• Главная
  • Gradient oxidation and etch of pvd molybdenum for bottom up gap fill

Gradient oxidation and etch of pvd molybdenum for bottom up gap fill

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Bottom-up formation of contact plugs

Номер патента: US12131949B2. Автор: Chung-Liang Cheng,Yen-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Bottom-up formation of contact plugs

Номер патента: US12125747B2. Автор: Chung-Liang Cheng,Yen-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Bottom-up formation of contact plugs

Номер патента: US20240371691A1. Автор: Chung-Liang Cheng,Yen-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Bottom-up Formation of Contact Plugs

Номер патента: US20230386917A1. Автор: Chung-Liang Cheng,Yen-Yu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Seamless gap fill

Номер патента: US20210351074A1. Автор: WEI Liu,Srinivas Gandikota,Yixiong Yang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-11-11.

Interconnects based on subtractive etching of silver

Номер патента: US09911648B2. Автор: Eric A. Joseph,Hiroyuki Miyazoe,Brett C. Baker-O'Neal. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

Interconnects based on subtractive etching of silver

Номер патента: US09564362B2. Автор: Eric A. Joseph,Hiroyuki Miyazoe,Brett C. Baker-O'Neal. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-02-07.

Bottom-up metal nitride formation

Номер патента: US12068164B2. Автор: Eric James Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-20.

Gap-fill with aluminum-containing films

Номер патента: US12018363B2. Автор: Jeffrey W. Anthis,Mark Saly,Lakmal C. Kalutarage,Tatsuya E. Sato. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Methods and apparatus for tungsten gap fill

Номер патента: WO2023075872A1. Автор: Wei Lei. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-05-04.

Low temperature flowable vanadium oxide gap fill

Номер патента: US20230357924A1. Автор: Petri Raisanen,Qi Xie,Eric James Shero,Charles DEZELAH,Perttu Sippola,Ren-Jie Chang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-11-09.

Method for removing native oxide and associated residue from a substrate

Номер патента: US20130316533A1. Автор: Arvind Sundarrajan,Bo Zheng,Xinyu Fu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-11-28.

Oxidation and Etching Post Metal Gate CMP

Номер патента: US20170125549A1. Автор: Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Shich-Chang Suen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-04.

Oxidation and etching post metal gate CMP

Номер патента: US09917173B2. Автор: Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Shich-Chang Suen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.

Oxidation and etching post metal gate CMP

Номер патента: US09564511B2. Автор: Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Shich-Chang Suen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Electrolyte comprising an accelerator agent for bottom-up copper electroplating

Номер патента: WO2023194802A1. Автор: Mikaïlou Thiam,Louis Caillard,Hermine Marie BERTHON,Yeeseul KIM. Владелец: Aveni. Дата публикации: 2023-10-12.

Method of forming and etching titanium-tungsten interconnects

Номер патента: US5164331A. Автор: Leuh Fang,Jung Lin,Warren M. Uesato. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 1992-11-17.

Reduced cracking in gap filling dielectrics

Номер патента: US5990558A. Автор: Khanh Tran. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 1999-11-23.

Gap fill void and connection structures

Номер патента: US20200235002A1. Автор: Guoxiang Ning,Paul Ackmann,Haigou Huang,Yuping REN. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2020-07-23.

Gap fill void and connection structures

Номер патента: US20210134658A1. Автор: Guoxiang Ning,Paul Ackmann,Haigou Huang,Yuping REN. Владелец: GlobalFoundries US Inc. Дата публикации: 2021-05-06.

Slit oxide and via formation techniques

Номер патента: US11764147B2. Автор: Hongqi Li,Kaushik Varma Sagi,Manzar Siddik. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Chip and method for self-aligned etching of contacts of chips

Номер патента: US20220102524A1. Автор: Dong Zhang,Peng Huang,Shaojun Sun. Владелец: Hua Hong Semiconductor Wuxi Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-31.

Slit oxide and via formation techniques

Номер патента: US20220020685A1. Автор: Hongqi Li,Kaushik Varma Sagi,Manzar Siddik. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2022-01-20.

Multi-step process for flowable gap-fill film

Номер патента: US20240128121A1. Автор: Nikolaos Bekiaris,Srinivas D. Nemani,Maximillian Clemons. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Multi-step process for flowable gap-fill film

Номер патента: US11901222B2. Автор: Nikolaos Bekiaris,Srinivas D. Nemani,Maximillian Clemons. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

Etching of silicon oxide film

Номер патента: US20080254636A1. Автор: Shigeki Tozawa,Yusuke Muraki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-10-16.

Solution based etching of titanium carbide and titanium nitride structures

Номер патента: US09831100B2. Автор: Muthumanickam Sankarapandian,John Foster,Sean Lin,Ruilong Xie. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Tin hard mask and etch residue removal

Номер патента: MY173184A. Автор: Chen Tianniu,LEE Yi-Chia,Jack Casteel William Jr,Dar Liu Wen,Bhaskara Rao Madhukar,Krishan Agarwal Rajiv. Владелец: Versum Mat Us Llc. Дата публикации: 2020-01-02.

A method for si gap fill by pecvd

Номер патента: WO2019173624A1. Автор: Xin Liu,Fei Wang,Robert Jan Visser,Abhijit Basu Mallick,Rui CHENG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-09-12.

A method for si gap fill by pecvd

Номер патента: US20200411371A1. Автор: Xin Liu,Fei Wang,Robert Jan Visser,Abhijit Basu Mallick,Rui CHENG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-12-31.

