation model for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230043639A1. Автор: Norikazu Suzuki,Yoshihiro Mochizuki,Hozumi Yasuda,Yohei Hashimoto. Владелец: Kanazawa University NUC. Дата публикации: 2023-02-09.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200070300A1. Автор: Ji Min Lee,Eun Kyung Hong,Sung Hyup Kim,Nam Il Koo,Ji Min CHOI,Ik Seon JEON,Sang Yeon OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-03-05.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240227122A9. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate holder to reduce substrate edge stress during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012012056A2. Автор: HUNG Chih Chen,Samuel Chu-Chiang Hsu,Denis M. Koosau,Gautam Shashank. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Polishing articles and integrated system and methods for manufacturing chemical mechanical polishing articles

Номер патента: US12023853B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Kasiraman Krishnan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Gregory E. Menk,Jason G. Fung,Russell Edward Perry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: WO2003082522A8. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J Hemker,Damon V Williams. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: EP1487611A1. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J. Hemker,Damon V. Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-12-22.

Chemical mechanical polishing apparatus for controlling polishing uniformity

Номер патента: US20200185231A1. Автор: Seung-Ho Park,Hyo-san Lee,In-Kwon Kim,Sang-Won Bae,Woo-in Lee,Sun-jae Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-11.

Chemical mechanical polishing apparatus and method using the same

Номер патента: US20230191555A1. Автор: Hoyoung Kim,Jinyoung Park,Jaehyug LEE,Chaelyoung KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Compensating chemical mechanical wafer polishing apparatus and method

Номер патента: US20030100196A1. Автор: Wen-Chueh Pan,Yang-Jiann Fann,Yih-Hsing Wang,Chaug-Liang Hsu,Jer-Shyong Lai,Chien-Cheng He. Владелец: National Chung Shan Institute of Science and Technology NCSIST. Дата публикации: 2003-05-29.

Substrate holder to reduce substrate edge stress during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012012056A3. Автор: HUNG Chih Chen,Samuel Chu-Chiang Hsu,Denis M. Koosau,Gautam Shashank. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Chemical mechanical polishing cleaning system with temperature control for defect reduction

Номер патента: US20230326736A1. Автор: Kei-Wei Chen,Gin-Chen Huang,Ying-Tsung Chen,Ya-Ting Tsai,Ssutzu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20240307928A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Optical thickness control during a chemical mechanical polishing process and apparatus for effecting the same

Номер патента: US20240308020A1. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Optical thickness control during a chemical mechanical polishing process and apparatus for effecting the same

Номер патента: US12059769B2. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Methods and systems for chemical mechanical polish cleaning

Номер патента: US09966281B2. Автор: Hui-Chi Huang,Chien-Ping Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Polishing articles and integrated system and methods for manufacturing chemical mechanical polishing articles

Номер патента: US09776361B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Kasiraman Krishnan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Gregory E. Menk,Jason G. Fung,Russell Edward Perry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Chemical mechanical polishing pad composite polishing layer formulation

Номер патента: US09630293B2. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Jeffrey James Hendron,Diego Lugo,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Composite polishing layer chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09539694B1. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Teresa Brugarolas Brufau. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Chemical mechanical polishing pad with composite polishing layer

Номер патента: US09457449B1. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Teresa Brugarolas Brufau. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Process for chemical-mechanical polishing of iii-v semiconductor materials

Номер патента: CA1044580A. Автор: Robert J. Walsh. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1978-12-19.

Improved chemical mechanical polishing pad and methods of making and using same

Номер патента: EP2025454A2. Автор: Richard D. Hreha,Ravichandra V. Palaparthi,Benjamin John Vining. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2009-02-18.

Vertically adjustable chemical mechanical polishing head having a pivot mechanism and method for use thereof

Номер патента: US20040121704A1. Автор: Jun Liu,Huey-Ming Wang,Kunihiko Sakurai,Gerard Moloney,Peter Lao. Владелец: Ebara Technologies Inc. Дата публикации: 2004-06-24.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: SG11201901582QA. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-03-28.

Device and method for preventing settlement of particles on a chemical-mechanical polishing pad

Номер патента: US5968841A. Автор: Michael Francis Lofaro,William Francis Landers,Adam Dan Ticknor. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-10-19.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: US20180056479A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-01.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20180009078A1. Автор: Kyutae Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-11.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: EP3504731A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-07-03.

Light sensitive chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20010053606A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-12-20.

Chemical-mechanical polishing apparatus, polishing pad and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20030168169A1. Автор: Kiyoshi Tanaka,Akira Ishikawa,Satoru Ide,Eiichi Yamamoto,Takahiko Mitsui. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-09-11.

Apparatus for the chemical-mechanical polishing of wafers

Номер патента: US5964652A. Автор: Hermann Wendt,Hanno Melzner. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1999-10-12.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection and monitoring for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: EP1419853A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Grigory Pyatigorsky,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-19.

Chemical mechanical polishing tool, apparatus and method

Номер патента: WO2003022518A2. Автор: In-kwon Jeong. Владелец: Oriol, Inc.. Дата публикации: 2003-03-20.

Method and system for in-situ optimization for semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing process

Номер патента: US6159075A. Автор: Liming Zhang. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2000-12-12.

Method of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20050070091A1. Автор: Hyo-Jong Lee,Sung-Bae Lee,Sang-Rok Ha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-03-31.

Endpoint detection in chemical mechanical polishing (cmp) by substrate holder elevation detection

Номер патента: AU3761799A. Автор: Trung T. Doan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Real-time control of chemical-mechanical polishing processes using a shaft distortion measurement.

Номер патента: MY124028A. Автор: Li Leping,Wang Xinhui. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2006-06-30.

Chemical mechanical polishing with multiple polishing pads

Номер патента: US20030190865A1. Автор: Sasson Somekh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-10-09.

Chemical mechanical polishing using time share control

Номер патента: US11931854B2. Автор: Wei Lu,Jianshe Tang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Priscilla Diep LaRosa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Endpoint control during chemical mechanical polishing by detecting interface between different layers through selectivity change

Номер патента: WO2012012052A3. Автор: Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Xiaoyuan Hu (Sandra). Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200198088A1. Автор: Ilcheol Shin,Sung-Chang Park,Kyoungwoo Kim,Young-Kyun Woo,Hak-Jae Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-25.

Vacuum assembly for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200101580A1. Автор: Shih-Ho Lin,Yu-chen Wei,Chun-Jui Chu,Chih-Yuan Yang,Jen Chieh Lai,Szu-Cheng Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Spray system for slurry reduction during chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US11819976B2. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Ekaterina MIKHAYLICHENKO,Erik Rondum,Anand Nilakantan IYER,Tiffany Yu-nung Cheung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Spray system for slurry reduction during chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US20240042571A1. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Erik Rondum,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Anand Nilakantan IYER,Tiffany Yu-nung Cheung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Chemical mechanical polishing method, method of manufacturing semiconductor device, and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20180104792A1. Автор: Hyo-san Lee,Myung-Ki Hong,Joo-Han LEE,Sung-Oh Park,Yung-Jun Kim,Kyu-min Oh,Sun-gyu PARK,Seh-Kwang Lee,Chan-ki Yang. Владелец: EHWA Diamond Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-19.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220388041A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-12-08.

System and method for monitoring chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230182257A1. Автор: Chih-Yu Wang,Tien-Wen Wang,In-Tsang Lin,Hsin-Hui Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20200376523A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-12-03.

Endpoint control during chemical mechanical polishing by detecting interface between different layers through selectivity change

Номер патента: WO2012012052A2. Автор: Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Xiaoyuan Hu (Sandra). Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Loading device of chemical mechanical polishing equipment for semiconductor wafers

Номер патента: WO2007061170A1. Автор: Young Su Heo,Chang Il Kim,Young Min Na. Владелец: Doosan Mecatec Co., Ltd.. Дата публикации: 2007-05-31.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US12030093B2. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Anti-oxidation layer to prevent dielectric loss from planarization process

Номер патента: US11854822B2. Автор: Hsun-Chung KUANG,Zhen Yu GUAN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Anti-oxidation layer to prevent dielectric loss from planarization process

Номер патента: US20240087906A1. Автор: Hsun-Chung KUANG,Zhen Yu GUAN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Methods and apparatuses for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies on planarizing pads

Номер патента: US20010024935A1. Автор: Scott Meikle,Dinesh Chopra. Владелец: Meikle Scott G.. Дата публикации: 2001-09-27.

Amphiphilic abrasive particles and their use for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024129435A1. Автор: Gerhard Jonschker. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-06-20.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US20030057185A1. Автор: Gundu Sabde,Jim Hofmann,Scott Moore,Stephen Kramer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-27.

Mega-sonic vibration assisted chemical mechanical planarization

Номер патента: US12036636B2. Автор: Kei-Wei Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang,Ching-hsiang Tsai,Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Mega-sonic vibration assisted chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230219188A1. Автор: Kei-Wei Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang,Ching-hsiang Tsai,Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Systems and methods for chemical mechanical planarization with photo-current detection

Номер патента: US09754845B2. Автор: I-Shuo Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20240087907A1. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US12100598B2. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing system using the same

Номер патента: US20240051079A1. Автор: Hoyoung Kim,Boun Yoon,Eunkyoung Kim,Kiho BAE,Boumyoung Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-15.

Chemical mechanical polishing method and chemical mechanical polishing device

Номер патента: EP2079106A3. Автор: Masanori Miyata,Kenji Nishihara,Tetsuya Okada,Akinori Suzuki,Tadao Uehara,Koichi Sogawa,Tohru Haruki,Taro Usami,Shisyo Chin,Hiroaki Teratani,Yuuichi Kohno. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-07.

Chemical-mechanical polishing pad and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20130189907A1. Автор: Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Kotaro Kubo. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-25.

Alignment method for used in chemical mechanical polishing process

Номер патента: US5933744A. Автор: Tsu Shih,Chung-Long Chang,Jeng-Horng Chen,Jui-Yu Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1999-08-03.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US09718991B2. Автор: Song Yuan Chang,Ming Hui Lu,Ming Che Ho,Wen Cheng Liu,Yi Han Yang. Владелец: Uwiz Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Dummy metal gate structures to reduce dishing during chemical-mechanical polishing

Номер патента: US09601489B2. Автор: Chan-Hong Chern,Chih-Chang Lin,Jacklyn CHANG,Julie Tran. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: US20240100648A1. Автор: Jaeseok Lee,Jessica Lindsay,Satish Rai,Sangcheol Kim. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: WO2024064259A1. Автор: Jaeseok Lee,Satish Rai,Sangcheol Kim,Jessica TABERT. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: US20240174891A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-05-30.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US12020946B2. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240158251A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-05-16.

Planarization of a polysilicon layer surface by chemical mechanical polish to improve lithography and silicide formation

Номер патента: US6548336B2. Автор: Steven C. Avanzino,Steven K. Park. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-04-15.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US12076831B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US7138654B2. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2006-11-21.

Planarization of a polysilicon layer surface by chemical mechanical polish to improve lithography and silicide formation

Номер патента: US20020072219A1. Автор: Steven Avanzino,Stephen Park. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2002-06-13.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240308021A1. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240304455A1. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Temperature modification for chemical mechanical polishing

Номер патента: US09550270B2. Автор: Yeh-Chieh Wang,Chi-Hao Huang,Jung-Lung Hung,Rong-June Hsiao,Hong-Hsing Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Chemical mechanical polishing method for first interlayer dielectric layer

Номер патента: US09490175B2. Автор: Ji Cheng,Jian Zhao. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: WO2024107316A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-05-23.

Chemical mechanical polishing method suitable for highly accurate planarization

Номер патента: US6132292A. Автор: Akira Kubo. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2000-10-17.

Chemical-mechanical polishing method and apparatus using ultrasound applied to the carrier and platen

Номер патента: US5688364A. Автор: Junichi Sato. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1997-11-18.

Method for chemical mechanical polishing of semiconductor device

Номер патента: KR100732308B1. Автор: 권판기,이상익. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-06-25.

Use of stop layer for chemical mechanical polishing of CU damascene

Номер патента: US6051496A. Автор: Syun-Ming Jang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-04-18.

Chemical-mechanical polishing (CMP) apparatus

Номер патента: US5705435A. Автор: Lai-Tuh Chen. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 1998-01-06.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US11673223B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-13.

Chemical-mechanical polishing for shallow trench isolation

Номер патента: US5958795A. Автор: Juan-Yuan Wu,Water Lur,Coming Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-09-28.

Chemical mechanical polishing process for forming shallow trench isolation structure

Номер патента: US20080029478A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Hsiao-Ling Lu,Chia-Jung Hsu,Art Yu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-02-07.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4305121A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-01-17.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4304984A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-01-17.

Method of manufacturing semiconductor device using single slurry chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20230215926A1. Автор: SEUNGJAE LEE,Ilyoung Yoon,JaEung Koo,Boun Yoon,Joongsuk Oh,Kangchun LEE,Junhwan Yim,Huiteak Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Polishing pad, chemical mechanical polishing apparatus including the same, and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230219191A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Ji Su Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Ji-hun Jeong,Myung-Ki Hong,Dong Geun Kim,Hyun Jun Ryu,Yeong Bong PARK. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-07-13.

Chemical-mechanical polishing particle and polishing slurry composition comprising same

Номер патента: US11787974B2. Автор: Jae Hyun Kim,Jong Dai Park,Min Gun Lee,Sung Hoon Jin,Jae Hong Yoo,Kyu Soon SHIN,Goo Hwa LEE,Weoun Gyuen MOON,Gyeong Sook CHO. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Chemical-mechanical polishing particle and polishing slurry composition comprising same

Номер патента: US20210340405A1. Автор: Jae Hyun Kim,Jong Dai Park,Min Gun Lee,Sung Hoon Jin,Jae Hong Yoo,Kyu Soon SHIN,Goo Hwa LEE,Weoun Gyuen MOON,Gyeong Sook CHO. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Negatively charged silica particles, method of producing such particles, compositions comprising such particles, and a method of chemical-mechanical polishing using such particles

Номер патента: WO2023180216A1. Автор: Eric Jacquinot,Frédéric GUILLAUD. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-09-28.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240158250A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-05-16.

Chemical-mechanical processing slurry and methods for processing a nickel substrate surface

Номер патента: MY199592A. Автор: TONG Li,Hon Wu Lau. Владелец: Cmc Mat Llc. Дата публикации: 2023-11-08.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12017322B2. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US20050142877A1. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2005-06-30.

Chemical mechanical polishing pad and polishing method

Номер патента: US11813713B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Spherical drive assembly for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2002060643A9. Автор: David G Halley. Владелец: STRASBAUGH. Дата публикации: 2003-09-12.

Wafer support for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2002053320A9. Автор: David G Halley. Владелец: STRASBAUGH. Дата публикации: 2004-03-04.

Wafer conveying device, chemical mechanical planarization apparatus and wafer conveying method

Номер патента: US20230201995A1. Автор: Zhipeng ZHOU,Yuansi YANG. Владелец: Hangzhou Sizone Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2023-06-29.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240173820A1. Автор: Donghoon Kwon,Yeonsu Go. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Methods for forming interconnections between top electrodes in memory cells by a two-step chemical-mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US09443763B2. Автор: Samuele Sciarrillo. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US11813714B2. Автор: Donghyuk Jang,Taesung Kim,Youngjin Hong,Seokjun HONG,Hojoong Kim,Junyong KIM. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-11-14.

Method for shaping features of a semiconductor structure using chemical mechanical planarization (CMP)

Номер патента: US5302233A. Автор: Scott Meikle,Sung C. Kim. Владелец: Micron Semiconductor Inc. Дата публикации: 1994-04-12.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: WO2024085975A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240131562A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240226970A9. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

System and method for providing mechanical planarization of a sequential build up substrate for an integrated circuit package

Номер патента: US20030141595A1. Автор: Anthony Chiu,Harry Siegel. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2003-07-31.

System and method for providing mechanical planarization of a sequential build up substrate for an integrated circuit package

Номер патента: EP1341231A3. Автор: Anthony M. Chiu,Harry Michael Siegel. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2006-07-19.

Pit-less chemical mechanical planarization process and device structures made therefrom

Номер патента: US12131915B2. Автор: Chia-Wei Liu,Jheng-Hong Jiang,Shing-Huang Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Pit-less chemical mechanical planarization process and device structures made therefrom

Номер патента: US20240379379A1. Автор: Chia-Wei Liu,Jheng-Hong Jiang,Shing-Huang Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Apparatus for holding wafer cassettes in a cassette in a cassette tub during a chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20030119434A1. Автор: Yao-Hsiang Liang,Kevin Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-06-26.

Equipment, apparatus and method of chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US20240227112A1. Автор: Ilyoung Yoon,Seungjun LEE,Jinoh Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of replacing polishing pad using the same

Номер патента: US20240217057A1. Автор: Chungki MIN,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Chemical mechanical polishing of carbon hard mask

Номер патента: US20240194732A1. Автор: Sharath Hegde,Gary Ding,Matthew J. Prince,Walid M. Hafez,Inki Kim,Amitesh Shrivastava,Anurag A. Jain,Caitlin M. Kilroy. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus

Номер патента: US20240157502A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-16.

Adapative endpoint method for pad life effect on chemical mechanical polishing

Номер патента: US20130146224A1. Автор: Hui-Chi Huang,Chu-An Lee,Peng-Chung Jangjian. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-06-13.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus and method of controlling thereof

Номер патента: US20240238936A1. Автор: Wonkeun Cho,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240238935A1. Автор: Gihwan KIM,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Polishing pad for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing apparatus inluding the same, and method of fabricating semiconductor device using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20230211456A1. Автор: Sang Kyun Kim,Bo Un Yoon,Byung Keun Hwang,Bo yun KIM,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Retainer ring used in chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: KR102510720B1. Автор: 송성훈,송종석. Владелец: 피코맥스(주). Дата публикации: 2023-03-16.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20070072407A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-03-29.

