Semiconductor device and manufacturing method of semiconductor device
Номер патента: US9123739B2
Опубликовано: 01-09-2015
Автор(ы): Hironobu Miyamoto, Takashi Inoue, Tatsuo Nakayama, Yasuhiro Okamoto
Принадлежит: Renesas Electronics Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-09-2015
Автор(ы): Hironobu Miyamoto, Takashi Inoue, Tatsuo Nakayama, Yasuhiro Okamoto
Принадлежит: Renesas Electronics Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of manufacturing a semiconductor device including a gate electrode on a protruding group III-V material layer
Номер патента: US09666706B2. Автор: Young-Jin Cho,Sang-Moon Lee,Ki-ha Hong,Kyoung-Yeon Kim,Eui-chul HWANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-05-30.