Method for Si gap fill by PECVD

Номер патента: US11848232B2. Автор: Xin Liu,Fei Wang,Robert Jan Visser,Abhijit Basu Mallick,Rui CHENG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-19.

Anisotropic dry etching of cu-containing layers

Номер патента: WO2004003256A1. Автор: Lee Chen,Audunn Ludviksson. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2004-01-08.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US09396968B2. Автор: Kazuhiro Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US8283254B2. Автор: Takahito Mukawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-10-09.

Selective film formation for raised and recessed features using deposition and etching processes

Номер патента: US20190080919A1. Автор: Kandabara N. Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-14.

Methods for forming gap-filling materials and related apparatus and structures

Номер патента: US20240222190A1. Автор: Timothee Blanquart,Jihee Jeon. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-04.

High integrity borderless vias with hsq gap filled patterned conductive layers

Номер патента: EP1040513A1. Автор: LU You,Simon S. Chan,Richard J. Huang,Khanh Tran. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-10-04.

High integrity borderless vias with hsq gap filled patterned conductive layers

Номер патента: WO1999031725A1. Автор: LU You,Simon S. Chan,Richard J. Huang,Khanh Tran. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 1999-06-24.

Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices

Номер патента: US11776846B2. Автор: Timothee Blanquart. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-10-03.

Stud formation method optimizing insulator gap-fill and metal hole-fill

Номер патента: US4758306A. Автор: Carter W. Kaanta,John E. Cronin. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1988-07-19.

Defect free germanium oxide gap fill

Номер патента: US11781218B2. Автор: Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,Bo QI,Huiyuan WANG,Takehito KOSHIZAWA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Defect free germanium oxide gap fill

Номер патента: US20230407468A1. Автор: Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,Bo QI,Huiyuan WANG,Takehito KOSHIZAWA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-21.

Defect free germanium oxide gap fill

Номер патента: WO2022125942A1. Автор: Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,Bo QI,Huiyuan WANG,Takehito KOSHIZAWA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-06-16.

Borderless vias with HSQ gap filled patterned metal layers

Номер патента: US6060384A. Автор: Robert Dawson,Khanh Tran,Robert C. Chen,Jeffrey A. Shields. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-05-09.

Conformal liner for gap-filling

Номер патента: US20080096364A1. Автор: LU You,Minh Tran,Robert Huertas,Erik Wilson,Minh-Van Ngo,Hieu Pham,Hirokazu Tokuno,Alexander Nickel. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2008-04-24.

Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices

Номер патента: US20240030064A1. Автор: Timothee Blanquart. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-25.

Methods and apparatuses for flowable gap fill

Номер патента: US20230399745A1. Автор: Makoto Igarashi,Shinya Yoshimoto,Ranjit Borude. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-12-14.

Focused ion beam process for selective and clean etching of copper

Номер патента: EP2470688A1. Автор: Vladimir V. Makarov. Владелец: Tiza Lab LLC. Дата публикации: 2012-07-04.

Focused ion beam process for selective and clean etching of copper

Номер патента: WO2011025770A1. Автор: Vladimir V. Makarov. Владелец: Tiza Lab, L.L.C.. Дата публикации: 2011-03-03.

Focused ion beam process for selective and clean etching of copper

Номер патента: SG178505A1. Автор: Vladimir V Makarov. Владелец: Tiza Lab L L C. Дата публикации: 2012-03-29.

Systems and methods for deposition of molybdenum for source/drain contacts

Номер патента: US20230298902A1. Автор: Dong Li,Petri Raisanen,Eric James Shero,Jiyeon Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-21.

Laser etching of semiconductors

Номер патента: US5486264A. Автор: Osman A. Ghandour. Владелец: Columbia University of New York. Дата публикации: 1996-01-23.

Plasma etching of porous substrates

Номер патента: US9595422B2. Автор: Mikhaïl Baklanov,Liping Zhang,Jean-Francois De Marneffe. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2017-03-14.

Methods for cyclic etching of a patterned layer

Номер патента: US20170243757A1. Автор: Vinayak Rastogi,Alok Ranjan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-24.

High aspect ratio gap fill using cyclic deposition and etch

Номер патента: WO2024044373A1. Автор: Takashi KURATOMI,Alexia Adilene PORTILLO RIVERA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-02-29.

Single platform, multiple cycle spacer deposition and etch

Номер патента: US09852916B2. Автор: Hao Chen,Srinivas D. Nemani,Ellie Y. Yieh,Chentsau (Chris) Ying. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Single platform, multiple cycle spacer deposition and etch

Номер патента: US20160307768A1. Автор: Hao Chen,Srinivas D. Nemani,Ellie Y. Yieh,Chentsau (Chris) Ying. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-20.

Preventing oxidation defects in strain-relaxed fins by reducing local gap fill voids

Номер патента: US09953879B1. Автор: Hoon Kim,Ruilong Xie,Chanro Park,Min Gyu Sung. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Methods for seamless gap filling of dielectric material

Номер патента: US11830728B2. Автор: Yijun Liu,Li-Qun Xia,Xianmin Tang,Bo Xie,Ruitong Xiong,Chengyu Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Lithography and etching process

Номер патента: US20020009865A1. Автор: Jain-Hon Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-24.

Preventing oxidation defects in strain-relaxed fins by reducing local gap fill voids

Номер патента: US20180096895A1. Автор: Hoon Kim,Ruilong Xie,Chanro Park,Min Gyu Sung. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-04-05.

Gap fill self planarization on post EPI

Номер патента: US09831307B2. Автор: Po-Chang Chen,Ding-I Liu,Po-Hsiung Leu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Controlled dry etch of a film

Номер патента: US7288476B2. Автор: Ronnie P. Varghese. Владелец: Avago Technologies General IP Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2007-10-30.