Method and apparatus for controlling backside pressure during chemical mechanical polishing

Номер патента: US5925576A. Автор: Cheng-An Peng. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 1999-07-20.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US7781281B2. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-08-24.

Chemical mechanical polishing method with in-line thickness detection

Номер патента: US6117780A. Автор: Kuei-Chang Tsai,Chin-Hsiang Chang,Li-Chun Hsien,Yun-Liang Ouyang. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2000-09-12.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TWI634956B. Автор: 陳輝. Владелец: 應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2018-09-11.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW201501820A. Автор: Hui Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-01-16.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20100124817A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-05-20.

Method for chemical-mechanical jet etching of semiconductor structures

Номер патента: US7037854B2. Автор: Robert Z. Bachrach,Jeffrey D. Chinn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-05-02.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: US11752589B2. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: US20230356351A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Sequential application of cleaning fluids for improved maintenance of chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US11850700B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Van H. Nguyen,Jeonghoon Oh,Roger M. Johnson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Chemical mechanical polishing fixture having lateral perforation structures

Номер патента: US20140342643A1. Автор: Hui-Chen Yen. Владелец: KAI FUNG TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-20.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11806835B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11986926B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Chemical mechanical polishing for hybrid bonding

Номер патента: US20230268308A1. Автор: Chandrasekhar MANDALAPU,Cyprian Emeka Uzoh,Jeremy Alfred Theil,Gaius Gillman Fountain, Jr.. Владелец: Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: WO2020214706A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-10-22.

Pit-less chemical mechanical planarization process and device structures made therefrom

Номер патента: US11705340B2. Автор: Chia-Wei Liu,Jheng-Hong Jiang,Shing-Huang Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-18.

Pit-less chemical mechanical planarization process and device structures made therefrom

Номер патента: US20230298903A1. Автор: Chia-Wei Liu,Jheng-Hong Jiang,Shing-Huang Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Low temperature aluminum planarization process

Номер патента: US20030092255A1. Автор: Ende Shan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-05-15.

Mitigating damage from a chemical mechanical planarization process

Номер патента: US09437814B1. Автор: Steven Patrick MAXWELL,Sundar Narayanan,Natividad VASQUEZ, JR.,Harry Yue Gee,Majid Milani. Владелец: Crossbar Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Method for forming aluminum bumps by sputtering and chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020142604A1. Автор: Cheng-Wei Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2002-10-03.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6827630B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-12-07.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6352466B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-05.

Run-to-run control for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20130267148A1. Автор: Patrick David Noll,Madhu Sudan RAMAVAJJALA,Prakash Lakshmikanthan. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2013-10-10.

Method and apparatus for in-situ monitoring of chemical mechanical planarization (cmp) processes

Номер патента: EP4355528A2. Автор: Daniel Ray TROJAN,Jessica BRINDLEY. Владелец: AXUS Tech LLC. Дата публикации: 2024-04-24.

Bottom Leads Chemical Mechanical Planarization for TMR Magnetic Sensors

Номер патента: US20210057638A1. Автор: Ming Jiang,Ronghui ZHOU,Yuankai Zheng,Ming Mao,Chih-Ching Hu,Yung-Hung Wang,Chen-Jung Chien. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2021-02-25.

End point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: EP1399294A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina A. Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-03-24.

Performing planarization process controls in semiconductor fabrication

Номер патента: US20190164777A1. Автор: Sheng-Chen Wang,Chunhung Chen,Chin Wei Chuang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-05-30.

Performing Planarization Process Controls in Semiconductor Fabrication

Номер патента: US20200051830A1. Автор: Sheng-Chen Wang,Chunhung Chen,Chin Wei Chuang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-02-13.

Performing planarization process controls in semiconductor fabrication

Номер патента: US12009221B2. Автор: Sheng-Chen Wang,Chunhung Chen,Chin Wei Chuang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Tube, pump including the same, and chemical solution supply apparatus

Номер патента: US20230347617A1. Автор: Sunghun EOM,Youngjun SON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

METHOD OF FINISHING CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF InAs PLATES

Номер патента: RU2582904C1. Автор: Екатерина Алексеевна Ковалишина. Владелец: Открытое акционерное общество "Центральный научно-исследовательский институт "Электрон". Дата публикации: 2016-04-27.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US20050170751A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-08-04.

In-situ defect count detection in post chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230298949A1. Автор: Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Chun-Hung LIAO,Huang-Lin Chao,Jeng-Chi Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Fin smoothing and integrated circuit structures resulting therefrom

Номер патента: US20240274718A1. Автор: Tahir Ghani,Cory BOMBERGER,Anand S. Murthy,Anupama Bowonder. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-08-15.

Fin smoothing and integrated circuit structures resulting therefrom

Номер патента: US20230275157A1. Автор: Tahir Ghani,Cory BOMBERGER,Anand S. Murthy,Anupama Bowonder. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Fin smoothing and integrated circuit structures resulting therefrom

Номер патента: US12021149B2. Автор: Tahir Ghani,Cory BOMBERGER,Anand S. Murthy,Anupama Bowonder. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical-mechanical planarization process using silicon oxynitride anti-reflective layer

Номер патента: US9754795B2. Автор: Qiang Hua,Yaohui ZHOU. Владелец: CSMC Technologies Fab2 Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Rising after chemical-mechanical planarization process applied on a wafer

Номер патента: WO2004009289A3. Автор: Frédéric Metral,Laurent Filipozzi. Владелец: Laurent Filipozzi. Дата публикации: 2004-04-22.

Manufacturing method of semiconductor device for protecting Cu layer from post chemical mechanical polishing-corrosion and chemical mechanical polisher used in the same.

Номер патента: KR100338777B1. Автор: 한자형. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2002-05-31.

Material for heat accumulation, method of making material for heat accumulation and chemical heat pump

Номер патента: RU2729004C1. Автор: Ёсио ОХАСИ,Кимихиро ЦУТИЯ. Владелец: Тойота Дзидося Кабусики Кайся. Дата публикации: 2020-08-03.

Biological and chemical composite blockage removing agent and preparation process and use thereof

Номер патента: US20220363975A1. Автор: Jun Jin,Yingcheng Li,Weidong Zhang,Xinning BAO,Ou SHA,Yong Meng,Xinyue Wu. Владелец: Sinopec Shanghai Research Institute of Petrochemical Technology. Дата публикации: 2022-11-17.

Thin thermally and chemically strengthened glass-based articles

Номер патента: US09957190B2. Автор: Timothy Michael Gross,John Christopher Thomas,Richard Orr Maschmeyer,Kevin Lee Wasson,Peter Joseph Lezzi,Charlene Marie Smith,John Philip Finkeldey,Linda GASKILL. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Method and composition for enhanced hydrocarbon recovery from a formation containing a crude oil with specific solubility groups and chemical families

Номер патента: CA2767250C. Автор: Julian Richard Barnes,Thomas Carl Semple,Robert Moene,Marten Adriaan Buijse,Marinus Cornelis Grutters,Reinaldo Conrado Navarrete,Andrew Granja Shepherd. Владелец: Shell Internationale Research Maatschappij BV. Дата публикации: 2019-01-08.

Multifunctional Coatings and Chemical Additives

Номер патента: US20240010907A1. Автор: Feipeng Liu,Yuning Lai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-01-11.

Multifunctional coatings and chemical additives

Номер патента: EP4314191A1. Автор: Feipeng Liu,Yuning Lai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-07.

Method and apparatus of deactivating explosives and chemical warfare with high-energy neutrons generated from deuterium tritium fusion reaction

Номер патента: US8675802B2. Автор: Milen K. Panteleev,Yasser Ragab Shaban. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-03-18.

Method and apparatus of deactivating explosives and chemical warfare with high-energy neutrons generated from deuterium tritium fusion reaction

Номер патента: US20130202073A1. Автор: Yasser R. Shaban,Milen K. Panteleev. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-08-08.

Chemical-mechanical polishing solution

Номер патента: US11898063B2. Автор: Wenting Zhou. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Guanidinium-based polyionic liquids and their use as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: WO2024073211A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-04-04.

Method of bonding active molecules with carrier, active element thus produced, and chemical composition to this end

Номер патента: RU2470718C2. Автор: Жан-Франсуа ФАФЕТ,Жорж АНТЮН,Филипп МИАРД. Владелец: ЛОНГ ЛАСТИНГ ИННОВЕЙШН L2I-(Сосьетэ а респонсабилитэ лимитэ). Дата публикации: 2012-12-27.

Methods for deinking wastepaper by combined use of cutinase and chemical reagents

Номер патента: US09963824B2. Автор: Jing Wu,Lingqia Su,Ruoyu Hong. Владелец: JIANGNAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-05-08.

Binding substances having high hydroxyl number and transparent lacquer compositions containing said substances, having good optical properties and good scratch resistance and chemical resistance

Номер патента: RU2480484C2. Автор: Андреас ПОППЕ,Гюнтер КЛАЙН,Руи НИИМИ,Бьёрн ФЕЛЬДМАНН,Ульрике КЛАУЗЕН-МАЙРИНГ. Владелец: Басф Коатингс Джепен Лтд.. Дата публикации: 2013-04-27.

Combined device for gravimetric and chemical analysis of aerosols

Номер патента: RU2706420C1. Автор: Владимир Александрович Елохин,Валерий Николаевич Соколов,Валерий Иванович Николаев,Тимофей Дмитриевич Ершов. Владелец: Акционерное общество "Научные приборы". Дата публикации: 2019-11-19.

Thermal-and chemical-resistant acid protection coating material and spin- on thermoplastic adhesive

Номер патента: SG169384A1. Автор: John C Moore,Michelle R Fowler. Владелец: Brewer Science Inc Us. Дата публикации: 2011-03-30.

Joint nanoscale three-dimensional imaging and chemical analysis

Номер патента: EP3803935A1. Автор: Tom Wirtz,Florian VOLLNHALS. Владелец: Luxembourg Institute of Science and Technology LIST. Дата публикации: 2021-04-14.

Joint nanoscale three-dimensional imaging and chemical analysis

Номер патента: WO2019229233A1. Автор: Tom Wirtz,Florian VOLLNHALS. Владелец: Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST). Дата публикации: 2019-12-05.

Radiation and chemical curable coating composition

Номер патента: WO2009039137A1. Автор: Huynh-Ba Gia. Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Дата публикации: 2009-03-26.

Vacuum ultraviolet photoionization and chemical ionization combined ion source for mass spectrometry

Номер патента: US09412577B2. Автор: Lei Hua,Qinghao Wu,Haiyang Li,Huapeng Cui,Keyong Hou. Владелец: Dalian Institute of Chemical Physics of CAS. Дата публикации: 2016-08-09.

Process for forming a thermally and chemically inert multilayer film

Номер патента: US20170290958A1. Автор: Edin Balic. Владелец: Swiss Medical Coatings Sarl. Дата публикации: 2017-10-12.

Joint nanoscale three-dimensional imaging and chemical analysis

Номер патента: US20230175993A1. Автор: Tom Wirtz,Florian VOLLNHALS. Владелец: Luxembourg Institute of Science and Technology LIST. Дата публикации: 2023-06-08.

Integrated power generation and chemical production using fuel cells

Номер патента: US20140302413A1. Автор: Paul J. Berlowitz,Timothy Andrew Barckholtz,Frank H. Hershkowitz. Владелец: ExxonMobil Research and Engineering Co. Дата публикации: 2014-10-09.

Integrated machines and methods for performing fully-automated biological evaluation and chemical analysis

Номер патента: US11879880B2. Автор: Jianbo Shi,Guibin Jiang,Guangbo QU,Qianchi MA,Yanna Liu. Владелец: Research Center for Eco Environmental Sciences of CAS. Дата публикации: 2024-01-23.

Coating agent composition for producing peelable and chemically-resistant coatings

Номер патента: CA2990976C. Автор: Dirk SEEGER,Christoph PIECHA,Dieter Hohnholz. Владелец: AKZO NOBEL COATINGS INTERNATIONAL BV. Дата публикации: 2023-09-19.

Cloud platform-based automatic identification system and method for seven types of mass spectrograms of commonly used pesticides and chemical pollutants

Номер патента: GB2595625A. Автор: Chen Hui,PANG Guofang,FAN Chunlin,CHANG Qiaoying,BAI Ruobin,ZHANG Zijuan,WU Xingqiang. Владелец: Beijing Uni Star Inspection Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-01.

Cloud platform-based automatic identification system and method for seven types of mass spectrograms of commonly used pesticides and chemical pollutants around the world

Номер патента: EP3951653A1. Автор: Hui Chen,Xingqiang Wu,Guofang PANG,Chunlin FAN,Qiaoying CHANG,Ruobin BAI,Zijuan ZHANG. Владелец: Beijing Uni Star Inspection Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-09.

Application of h2so4 as an electrolyte in metal smoothing and polishing processes by ion transfer using free solid bodies

Номер патента: RU2750390C1. Автор: Пау САРСАНЕДАС МИЛЛЕТ. Владелец: Драйлит, С.Л.. Дата публикации: 2021-06-28.

Fabrication of volcano-shaped field emitters by chemical-mechanical polishing (CMP)

Номер патента: US6008064A. Автор: Heinz H. Busta. Владелец: American Energy Services Inc. Дата публикации: 1999-12-28.

CHEMICAL-MECHANICAL PLANARIZATION PROCESS USING SILICON OXYNITRIDE ANTIREFLECTIVE LAYER

Номер патента: US20170069507A1. Автор: HUA Qiang,ZHOU Yaohui. Владелец: CSMC TECHNOLOGIES FAB2 CO., LTD.. Дата публикации: 2017-03-09.

Method and apparatus for forming and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6592443B1. Автор: Stephen J. Kramer,Michael J. Joslyn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-07-15.

Method and apparatus for forming and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US7192336B2. Автор: Stephen J. Kramer,Michael J. Joslyn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-03-20.

Method and apparatus for forming and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20060194523A1. Автор: Michael Joslyn,Stephen Kramer. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-08-31.

Method and apparatus for forming and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20060194522A1. Автор: Michael Joslyn,Stephen Kramer. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-08-31.

Method for forming and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US7223154B2. Автор: Stephen J. Kramer,Michael J. Joslyn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-05-29.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6354930B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-12.

Method and apparatus for mechanical and chemical mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: JP3774367B2. Автор: スコットイー．モーア，. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-05-10.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20010006875A1. Автор: Scott Moore. Владелец: Moore Scott E.. Дата публикации: 2001-07-05.

Dynamic detection device and chemical mechanical planarization equipment

Номер патента: CN114220748B. Автор: 陈阳阳,殷骐. Владелец: Hangzhou Zhonggui Electronic Technology Co ltd. Дата публикации: 2022-06-21.

PADS FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION TOOLS, CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION TOOLS, AND RELATED METHODS

Номер патента: US20200246937A1. Автор: Bresson James. Владелец: . Дата публикации: 2020-08-06.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1128932A1. Автор: Andrew J. Nagengast,Anthony Meyer,Michael Labunsky,Glenn W. Travis,Tac Huynh. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-09-05.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2000027585A1. Автор: Andrew J. Nagengast,Anthony Meyer,Michael Labunsky,Glenn W. Travis,Tac Huynh. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2000-05-18.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1128932A4. Автор: Anthony Meyer,Michael Labunsky,Andrew J Nagengast,Tac Huynh,Glenn W Travis. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2007-01-10.

Method for improving Uniformity of Chemical-Mechanical Planarization Process

Номер патента: US20130273669A1. Автор: Zhao Chao,Yang Tao,Li Junfeng. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-17.

Chemical mechanical planarization processes for fabrication of FinFET devices

Номер патента: US8513127B2. Автор: Tomohisa Konno,Mahadevaiyer Krishnan,Michael F. Lofaro,Leslie Charns,Jason E. Cummings,Lukasz J. Hupka,Dinesh R. Koli,Jakub W. Nalaskowski,Masahiro Noda,Dinesh K. Penigalapati,Tatsuya Yamanaka,Josephine B. Chang,Michael A. Guillorn. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2013-08-20.

Method and apparatus for electrically endpointing a chemical-mechanical planarization process

Номер патента: US6190494B1. Автор: Daniel B. Dow. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-02-20.

Method and apparatus for endpointing a chemical-mechanical planarization process

Номер патента: US6323046B1. Автор: Vishnu K. Agarwal. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-11-27.

Method and apparatus for electrically endpointing a chemical-mechanical planarization process

Номер патента: US6319420B1. Автор: Daniel B. Dow. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-11-20.

Chemical-mechanical planarization processes for manufacturing finfet units

Номер патента: DE112011103350B4. Автор: Tomohisa Konno,Mahadevaiyer Krishnan,Michael F. Lofaro,Leslie Charns,Jason E. Cummings,Lukasz J. Hupka,Jakub W. Nalaskowski,Masahiro Noda,Dinesh K. Penigalapati,Tatsuya Yamanaka,Josephine B. Chang,Michael E. Guillorn,Dinesh Koli. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-04-12.

Method for monitoring polishing pad used in chemical-mechanical planarization process

Номер патента: US6194231B1. Автор: Hong Ho-Cheng,Kuo-Hsing Liu. Владелец: National Tsing Hua University NTHU. Дата публикации: 2001-02-27.

