Vertical fet replacement gate formation with variable fin pitch
Номер патента: WO2023040470A1
Опубликовано: 23-03-2023
Автор(ы): Andrew M. Greene, Ruilong Xie, Veeraraghavan S. Basker, Yao Yao
Принадлежит: Ibm (China) Co., Limited, INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 23-03-2023
Автор(ы): Andrew M. Greene, Ruilong Xie, Veeraraghavan S. Basker, Yao Yao
Принадлежит: Ibm (China) Co., Limited, INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Self-aligned block for vertical FETs
Номер патента: US12009395B2. Автор: Alexander Reznicek,ChoongHyun Lee,Ruilong Xie,Junli Wang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-06-11.