Semiconductor structure with a multilayer gate oxide and method of fabricating the same

Номер патента: US09406772B1. Автор: Shao-Wei Wang,Yu-Tung Hsiao,Shu-Ming Yeh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-08-02.

Methods of forming silicon-doped aluminum oxide, and methods of forming transistors and memory devices

Номер патента: US20020086556A1. Автор: Leonard Forbes,Kie Ahn. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-04.

Etching method, method of manufacturing article, and etching solution

Номер патента: US09701902B2. Автор: Yusaku Asano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Single-wafer etching method for wafer and etching apparatus thereof

Номер патента: MY147183A. Автор: Takeo Katoh,Tomohiro Hashii,Katsuhiko Murayama,Sakae Koyata,Kazushige Takaishi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2012-11-14.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20210090898A1. Автор: Satoshi TODA,Naoki Shindo,Ryo Kuwajima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-25.

Method and apparatus for multi-film deposition and etching in a batch processing system

Номер патента: US09831099B2. Автор: David L. O'Meara,Anthony Dip. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20190237332A1. Автор: KATSUNORI Tanaka,Hotaka Maruyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-08-01.

System for cleaning and etching

Номер патента: US5885403A. Автор: Wan-Li Cheng. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 1999-03-23.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20230290653A1. Автор: Masaki Inaba,Yuya Akanishi,Kazuki Nishihara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20230290644A1. Автор: Yuya Akanishi,Kazuki Nishihara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Apparatus and methods for pulsed photo-excited deposition and etch

Номер патента: WO2014149336A1. Автор: Stephen Moffatt. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-09-25.

Upstream process monitoring for deposition and etch chambers

Номер патента: US20240312812A1. Автор: Matan Lapidot,Shay Yaari. Владелец: Inficon Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Upstream process monitoring for deposition and etch chambers

Номер патента: EP4367713A1. Автор: Matan Lapidot,Shay Yaari. Владелец: Inficon Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Method for removing native oxide and residue from a iii-v group containing surface

Номер патента: US20170229303A1. Автор: Chun Yan,Xinyu Bao. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-10.

Method and system for high precision etching of substrates

Номер патента: US09881804B2. Автор: Merritt Funk,Jianping Zhao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Method for removing native oxide and residue from a III-V group containing surface

Номер патента: US09653291B2. Автор: Chun Yan,Xinyu Bao. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma etching of ni-containing materials

Номер патента: WO2003065419A3. Автор: Lee Chen. Владелец: Lee Chen. Дата публикации: 2003-11-13.

Method for removing native oxide and residue from a III-V group containing surface

Номер патента: US10438796B2. Автор: Chun Yan,Xinyu Bao. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-08.

Electromigration resistant patterned metal layer gap filled with HSQ

Номер патента: US6034420A. Автор: Khanh Tran. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-03-07.

Gap-fill for 3d nand staircase

Номер патента: US20220375870A1. Автор: Jung Chan LEE,Agus Tjandra,Ebony MAYS. Владелец: Intel NDTM US LLC. Дата публикации: 2022-11-24.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20210082709A1. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Plasma-assisted etching of metal oxides

Номер патента: US20220037163A1. Автор: Chan-Lon Yang,Keh-Jeng Chang,Chansyun David Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Plasma-Assisted Etching Of Metal Oxides

Номер патента: US20230386854A1. Автор: Chan-Lon Yang,Keh-Jeng Chang,Chansyun David Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Trimming silicon fin width through oxidation and etch

Номер патента: US09412603B2. Автор: Ying Zhang,Hua Chung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-09.

Low-pressure removal of photoresist and etch residue

Номер патента: WO2006073622A3. Автор: Eiichi Nishimura,Vaidyanathan Balasubramaniam,Masaaki Hagihara,Koichiro Inazawa. Владелец: Inazawa Rie. Дата публикации: 2006-11-09.

Directional selective fill for silicon gap fill processes

Номер патента: US20240234128A1. Автор: Srinivas D. Nemani,Qiang Ma,Bhargav S. CITLA,Biao Liu,Taiki Hatakeyama. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Directional selective fill for silicon gap fill processes

Номер патента: WO2024151423A1. Автор: Srinivas D. Nemani,Qiang Ma,Bhargav S. CITLA,Biao Liu,Taiki Hatakeyama. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-18.

Etching method and etching system

Номер патента: RU2332749C1. Автор: Ясухиро МОРИКАВА,Тосио ХАЯСИ,Коукоу СУУ. Владелец: Улвак, Инк.. Дата публикации: 2008-08-27.

Efficient cleaning and etching of high aspect ratio structures

Номер патента: US20240363355A1. Автор: Ji Zhu,Mark Kawaguchi,Nathan MUSSELWHITE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Electrolytic oxidation and etching of III-V compound semiconductors

Номер патента: US3898141A. Автор: Bertram Schwartz,Felix Ermanis. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1975-08-05.

Method for etching damaged zones on an edge of a semiconductor substrate, and etching system

Номер патента: US5945351A. Автор: Josef Mathuni. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1999-08-31.

Method for forming pattern of metal oxide and method for producing semiconductor element

Номер патента: US20240105466A1. Автор: Kazuma Matsui,Yuki Oka,Moe TANIWAKI. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11495468B2. Автор: Masanobu Honda,Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-08.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20210066089A1. Автор: Masanobu Honda,Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Gold or gold alloy etching solution composition and etching method

Номер патента: EP4283014A1. Автор: Yuki Yoshida,Koichi Inoue,Iori KAWASHIMA,Itsuki KASHIWAGI. Владелец: Kanto Chemical Co Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Silicon etchant and etching method

Номер патента: GB2474187A. Автор: Kazuyoshi Yaguchi,Ryuji Sotoaka. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2011-04-06.

