光刻胶清洗剂及半导体基板上光刻胶的清洗方法
Номер патента: CN111103770A
Опубликовано: 05-05-2020
Автор(ы): 王世哲
Принадлежит: SAE Technologies Development Dongguan Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 05-05-2020
Автор(ы): 王世哲
Принадлежит: SAE Technologies Development Dongguan Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
A method for the removal of an imaging layer from a semiconductor substrate stack
Номер патента: WO2004027518A3. Автор: John Biafore,Tim S Andreyka,Karin Schlicht,Mario Reybrouck. Владелец: Arch Spec Chem Inc. Дата публикации: 2004-12-09.