Method for an improved chemical mechanical polishing system
Номер патента: US20100041316A1
Опубликовано: 18-02-2010
Автор(ы): Alpay Yilmaz, Roy Nangoy, Yulin Wang
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 18-02-2010
Автор(ы): Alpay Yilmaz, Roy Nangoy, Yulin Wang
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for an improved chemical mechanical polishing system
Номер патента: WO2010019339A2. Автор: Yulin Wang,Alpay Yilmaz,Roy Nangoy. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-02-18.