Two stage etching of silicon nitride to form a nitride spacer

Номер патента: US20040175955A1. Автор: John Lee,Barbara Haselden. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2004-09-09.

Lateral gap fill

Номер патента: WO2023205284A1. Автор: Douglas Walter Agnew,Jennifer Leigh PETRAGLIA,Daniel Christopher MESSINA,Mary Waddington GRUMBLES. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-10-26.

Etching solution, additive, and etching method

Номер патента: US20200308485A1. Автор: Masaaki Hirakawa,Takahiro Kanai,lkuo UEMATSU. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2020-10-01.

Etching device and etching method

Номер патента: US20240242938A1. Автор: Hiroaki Inoue,Youhei Ono,Won-Yeong Kim,Kazuhiko Tonari,Jun-chang Park. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Method for nickel-assisted single-stage coating and etching of silicon strips

Номер патента: WO2018208249A2. Автор: Rasit Turan,Ashkan VAKILIPOOR,Fırat ES. Владелец: Es Firat. Дата публикации: 2018-11-15.

Solid state devices formed by differential plasma etching of resists

Номер патента: US4232110A. Автор: Gary N. Taylor. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1980-11-04.

Etching solution and etching method for gold or gold alloy

Номер патента: US20240076547A1. Автор: Yuki Yoshida,Koichi Inoue,Iori KAWASHIMA,Itsuki KASHIWAGI. Владелец: Kanto Chemical Co Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Selective etching of silicon nitride

Номер патента: WO2010042552A2. Автор: Mei Chang,Chien-Teh Kao,Zhenbin Ge,David T. Or,Nan Lu,Xinliang Lu,Haichun Yang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-04-15.

Method of Etching a device using a hard mask and etch stop layer

Номер патента: US20090166330A1. Автор: Gary Yama. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2009-07-02.

In-situ selective deposition and etching for advanced patterning applications

Номер патента: US20180330963A1. Автор: Kandabara N. Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-11-15.

Method of depositing and etching Si-containing film

Номер патента: US09960033B1. Автор: Toshihisa Nozawa. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-05-01.

Anisotropic wet etching of silicon

Номер патента: US20070231540A1. Автор: Tomoyasu Aoshima. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 2007-10-04.

Method of depositing and etching si-containing film

Номер патента: US20180182614A1. Автор: Toshihisa Nozawa. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-06-28.

Gap filling composition and pattern forming method using composition containing polymer

Номер патента: US20200319556A1. Автор: Tatsuro Nagahara,Xiaowei Wang. Владелец: AZ Electronic Materials SARL. Дата публикации: 2020-10-08.

Amorphous carbon for gap fill

Номер патента: US12062536B2. Автор: Xiaoquan MIN,Kwangduk D. Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-13.

Amorphous carbon for gap fill

Номер патента: US20240363332A1. Автор: Xiaoquan MIN,Kwangduk D. Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

A multistep chamber cleaning process using a remote plasma that also enhances film gap fill

Номер патента: EP1087437A3. Автор: Li-Qun Xia,Ellie Yieh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-06-07.

Method for residue-free anisotropic etching of aluminum and its alloys

Номер патента: WO2000029640A9. Автор: Jeffrey Stokes,Timothy R Webb,Savitha Nanjangud,Marlene Li. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-11-09.

Method of detecting an endpoint during etching of a material within a recess

Номер патента: US20030082919A1. Автор: Meihua Shen,Jeffrey Chinn,Wilfred Pau. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-05-01.

Reactor for plasma-based atomic layer etching of materials

Номер патента: US09620382B2. Автор: Gottlieb S. Oehrlein,Dominik Metzler. Владелец: UNIVERSITY OF MARYLAND AT COLLEGE PARK. Дата публикации: 2017-04-11.

Method for etching of sio2 layers on thin wafers

Номер патента: WO2013092759A2. Автор: Reiner Fischer,Marcello Riva,Gerd Walther. Владелец: SOLVAY SA. Дата публикации: 2013-06-27.

Method for etching of sio2 layers on thin wafers

Номер патента: WO2013092759A3. Автор: Reiner Fischer,Marcello Riva,Gerd Walther. Владелец: SOLVAY SA. Дата публикации: 2014-02-20.

Method for preventing excessive etching of edges of an insulator layer

Номер патента: US10249508B2. Автор: Xianchao WANG. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2019-04-02.

Methods of forming metal oxide and semimetal oxide

Номер патента: US20060024881A1. Автор: Eugene Marsh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-02.

Amorphous oxide and thin film transistor

Номер патента: US09947803B2. Автор: Hideo Hosono,Masahiro Hirano,Hiromichi Ota,Toshio Kamiya,Kenji Nomura. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2018-04-17.

Methods for high precision etching of substrates

Номер патента: US09768033B2. Автор: Alok Ranjan,Peter L. G. Ventzek,Mingmei Wang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Lateral electrochemical etching of III-nitride materials for microfabrication

Номер патента: US09583353B2. Автор: Jung Han. Владелец: YALE UNIVERSITY. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma etching with nitrous oxide and fluoro compound gas mixture

Номер патента: US4431477A. Автор: John Zajac. Владелец: Matheson Gas Products Inc. Дата публикации: 1984-02-14.

