PROCESS BASED METROLOGY TARGET DESIGN
Номер патента: US20160140267A1
Опубликовано: 19-05-2016
Автор(ы): BAI Shufeng, BIJLSMA Jan Wouter, CHEN Guangqing, KENT Eric Richard, LU Yen-Wen, TUFFY Paul Anthony, WANG Jen-Shiang, Zhang Youping, ZWARTJES Gertjan
Принадлежит: ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 19-05-2016
Автор(ы): BAI Shufeng, BIJLSMA Jan Wouter, CHEN Guangqing, KENT Eric Richard, LU Yen-Wen, TUFFY Paul Anthony, WANG Jen-Shiang, Zhang Youping, ZWARTJES Gertjan
Принадлежит: ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Process based metrology target design
Номер патента: US20180268093A1. Автор: Jen-Shiang Wang,Youping Zhang,Guangqing Chen,Shufeng Bai,Eric Richard KENT,Jan Wouter BIJLSMA,Yen-Wen Lu,Paul Anthony TUFFY,Gertjan ZWARTJES. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-09-20.