Method of making a semiconductor device using a dummy gate
Номер патента: US20180261674A1
Опубликовано: 13-09-2018
Автор(ы): Nicolas Loubet, Prasanna Khare
Принадлежит: STMicroelectronics lnc USA
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 13-09-2018
Автор(ы): Nicolas Loubet, Prasanna Khare
Принадлежит: STMicroelectronics lnc USA
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Methods of Forming Epitaxial Source/Drain Feautures in Semiconductor Devices
Номер патента: US20210202699A1. Автор: Yen-Ming Chen,Feng-Cheng Yang,Wei-Yang Lee,Tzu-Hsiang HSU,Ting-Yeh Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-01.