Method and apparatus for the etching of photomask substrates using pulsed plasma

Номер патента: EP1444726A1. Автор: David J. Johnson,Christopher Constantine,Shinzo Onishi. Владелец: Unaxis USA Inc. Дата публикации: 2004-08-11.

Vapor-phase etch of metal-containing materials

Номер патента: WO2024215408A1. Автор: NGUYEN Vu,Bhushan Zope,Martin MCBRIARTY. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-10-17.

Device fabrication by plasma etching of aluminum rich surfaces

Номер патента: CA1121306A. Автор: David N. Wang,Hyman J. Levinstein. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-04-06.

Method for the selective dry etching of layers of III-V group semiconductive materials

Номер патента: US4742026A. Автор: Jean Vatus,Jean Chevrier. Владелец: Thomson CSF SA. Дата публикации: 1988-05-03.

Anisotropic plasma etching of trenches in silicon by control of substrate temperature

Номер патента: GB2341348A. Автор: Franz Laermer,Andrea Schilp,Volker Becker. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2000-03-15.

Process for the localised etching of silicone crystals

Номер патента: CA1036473A. Автор: Ulrich Schwabe. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1978-08-15.

Selective etching of silicon dioxide compositions

Номер патента: MY147667A. Автор: Stephen Andrew Motika,Glenn Michael Mitchell,Andrew David Johnson. Владелец: Air Prod & Chem. Дата публикации: 2012-12-31.

Dry etching of metal film

Номер патента: CA1136525A. Автор: Kazuo Tokitomo,Hitoshi Hoshino,Tadakazu Takada. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1982-11-30.

Laser-assisted liquid-phase etching of copper conductors

Номер патента: US4904340A. Автор: Bryan Seppala,Robert F. Miracky,Kantesh Doss. Владелец: Microelectronics and Computer Technology Corp. Дата публикации: 1990-02-27.

High-selectivity plasma-assisted etching of resist- masked layer

Номер патента: CA1160759A. Автор: David N. Wang,Nadia Lifshitz,Joseph M. Moran. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1984-01-17.

Dry etching of silicon carbide

Номер патента: CA1329167C. Автор: John W. Palmour. Владелец: North Carolina State University. Дата публикации: 1994-05-03.

Method for nano etching of copper and copper alloy surfaces

Номер патента: EP4279634A1. Автор: Wonjin Cho,Cedric Lin,Ting Xiao,Fabian Michalik,Sandro Han. Владелец: Atotech Deutschland GmbH and Co KG. Дата публикации: 2023-11-22.

Vapor phase etching of hafnia and zirconia

Номер патента: US20170352549A1. Автор: Bryan C. Hendrix. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2017-12-07.

Vapor phase etching of hafnia and zirconia

Номер патента: US10002772B2. Автор: Bryan C. Hendrix. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2018-06-19.

Method and system for reducing polymer build up during plasma etch of an intermetal dielectric

Номер патента: US20020158247A1. Автор: Mohammad Massoodi,Mehrdad Mahanpour,Jose Hulog. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-31.

Patterning electronic devices using reactive-ion etching of tin oxides

Номер патента: US20200185609A1. Автор: Jisung Park. Владелец: CORNELL UNIVERSITY. Дата публикации: 2020-06-11.

Thermal etching of ruthenium

Номер патента: US20240153781A1. Автор: Robert Clark,Hisashi Higuchi,Gerrit Leusink,Kandabara Tapily,Cory Wajda,Kai-Hung YU,Gyanaranjan Pattanaik. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Method for nano etching of copper and copper alloy surfaces

Номер патента: WO2023222701A1. Автор: Wonjin Cho,Cedric Lin,Ting Xiao,Fabian Michalik,Sandro Han. Владелец: Atotech Deutschland GmbH & Co. KG. Дата публикации: 2023-11-23.

Etching of silicon nitride and silica deposition control in 3d nand structures

Номер патента: US20200027891A1. Автор: Derek Bassett,Ihsan Simms,Antonio Rotondaro,Trace Hurd. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-23.

Process for the plasma etching of materials not containing silicon

Номер патента: US7071110B2. Автор: Josef Mathuni,Günther Ruhl. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2006-07-04.

Hydrogen etching of semiconductors and oxides

Номер патента: CA1184478A. Автор: Robert P.H. Chang. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1985-03-26.

Process for defined etching of substrates

Номер патента: CA2050629A1. Автор: Allan Cairncross,Chester A. Ii Thayer. Владелец: Individual. Дата публикации: 1992-03-11.

Method for selective etching of nanostructures

Номер патента: US20220262642A1. Автор: Jonas Sundqvist,MD Sabbir KHAN,Dmitry SUYATIN. Владелец: Alixlabs AB. Дата публикации: 2022-08-18.

Selective oxidation and simplified pre-clean

Номер патента: US11776805B2. Автор: Yu Lei,Yi Xu,Joung Joo Lee,Kelvin Chan,Xianmin Tang,Philip A. Kraus,Bencherki Mebarki,Alexander Jansen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Methods for wet atomic layer etching of copper

Номер патента: US11866831B2. Автор: ARKALGUD Sitaram,Paul Abel,Jacques Faguet,Christopher Netzband. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Method and apparatus for selective etching of insulating layers

Номер патента: GB1286085A. Автор: . Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1972-08-16.

High resolution deposition and etching in polymer films

Номер патента: US4968390A. Автор: Allen J. Bard,Oskar E. Huesser,Derek H. Craston. Владелец: University of Texas System. Дата публикации: 1990-11-06.