Method and apparatus for endpointing a chemical-mechanical planarization process

Номер патента: US20010042596A1. Автор: Vishnu Agarwal. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-22.

Method and apparatus for endpointing a chemical-mechanical planarization process

Номер патента: US6517668B2. Автор: Vishnu K. Agarwal. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-02-11.

Article suitable for chemical mechanical planarization processes

Номер патента: US6612916B2. Автор: Jeffrey S. Kollodge,Robert P. Messner. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2003-09-02.

Chemical-mechanical planarization processes for manufacturing finfet units

Номер патента: DE112011103350T9. Автор: Tomohisa Konno,Mahadevaiyer Krishnan,Michael F. Lofaro,Leslie Charns,Jason E. Cummings,Lukasz J. Hupka,Jakub W. Nalaskowski,Masahiro Noda,Dinesh K. Penigalapati,Tatsuya Yamanaka,Josephine B. Chang,Michael E. Guillorn,Dinesh Koli. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2013-10-24.

CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION EQUIPMENT, WAFER TRANSFER METHOD, AND WAFER PLANARIZATION UNIT

Номер патента: US20210260716A1. Автор: LEE EdwardLiCang,GU Jingran. Владелец: HANGZHOU SIZONE ELECTRONIC TECHNOLOGY INC.. Дата публикации: 2021-08-26.

Methods, apparatuses and substrate assembly structures for fabricating microelectronic components using mechanical and chemical-mechanical planarization processes

Номер патента: US6191037B1. Автор: Karl M. Robinson,Pai Pan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-02-20.

Methods, apparatuses and substrate assembly structures for fabricating microelectronic components using mechanical and chemical-mechanical planarization processes

Номер патента: US20030054651A1. Автор: Pai-Hung Pan,Karl Robinson. Владелец: Robinson Karl M.. Дата публикации: 2003-03-20.

Methods and apparatuses for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies on planarizing pads

Номер патента: US6250994B1. Автор: Dinesh Chopra,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-06-26.

Methods and apparatuses for making and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6652764B1. Автор: Guy T. Blalock. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-11-25.

Methods and apparatuses for making and using planarizing pads for mechanical and chemical mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6746317B2. Автор: Guy T. Blalock. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-06-08.

Methods and apparatuses for making and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US7037179B2. Автор: Guy T. Blalock. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-05-02.

Methods and apparatuses for making and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6758735B2. Автор: Guy T. Blalock. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-07-06.

Methods and apparatuses for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies on planarizing pads

Номер патента: US6652364B2. Автор: Dinesh Chopra,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-11-25.

Methods and apparatuses for making and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20020127958A1. Автор: Guy Blalock. Владелец: Blalock Guy T.. Дата публикации: 2002-09-12.

Method and apparatuses for making and using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6407000B1. Автор: Guy F. Hudson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-06-18.

Method and apparatus for stopping mechanical and chemical-mechanical planarization of substrates at desired endpoints

Номер патента: US5855804A. Автор: Michael A. Walker. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-01-05.

Method and apparatus for stopping mechanical and chemical mechanical planarization of substrates at desired endpoints

Номер патента: US6206769B1. Автор: Michael A. Walker. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-03-27.

Method and apparatuses for making and using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6794289B2. Автор: Guy F. Hudson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-09-21.

Apparatuses for making and using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20040198195A1. Автор: Guy Hudson. Владелец: Hudson Guy F.. Дата публикации: 2004-10-07.

Systems for making and using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20040229551A1. Автор: Guy Hudson. Владелец: Hudson Guy F.. Дата публикации: 2004-11-18.

Methods for using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US7122475B2. Автор: Guy F. Hudson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-10-17.

Methods for using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20040198194A1. Автор: Guy Hudson. Владелец: Hudson Guy F.. Дата публикации: 2004-10-07.

Chemical mechanical planarization process and structures

Номер патента: US09431287B2. Автор: Yi Sheng Cheng,Chin Ta Su,Chun Fu Chen,Yung Tai Hung. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Planarizing solutions, planarizing machines, and methods for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6376381B1. Автор: Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-04-23.

Planarizing solutions, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6402884B1. Автор: Karl M. Robinson,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-06-11.

Planarizing solutions, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6599836B1. Автор: Karl M. Robinson,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-07-29.

Planarizing solutions, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6805615B1. Автор: Karl M. Robinson,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-10-19.

Planarizing solutions, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US7276446B2. Автор: Karl M. Robinson,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-10-02.

Planarizing solutions, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20050107010A1. Автор: Scott Meikle,Karl Robinson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-05-19.

SYSTEM AND METHOD FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION PROCESS PREDICTION AND OPTIMIZATION

Номер патента: US20160365253A1. Автор: Luoh Tuung,Chen Chun-Fu,CHEN Kuang-Wei. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-15.

Low scratch density chemical mechanical planarization process

Номер патента: US6110820A. Автор: Sujit Sharan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-08-29.

Low friction polish-stop stratum for endpointing chemical-mechanical planarization processing of semiconductor wafers

Номер патента: USRE39413E1. Автор: Guy F. Hudson,Russell C. Zahorik. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-11-28.

Chemical mechanical planarization pads with constant groove volume

Номер патента: US20240238937A1. Автор: Jaeseok Lee,Eric S. Moyer,Paul Andre Lefevre,Devin SCHMITT,Holland Hodges. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-07-18.

Bottom leads chemical mechanical planarization for tmr magnetic sensors

Номер патента: WO2021040806A1. Автор: Ming Jiang,Ronghui ZHOU,Yuankai Zheng,Ming Mao,Chih-Ching Hu,Yung-Hung Wang,Chen-Jung Chien. Владелец: WESTERN DIGITAL TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2021-03-04.

Chemical mechanical planarization pads with constant groove volume

Номер патента: US11938584B2. Автор: Jaeseok Lee,Eric S. Moyer,Paul Andre Lefevre,Devin SCHMITT,Holland Hodges. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-26.

Shell connection device and chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: LU505605B1. Автор: Haibo Huo. Владелец: Univ Zhengzhou Aeronautics. Дата публикации: 2024-05-24.

Chemical mechanical planarization pads via vat-based production

Номер патента: US11845157B2. Автор: Lin Fu,Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer,Justin Stewart,Carlos Barros,William Michael SPITZIG. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-19.

Reverse osmosis and chemical desalination laboratory unit

Номер патента: RU2658020C1. Автор: Андрей Борисович Ларин,Дмитрий Сергеевич Трухин,Анастасия Ярославовна Сорокина,Никита Владимирович Власов. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ивановский государственный энергетический университет имени В.И. Ленина" (ИГЭУ). Дата публикации: 2018-06-19.

System with card component and chemical detection unit for detection of trace chemicals

Номер патента: US09482621B2. Автор: Vaughan L. Clift,Richard L. Pettys,David M. Headley,Kristin L. Harriman,Tiffany M. Conerly. Владелец: DetectaChem LLC. Дата публикации: 2016-11-01.

Method n2 for preparing a sorbent based on covalently immobilized and chemically modified lysozyme for sorption of bacterial endotoxins and the sorbent itself

Номер патента: RU2736150C1. Автор: Андрей Вадимович Левашов,Наталия Васильевна Карелина,Николай Леонидович Еремеев,Владимир Александрович Нелюб,Павел Андреевич Левашов,Оксана Александровна Дмитриева,Екатерина Дмитриевна Овчинникова,Ирина Юрьевна Адамова,Дарья Андреевна Матолыгина. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана (национальный исследовательский университет)" (МГТУ им. Н.Э. Баумана). Дата публикации: 2020-11-12.

Method for obtaining of polymeric microspheres for embolization and chemical embolization

Номер патента: RU2646832C1. Автор: Андрей Александрович Дунаев,Олег Валентинович Блинов. Владелец: Олег Валентинович Блинов. Дата публикации: 2018-03-07.

Biomass liquefaction method, liquid fuel and chemical raw material produced by said method

Номер патента: RU2682663C1. Автор: Ли Лин,ЛИН Ке,ГУО Ликсин,СУИ Йонгжун,ДЖИАНГ Лилонг. Владелец: Бейджинг Хуаши Юнайтед Энерджи Технолоджи энд Девелопмент Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-03-20.

Synthesis of High Caloric Fuels and Chemicals

Номер патента: US20140283438A1. Автор: Jan Zygmunt,Robert Zubrin,John T. Henri,Mark Bergren. Владелец: PIONEER ENERGY INC. Дата публикации: 2014-09-25.

Synthesis of high caloric fuels and chemicals

Номер патента: NZ624647B2. Автор: Jan Zygmunt,John Henri,Robert Zubrin,Mark Bergren. Владелец: PIONEER ENERGY. Дата публикации: 2017-01-05.

Synthesis of high caloric fuels and chemicals

Номер патента: US20150025266A1. Автор: Mark Berggren,Jan Zygmunt,John Henri,Robert Zubrin. Владелец: PIONEER ENERGY INC. Дата публикации: 2015-01-22.

Synthesis of High Caloric Fuels and Chemicals

Номер патента: US20130118063A1. Автор: Jan Zygmunt,John Henri,Robert Zubrin,Mark Bergren. Владелец: PIONEER ENERGY INC. Дата публикации: 2013-05-16.

Synthesis of high caloric fuels and chemicals

Номер патента: US20140256992A1. Автор: Jan Zygmunt,John Henri,Robert Zubrin,Mark Bergren. Владелец: PIONEER ENERGY INC. Дата публикации: 2014-09-11.

Synthesis of high caloric fuels and chemicals via ketene and diketene intermediates

Номер патента: US09611186B2. Автор: Mark Berggren,Jan Zygmunt,John Henri,Robert Zubrin. Владелец: PIONEER ENERGY INC. Дата публикации: 2017-04-04.

Method for obtaining individual fractions of matrix hyaluronate of various molecular weights of high fractional and chemical purity in a single technological cycle

Номер патента: RU2748071C1. Автор: Марина Ивановна Борисенко,Юлия Владимировна Захаренко,Алексей Викторович Рудаков. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "АВЕО". Дата публикации: 2021-05-19.

Carboxylic acid platform for fuel and chemical production at high carbon and energy efficiency

Номер патента: US20240229047A1. Автор: Seung Hwan Lee,Ramon Gonzalez,James MacAllister Clomburg,Fayin ZHU,Mohammadreza NEZAMIRAD. Владелец: Mojia Biotech Pte Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Carboxylic acid platform for fuel and chemical production at high carbon and energy efficiency

Номер патента: WO2023287814A3. Автор: Seung Hwan Lee,Ramon Gonzalez,James MacAllister Clomburg,Fayin ZHU,Mohammadreza NEZAMIRAD. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH FLORIDA. Дата публикации: 2023-03-02.

Carboxylic acid platform for fuel and chemical production at high carbon and energy efficiency

Номер патента: EP4384622A2. Автор: Seung Hwan Lee,Ramon Gonzalez,James MacAllister Clomburg,Fayin ZHU,Mohammadreza NEZAMIRAD. Владелец: Mojia Biotech Pte Ltd. Дата публикации: 2024-06-19.

Synthesis of high caloric fuels and chemicals

Номер патента: NZ624647A. Автор: Jan Zygmunt,John Henri,Robert Zubrin,Mark Bergren. Владелец: PIONEER ENERGY. Дата публикации: 2016-09-30.

Process for capture of carbon dioxide from air and the direct conversion of carbon dioxide into fuels and chemicals

Номер патента: US12098111B2. Автор: Harold Wright,Robert Schuetzle,Dennis Schuetzle,Orion Hanbury,Matthew Caldwell,Ramer Rodriguez. Владелец: Infinium Technology LLC. Дата публикации: 2024-09-24.

Bioconversion of Short-Chain Hydrocarbons to Fuels and Chemicals

Номер патента: US20240309417A1. Автор: Ramon Gonzalez,Alexander CHOU,James CLOMBURG. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-19.

Mixtures and compositions containing paenibacillus strains or fusaricidins and chemical pesticides

Номер патента: RU2754451C2. Автор: Изабелла ЗИПЕ,Бургхард ЛИБМАНН,Торстен Ябс,Аннетта ШУСТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2021-09-02.

Biological and chemical process utilizing chemoautotrophic microorganisms for the chemosynthetic fixation of carbon dioxide and/or other inorganic carbon sources into organic compounds, and the generation of additional useful products

Номер патента: EP2521790A1. Автор: John Reed. Владелец: Kiverdi Inc. Дата публикации: 2012-11-14.

Biological and Chemical Process Utilizing Chemoautotrophic Microorganisms for the Chemosynthetic Fixation of Carbon Dioxide and/or Other Inorganic Carbon Sources into Organic Compounds and the Generation of Additional Useful Products

Номер патента: US20180179559A1. Автор: John S. Reed. Владелец: Kiverdi Inc. Дата публикации: 2018-06-28.

Biological and Chemical Process Utilizing Chemoautotrophic Microorganisms for the Chemosynthetic Fixation of Carbon Dioxide and/or Other Inorganic Carbon Sources into Organic Compounds and the Generation of Additional Useful Products

Номер патента: US20180298409A1. Автор: John S. Reed. Владелец: Kiverdi Inc. Дата публикации: 2018-10-18.

Synthetic fuels and chemicals production with in-situ co2 capture

Номер патента: CA2773457C. Автор: Liang-Shih Fan,Fanxing Li,Liang Zeng. Владелец: Ohio State University Research Foundation. Дата публикации: 2018-08-28.

Method for regeneration of energy and chemical products in the process of sulfates formation and device its embodiment

Номер патента: RU2068041C1. Автор: Руотту Сеппо. Владелец: Тампелла Пауэр Ой. Дата публикации: 1996-10-20.

Synthetic fuels and chemicals production with in-situ co2 capture

Номер патента: CA3011693C. Автор: Liang-Shih Fan,Fanxing Li,Liang Zeng. Владелец: Ohio State University Research Foundation. Дата публикации: 2021-03-09.

Machinable and chemically toughenable glass ceramic

Номер патента: US20180044225A1. Автор: José ZIMMER,Chong Wang,Huiyan Fan,Junming Xue,Wenliang PING. Владелец: Schott Glass Technologies Suzhou Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-15.

Method for generating thermal energy and chemical feedstock by means of aluminothermal reaction

Номер патента: CA3182924A1. Автор: Norbert Windhab,Carsten Dentler. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-11-18.

Method for generating thermal energy and chemical feedstock by means of alumino-thermal reaction

Номер патента: AU2021269642A1. Автор: Norbert Windhab,Carsten Dentler. Владелец: ENERGY 13 GmbH. Дата публикации: 2022-12-01.

Method for making carbon black, hydrocarbon propellants and chemical stock of rubber-containing industrial and household waste

Номер патента: RU2352600C2. Автор: Кирилл Зыськович Бочавер. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Н.Т.Д Таманно". Дата публикации: 2009-04-20.

Water-and chemical recycling

Номер патента: US5827373A. Автор: Tord Georg Eriksson. Владелец: Individual. Дата публикации: 1998-10-27.

System and method for gas treatment comprising biological and chemical oxidation scrubbing stages

Номер патента: AU2007248725B2. Автор: Jennifer Romaine Miller,David L. Morano,Richard D. Parker. Владелец: Evoqua Water Technologies LLC. Дата публикации: 2011-10-27.

Mixtures and compositions comprising paenibacillus strains or fusaricidins and chemical pesticides

Номер патента: AU2022200847B2. Автор: Burghard Liebmann,Annette SCHUSTER,Thorsten Jabs,Isabella SIEPE. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-03-07.

Mixtures and compositions comprising paenibacillus strains or fusaricidins and chemical pesticides

Номер патента: EP4292433A3. Автор: Burghard Liebmann,Annette SCHUSTER,Thorsten Jabs,Isabella SIEPE. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-03-06.

Mixtures and compositions comprising paenibacillus strains or fusaricidins and chemical pesticides

Номер патента: EP4292433A2. Автор: Burghard Liebmann,Annette SCHUSTER,Thorsten Jabs,Isabella SIEPE. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2023-12-20.

Machinable and chemically toughenable glass ceramic

Номер патента: EP3262002A1. Автор: José ZIMMER,Chong Wang,Huiyan Fan,Junming Xue,Wenliang PING. Владелец: Schott Glass Technologies Suzhou Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-03.

Machinable and chemically toughenable glass ceramic

Номер патента: WO2016134677A1. Автор: José ZIMMER,Chong Wang,Huiyan Fan,Junming Xue,Wenliang PING. Владелец: SCHOTT GLASS TECHNOLOGIES (SUZHOU) CO. LTD.. Дата публикации: 2016-09-01.

Enamel paste compositions and methods of coating and chemical strengthening glass substrates

Номер патента: US20230406759A1. Автор: REN Xu,Maxence VALLA,Kefeng LI,Jean Luc LOONTJENS,Svetlana EMELIANOVA. Владелец: Fenzi AGT Netherlands BV. Дата публикации: 2023-12-21.

Mutated and chemically modified thermally stable dna polymerases

Номер патента: WO2009155464A3. Автор: LEI Xi. Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2010-05-06.

Enamel paste compositions and methods of coating and chemical strengthening glass substrates

Номер патента: EP4229015A1. Автор: REN Xu,Maxence VALLA,Kefeng LI,Jean Luc LOONTJENS,Svetlana EMELIANOVA. Владелец: Fenzi AGT Netherlands BV. Дата публикации: 2023-08-23.

