Methods for forming doped silicon oxide thin films
Номер патента: US20190172708A1
Опубликовано: 06-06-2019
Автор(ы): Antti Niskanen, Atsuki Fukazawa, Hideaki Fukuda, Kunitoshi Namba, Noboru Takamure, Ryu Nakano, Suvi Haukka
Принадлежит: ASM International NV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-06-2019
Автор(ы): Antti Niskanen, Atsuki Fukazawa, Hideaki Fukuda, Kunitoshi Namba, Noboru Takamure, Ryu Nakano, Suvi Haukka
Принадлежит: ASM International NV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Methods for forming doped silicon oxide thin films
Номер патента: US09875893B2. Автор: Antti Niskanen,Hideaki Fukuda,Atsuki Fukazawa,Suvi Haukka,Ryu Nakano,Kunitoshi Namba,Noboru Takamure. Владелец: ASM International NV. Дата публикации: 2018-01-23.