Co-integrated channel and gate formation scheme for nanosheet transistors having separately tuned threshold voltages
Номер патента: US10692866B2
Опубликовано: 23-06-2020
Автор(ы): Alexander Reznicek, ChoongHyun Lee, Jingyun Zhang, Pouya Hashemi, Takashi Ando
Принадлежит: International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 23-06-2020
Автор(ы): Alexander Reznicek, ChoongHyun Lee, Jingyun Zhang, Pouya Hashemi, Takashi Ando
Принадлежит: International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Co-integrated channel and gate formation scheme for nanosheet transistors having separately tuned threshold voltages
Номер патента: US11830877B2. Автор: Takashi Ando,Pouya Hashemi,Alexander Reznicek,ChoongHyun Lee,Jingyun Zhang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-11-28.