CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SLURRY AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PROCESS USING THE SAME
Номер патента: US20190359859A1
Опубликовано: 28-11-2019
Автор(ы): LIANG WEI-WEI
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 28-11-2019
Автор(ы): LIANG WEI-WEI
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Electrochemical-mechanical polishing composition and method for using the same
Номер патента: WO2005118736A1. Автор: Jian Zhang,David Schroeder,Vlasta Brusic,Michael Richardson. Владелец: Cabot Microelectronics Corporation. Дата публикации: 2005-12-15.