Gradient glass-like ceramic structures and bottom-up fabrication method thereof

Номер патента: EP4132892A2. Автор: Barry C. Arkles,Jonathan D. GOFF,Kerry Campbell DeMELLA. Владелец: Gelest Inc. Дата публикации: 2023-02-15.

Gradient glass-like ceramic structures and bottom-up fabrication method thereof

Номер патента: WO2021206999A3. Автор: Barry C. Arkles,Jonathan D. GOFF,Kerry Campbell DeMELLA. Владелец: Gelest, Inc.. Дата публикации: 2022-01-20.

Gradient glass-like ceramic structures and bottom-up fabrication method thereof

Номер патента: WO2021206999A2. Автор: Barry C. Arkles,Jonathan D. GOFF,Kerry Campbell DeMELLA. Владелец: Gelest, Inc.. Дата публикации: 2021-10-14.

Bottom-up method for forming wire structures upon a substrate

Номер патента: SG11201807698SA. Автор: Filip Granek,Zbigniew ROZYNEK. Владелец: Xtpl S A. Дата публикации: 2018-10-30.

Methods of making composite of graphene oxide and nanostructures

Номер патента: US09917255B2. Автор: Jaemyung Kim,Jiaxing Huang,Vincent C. Tung. Владелец: Northwestern University. Дата публикации: 2018-03-13.

Display with semiconducting oxide and polysilicon transistors

Номер патента: US09685469B2. Автор: Shih Chang Chang,Ting-Kuo Chang,Kyung-Wook Kim,Jungbae Kim,Ton-Yong Wang. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2017-06-20.

Etching apparatus and etching method

Номер патента: US09934941B2. Автор: Yasuyuki Sonoda. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Gas tube overvoltage protector with back-up gap

Номер патента: CA1172688A. Автор: Casimir Cwirzen. Владелец: Northern Telecom Ltd. Дата публикации: 1984-08-14.

Method of depositing and etching film in one processing apparatus

Номер патента: US9896762B1. Автор: Toshihisa Nozawa. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-02-20.

Discharge gap filling composition and electrostatic discharge protector

Номер патента: US20110317326A1. Автор: Yoshimitsu Ishihara,Hirofumi Inoue,Mina Onishi,Yukihiko Azuma. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2011-12-29.

Stoichiometric lithium cobalt oxide and method for preparation of the same

Номер патента: US20140353548A1. Автор: Jens M. Paulsen,Hong-Kyu Park,Sun Sik SHIN. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2014-12-04.

Silicon oxide and method of preparing the same

Номер патента: US20140248538A1. Автор: Yong Ju Lee,Je Young Kim,Cheol Hee Park,Han Nah Jeong,Sang Yun Jung,Hyun Chul Kim,Byung Kyu Lim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2014-09-04.

Electrochemical cell having a cathode off a mixed phase metal oxide and method of preparation

Номер патента: US20020142223A1. Автор: Esther Takeuchi,Randolph Leising. Владелец: Greatbatch Ltd. Дата публикации: 2002-10-03.

Layered Manganese Oxide, and Preparation Method Thereof

Номер патента: US20240162452A1. Автор: Ryutaro Ono,Tomoya HIGO,Yu KATAYAMA,Asuka Morinaga,Shunsaku Uchiyama. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2024-05-16.

Manganese oxides and cathode active materials

Номер патента: US20240158257A1. Автор: Yiman ZHANG. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Silicon oxide and method of preparing the same

Номер патента: US09601768B2. Автор: Yong Ju Lee,Je Young Kim,Cheol Hee Park,Han Nah Jeong,Sang Yun Jung,Hyun Chul Kim,Byung Kyu Lim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Stoichiometric lithium cobalt oxide and method for preparation of the same

Номер патента: US09564636B2. Автор: Jens M. Paulsen,Hong-Kyu Park,Sun Sik SHIN. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Method for controlling etching of electrolytic capacitor foil

Номер патента: CA1146845A. Автор: John R. Hebert, Jr.,Robert W. Herzig,Joseph H. Silveira. Владелец: Sprague Electric Co. Дата публикации: 1983-05-24.

Monitoring etching of a substrate in an etch chamber

Номер патента: US20080272089A1. Автор: Shaoher X. Pan,Michael Grimbergen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-11-06.

Acicular electroconductive titanium oxide and process for producing same

Номер патента: CA1334815C. Автор: Eiji Yamada,Hideo Takahashi,Haruo Okuda,Masashi Sakamoto. Владелец: Ishihara Sangyo Kaisha Ltd. Дата публикации: 1995-03-21.

Integrated process of using chloric acid to separate zinc oxide and manganese oxide

Номер патента: US5411643A. Автор: David W. Cawlfield,Leslie R. Ward. Владелец: Olin Corp. Дата публикации: 1995-05-02.

Etching of aluminum electrolytic capacitor foil

Номер патента: CA1236383A. Автор: Richard A. Bemis,Clinton E. Hutchins,Derek E. Rougeau,Thomas E. Chalmers. Владелец: Sprague Electric Co. Дата публикации: 1988-05-10.

Electro-conductive oxides and electrodes using the same

Номер патента: US5955178A. Автор: Megumi Takeuchi,Hiroyuki Sakai,Hiroaki Tanji,Masahiro Orita. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 1999-09-21.

Fuel cell power supply with oxidant and fuel gas switching

Номер патента: CA1214512A. Автор: James F. McElroy,Philip Dantowitz,Paul J. Chludzinski. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 1986-11-25.

Methods to partially reduce certain metal oxides and oxygen reduced metal oxides

Номер патента: EP1115659A1. Автор: James A. Fife. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2001-07-18.