Compounds and chemical modulation methods for specifically promoting activity of adenine base editor, and uses thereof

Номер патента: WO2023173688A1. Автор: Mingliang Zhang,Yudong Yang. Владелец: Shanghai Jiao Tong University School Of Medicine. Дата публикации: 2023-09-21.

Methods for reducing water consumption, carbon emissions and chemical usage

Номер патента: WO2022214820A1. Автор: Mark Fintan Gilligan. Владелец: Wizso Limited. Дата публикации: 2022-10-13.

Mechanically frothed and chemically blown polyurethane foam

Номер патента: US20030045594A1. Автор: Randall Jenkines,Daniel Kazmierski. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-06.

Biological and chemical defense apparatus utilizing cold plasma generated pressurized activated oxygen

Номер патента: US20030175180A1. Автор: John Shannon. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-18.

Improved sewage treatment system and method based on combined physical and chemical coagulation method

Номер патента: NL2034833B1. Автор: Ma Yingying. Владелец: Univ Inner Mongolia Technology. Дата публикации: 2024-06-12.

Process for conversion of carbon dioxide and power into fuels and chemicals

Номер патента: CA3180537C. Автор: Harold Wright,Robert Schuetzle,Dennis Schuetzle,Orion Hanbury,Matthew Caldwell,Ramer Rodriguez. Владелец: Infinium Technology LLC. Дата публикации: 2023-08-22.

Process for conversion of carbon dioxide and power into fuels and chemicals

Номер патента: AU2021268531B2. Автор: Harold Wright,Robert Schuetzle,Dennis Schuetzle,Orion Hanbury,Matthew Caldwell,Ramer Rodriguez. Владелец: Infinium Technology LLC. Дата публикации: 2024-09-12.

Semiconductor Chemical Mechanical Polishing Sludge Recycling Device

Номер патента: US20240317621A1. Автор: Shao-Hua Hu,Hsin-Hui Chou,Ya-Min Hsieh,Wen-Ming Cheng,Hsing-Wen HSIEH,Chin-An KUAN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-26.

Process for conversion of carbon dioxide and power into fuels and chemicals

Номер патента: US12103897B2. Автор: Harold Wright,Robert Schuetzle,Dennis Schuetzle,Orion Hanbury,Matthew Caldwell,Ramer Rodriguez. Владелец: Infinium Technology LLC. Дата публикации: 2024-10-01.

Fuels and chemicals from lower alkanes

Номер патента: US09926245B2. Автор: Jan Zygmunt,John T Henri,Robert Zubrin. Владелец: PIONEER ENERGY INC. Дата публикации: 2018-03-27.

Spray dry method for encapsulation of biological moieties and chemicals in polymers cross-linked by multivalent ions for controlled release applications

Номер патента: US09700519B2. Автор: Herbert B. Scher,Scott Strobel,Monica C. SANTA-MARIA,Tina Jeoh Zicari. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2017-07-11.

Glass composition having high thermal and chemical stability

Номер патента: US09440875B2. Автор: Timothy James Kiczenski,Adam James Ellison. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: EP1218143A1. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-07-03.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: US6595833B2. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-07-22.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: EP1218143A4. Автор: Scott Meikle,Gundu M Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2008-03-19.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: US6485356B2. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-11-26.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: US6589101B2. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-07-08.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: AU7474500A. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-03-26.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: KR100814267B1. Автор: 사브데군두엠.,마이클스코트. Владелец: 마이크론 테크놀로지 인코포레이티드. Дата публикации: 2008-03-18.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: WO2001015855A1. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2001-03-08.

Method and device for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: DE10084939T1. Автор: Scott Meikle,Gundu M Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-08-29.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: TW516988B. Автор: Scott Meikle,Gundu M Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-01-11.

Method n1 for preparing a sorbent based on covalent immobilized and chemically modified lysozyme for sorption of bacterial endotoxins and the sorbent itself

Номер патента: RU2736149C1. Автор: Андрей Вадимович Левашов,Наталия Васильевна Карелина,Николай Леонидович Еремеев,Владимир Александрович Нелюб,Павел Андреевич Левашов,Оксана Александровна Дмитриева,Екатерина Дмитриевна Овчинникова,Ирина Юрьевна Адамова,Дарья Андреевна Матолыгина. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана (национальный исследовательский университет)" (МГТУ им. Н.Э. Баумана). Дата публикации: 2020-11-12.

Method for preventing or treating radiation and chemical damage

Номер патента: CA3008466C. Автор: Jinan Li. Владелец: Talengen International Ltd. Дата публикации: 2023-06-20.

Process and reactor for recovering energy and chemicals from spent liquor

Номер патента: CA2034249C. Автор: Bengt Nilsson. Владелец: CHEMREC AB. Дата публикации: 1995-01-17.

Reinforced and chemically resistant optical filament

Номер патента: CA1224652A. Автор: Tryggve Baak. Владелец: Schlumberger Canada Ltd. Дата публикации: 1987-07-28.

Method of procuring a high-grade fuel product by heat- treating a water-containing fuel, containing colloidal and chemically-bound water

Номер патента: CA1183685A. Автор: Bo Jonsson,Torgils Wranger. Владелец: Individual. Дата публикации: 1985-03-12.

Bioconversion of short-chain hydrocarbons to fuels and chemicals

Номер патента: US11913049B2. Автор: Ramon Gonzalez,Alexander CHOU,James CLOMBURG. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-27.

Process for capture of carbon dioxide from air and the direct conversion of carbon dioxide into fuels and chemicals

Номер патента: US20230373882A1. Автор: Harold Wright,Robert Schuetzle,Dennis Schuetzle,Orion Hanbury,Matthew Caldwell,Ramer Rodriguez. Владелец: Infinium Technology LLC. Дата публикации: 2023-11-23.

Process for capture of carbon dioxide from air and the direct conversion of carbon dioxide into fuels and chemicals

Номер патента: CA3180810C. Автор: Harold Wright,Robert Schuetzle,Dennis Schuetzle,Orion Hanbury,Matthew Caldwell,Ramer Rodriguez. Владелец: Infinium Technology LLC. Дата публикации: 2023-11-21.

Process for capture of carbon dioxide from air and the direct conversion of carbon dioxide into fuels and chemicals

Номер патента: CA3215266A1. Автор: Harold Wright,Robert Schuetzle,Dennis Schuetzle,Orion Hanbury,Matthew Caldwell,Ramer Rodriguez. Владелец: Infinium Technology LLC. Дата публикации: 2021-11-11.

System and method for heating steam and chemical feed lines for natural gas powered plants

Номер патента: US11814992B2. Автор: John Kozich. Владелец: Indeeco LLC. Дата публикации: 2023-11-14.

Process for capture of carbon dioxide from air and the direct conversion of carbon dioxide into fuels and chemicals

Номер патента: CA3180810A1. Автор: Harold Wright,Robert Schuetzle,Dennis Schuetzle,Orion Hanbury,Matthew Caldwell,Ramer Rodriguez. Владелец: Infinium Technology LLC. Дата публикации: 2021-11-11.

System and method for heating steam and chemical feed lines for natural gas powered plants

Номер патента: US20220082033A1. Автор: John Kozich. Владелец: Indeeco LLC. Дата публикации: 2022-03-17.

Method of forming a polyurea polyurethane elastomer containing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: WO2009051895A1. Автор: Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2009-04-23.

Brush for cleaning wafers after chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20240180324A1. Автор: Liqing Wen,Le Lu,Jhih-Fong Lin,Deng-Gao Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Electrostatic suction cup device for wafer chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240286244A1. Автор: Yao-Sung Wei. Владелец: Shoxproof Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Method, device and chemical products for oil equipment processing

Номер патента: RU2642421C2. Автор: Марчелло ФЕРРАРА. Владелец: Марчелло ФЕРРАРА. Дата публикации: 2018-01-25.

Method of etching a surface of a substrate comprising LiTaO3 and chemically similar materials

Номер патента: USRE29336E. Автор: Mahn-Jick Lim. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1977-08-02.

Glass compositions having high thermal and chemical stability and methods of making thereof

Номер патента: US8763429B2. Автор: Natesan Venkataraman,Paul S. Danielson,Adam J. G. Ellison. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2014-07-01.

Reagent-impregnated substrate for the performance of bacterial and chemical tests

Номер патента: US3810739A. Автор: W Nussbaum. Владелец: Individual. Дата публикации: 1974-05-14.

Combined process for thermally and chemically treating lignocellulose-containing biomass and for producing furfural

Номер патента: CA1308112C. Автор: Karl Lackner,Gerard Avignon,Wolfgang Jaeggle,Horst Steinmuller. Владелец: Voest Alpine Industrienlagenbau GmbH. Дата публикации: 1992-09-29.

Chemical mechanical polishing method, chemical mechanical polishing system, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20050197046A1. Автор: Hirofumi Tsuchiyama,Shinobu Nakamura,Masahiro Aoyagi,Aki Nakajo. Владелец: Trecenti Technologies Inc. Дата публикации: 2005-09-08.

Process and equipment for obtaining mineral and chemical products by means of hydrometallurgy

Номер патента: GB832072A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1960-04-06.

Method of etching a surface of a substrate comprising LITAO{HD 3 {B and chemically similar materials

Номер патента: US3860467A. Автор: Mahn-Jick Lim. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1975-01-14.

Method for depositing an in situ coating onto thermally and chemically loaded components of a fluidized bed reactor for producing high-purity polysilicon

Номер патента: CA3006924C. Автор: Simon PEDRON. Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 2020-01-07.

Acetal group-containing alkoxy-styrene polymers, method of preparing the same and chemical amplified photoresist composition mainly comprising the same

Номер патента: US5665841A. Автор: Seong-Ju Kim,Ji-Hong Kim,Joo-Hyeon Park,Sun-Yi Park. Владелец: Korea Kumho Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 1997-09-09.

Apparatus and process for treating biomass for on-site production of cellulolytic enzymes and method of using the enzymes to manufacture fuels and chemicals

Номер патента: EP4308700A1. Автор: Jing Li,Zhihua Jiang,Edwin R. Lehrburger,Dhrubojyoti D. Laskar,Harry Cullinan,Yoon Y. Lee. Владелец: PureVision Technology Inc. Дата публикации: 2024-01-24.

Chitin and process for producing chitin and/or chitosan by the enzymatic and chemical pathway

Номер патента: US11958918B2. Автор: Nathalie Berezina,Sophie Laurent,Cecilia Socolsky,Lorena Sanchez,Benedicte Lorette,Valerie Alezra,Corentin LE BERRE. Владелец: Ynsect SAS. Дата публикации: 2024-04-16.

Methods for reducing water consumption, carbon emissions and chemical usage

Номер патента: US20240124807A1. Автор: Mark Fintan Gilligan. Владелец: Wizso Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Solvothermal synthesis of high quality fuels and chemicals using plastic wastes and lignin containing liquor

Номер патента: WO2023180797A1. Автор: Kumar Pramod,MEESALA Lavanya,Pedapati Chakradhar. Владелец: Hindustan Petroleum Corporation Limited. Дата публикации: 2023-09-28.

Methods for reducing water consumption, carbon emissions and chemical usage

Номер патента: EP4320212A1. Автор: Mark Fintan Gilligan. Владелец: Wizso Ltd. Дата публикации: 2024-02-14.

Chitin and process for producing chitin and/or chitosan by the enzymatic and chemical pathway

Номер патента: US20240150498A1. Автор: Nathalie Berezina,Sophie Laurent,Cecilia Socolsky,Lorena Sanchez,Benedicte Lorette,Valerie Alezra,Corentin LE BERRE. Владелец: Ynsect SAS. Дата публикации: 2024-05-09.

Biological and chemical single step purification of discharged water

Номер патента: AU3464193A. Автор: Ola Eide,Ivar Storro,Bjarne Oterholm. Владелец: Norske Meierier. Дата публикации: 1993-09-01.

Spray dry method for encapsulation of biological moieties and chemicals in polymers cross-linked by multivalent ions for controlled release applications

Номер патента: US20170333360A1. Автор: Herbert B. Scher,Scott Strobel,Monica C. SANTA-MARIA,Tina Jeoh Zicari. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2017-11-23.

Process for conversion of carbon dioxide and power into fuels and chemicals

Номер патента: ZA202211310B. Автор: Schuetzle Robert,Schuetzle Dennis,Wright Harold,Hanbury Orion,Caldwell Matthew,Rodriguez Ramer. Владелец: Infinium Tech Llc. Дата публикации: 2024-02-28.

Improved sewage treatment system and method based on combined physical and chemical coagulation method

Номер патента: NL2034833A. Автор: Ma Yingying. Владелец: Univ Inner Mongolia Technology. Дата публикации: 2023-06-22.

Apparatus and process for treating biomass for on-site production of cellulolytic enzymes and method of using the enzymes to manufacture fuels and chemicals

Номер патента: CA3212543A1. Автор: Jing Li,Zhihua Jiang,Edwin R. Lehrburger,Dhrubojyoti D. Laskar,Harry Cullinan,Yoon Y. Lee. Владелец: PureVision Technology Inc. Дата публикации: 2022-09-22.

Apparatus and process for treating biomass for on-site production of cellulolytic enzymes and method of using the enzymes to manufacture fuels and chemicals

Номер патента: US20220298531A1. Автор: Jing Li,Zhihua Jiang,Edwin R. Lehrburger,Dhrubojyoti D. Laskar,Harry Cullinan,Yoon Y. Lee. Владелец: PureVision Technology Inc. Дата публикации: 2022-09-22.

Artificial intelligence (ai)-based system and method for predicting physical and chemical properties of eco-friendly materials

Номер патента: US20240105287A1. Автор: Lurong Pan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-03-28.

Non-chemical, mechanical procedure for the devulcanization of scrap rubber and/or elastomers and apparatus therefor

Номер патента: US20130023639A1. Автор: Harald Rust. Владелец: Entex Rust and Mitschke GmbH. Дата публикации: 2013-01-24.

Method for chemical-mechanical finishing of surface

Номер патента: RU2290291C2. Автор: Марк Д. МИЧОД,Гари СРОКА,Лэйн Уилль м УИНКЕЛМАНН,Лэйн Уилльям УИНКЕЛМАНН. Владелец: Рем Текнолоджиз, Инк.. Дата публикации: 2006-12-27.

Chemical mechanical machining and surface finishing

Номер патента: IL157290A. Автор: . Владелец: Rem Technologies. Дата публикации: 2007-06-03.

Chemical-mechanical starch conversion

Номер патента: CA1117107A. Автор: Thomas L. Small,Richard D. Harvey,Thomas L. Gallaher,Raymond L. Mullikin. Владелец: Grain Processing Corp. Дата публикации: 1982-01-26.

UV-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11807710B2. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-07.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230406984A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Uv-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: EP4229104A1. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-08-23.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244739A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244740A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230405765A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

External heating system for use in chemical mechanical polishing system

Номер патента: US11633829B2. Автор: Chun-Wei Hsu,Chi-hsiang Shen,Chi-Jen Liu,Yi-Sheng Lin,Yang-chun Cheng,Kei-Wei Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-25.

Composite pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230339067A1. Автор: Zhan Liu,Michael E. Mills,Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

External heating system for use in chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230294237A1. Автор: Chun-Wei Hsu,Chi-hsiang Shen,Chi-Jen Liu,Yi-Sheng Lin,Yang-chun Cheng,Kei-Wei Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Method of chemical-mechanical treatment of waste waters from operation of tanneries

Номер патента: WO2010009684A1. Автор: Artur BRODSKΫ,Jan NOVOTNΫ,Vetezslav Mazur,Sosorbaramy Altangerel,Yundendorjiin Enkhbold. Владелец: Eurosound Spol. S.R.O.. Дата публикации: 2010-01-28.

Non-chemical, mechanical procedure for the devulcanization of scrap rubber and/or elastomers and apparatus therefor

Номер патента: US20150191578A1. Автор: Harald Rust. Владелец: Entex Rust and Mitschke GmbH. Дата публикации: 2015-07-09.

Piecewise processing of overlap smoothing and in-loop deblocking

Номер патента: WO2006081097A1. Автор: Erik Schlanger,Casey King,Bill Kwan,Raquel Rozas. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 2006-08-03.

Smoothing and robust normal estimation for 3D point clouds

Номер патента: US09767598B2. Автор: Simon A. J. Winder. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2017-09-19.

CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION PROCESS AND STRUCTURES

Номер патента: US20140167208A1. Автор: Hung Yung Tai,Su Chin Ta,CHEN Chun Fu,CHENG Yi Sheng. Владелец: MACRONIX INTERNATIONAL CO., LTD.. Дата публикации: 2014-06-19.

High corrosion-resistant hot dip coated steel product excellent in surface smoothness and formability, and method for producing hot dip coated steel product

Номер патента: NZ539228A. Автор: Hidetoshi Hatanaka,Kazuhiko Honda,Hajime Onozawa. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2006-09-29.

Method for smoothing and polishing metals via ion transport by means of free solid bodies, and solid bodies for carrying out said method

Номер патента: AU2017255989B2. Автор: Pau SARSANEDAS MILLET. Владелец: Drylyte SL. Дата публикации: 2022-12-15.

Method for smoothing and polishing metals via ion transport via free solid bodies and solid bodies for performing the method

Номер патента: US20240084476A1. Автор: Pau SARSANEDAS MILLET,Marc Sarsanedas Gimpera. Владелец: Drylyte SL. Дата публикации: 2024-03-14.

Method for smoothing and polishing metals via ion transport by means of free solid bodies and solid bodies for carrying out said method

Номер патента: CA3020196C. Автор: Pau SARSANEDAS MILLET. Владелец: Drylyte SL. Дата публикации: 2023-10-31.

