Positive type photosensitive resin composition
Номер патента: KR100914063B1
Опубликовано: 28-08-2009
Автор(ы): 유용식, 이길성, 정두영, 정지영, 조현용
Принадлежит: 제일모직주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 28-08-2009
Автор(ы): 유용식, 이길성, 정두영, 정지영, 조현용
Принадлежит: 제일모직주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Positive type photosensitive siloxane composition and cured film using the same
Номер патента: US20200225583A1. Автор: Toshiaki Nonaka,Megumi Takahashi,Naofumi Yoshida,Seishi SHIBAYAMA,Katsuto Taniguchi. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2020-07-16.