Electrical contact material comprising silver, cadmium oxide and cupric salt

Номер патента: US4509980A. Автор: Ernest M. Jost. Владелец: Chemet Corp. Дата публикации: 1985-04-09.

Process for preparing lithium vanadium oxides and their use as cathode material

Номер патента: US20110084238A1. Автор: Julian Proelss,Hartmut Hibst,Kirill Bramnik. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2011-04-14.

Oxidative and reductive leaching methods

Номер патента: WO2024033165A1. Автор: Wolfgang Rohde,Till Gerlach,Kerstin Schierle-Arndt,Nils-Olof Joachim BORN,Andrea Magin. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-02-15.

Metal oxide and synthesis of lithium ion battery

Номер патента: US20190393501A1. Автор: Liang Wang,Meng Wang,Leimin Xu,Pengwei Chen. Владелец: Ningde Amperex Technology Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Manufacturing a lead-acid battery that includes a composite that includes lead oxide and a nanomaterial

Номер патента: US20160260971A1. Автор: Yimin Chen,Dun Chi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-09-08.

Manufacturing a lead-acid battery that includes a composite that includes lead oxide and a nanomaterial

Номер патента: US20160260970A1. Автор: Yimin Chen,Dun Chi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-09-08.

Manufacturing a lead-acid battery that includes a composite that includes lead oxide and a nanomaterial

Номер патента: US10050269B2. Автор: Yimin Chen,Dun Chi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-08-14.

Pre-swelling and etching of plastics for plating

Номер патента: US4941940A. Автор: Durgadas Bolikal,Gordhanbhai N. Patel,Richard A. Bellemare. Владелец: Jp Laboratories Inc. Дата публикации: 1990-07-17.

Methods and apparatus for requesting message gap fill requests and responding to message gap fill requests

Номер патента: US09774462B2. Автор: Vladimir Parizhsky,Alexei Lebedev. Владелец: NYSE Arca LLC. Дата публикации: 2017-09-26.

Gap filling using personalized injectable media

Номер патента: GB2603580A. Автор: Decrop Clement,A Silverstein Zachary,M Trim Craig,G Keen Martin. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2022-08-10.

High-density memory devices using oxide gap fill

Номер патента: US11937514B2. Автор: Chih-Chao Yang,Daniel Charles Edelstein,Theodorus E. Standaert. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-03-19.

Doped tin oxide and method for selective metallization of insulating substrate

Номер патента: US09869025B2. Автор: Wei Zhou,Qing Gong,Weifeng Miao. Владелец: BYD Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Integrated method by using high temperature oxide for top oxide and periphery gate oxide

Номер патента: US6117730A. Автор: Hideki Komori,Mark Ramsbey,Kenneth Au. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-09-12.

Method for anisotropic etching of structures in conducting materials

Номер патента: CA2264908C. Автор: Babak Heidari,Lennart Olsson. Владелец: OBDUCAT AB. Дата публикации: 2006-04-25.

Chemical etching of polymers for metallizing

Номер патента: CA1113355A. Автор: Wayne T. Wiggins. Владелец: Standard Oil Co. Дата публикации: 1981-12-01.

Preferential etching of a piezoelectric material

Номер патента: CA1273275A. Автор: Petros A. Petridis,Darrell E. Newell,Keneth D. Hartman. Владелец: CTS Corp. Дата публикации: 1990-08-28.

Ion beam etching of stt-ram structures

Номер патента: WO2017075282A1. Автор: Narasimhan Srinivasan,Boris Druz,Katrina Rook,Ajit PRANJPE. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2017-05-04.

Ion beam etching of stt-ram structures

Номер патента: EP3369119A1. Автор: Narasimhan Srinivasan,Boris Druz,Katrina Rook,Ajit PRANJPE. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2018-09-05.

Compositions useful in copper oxidation, and a method to prepare copper oxidation solutions

Номер патента: CA1320898C. Автор: Peter Julian Oleske. Владелец: Armstrong World Industries Inc. Дата публикации: 1993-08-03.

Dry powder coating of metals, oxides and hydroxides thereof

Номер патента: US20060011103A1. Автор: Qiping Zhong. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-01-19.

Piezoelectric crystalline film of zinc oxide and method for making same

Номер патента: US4205117A. Автор: Toshio Ogawa,Hiroshi Nishiyama,Tasuku Mashio. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1980-05-27.

Bottom-up gap fill using a liner

Номер патента: WO2024137313A1. Автор: Douglas Walter Agnew,Jennifer Leigh PETRAGLIA,Daniel Christopher MESSINA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-27.

A Bioactive Micro-nano Pore Gradient Oxide Ceramic Film

Номер патента: US20200179564A1. Автор: LI Tao,Zhijian Shen,Jie Zhang,Tingkai Li,Wuyuan Zhao. Владелец: HANGZHOU ERRAN TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-11.

Microscopic scale forming method by selective etching of a doped substrate

Номер патента: WO2001032554A3. Автор: Glenn J Fricano,Mark Lizza,Thomas A Pumo,William S Trimmer. Владелец: Standard Mems Inc. Дата публикации: 2001-11-01.

Dopant selective reactive ion etching of silicon carbide

Номер патента: US09452926B1. Автор: Robert Okojie. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 2016-09-27.

Bottom-up sequestration of carbon dioxide in negative geologic closures

Номер патента: US12049805B2. Автор: Hasmukh A. Patel,Markus Albertz. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2024-07-30.