Method for smoothing and polishing metals via ion transport via free solid bodies and solid bodies for performing the method

Номер патента: US11821102B2. Автор: Pau SARSANEDAS MILLET. Владелец: Drylyte SL. Дата публикации: 2023-11-21.

Zinc alloy-plated steel having excellent corrosion resistance and surface smoothness, and manufacturing method therefor

Номер патента: US20210010106A1. Автор: Myung-Soo Kim,Heung-Yun Kim. Владелец: Posco Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Method for smoothing and polishing metals via ion transport by means of free solid bodies and solid bodies for carrying out said method

Номер патента: CA3215909A1. Автор: Pau SARSANEDAS MILLET. Владелец: Drylyte SL. Дата публикации: 2017-11-02.

Method of smoothing and/or bevelling an edge of a substrate

Номер патента: US9114467B2. Автор: Christian Schmidt,Michael Linder,Enrico Stura. Владелец: picoDrill SA. Дата публикации: 2015-08-25.

Shared Data Induced Quality Control For A Chemical Mechanical Planarization Process

Номер патента: US20230325751A1. Автор: Hongjun Zhou,Joseph Rose,Rung-Je Yang,LU Gan,Krishna Murella,Ryan Clarke,Cesar Clavero,Anupama Mallikarjunan,Hieu Pham,Vid Gopal,Esmeralda Yitamben,Shirley Lin. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-10-12.

Method for relating photolithography overlay target damage and chemical mechanical planarization (cmp) fault detection to cmp tool identification

Номер патента: WO2002103776A2. Автор: Anthony J. Toprac,Christopher A. Bode. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 2002-12-27.

EROSION INHIBITOR FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, SLURRY FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD

Номер патента: US20140154884A1. Автор: Kato Shinya,KATO Mitsuru,OKAMOTO Chihiro,TAKEGOSHI Minori. Владелец: KURARAY CO., LTD.. Дата публикации: 2014-06-05.

AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD

Номер патента: US20150344739A1. Автор: Konno Tomohisa,Yamanaka Tatsuya,KAMEI Yasutaka,MIYAZAKI Yoshitaka. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2015-12-03.

Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20030060140A1. Автор: David Carlson. Владелец: Carlson David W.. Дата публикации: 2003-03-27.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6739955B2. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-05-25.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic device substrate assemblies

Номер патента: US6361413B1. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

System and Method for Online End Point Detection for use in Chemical Mechanical Planarization

Номер патента: US20060100821A1. Автор: ASHOK KUMAR,Arun SIKDER,Tapas Das,Rajesh Ganesan. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH FLORIDA. Дата публикации: 2006-05-11.

Multi-layered chemical-mechanical planarization pad

Номер патента: US09796063B2. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,John Erik Aldeborgh,Anoop Mathew,Scott Xin Qiao,Oscar K. Hsu,Marc C. Jin. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Method for operating chemical mechanical polishing ("CMP") tool for the manufacture of semiconductor devices

Номер патента: US20040171266A1. Автор: Chien Hua Chen,Yuan Hsin Peng,Xiao Hua Li. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2004-09-02.

Apparatus for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US7479206B2. Автор: Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-01-20.

Chemical mechanical planarization process control utilizing in-situ conditioning process

Номер патента: IL177027A. Автор: . Владелец: Tbw Ind Inc. Дата публикации: 2010-06-16.

Seal for use with a chemical mechanical planarization apparatus

Номер патента: US20020086626A1. Автор: Andrew Yednak,Phillip Rayer. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus for polishing a workpiece, and method of polishing a workpiece using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US09821429B2. Автор: Kenya Ito,Shozo Takahashi,Yu Ishii,Mika Suzuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Chemical Mechanical Planarization Tool

Номер патента: US20230271298A1. Автор: Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Kao-Feng Liao,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Hsin-ying Ho,Chih Hung Chen,Fu-Ming HUANG,Michael Yen,Chun-Wen Hsiao,Sheng-Chao Chuang,Peng-Chung Jangjian,Ji James Cui. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Apparatus and method for conditioning a fixed abrasive polishing pad in a chemical mechanical planarization process

Номер патента: US6361414B1. Автор: Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich,Don E. Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-03-26.

Customized polish pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20100273398A1. Автор: Pradip K. Roy,Sudhanshu Misra. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-10-28.

Chip customized polish pads for chemical mechanical planarization (cmp)

Номер патента: EP1610929A1. Автор: Pradip K. Roy. Владелец: Neopad Technologies Corp. Дата публикации: 2006-01-04.

Chemical mechanical planarization tool

Номер патента: US12030159B2. Автор: Kei-Wei Chen,Tung-Kai Chen,Hui-Chi Huang,Wan-Chun Pan,Shang-Yu Wang,Zink Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Multi-action chemical mechanical planarization device and method

Номер патента: US6514129B1. Автор: David G. Halley. Владелец: Strasbaugh Inc. Дата публикации: 2003-02-04.

Method of chemical mechanical polish operation and chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230256561A1. Автор: Yu-Chu Hsu,Chunhung Chen,Ren-Dou Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20190358772A1. Автор: Yong-Hee Lee,Jong-hwi SEO,Seung-Chul Han,Hui-Gwan LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-11-28.

Valve for a slurry outlet opening of a chemical mechanical polishing device and chemical mechanical polishing device having a valve

Номер патента: US20030024582A1. Автор: Andreas Fischer,Stefan Geyer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-02-06.

Valve for a slurry outlet opening of a chemical mechanical polishing device and chemical mechanical polishing device having a valve

Номер патента: US6854484B2. Автор: Andreas Fischer,Stefan Geyer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2005-02-15.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: WO2019222302A1. Автор: Rajesh Tiwari,Patrick Doering,Bruce Arrington,Conrad SURIAGA,Andrew Allan GALPIN. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2019-11-21.

An apparatus for and method of polishing a semiconductor wafer using chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2008023288A2. Автор: Eoin O'dea. Владелец: Eoin O'dea. Дата публикации: 2008-02-28.

Optical coupler hub for chemical-mechanical-planarization polishing pads with an integrated optical waveguide.

Номер патента: US20030190866A1. Автор: Stephan Wolf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-09.

Chemical Mechanical Planarization Tool

Номер патента: US20230321789A1. Автор: Kei-Wei Chen,Tung-Kai Chen,Hui-Chi Huang,Wan-Chun Pan,Shang-Yu Wang,Zink Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Chemical-mechanical-planarization (cmp) slurry quality control process and particle size distribution measuring systems

Номер патента: WO1999056106A9. Автор: Todd A Cerni,Scott Waisanen,Dennis Knowlton. Владелец: Particle Measuring Syst. Дата публикации: 2000-01-27.

Chemical-mechanical-planarization (cmp) slurry quality control process and particle size distribution measuring systems

Номер патента: EP1076814A1. Автор: Todd A. Cerni,Scott Waisanen,Dennis Knowlton. Владелец: Particle Measuring Systems Inc. Дата публикации: 2001-02-21.

Apertured conditioning brush for chemical mechanical planarization systems

Номер патента: WO2007047996A3. Автор: Stephen J Benner. Владелец: Tbw Ind Inc. Дата публикации: 2007-10-04.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: EP3793772A1. Автор: Rajesh Tiwari,Patrick Doering,Bruce Arrington,Conrad SURIAGA,Andrew Allan GALPIN. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2021-03-24.

End-point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: US20020061713A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-05-23.

Methods to clean chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US11850704B2. Автор: Kei-Wei Chen,Yen-Ting Chen,Chih-Chieh Chang,Hui-Chi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Slurry recycling for chemical mechanical planarization system

Номер патента: US20230256563A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Method of increasing maneuverability and safety of npp on basis of thermal and chemical accumulation

Номер патента: RU2640409C1. Автор: Александр Николаевич Егоров,Валерий Евгеньевич Юрин. Владелец: Валерий Евгеньевич Юрин. Дата публикации: 2018-01-09.

Method and system for mixing gas and liquid for gravitational, physical and chemical collection of compounds

Номер патента: US09821269B2. Автор: Mauro Tripodi,Paolo Tripodi. Владелец: Is Clean Air Italia Srl. Дата публикации: 2017-11-21.

System and method for identifying and enforcing the use of safe cleaning products and chemical for cleaning of a building

Номер патента: US20240220885A1. Автор: Bita Safari. Владелец: Gigo Clean Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Rotary disc filter with automatic integrated backwash and chemical cleaning system

Номер патента: US09962635B2. Автор: Todd Casey,Rune STRUBE,Luke Wood,Mark H. Stewart,Ronald V. Palumbo. Владелец: Veolia Water Solutions and Technologies Support SAS. Дата публикации: 2018-05-08.

Physical and chemical reactor with vortex layer and ferromagnetic particle for such reactor

Номер патента: RU2725657C1. Автор: Андрей Евгеньевич Терентьев,Аркадий Владимирович Владимирцев,Анатолий Николаевич Снежин. Владелец: Анатолий Николаевич Снежин. Дата публикации: 2020-07-03.

Automated chemical storage and chemical feed system

Номер патента: CA1317195C. Автор: John M. Mckinney,Ali D. Ata,Robert B. Wierzba,William F. Flowers. Владелец: Nalco Chemical Co. Дата публикации: 1993-05-04.

Stimulated emission and enhanced detection of chemicals and chemical compounds

Номер патента: US20130168572A1. Автор: Richard Graziano. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-07-04.

Stimulated Emission and Enhanced Detection of Chemicals and Chemical Compounds

Номер патента: US20190011369A1. Автор: Richard Graziano. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-01-10.

Stimulated emission and enhanced detection of chemicals and chemical compounds

Номер патента: WO2009086478A3. Автор: Richard Graziano. Владелец: Richard Graziano. Дата публикации: 2009-11-26.

Stimulated emission and enhanced detection of chemicals and chemical compounds

Номер патента: WO2009086478A2. Автор: Richard Graziano. Владелец: Richard Graziano. Дата публикации: 2009-07-09.

Stimulated Emission and Enhanced Detection of Chemicals and Chemical Compounds

Номер патента: US20160169804A1. Автор: Richard Graziano. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-06-16.

Probe and method for detecting metal ions and chemical/biochemical molecules

Номер патента: US09664664B2. Автор: Cheng-Tai Chen,Pei-Shin Jiang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2017-05-30.

Washing machine soap and chemical dispenser with improved flushing

Номер патента: US09487903B2. Автор: Andrew Huerth,Travis Lindgren. Владелец: Alliance Laundry Systems LLC. Дата публикации: 2016-11-08.

Method and the gas and liquid mixing system for gravitational physical and chemical detection of compounds

Номер патента: RU2656501C2. Автор: Мауро ТРИПОДИ,Паоло ТРИПОДИ. Владелец: Ис КЛИН ЭЙР ИТАЛИЯ С.р.л.. Дата публикации: 2018-06-05.

Device for physical and chemical processes

Номер патента: RU2602128C1. Автор: Владимир Ильич Коган,Андрей Николаевич Новиков,Леонид Борисович Широков. Владелец: Закрытое Акционерное Общество "Биологические Исследования И Системы" (Зао "Бис"). Дата публикации: 2016-11-10.

Nanosecond laser ablation and chemical thermal decomposition combined method for preparing super-hydrophobic micro-nano structure on stainless steel surfaces

Номер патента: US12103109B2. Автор: Bing Wang,Yiping TANG,Yukui CAI,Zhanqiang LIU,Xichun LUO,Yi Wan,Qinghua SONG. Владелец: Shandong University. Дата публикации: 2024-10-01.

Fertilization and chemical herbicide application device based on underfilm drip irrigation

Номер патента: LU506607B1. Автор: Jianhua Zhao,Jinwei ZHANG,Ercheng Zhao,Jianhao Sun. Владелец: Jinwei ZHANG. Дата публикации: 2024-09-19.

Blush and chemical resistant polyester film

Номер патента: US09956747B2. Автор: Jan Moritz. Владелец: Toray Plastics America Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Tool for chiseling the soil with introduction of mineral fertilizers and chemical ameliorants

Номер патента: RU2754984C1. Автор: Иван Борисович Борисенко,Юрий Николаевич Плескачев,Сергей Иванович Воронов,Дарья Ивановна Боканхель,Дмитрий Александрович Бобриков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр "Немчиновка" (ФИЦ "Немчиновка"). Дата публикации: 2021-09-08.

Complex with automatically flying sprinklers and sprayers for irrigation and chemical treatment of agricultural crops (automatically flying expanders of the coverage of the area of irrigation and chemical treatment of agricultural crops for agricultural machinery)

Номер патента: RU2750543C1. Автор: Константин Георгиевич Анимица. Владелец: Константин Георгиевич Анимица. Дата публикации: 2021-06-29.

Method and arrangement for recovering energy and chemicals

Номер патента: WO2005045204A1. Автор: Bengt Henry Nilsson. Владелец: Ultirec. Дата публикации: 2005-05-19.

System and method for virtual and chemical staining of tissue samples

Номер патента: US20230395238A1. Автор: Zbigniew Mioduszewski. Владелец: LEICA BIOSYSTEMS MELBOURNE PTY LTD. Дата публикации: 2023-12-07.

System and method for hybrid virtual and chemical staining of tissue samples

Номер патента: EP4285374A1. Автор: Zbigniew Mioduszewski. Владелец: LEICA BIOSYSTEMS MELBOURNE PTY LTD. Дата публикации: 2023-12-06.

Rotary disc filter with automatic integrated backwash and chemical cleaning system

Номер патента: CA2906413C. Автор: Mark Stewart,Todd Casey,Ronald PALUMBO,Luther Wood,Rune STRUBE. Владелец: Veolia Water Solutions and Technologies Support SAS. Дата публикации: 2016-08-23.

Insertable article for altering the cure rate and chemical composition of an object

Номер патента: US4294168A. Автор: Walden K. Redhead. Владелец: Individual. Дата публикации: 1981-10-13.

Combination cultivator and chemical applicator

Номер патента: US5520125A. Автор: Warren L. Thompson,Philip D. Cox. Владелец: Deere and Co. Дата публикации: 1996-05-28.

Pneumatic shut-off valve for sealing drain systems and chemical spill containment

Номер патента: RU2724286C1. Автор: Иван Алексеевич Зайцев,Живов Матвей. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "КЕМИГРИН". Дата публикации: 2020-06-22.

Physical and chemical reactor with vortex layer and ferromagnetic particle for such reactor

Номер патента: RU2725655C1. Автор: Андрей Евгеньевич Терентьев,Аркадий Владимирович Владимирцев,Анатолий Николаевич Снежин. Владелец: Анатолий Николаевич Снежин. Дата публикации: 2020-07-03.

Method of extracting non-shielding clay rocks, clay and clay-carbonate differences of fluid seal, places of accumulations of hydrocarbons in oil-and-gas-bearing structures by physical and chemical properties of rocks

Номер патента: RU2734332C2. Автор: Светлана Филипповна Тоискина. Владелец: Тоискин Игорь Яковлевич. Дата публикации: 2020-10-15.

Method of physical and chemical wastewater treatment

Номер патента: RU2531931C1. Автор: Нина Владимировна Углова,Жанна Вячеславовна Васильева,Юлия Михайловна Барашева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Мурманский государственный технический университет" (ФГОУВПО "МГТУ"). Дата публикации: 2014-10-27.

Method for managing resistance to insecticidal traits and chemicals using pheromones

Номер патента: US11856951B2. Автор: Christopher Wheeler,Pedro COELHO,John B. SCHOPER. Владелец: Provivi Inc. Дата публикации: 2024-01-02.

Probe and method for detecting metal ions and chemical/biochemical molecules

Номер патента: US20160178596A1. Автор: Cheng-Tai Chen,Pei-Shin Jiang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2016-06-23.

Method and apparatus for detecting and locating explosives, biological, and chemical substances in ducts and structures using tracers

Номер патента: WO2005081696A3. Автор: Joseph W Maresca Jr,Wesley L Bratton. Владелец: Wesley L Bratton. Дата публикации: 2006-08-03.

System for automated monitoring and maintenance of crops including computer control of irrigation and chemical delivery using multiple channel conduit

Номер патента: EP1392101A2. Автор: Paul W. Skinner. Владелец: Terra Spase Inc. Дата публикации: 2004-03-03.

Meters for fertilizers, small seeds, and chemical products and related systems

Номер патента: US20230189698A1. Автор: Jose Roberto Do Amaral Assy,Ricardo Araujo Pereira,Antonio Miguel Hernandez Gonzalez Gomez,Bruno Cesar Oliveira Milagres,Frederik Oest Moller. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-06-22.

Method and apparatus for detecting and locating explosives, biological, and chemical substances in ducts and structures using tracers

Номер патента: WO2005081696A9. Автор: Joseph W Maresca Jr,Wesley L Bratton. Владелец: Wesley L Bratton. Дата публикации: 2005-10-20.

Chemical mechanical polishing apparatus with stable signals

Номер патента: US6568988B1. Автор: Chun-Chieh Lee,Hua-Jen Tseng,Dong-Tay Tsai,Yi-Hua Chin. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2003-05-27.

Slurry supply system disposed above the rotating platen of a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030139117A1. Автор: Jen-Chieh Tung,Kuan-Fu Chang,Sheng-Jan Chang,Yu-Wei Chih. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-24.

Solid state sensor for touch-based rapid physiological and chemical sensing

Номер патента: AU2023205924A1. Автор: Lu Yin,Joseph Wang,Jong-Min Moon. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2024-07-25.

