Oxygen-free etching of non-volatile metals
Номер патента: US20230420267A1
Опубликовано: 28-12-2023
Автор(ы): Aelan Mosden, Ivo Otto, IV, Qi Wang, Stephanie OYOLA-REYNOSO
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 28-12-2023
Автор(ы): Aelan Mosden, Ivo Otto, IV, Qi Wang, Stephanie OYOLA-REYNOSO
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Oxygen-free etching of non-volatile metals
Номер патента: WO2023230294A1. Автор: Qi Wang,Aelan Mosden,Stephanie OYOLA-REYNOSO,Ivo OTTO IV. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-11-30.