LIGHT SOURCE AND PHOTOLITHOGRAPHY APPARATUS CONTAINING THE SAME, CALIBRATING APPARATUS AND METHOD
Номер патента: US20160116332A1
Опубликовано: 28-04-2016
Автор(ы): Wu Qiang, YUE LIWAN
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 28-04-2016
Автор(ы): Wu Qiang, YUE LIWAN
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Light source and photolithography apparatus containing the same, calibrating apparatus and method
Номер патента: US20160116332A1. Автор: Qiang Wu,Liwan Yue. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2016-04-28.