System for automated monitoring and maintenance of crops including computer control of irrigation and chemical delivery using multiple channel conduit

Номер патента: US20030177841A1. Автор: Paul Skinner. Владелец: Terra Spase Inc. Дата публикации: 2003-09-25.

Micro-Patterned SiO2/TiO2 Films through Photo and Chemical Reactions

Номер патента: US20070184358A1. Автор: Xiaoling Ding,David Fries. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH FLORIDA. Дата публикации: 2007-08-09.

Magnetorheological-elastomer polishing pad for chemical mechanical polishing of semiconductor wafer, preparation method and application thereof

Номер патента: US12083647B1. Автор: Qiang XIONG,Da Hu,Jiabin LU,Haotian Long,Yuhang Jin. Владелец: GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-10.

Method and process for extracting shale oil and gas by fracturing and chemical retorting in oil shale in-situ horizontal well

Номер патента: US09784086B2. Автор: Jinmin Zhao. Владелец: Jilin Zhongcheng Oil Shale Investment And Development Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Failsafe control system for a safety valve having a condition sensing and chemical injection feature

Номер патента: US09677377B2. Автор: Wade A. Miller,Brett C. Jones. Владелец: Baker Hughes Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Optical and chemical analytical systems and methods

Номер патента: US09562862B2. Автор: Rudy Hofmeister,Donald Ice,Scott Tandy. Владелец: H2optx Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Chemical mechanical polishing conditioner with high quality abrasive particles

Номер патента: US09415481B2. Автор: Jui-Lin Chou. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2016-08-16.

Apparatus for mass exchange and chemical processes

Номер патента: RU2599057C1. Автор: Александр Анатольевич Смирнов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "НьюКем Текнолоджи". Дата публикации: 2016-10-10.

Method and apparatus for training in the detection of nuclear, biological and chemical (NBC) contamination

Номер патента: US5807113A. Автор: Edward O. Groeber. Владелец: US Department of Army. Дата публикации: 1998-09-15.

In-situ real-time monitoring technique and apparatus for endpoint detection of thin films during chemical/mechanical polishing planarization

Номер патента: US7024063B2. Автор: Wallace T. Y. Tang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-04-04.

Process and apparatus for recovery of energy and chemical values from spent pulping liquors

Номер патента: CA1211257A. Автор: Howard L. Empie, Jr.. Владелец: International Paper Co. Дата публикации: 1986-09-16.

Local integral method for computing molecular diffusion and chemical reaction

Номер патента: US5583789A. Автор: Werner J. A. Dahm,Gretar Tryggvason. Владелец: Gas Research Institute. Дата публикации: 1996-12-10.

Nanosecond laser ablation and chemical thermal decomposition combined method for preparing super-hydrophobic micro-nano structure on stainless steel surfaces

Номер патента: US20210370443A1. Автор: Bing Wang,Yiping TANG,Yukui CAI,Zhanqiang LIU,Xichun LUO,Yi Wan,Qinghua SONG. Владелец: Shandong University. Дата публикации: 2021-12-02.

True three-dimensional dynamic and static combination shear device under high- temperature, high pore pressure and chemical coupling and method therefor

Номер патента: US11982664B1. Автор: QUAN Jiang,Zhi Zheng,Cao Luo,Guoshao Su. Владелец: GUANGXI UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-05-14.

Detection method and detection apparatus for polishing pad of chemical mechanical polishing device

Номер патента: US20210146501A1. Автор: Hsien-Ming Lee,Chun-Chen Chen,Po-Ching Huang,Ching-Tang Hsueh. Владелец: Ta Liang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Method of preparing an internal combustion engine for use with engine oil substantially free of metallic and chemical friction modifiers

Номер патента: US5238712A. Автор: Morton R. Smith,James L. Maassel. Владелец: Individual. Дата публикации: 1993-08-24.

Temperature control of chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2010126902A4. Автор: Thomas H. Osterheld,Stephen Jew,Kun Xu,Jimin Zhang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-03-31.

Method of manufacturing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09770808B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Low magnetic chemical mechanical polishing conditioner

Номер патента: US09475171B2. Автор: Tian-Yeu WU. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2016-10-25.

Broad spectrum, endpoint detection monophase olefin copolymer window with specific composition in multilayer chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09446497B2. Автор: David B. James,Marty W. Degroot,Mary A. Leugers,Angus Repper. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Method and apparatus for using across wafer back pressure differentials to influence the performance of chemical mechanical polishing

Номер патента: US6531397B1. Автор: Ronald J. Nagahara,Dawn M. Lee. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2003-03-11.

Device for bleaching body parts applicable in medicine and dentistry in particular and having optoelectric and chemical means as ingredients

Номер патента: RU2320379C2. Автор: Франсуа ДЮРЕ. Владелец: Франсуа ДЮРЕ. Дата публикации: 2008-03-27.

Device and method of positioning using rotary indexing table for automotive and chemical catalysts on monolithic base

Номер патента: RU2508168C2. Автор: Кай ШМИТЦ,Андреас ШУЛЬЦ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2014-02-27.

Physically and chemically stable oral suspension of givinostat

Номер патента: RU2721396C2. Автор: Джузеппе Коломбо,Роберта АРТИКО,Паоло МАСКАНЬИ,Мария Вальмен МОНДЗАНИ,Сильвия ПУЧЧАНТИ. Владелец: Италфармако Спа. Дата публикации: 2020-05-19.

Method for determining physical and chemical properties of multicomponent hydrocarbon systems

Номер патента: RU2616519C1. Автор: Михаил Юрьевич Доломатов,Гульнара Ульфатовна Ярмухаметова,Светлана Андреевна Еремина. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Образования "Уфимский Государственный Университет Экономики И Сервиса". Дата публикации: 2017-04-17.

Synergistic herbicidal compositions comprising a microbial herbicide and chemical herbicides

Номер патента: CA1297691C. Автор: Alan R. Gotlieb,Alan K. Watson. Владелец: Royal Institution for the Advancement of Learning. Дата публикации: 1992-03-24.

Synergistic herbicidal compositions comprising microbial herbicides and chemical herbicides or plant growth regulators

Номер патента: CA1286121C. Автор: Alan R. Gotlieb,Alan K. Watson,Jerry D. Caulder,Larry Stowell. Владелец: Royal Institution for the Advancement of Learning. Дата публикации: 1991-07-16.

Pharmaceutical tablet formulation containing gabapentin with improved physical and chemical characteristics and method of making the same

Номер патента: US6294198B1. Автор: Zalman Vilkov. Владелец: Purepac Pharmaceutical Co. Дата публикации: 2001-09-25.

Physically and chemically stable oral suspensions of givinostat

Номер патента: CA3002755C. Автор: Paolo Mascagni,Giuseppe Colombo,Roberta Artico,Maria Valmen MONZANI,Silvia PUCCIANTI. Владелец: ITALFARMACO SPA. Дата публикации: 2022-10-18.

Agricultural liquid fertilizer and chemical delivery system and method of use

Номер патента: US10881046B2. Автор: Erik W. Tribelhorn. Владелец: AGRI-INJECT Inc. Дата публикации: 2021-01-05.

Apparatus and method for enhancing phase contact and chemical reactions

Номер патента: CA3051805A1. Автор: Giuliano Cavaglia'. Владелец: BOB SERVICE Srl. Дата публикации: 2018-08-16.

Heat-and chemical-resistant acrylic short fibers without spinning

Номер патента: CA2064116C. Автор: Jae Whan Cho,Byung Chul Kim,Han Sik Yoon,Chul Joo Lee,Byung Ghyl Min,Tae Won Son. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 1996-04-16.

Method and apparatus for sensing and detecting physical, biological and chemical characteristics of a person

Номер патента: US20070194909A1. Автор: Michael Garfield,David Flinchbaugh. Владелец: GLOBAL ROBOTIX LLC. Дата публикации: 2007-08-23.

Improved Process for the Treatment of Animal Substances such as Wool, Silk or Hair to Increase their Resistance to the Action of Water, Heat and Chemical Agents.

Номер патента: GB191004557A. Автор: Louis Meunier. Владелец: Individual. Дата публикации: 1910-09-15.

Assisted Conversion of Biological and Chemical Pathway Information to Three-Dimensional Animations

Номер патента: US20140267278A1. Автор: Sam Latif Ali,Merry Shiyu Wang,Mark Alan Templin,Christopher Jerome Andrews. Владелец: Autodesk Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Meters for fertilizers, small seeds, and chemical products, and related systems and methods

Номер патента: US20200253108A1. Автор: Jose Roberto Do Amaral Assy,Ricardo Araujo Pereira,Bruno Cesar Oliveira Milagres,Frederik Oest Moller,Antonio Miguel Hernandez Gonzale Gomez. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-08-13.

System, control method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230390882A1. Автор: Kei-Wei Chen,Shich-Chang Suen,Te-Chien Hou,Wen-Pin Liao,Chen-Chi Tang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Stabilization method for biological samples by combination of heating and chemical fixation.

Номер патента: EP2459985A1. Автор: Marcus Svensson,Karl Skold,Mats BORÉN. Владелец: DENATOR AB. Дата публикации: 2012-06-06.

Stabilization method for biological samples by combination of heating and chemical fixation.

Номер патента: WO2011014108A1. Автор: Marcus Svensson,Karl Skold,Mats BORÉN. Владелец: DENATOR AKTIEBOLAG. Дата публикации: 2011-02-03.

Assisted conversion of biological and chemical pathway information to three-dimensional animations

Номер патента: US9317951B2. Автор: Sam Latif Ali,Merry Shiyu Wang,Mark Alan Templin,Christopher Jerome Andrews. Владелец: Autodesk Inc. Дата публикации: 2016-04-19.

Stabilization method for biological samples by combination of heating and chemical fixation

Номер патента: US20120122150A1. Автор: Marcus Svensson,Mats BORÉN,Karl Skdöld. Владелец: DENATOR AB. Дата публикации: 2012-05-17.

Biological and chemical microscopic targeting

Номер патента: US20110026018A1. Автор: Andrew P. Bartko. Владелец: Battelle Memorial Institute Inc. Дата публикации: 2011-02-03.

Method and chemical formulation for treating contaminated medical waste

Номер патента: US20240198400A1. Автор: Arturo SANTOS GARCÍA,Gisela Hialita SÁNCHEZ SOSA. Владелец: Centro De Retina Medica Y Quirurgica SC. Дата публикации: 2024-06-20.

Method and apparatus for generation of gas liquid emulsions with predetermined physical and chemical properties

Номер патента: WO1996038223A1. Автор: Daniel C. McLean,Sung O. Владелец: Enviro-Bubble Flotation, Inc.. Дата публикации: 1996-12-05.

Quantitative hormone and chemical analyte test result systems and methods

Номер патента: US20240175820A1. Автор: Li Zou,Xiaolian LIU. Владелец: Easy Healthcare Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Quantitative hormone and chemical analyte test result systems and methods

Номер патента: US11892411B2. Автор: Li Zou,Xiaolian LIU. Владелец: Easy Healthcare Corp. Дата публикации: 2024-02-06.

Process for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030064594A1. Автор: Alfred Kersch,Johannes Baumgartl,Stephanie Delage. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-04-03.

Methods of detecting non-conforming substrate processing events during chemical mechanical polishing

Номер патента: US12036635B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Jeonghoon Oh,Ashish BHUSHAN,John Anthony GARCIA,Stephen Thomas CORMIER,Nick Joseph JACKSON,Manoj BALAKUMAR,Nandkishore PATIDAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US20170197290A1. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-07-13.

Chemical mechanical polishing apparatus using a magnetically coupled pad conditioning disk

Номер патента: US11766758B2. Автор: Wen-Pin HO,Ren-Hao JHENG,S. P. Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Controlling chemical mechanical polishing pad stiffness by adjusting wetting in the backing layer

Номер патента: WO2020176460A1. Автор: Kevin H. Song,Benedict W. Pang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-09-03.

Active acoustic monitoring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20220281058A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,Nicholas A. Wiswell,Sohrab POURMAND. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-09-08.

A carrier head including a flexible membrane and a compliant backing member for a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: EP1045740A1. Автор: Steven M. Zuniga,Hung Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-25.

Chemical-mechanical polishing aid

Номер патента: GB9828786D0. Автор: . Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-02-17.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20020142711A1. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2002-10-03.

Apparatus and system of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020132567A1. Автор: Hai-Ching Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-19.

Retaining ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20050014452A1. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuus Inc. Дата публикации: 2005-01-20.

Chemical mechanical polishing slurry pump monitoring system and method

Номер патента: US20050101223A1. Автор: Daniel Caldwell,Thomas Kiez. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-12.

Wafer carrier structure for chemical-mechanical polisher

Номер патента: US20020173253A1. Автор: Chi-Feng Cheng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6761624B2. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2004-07-13.

Retainiing ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: WO2005009679A2. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuu's Inc., Dba Kamet. Дата публикации: 2005-02-03.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240342855A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024215780A2. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-17.

Method to shape the surface of chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09802293B1. Автор: Jeffrey James Hendron,Jeffrey Robert Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US09737971B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Chemical mechanical polishing apparatus and polishing method using the same

Номер патента: US09481069B2. Автор: Sheng-Chen Wang,Feng-Inn Wu,Yuan-Hsuan Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Chemical mechanical polishing pad with window

Номер патента: US09446498B1. Автор: Joseph So,Bainian Qian,Janet Tesfai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Chemical-mechanical process to reduce the contamination caused by gases and products resulting from the combustion of fossil fuels, petroleum and its by-products

Номер патента: CA2397221A1. Автор: Rafael Vidal Fernandez. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-09.

Chemical mechanical polishing machine and fabrication processes using the same.

Номер патента: GB2342605A. Автор: Juan-Yuan Wu,Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Daniel Chiu,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Kun-Lin Wu,Hao-Kuang Chiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-04-19.

Method for producing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20090104856A1. Автор: Yukio Hosaka,Rikimaru Kuwabara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-23.

Chemical mechanical polishing apparatus and a method for planarizing/polishing a surface

Номер патента: US20070026769A1. Автор: Eugene Davis,Kyle Hunt,Daniel Caldwell. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2007-02-01.

Chemical-mechanical contouring (CMC) method for forming a contoured surface

Номер патента: US5940956A. Автор: Stephen G. Jordan. Владелец: Aiwa Co Ltd. Дата публикации: 1999-08-24.

Method and system for controlling the chemical mechanical polishing of substrates by calculating an overpolishing time and/or a polishing time of a final polishing step

Номер патента: US7268000B2. Автор: Gerd Marxsen,Dirk Wollstein,Jan Raebiger. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2007-09-11.

Chemical mechanical polishing apparatus for polishing workpiece

Номер патента: US20190262968A1. Автор: Hitoshi Morinaga,Kenya Ito,Hiroshi Asano,Kazusei Tamai,Yu Ishii,Shingo OHTSUKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-08-29.

Chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20050095963A1. Автор: David Stark,Christopher Schutte. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-05.

Removal rate estimating method of a chemical mechanical polishing process under mixed products or mixed layers

Номер патента: US20070145010A1. Автор: Chih-Wei Lai,Ming-Wei Lee. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2007-06-28.

Endpoint detection window, chemical mechanical polishing pad with window and preparation method thereof

Номер патента: US20240009797A1. Автор: Kai Chen,Lijun Yao,Jianguo SHI,Hongqi XIANG. Владелец: Inventech Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Method for production of chemical-mechanical wood mass

Номер патента: RU2401350C2. Автор: Кай Эрик Йоханнес ВИКМАН,Майя ПИТКЯНЕН,Пирита СУОРТАМО,Оле НИКУЛЛ,Аули ЛАУРИЛА-ЛУММЕ. Владелец: М-Риал Ойй. Дата публикации: 2010-10-10.

Device for sheet carrier smoothing and financial self-service device

Номер патента: RU2688375C1. Автор: Дун ТАНЬ,Чжуан ЦЗЯН,Ян ЧАН,Инь СЯ,Чживэнь ЦЗЯН,Хунцзюнь У,Чжицян СУНЬ. Владелец: ДжиАрДжи БЭНКИНГ ЭКВИПМЕНТ КО., ЛТД.. Дата публикации: 2019-05-21.

Processed cheese product with improved smoothness and hardness and manufacturing method

Номер патента: RU2748859C2. Автор: Шантану АГАРВАЛ,Марлин СЕЛИС,Кэтрин Жанна ХОРАН,Джонатан Л. РИВ. Владелец: Крафт Фудс Груп Брэндс Ллк. Дата публикации: 2021-06-01.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR100568031B1. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2006-04-05.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US6676717B1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-13.

Chemical-mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6010395A. Автор: Hideharu Nakajima. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-01-04.

Method of detecting end point and monitoring uniformity in chemical-mechanical polishing operation

Номер патента: US6153116A. Автор: Champion Yi,Ming-Cheng Yang,Cheng-Sung Huang,Feng-Yeu Shau. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-11-28.

Slurry dispenser for chemical mechanical polishing (CMP) apparatus and method

Номер патента: US8277286B2. Автор: Huang Soon Kang,Zin-Chang Wei,Kun-Ku Hung,Chyi-Shyuan Chern. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-10-02.

Chemical mechanical polishing pad with controlled polish rate

Номер патента: US6054017A. Автор: Bih-Tiao Lin,Fu-Liang Yang. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-04-25.

Polisher for chemical mechanical polishing process

Номер патента: KR20020053941A. Автор: 한동원. Владелец: 박종섭. Дата публикации: 2002-07-06.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US11344991B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-05-31.

Retaining ring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US8556684B2. Автор: William B. Sather,Adam W. Manzonie. Владелец: SPM Technology Inc. Дата публикации: 2013-10-15.

Carrier head with layer of conformable material for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US6036587A. Автор: Robert D. Tolles,John Prince,Tsungan Cheng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-03-14.

Conditioning disks for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2017146678A1. Автор: Alexander Tregub,Kenneth A. DELBRIDGE,Andrew Paul MANSSON,Gunnmeet S. DHILLON,John E. GARLAND. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2017-08-31.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing of substrates

Номер патента: EP1307320A1. Автор: Jason Melvin,Hilario L. Oh,Nam P. Suh. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2003-05-07.

Chemical-mechanical-polishing system with continuous filtration

Номер патента: US6244929B1. Автор: Daniel Thomas,Richard D. Russ. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2001-06-12.

Carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6165058A. Автор: Hung Chen,Steven Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-12-26.

Controlled retention of slurry in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6019665A. Автор: Solomon I. Beilin,Michael G. Lee. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2000-02-01.

Installation for improving chemical-mechanical polishing operation

Номер патента: US6062955A. Автор: Ying-Chih Liu. Владелец: Worldwide Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2000-05-16.

Chemical mechanical polishing optical endpoint detection

Номер патента: US20050075055A1. Автор: Brian ZINN,Barry Lanier. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-04-07.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US20040014395A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-01-22.

Chemical mechanical polishing

Номер патента: GB2345257A. Автор: Juan-Yuan Wu,Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Daniel Chiu,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Kun-Lin Wu,Hao-Kuang Chiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-07-05.

Retaining ring for use in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6821192B1. Автор: Timothy J. Donohue. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-11-23.

Method and apparatus for measuring substrate layer thickness during chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030104761A1. Автор: Boguslaw Swedek,Andreas Wiswesser,Walter Schoenleber. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-06-05.

Retaining ring for holding semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20040261945A1. Автор: Wilfried Ensinger. Владелец: Ensinger Kunststofftechnologie GbR. Дата публикации: 2004-12-30.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR20050014350A. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2005-02-07.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US6135868A. Автор: Madhavi Chandrachood,Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-24.

Retainer ring, chemical mechanical polishing apparatus, and substrate polishing method

Номер патента: US20240091902A1. Автор: Younghun Kim,Sangyun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: US20240075582A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230381917A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240042574A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Chemical-mechanical polishing subpad having porogens with polymeric shells

Номер патента: EP4267342A1. Автор: Chen-Chih Tsai,Dustin Miller,Paul Andre Lefevre,Aaron Peterson. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-01.

Apparatus and method for chemically mechanically polishing

Номер патента: US20200306929A1. Автор: Bo-I Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Compliant inner ring for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230356354A1. Автор: Steven M. Zuniga,Satish Radhakrishnan,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Hari Prasath RAJENDRAN,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Eric L. Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024006213A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-04.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: WO2024049890A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11945073B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415295A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230182259A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11833637B2. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: WO1999041038A1. Автор: Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom,Madhayi Chandrachood. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1999-08-19.

Monitoring of polishing pad texture in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230321788A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US20240075584A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240131655A1. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Monitor chemical mechanical polishing process using machine learning based processing of heat images

Номер патента: EP4329981A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-06.

Slurry recycling for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220355441A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Conditioner, chemical mechanical polishing apparatus including the same and method of manufacturing a semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US11964357B2. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-23.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: WO2024049642A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415297A1. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Chemical mechanical plishing pad with window

Номер патента: US20160263721A1. Автор: Joseph So,Bainian Qian,Janet Tesfai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-15.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing and method of operation

Номер патента: WO2023229658A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-30.

Conditioner, chemical mechanical polishing apparatus including the same and method of manufacturing a semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US20200346317A1. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-11-05.

Hot water generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4334083A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-13.

Wafer carrier assembly for a chemical mechanical polishing apparatus and a polishing method using the same

Номер патента: US20030234078A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Hsueh-Chung Chen,Shih-Hsun Hsu,Art Yu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2003-12-25.

Compliant inner ring for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: WO2023214985A1. Автор: Steven M. Zuniga,Satish Radhakrishnan,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Hari Prasath RAJENDRAN,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Eric L. Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-09.

Chemical mechanical polishing apparatus with integrated slurry mixer-dispenser and methods for operating the same

Номер патента: US20230373062A1. Автор: Yu-chen Wei,Feng-Inn Wu,You-Shiang Lin,Jiun Ru Huang,Jyun-Jie Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Chemical mechanical polishing apparatus using a magnetically coupled pad conditioning disk

Номер патента: US20230364731A1. Автор: Wen-Pin HO,Ren-Hao JHENG,S.P. Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2022006012A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-01-06.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4171872A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-05-03.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240173815A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Single drive system for a bi-directional linear chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030022607A1. Автор: Douglas Young,Bernard Frey,Mark Henderson. Владелец: ASM Nutool Inc. Дата публикации: 2003-01-30.

Polishing pad including an acoustic window for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4366911A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian,Nicholas A. Wiswell,Jason Garcheung Fung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Method and apparatus for distributing fluid to a polishing surface during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2003002302A1. Автор: Robert A. Eaton. Владелец: Speedfam-Ipec Corporation. Дата публикации: 2003-01-09.

Chemical mechanical polishing pad with fluorinated polymer and multimodal groove pattern

Номер патента: US20240207998A1. Автор: Joseph So,Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

System and method for chemical mechanical polishing pad replacement

Номер патента: US20230009839A1. Автор: Shih-Chung Chen,Ching-Wen Cheng,Chun Yan Chen,Wei-Kang TU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-01-12.

Machine, plant and method for smoothing and/or polishing articles, preferably in slab form

Номер патента: WO2023111831A1. Автор: Luca Toncelli. Владелец: Luca Toncelli. Дата публикации: 2023-06-22.

A system of operating members for 3d-printing of elements of buildings and structures and for smoothing and treating their surfaces with liquids (variants)

Номер патента: US20240217136A1. Автор: Kostiantyn Kostiantynovych BARASHKIN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-04.

Golf putter with a circular, plain, vertical, smooth and graded head

Номер патента: EP2158011A1. Автор: Jose Manuel Silvestre Monteiro. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-03-03.

Automatic smoothing and polishing system for plates and blocks made of marble, granite and stone in general

Номер патента: AU3324200A. Автор: Romolo Galimberti. Владелец: GALIMBERTI ROMOLO SpA. Дата публикации: 2000-10-04.

Near-term data filtering, smoothing and load forecasting

Номер патента: US09633359B2. Автор: Frank Anthony Monforte,Christine Ann Fordham. Владелец: Itron Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Selective smoothing and sharpening of images by generalized unsharp masking

Номер патента: EP1342212A2. Автор: Ron P Maurer. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 2003-09-10.

Machine for smoothing and/or polishing lens faces

Номер патента: WO1979000285A1. Автор: Allen S Eadon. Владелец: Allen S Eadon. Дата публикации: 1979-05-31.

Improvements in method and apparatus for smoothing and polishing workpieces

Номер патента: GB656686A. Автор: . Владелец: J M NASH CO. Дата публикации: 1951-08-29.

Device for simultaneously deshirring, smoothing and braking a shirred tubular casing

Номер патента: US4430772A. Автор: Wolfgang Michel,Reinhold Becker. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1984-02-14.

Adaptive digital smoothing and predictive device

Номер патента: RU2626338C1. Автор: Камиль Хабибович Гильфанов,Павел Павлович Павлов,Геннадий Саяфович Магданов,Андрей Геннадиевич Магданов,Руслан Сергеевич Литвиненко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Казанский государственный энергетический университет" (ФГБОУ ВПО "КГЭУ"). Дата публикации: 2017-07-26.

Device for simultaneously deshirring, smoothing and braking a shirred tubular casing

Номер патента: CA1183040A. Автор: Wolfgang Michel,Reinhold Becker. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1985-02-26.

A process and apparatus for grinding, smoothing, and polishing plates of glass, marble or other similar materials

Номер патента: GB288196A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1928-12-20.

Apparatus and method for manually smoothing and cleaning ceramic articles

Номер патента: US4974374A. Автор: Josephine R. Meyer. Владелец: Individual. Дата публикации: 1990-12-04.

An elastic base grinding wheel for smoothing and polishing toroidal contours of hard materials

Номер патента: AU7664694A. Автор: Quintilio Lupi. Владелец: Individual. Дата публикации: 1995-04-10.

A system of operating members for 3d-printing of elements of buildings and structures and for smoothing and treating their surfaces with liquids (variants)

Номер патента: WO2023009098A1. Автор: Kostiantyn Kostiantynovych BARASHKIN. Владелец: Barashkin Kostiantyn Kostiantynovych. Дата публикации: 2023-02-02.

Method for smoothing and/or polishing slabs of stone or stone-like material.

Номер патента: CA2955856C. Автор: Luca Toncelli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-05-31.

System and method for smoothing and compression of polyline data

Номер патента: US20060007232A1. Автор: Geary Layne,Marlin Gendron,Maura Lohrenz. Владелец: NAVY UNITED STATE OF AMERICA, Secretary of. Дата публикации: 2006-01-12.

Method and apparatus for the generation of smoothness and gloss

Номер патента: CA2075402C. Автор: Wolf-Gunter Stotz,Christof Link. Владелец: Sulzer Escher Wyss GmbH. Дата публикации: 1999-03-16.

Topical instant smoothing and coloring compositions for the skin

Номер патента: US20230240965A1. Автор: David Pollock,Stefanie Caroline Magda,Jonathan Greenhut,David A. Cohon,Jeanne Borgia. Владелец: True Earth Health Products LLC. Дата публикации: 2023-08-03.

Coating for a smoothing and/or polishing element, particularly a grinding wheel, grinding wheel provided with said coating, process for obtaining said coating and process for realising said grinding wheel

Номер патента: US20060183818A1. Автор: Lupi Quinitilio. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-17.

Golf putter with a circular, plain, vertical, smooth and graded head

Номер патента: WO2008143538A8. Автор: Jose Manuel Silvestre Monteiro. Владелец: Silvestre Monteiro Jose Manuel. Дата публикации: 2010-01-28.

Topical instant smoothing and coloring compositions for the skin

Номер патента: CA3188088A1. Автор: David Pollock,Stefanie Caroline Magda,Jonathan Greenhut,David A. Cohon,Jeanne Borgia. Владелец: True Earth Health Products LLC. Дата публикации: 2023-08-01.

Adaptive digital smoothing and predictive device

Номер патента: RU2622852C1. Автор: Камиль Хабибович Гильфанов,Сергей Викторович Карпеев,Андрей Геннадьевич Магданов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Казанский государственный энергетический университет" (ФГБОУ ВО "КГЭУ"). Дата публикации: 2017-06-20.

Apparatus for smoothing and/or polishing a part-spherical surface

Номер патента: GB2002662A. Автор: . Владелец: Dollond and Aitchison Ltd. Дата публикации: 1979-02-28.

Assembly for smoothing and throttling a gaseous stream

Номер патента: US20190111167A1. Автор: Eddi MEONI. Владелец: IMA Industria Macchine Automatiche SpA. Дата публикации: 2019-04-18.

Assembly for smoothing and throttling a gaseous stream

Номер патента: EP3429638A2. Автор: Eddi MEONI. Владелец: IMA Industria Macchine Automatiche SpA. Дата публикации: 2019-01-23.

Planarizing pads, planarizing machines and methods for making and using planarizing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic device substrate assemblies

Номер патента: US6498101B1. Автор: Dapeng Wang. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-12-24.

Method for chemical mechanical planarization (CMP) and chemical mechanical cleaning (CMC) of a work piece

Номер патента: US20040229550A1. Автор: Yakov Epshteyn,Marie Mitchel,John Shartel. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2004-11-18.

Method for planarizing workpieces in a chemical-mechanical planarization process, method for chemical-mechanical planarization of a substrate, and apparatus for planarizing a surface on a workpiece

Номер патента: TW422754B. Автор: Jeremy K Stephens. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2001-02-21.

Method and apparatus for supporting and cleaning a polishing pad for chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20010019937A1. Автор: Jason Elledge. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-06.

Method and apparatus for endpointing mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6046111A. Автор: Karl M. Robinson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-04-04.

Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6210257B1. Автор: David W. Carlson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-04-03.

Methods and apparatuses for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6520834B1. Автор: Brian Marshall. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-02-18.

Methods and apparatuses for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6974364B2. Автор: Brian Marshall. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-12-13.

Methods and apparatuses for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20060160470A1. Автор: Brian Marshall. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-07-20.

Methods for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US7182668B2. Автор: Brian Marshall. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-02-27.

Methods and apparatuses for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20030096559A1. Автор: Brian Marshall. Владелец: Brian Marshall. Дата публикации: 2003-05-22.

Method and apparatus for supporting a polishing pad during chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20010006879A1. Автор: Michael Walker,Karl Robinson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-05.

Apparatus and method for conditioning and monitoring media used for chemical-mechanical planarization

Номер патента: EP1222056A1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-07-17.

Polishing pads and planarizing machines for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies, and methods for making and using such pads and machines

Номер патента: US6361832B1. Автор: Scott G. Meikle,Vishnu K. Agarwal. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

Planarizing pads, planarizing machines, and methods for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6428386B1. Автор: Aaron T. Bartlett. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-08-06.

Polishing pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20030027500A1. Автор: David James,Peter Burke,Arun Vishwanathan,David Shidner,Lee Cook. Владелец: David Shidner. Дата публикации: 2003-02-06.

Method and apparatus for measuring a change in the thickness of polishing pads used in chemical-mechanical planarization of semiconductor wafers

Номер патента: US5609718A. Автор: Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1997-03-11.

Method and apparatus for improved chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1799402A1. Автор: Rajeev Bajaj. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-06-27.

Method for analyzing effective polishing frequency and effective polishing times for chemical mechanical planarization polishing wafers with different polishing pad profiles

Номер патента: US20060240745A1. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2006-10-26.

Method for analyzing effective polishing frequency and effective polishing times for chemical mechanical planarization polishing wafers with different polishing pad profiles

Номер патента: US7299107B2. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2007-11-20.

Endpoint detection apparatus, planarizing machines with endpointing apparatus, and endpointing methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6206754B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-03-27.

Apparatus for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies and methods for making and using same

Номер патента: US6213845B1. Автор: Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-04-10.

Methods for predicting polishing parameters of polishing pads, and methods and machines for planarizing microelectronic substrate assemblies in mechanical or chemical-mechanical planarization

Номер патента: US6350180B2. Автор: Scott A. Southwick. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-02-26.

Planarizing machines and alignment systems for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6447369B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-09-10.

Planarizing machines and control systems for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of micro electronic substrates

Номер патента: US6609947B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-08-26.

Endpoint detection apparatus, planarizing machines with endpointing apparatus, and endpointing methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-substrate assemblies

Номер патента: US6364746B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-04-02.

Endpoint detection apparatus, planarizing machines with endpointing apparatus, and endpointing methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6234878B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-05-22.

Planarizing machines and methods for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6833046B2. Автор: David Q. Wright. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-12-21.

Planarizing machines and control systems for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6922253B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-07-26.

Apparatuses for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6986700B2. Автор: Vishnu K. Agarwal. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-01-17.

Apparatuses and methods for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US7229338B2. Автор: Vishnu K. Agarwal. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-06-12.

Planarizing machines and methods for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20020069967A1. Автор: David Wright. Владелец: Wright David Q.. Дата публикации: 2002-06-13.

Chemical mechanical planarization process control utilizing in-situ conditioning process

Номер патента: EP1708848B1. Автор: Yuzhuo Li,Stephen J. Benner. Владелец: TBW Industries Inc. Дата публикации: 2009-03-18.

Method for Manufacturing Conditioner for Chemical Mechanical Planarization Pad and Conditioner for Chemical Mechanical Planarization Pad

Номер патента: KR100889288B1. Автор: 이주한,윤소영,방준석. Владелец: 이화다이아몬드공업 주식회사. Дата публикации: 2009-03-17.

Polishing pads and planarizing machines for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US20010029157A1. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Dinesh Chopra. Дата публикации: 2001-10-11.

Method and apparatus for releasably attaching polishing pads to planarizing machines in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6439970B1. Автор: Michael A. Walker. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-08-27.

Carrier heads, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20050266778A1. Автор: Daniel Custer,Aaron Ward. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-12-01.

Chemical mechanical planarization process control utilizing in-situ conditioning process

Номер патента: WO2005072332A2. Автор: Yuzhuo Li,Stephen J. Benner. Владелец: Tbw Industries, Inc.. Дата публикации: 2005-08-11.

Methods for predicting polishing parameters of polishing pads, and methods and machines for planarizing microelectronic substrate assemblies in mechanical or chemical-mechanical planarization

Номер патента: US20010044257A1. Автор: Scott Southwick. Владелец: Southwick Scott A.. Дата публикации: 2001-11-22.

Planarizing machines and control systems for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20040012795A1. Автор: Scott Moore. Владелец: Moore Scott E.. Дата публикации: 2004-01-22.

Apparatus for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies and methods for making and using same

Номер патента: US20010044261A1. Автор: Jason Elledge. Владелец: Elledge Jason B.. Дата публикации: 2001-11-22.

Semiconductor wafer chemical-mechanical planarization process monitoring and end-point detection method and apparatus

Номер патента: US6910942B1. Автор: Jianshe Tang,David A. Dornfeld. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2005-06-28.

BPSG chemical mechanical planarization process control for production control and cost savings

Номер патента: US6712669B1. Автор: Chin-Chu Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2004-03-30.

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING MACHINE AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS COMPRISING THE SAME

Номер патента: US20130130601A1. Автор: Lu Xinchun,Xu Zhenjie,He Yongyong,Wang Tongqing,Shen Pan,Zhao Dewen,Mei Hegeng,Zhang Lianqing,Pei Zhaohui,Luo Jianbin. Владелец: . Дата публикации: 2013-05-23.

CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING PAD AND CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING METHOD

Номер патента: US20130189907A1. Автор: HOSAKA Yukio,OKAMOTO Takahiro,Kubo Kotaro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-07-25.

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD USING SAME

Номер патента: US20130316621A1. Автор: NISHIGUCHI Naoki,Shida Hirotaka,OKAMOTO Takahiro,Kubo Kotaro,Kamo Satoshi,Maekawa Ayako. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-11-28.

POLISHING PAD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS FOR POLISHING A WORKPIECE, AND METHOD OF POLISHING A WORKPIECE USING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS

Номер патента: US20140004772A1. Автор: ITO Kenya,ISHII Yu,TAKAHASHI Shozo,SUZUKI Mika. Владелец: EBARA CORPORATION. Дата публикации: 2014-01-02.

POLYURETHANE, COMPOSITION FOR FORMATION OF POLISHING LAYERS THAT CONTAINS SAME, PAD FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD USING SAME

Номер патента: US20140223832A1. Автор: OKAMOTO Takahiro,KUWABARA Rikimaru. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2014-08-14.

POLISHING HEAD IN CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20140242886A1. Автор: SHIN Sung Ho,WOO Chang Gyu,NAM Joo Yeop,CHO Ki Hong. Владелец: Samsung Electronics., Ltd.. Дата публикации: 2014-08-28.

METHOD TO SOLVE POTENTIAL YIELD LOSS DUE TO METAL MIGRATION TO WIRE ROUTING NETS FROM FIDUCIARY MARKS ON PRODUCT DURING CHEMICAL-MECHANICAL-POLISHING (CMP) PLANARIZATION PROCESSING STEPS

Номер патента: US20120326278A1. Автор: . Владелец: EXAR CORPORATION. Дата публикации: 2012-12-27.

ENDPOINT CONTROL DURING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING BY DETECTING INTERFACE BETWEEN DIFFERENT LAYERS THROUGH SELECTIVITY CHANGE

Номер патента: US20120003759A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Chemical - mechanical polishing method

Номер патента: RU2305621C1. Автор: Владимир Николаевич Хмелёв,Андрей Викторович Шалунов,Роман Владиславович Барсуков,Сергей Николаевич Цыганок,Алексей Николаевич Сливин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова" (АлтГТУ). Дата публикации: 2007-09-10.

METAL CONDUCTOR CHEMICAL MECHANICAL POLISH

Номер патента: US20120001262A1. Автор: Yang Chi-Ming,Lin Chin-Hsiang,Jeng Shwang-Ming,Kang Huang Soon,Kuo Han-Hsin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Dicationic polymer and copolymer and their use for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024129383A1. Автор: Gregor Larbig,Sana MA. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-06-20.

Method of determining chemical transfer coefficient and chemical diffusion coefficient of oxygen in oxide materials

Номер патента: RU2560141C1. Автор: Максим Васильевич Ананьев,Вадим Анатольевич Ерёмин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт высокотемпературной электрохимии Уральского отделения Российской академии наук. Дата публикации: 2015-08-20.

Multifunction device to analyse physical-and-chemical properties of semiconductors, dielectrics and insulating materials

Номер патента: RU2348045C1. Автор: Виктор Михайлович Тимохин. Владелец: ФГОУ ВПО "Морская государственная академия имени адмирала Ф.Ф. Ушакова". Дата публикации: 2009-02-27.

Method of determining physical and chemical properties of multi-component hydrocarbon systems

Номер патента: RU2560709C2. Автор: Михаил Юрьевич Доломатов,Дарья Олеговна Шуляковская,Милана Михайловна Долматова. Владелец: Милана Михайловна Долматова. Дата публикации: 2015-08-20.

Diagnostic technique for combined effect of aromatic hydrocarbons, olefin oxides and mixture thereof on petrochemical and chemical workers

Номер патента: RU2488827C1. Автор: Ахат Бариевич Бакиров,Гульнара Галимяновна Бадамшина,Лилия Казымовна Каримова,Гульнара Вильевна Тимашева,Дина Фаритовна Гизатуллина. Владелец: Федеральное бюджетное учреждение науки "Уфимский научно-исследовательский институт медицины труда и экологии человека". Дата публикации: 2013-07-27.

Method of making chemical electrically driven pump unit and chemical electrically driven pump unit thus made

Номер патента: RU2505712C1. Автор: Сергей Георгиевич Валюхов,Сергей Владимирович Печкуров,Николай Павлович Селиванов,Владимир Владимирович Касимцев,Наталья Владимировна Косякова. Владелец: Открытое акционерное общество "ЭНТЕХНО". Дата публикации: 2014-01-27.

Method of producing spherical granules of refractory and chemically active metals and alloys, device to this end and device to fabricate initial consumable billet to implement said method

Номер патента: RU2413595C2. Автор: Сергей Викторович Агеев,Юрий Петрович Москвичев. Владелец: Сергей Викторович Агеев. Дата публикации: 2011-03-10.

Formulation and chemical composition of a high efficacy disinfectant against avian influenza h5n1 virus

Номер патента: SG155814A1. Автор: Cheng KIT YEW. Владелец: Cheng KIT YEW. Дата публикации: 2009-10-29.

Alloy for oxidation and chemical plugging of liquid steel

Номер патента: RU2336352C2. Автор: Владислав Владиславович Климанчук,Борис Федорович Белов,Александр Алексеевич Ларионов,Виктор Данилович Шепель,Петр Михайлович Семенченко,Анатолий Иванович Троцан,Игорь Валерьевич Паренчук,Владимир Петрович Синельников,Александр Васильевич Ватлецов,Борис Владимирович Небога,Петр Петрович Харлашин. Владелец: Открытое акционерное общество "Мариупольский металлургический комбинат имени Ильича". Дата публикации: 2008-10-20.

Device for the physical and chemical processing of the fluid medium

Номер патента: RU2442641C1. Автор: Виктор Михайлович Червяков,Леонид Петрович Холпанов,Сергей Владимирович Мищенко,Дмитрий Анатольевич Баранов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тамбовский государственный технический университет" (ГОУ ВПО ТГТУ). Дата публикации: 2012-02-20.

Process of thermal and chemical treatment of face zone of pool

Номер патента: RU2165011C1. Автор: В.Н. Манырин,Г.Н. Позднышев,А.Н. Досов. Владелец: Позднышев Геннадий Николаевич. Дата публикации: 2001-04-10.

System for chlorine-free and chemical-free swimming pool filtration, sterilization and ionization

Номер патента: PH22016000112Y1. Автор: Rodrigo P Duque. Владелец: Rodrigo Pagar Duque. Дата публикации: 2016-03-16.

Differential massive calorimeter and method of determining heat of adsorption and chemical reactions of gases

Номер патента: RU2454641C1. Автор: Владимир Владимирович Чесноков,Дмитрий Владимирович Чесноков,Владимир Владимирович Чесноков (RU),Дмитрий Владимирович Чесноков (RU). Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирская государственная геодезическая академия" (ГОУ ВПО "СГГА"). Дата публикации: 2012-06-27.

Apparatus for cleaning and chemical metallisation of openings in printed-circuit board workpieces

Номер патента: RU2573596C1. Автор: Леонид Викторович Воронцов,Ринат Шаукатович Тахаутдинов,Юлия Сергеевна Боброва. Владелец: Акционерное общество "Концерн радиостроения "Вега". Дата публикации: 2016-01-20.

Method of steam and chemical cleaning and passivation of surfaces of metal pipes

Номер патента: RU2557155C1. Автор: Евгений Михайлович Марченко,Александр Николаевич Полевич,Юрий Евгеньевич Мишенин. Владелец: Юрий Евгеньевич Мишенин. Дата публикации: 2015-07-20.

Method for preparing and chemical processing of fluoroplastic components before adhesive bonding

Номер патента: RU2539597C1. Автор: Галина Рудольфовна Куликова,Екатерина Анатольевна Медникова. Владелец: Открытое акционерное общество "Завод им. В.А. Дегтярева". Дата публикации: 2015-01-20.

Installation for producing powders of metals, alloys and chemical compounds by electric explosion of wire

Номер патента: RU2247631C1. Автор: А.П. Ильин,О.Б. Назаренко,Д.В. Тихонов. Владелец: Государственное научное учреждение "Научно-исследовательский институт высоких напряжений при Томском политехническом университете". Дата публикации: 2005-03-10.

Method for obtaining isotope variety of elementary germanium with high isotope and chemical purity

Номер патента: RU2641126C2. Автор: Сергей Михайлович Зырянов,Михаил Федорович Чурбанов,Андрей Дмитриевич Буланов,Владимир Александрович Гавва,Евгений Андреевич Козырев,Иван Александрович Андрющенко,Виктор Анатольевич Липский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт химии высокочистых веществ им. Г.Г. Девятых Российской академии наук (ФГБУН ИХВВ РАН). Дата публикации: 2018-01-16.

Method of electric erosion and chemical treatment of parts with dielectric coatings

Номер патента: RU2522975C1. Автор: Сергей Викторович Алексеев,Виктор Васильевич Морозов,Валерий Александрович Гейкин,Владимир Иванович Ливурдов,Геннадий Сафронович Мухаметов. Владелец: Российская Федерация от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли (Минпромторг России). Дата публикации: 2014-07-20.

Electroplating and chemical-treatment transfer lines

Номер патента: RU2123071C1. Автор: В.П. Иванов. Владелец: Иванов Валерий Прокопьевич. Дата публикации: 1998-12-10.

Rope-cable with light-weight plastic core to handle cargoes and chemical reagents in oil and gas wells

Номер патента: RU2372431C2. Автор: Масхут Кутдусович Камалутдинов,Геннадий Васильевич Шеметов,Хаким Мидхатович Биктимиров,Ильдар Масхутович Камалутдинов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственный центр "Гальва". Дата публикации: 2009-11-10.

Method to produce controlled atmosphere for thermal and chemical thermal treatment of pieces

Номер патента: RU2048599C1. Автор: Петр Павлович Емельянов. Владелец: Петр Павлович Емельянов. Дата публикации: 1995-11-20.

Improvements in Apparatus for Heating, Steaming and Chemically treating Wood, and Goods of Different Kinds, and for Drying such Goods.

Номер патента: GB190606681A. Автор: Charles Mcwhirter. Владелец: Individual. Дата публикации: 1906-10-04.

Formulation and chemical composition of a high efficacy disinfectant against avian influenza h5n1 virus.

Номер патента: SG182136A1. Автор: Kit Yew Cheng. Владелец: Kit Yew Cheng. Дата публикации: 2012-07-30.

System for chlorine-free and chemical-free swimming pool filtration, sterilization and ionization

Номер патента: PH22016000112U1. Автор: Rodrigo P Duque. Владелец: Rodrigo P Duque. Дата публикации: 2016-03-16.

COMPOSITION FOR ADVANCED NODE FRONT-AND BACK-END OF LINE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING

Номер патента: US20120003901A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Composition of multi-functional reagent for physical and chemical advanced recovery methods (arm)

Номер патента: RU2529975C1. Автор: Михаил Александрович Силин,Любовь Абдулаевна Магадова,Валерий Рашидович Магадов,Николай Михайлович Николаев,Валерий Борисович Карпов,Виктор Иванович Дарищев,Владимир Борисович Губанов,Валерий Иванович Кокорев,Кира Анатольевна Потешкина,Сергей Анатольевич Харланов,Денис Геннадьевич Филенко. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Российский государственный университет нефти и газа имени И.М. Губкина". Дата публикации: 2014-10-10.

Pharmaceutical composition for treating alcoholism, drug addiction and chemical abuse with improved naltrexone release profile

Номер патента: RU2471478C1. Автор: Станислав Анатольевич Кедик,Алексей Валерьевич Панов,Константин Викторович Алексеев,Евгения Викторовна Блынская,Максим Дмитриевич Сапельников,Василий Викторович Суслов,Елизавета Александровна Петрова,Наталья Викторовна Тихонова. Владелец: Станислав Анатольевич Кедик. Дата публикации: 2013-01-10.

Method of thearmal treatment and chemical-thearmal method of steel products processing in vacuum

Номер патента: RU2324001C1. Автор: Камиль Нуруллаевич Рамазанов,Владимир Васильевич Будилов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Уфимский государственный авиационный технический университет. Дата публикации: 2008-05-10.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: MY137114A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Chemical mechanical polishing pad having wave-shaped grooves

Номер патента: MY137105A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha,Hwang In-Ju. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Composition for protection of products from natural and artificial smooth and pile leather against action of water and water solutions of de-icing reagents

Номер патента: RU2553652C1. Автор: Михаил Юрьевич Плетнев,Борис Владимирович Покидько. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ЮПЕКО". Дата публикации: 2015-06-20.

Slurry composition for use in chemical mechanical polishing of metal wiring

Номер патента: MY140033A. Автор: Hyun Soo Roh,Kil Sung Lee,Jae Seok Lee,Chang Ki Hong,Bo Un Yoon,Won Joong Do,Jong Won Lee,Sang Rok Hah,Joon Sang Park. Владелец: Cheil Ind Inc. Дата публикации: 2009-11-30.

Leverage to provide extension of different appliances through well having smooth and uneven surfaces (variants)

Номер патента: RU2287058C2. Автор: Хулио К. ГЕРРЕРО. Владелец: Шлюмбергер Текнолоджи Б.В.. Дата публикации: 2006-11-10.

Apparatus in a paper machine for improving the smoothness and gloss of the paper or cardboard surface

Номер патента: CA1042694A. Автор: Matti Kankaanpaa. Владелец: Valmet Oy. Дата публикации: 1978-11-21.

Improvements in Tobacco-leaf Smoothing and Flattening Machines.

Номер патента: GB190200138A. Автор: Edward Quester. Владелец: Individual. Дата публикации: 1902-03-20.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, polishing method for chemical mechanical polishing aqueous dispersion, and chemical mechanical polishing method for polishing a wiring layer made of copper or copper alloy provided on a substrate for an electro-optical display device

Номер патента: JP5263484B2. Автор: 和男西元,智隆篠田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-08-14.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, method for producing chemical mechanical polishing aqueous dispersion, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JP5288097B2. Автор: 和男西元,智隆篠田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-09-11.

Process of manufacturing semi-chemical and chemical-mechanical fibre pulp

Номер патента: AU412126B2. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1967-10-05.

Process of manufacturing semi-chemical and chemical-mechanical fiber pulp

Номер патента: CA795236A. Автор: S. Groth Bertil. Владелец: Defibrator AB. Дата публикации: 1968-09-24.

Process of manufacturing semi-chemical and chemical-mechanical fibre pulp

Номер патента: AU370266A. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1967-10-05.

Chemical Mechanical Planarization Processes For Fabrication of FINFET Devices

Номер патента: US20120083123A1. Автор: Chang Josephine B.,Guillorn Michael A.,Krishnan Mahadevaiyer,Lofaro Michael F.,Konno Tomohisa,Yamanaka Tatsuya,Cummings Jason E.,Koli Dinesh R.,Noda Masahiro,Charns Leslie,Hupka Lukasz J.,Nalaskowski Jakub W.,Penigalapati Dinesh K.. Владелец: . Дата публикации: 2012-04-05.

METHOD FOR IMPROVING WITHIN DIE UNIFORMITY OF METAL PLUG CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION PROCESS IN GATE LAST ROUTE

Номер патента: US20120178255A1. Автор: Zhao Chao,Yang Tao,Li Junfong. Владелец: . Дата публикации: 2012-07-12.

CONTACT OR VIA CRITICAL DIMENSION CONTROL WITH NOVEL CLOSED LOOP CONTROL SYSTEM IN CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION PROCESS

Номер патента: US20130241075A1. Автор: Su Chin-Ta,Chen Chun-Fu,HUNG Yung-Tai,Yeh Chin-Tsan. Владелец: MACRONIX INTERNATIONAL CO., LTD.. Дата публикации: 2013-09-19.

Method for improving uniformity of chemical-mechanical planarization process at top of opened polycrystal gratings

Номер патента: CN102543714B. Автор: 杨涛,赵超,陈大鹏. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2015-02-25.

POLYURETHANE, COMPOSITION FOR FORMATION OF POLISHING LAYERS THAT CONTAINS SAME, PAD FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD USING SAME

Номер патента: US20120083187A1. Автор: OKAMOTO Takahiro,KUWABARA Rikimaru. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2012-04-05.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, method for producing the same, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JP5413568B2. Автор: 和一内倉,裕貴仕田,翔窪内. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-02-12.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, method for preparing the dispersion, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JP5447789B2. Автор: 淳馬場,智久金野,清信窪田,直希西口. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-03-19.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, method for producing the same, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JP5333742B2. Автор: 裕貴仕田,民智明安藤,彰浩竹村,崇文清水. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-11-06.

Chemical mechanical polishing aqueous dispersion, method for producing the same, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JP5333740B2. Автор: 和一内倉,裕貴仕田,民智明安藤,正俊池田. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-11-06.

Composition for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JP6938910B2. Автор: 英一郎國谷,山田　裕也,昌宏野田,裕也山田,康平西村,恭兵渋谷. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-09-22.

GERMANIUM SMOOTHING AND CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION PROCESSES

Вам могут быть интересны следующие патенты

Главная

Проекты и услуги

Контакты