Scalable and bottom-up approach to automated anomaly detection

Номер патента: US12067504B1. Автор: Santosh Kumar,Ashutosh Mani,Shyamantak Gautam,Ruban Phukan. Владелец: Progress Software Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Printing, displaying, and etching advertisements on various media

Номер патента: US09836763B2. Автор: Neal Harley Landers. Владелец: Lottoads Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Nanoscale Etching of Light Absorbing Materials using Light and an Electron Donor Solvent

Номер патента: US20210405533A1. Автор: Meni Wanunu,Hirohito Yamazaki. Владелец: NORTHEASTERN UNIVERSITY. Дата публикации: 2021-12-30.

Nanoscale Etching of Light Absorbing Materials using Light and an Electron Donor Solvent

Номер патента: US20190302619A1. Автор: Meni Wanunu,Hirohito Yamazaki. Владелец: NORTHEASTERN UNIVERSITY. Дата публикации: 2019-10-03.

Sculptured and etched textile having shade contrast corresponding to surface etched regions

Номер патента: CA2544732C. Автор: Mark Kiff. Владелец: Sage Automtive Interiors Inc. Дата публикации: 2015-02-17.

Early termination in bottom-up acceleration data structure refit

Номер патента: US11900523B2. Автор: Kai Xiao,Gabor Liktor,Michael Apodaca,Thomas Raoux,Carson Brownlee,Joshua Barczak. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-02-13.

Early termination in bottom-up acceleration data structure refit

Номер патента: EP3675051A1. Автор: Kai Xiao,Gabor Liktor,Michael Apodaca,Thomas Raoux,Carson Brownlee,Joshua Barczak. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2020-07-01.

Early termination in bottom-up acceleration data structure refit

Номер патента: US20220108518A1. Автор: Kai Xiao,Gabor Liktor,Michael Apodaca,Thomas Raoux,Carson Brownlee,Joshua Barczak. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2022-04-07.

Early termination in bottom-up acceleration data structure refit

Номер патента: US20200402291A1. Автор: Kai Xiao,Gabor Liktor,Michael Apodaca,Thomas Raoux,Carson Brownlee,Joshua Barczak. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2020-12-24.

Bottom-up sequestration of carbon dioxide in negative geologic closures

Номер патента: US20240200426A1. Автор: Hasmukh A. Patel,Markus Albertz. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2024-06-20.

Nanoimprint and etch fabrication of optical devices

Номер патента: US12092956B2. Автор: JING Jiang,Rutger MEYER TIMMERMAN THIJSSEN,Chien-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Method of selectively dyeing and etching anodized aluminum

Номер патента: US3622472A. Автор: Masanori Izumikawa. Владелец: Yoshitaka Katayama. Дата публикации: 1971-11-23.

Electroplating and etching system and method

Номер патента: US20230059365A1. Автор: David Sapiro. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-02-23.

Blank with gaps filled with filler

Номер патента: RU2720339C2. Автор: Джонатан ГОУРИНГ. Владелец: Олбэни Энджиниред Композитс, Инк.. Дата публикации: 2020-04-29.

Multi-layered lighted painting and etching assembly

Номер патента: US20240148143A1. Автор: John Schwind. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-05-09.

Borehole image gap filling using deep learning

Номер патента: WO2023014346A1. Автор: Songhua Chen,Sonali Pattnaik,Mahmoud Eid Selim. Владелец: Halliburton Energy Services, Inc.. Дата публикации: 2023-02-09.

Ferrite magnetic head with gap spacer of silicon oxide and metal oxides

Номер патента: US3578920A. Автор: Kazuo Nozawa,Noriaki Okamoto,Teruo Wakabe. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1971-05-18.

Cleaning and etching process for aluminum containers

Номер патента: US4477290A. Автор: James W. Carroll,James E. Comstock. Владелец: Pennwalt Corp. Дата публикации: 1984-10-16.

An edge-on x-ray detector with gap filling material reducing dynamic misalignment sensitivity

Номер патента: EP4115211A1. Автор: Torbjorn Hjarn,Martin Sjolin,Hans Bornefalk. Владелец: Prismatic Sensors AB. Дата публикации: 2023-01-11.

Low-Force Gap-Filling Conductive Structures

Номер патента: US20150355682A1. Автор: Derek W. Wright,Taylor H. Gilbert. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2015-12-10.

Multi-layered lighted painting and etching assembly

Номер патента: US12011090B2. Автор: John Schwind. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-18.

Automatic testing device for bottom plates of oil storage tank

Номер патента: ZA202309542B. Автор: Simin Kang. Владелец: Univ Xian Shiyou. Дата публикации: 2024-04-24.

Carrier for cleaning and etching wafers

Номер патента: US4500080A. Автор: Seiichiro Aigo. Владелец: Individual. Дата публикации: 1985-02-19.

Roll up covering for architectural openings having top down/bottom up capability

Номер патента: WO2007038447A3. Автор: Raymond N Auger. Владелец: Raymond N Auger. Дата публикации: 2007-07-12.

Translation on demand with gap filling

Номер патента: WO2018093691A1. Автор: Evgeny SKARBOVSKY,Gregory Paul BARIBAULT,Frank Tompkins SPOKANE. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC. Дата публикации: 2018-05-24.

Single control system for top-down-bottom-up shades

Номер патента: GB2329924A. Автор: Kelly A Watanabe. Владелец: Rollease Inc. Дата публикации: 1999-04-07.

Adjustable support for bottom brake connecting rods for railway cars

Номер патента: CA1082616A. Автор: Franklin P. Adler. Владелец: Illinois Railway Equipment Co. Дата публикации: 1980-07-29.

Flow control nozzle for bottom-pour ladles

Номер патента: US4785979A. Автор: John M. Svoboda,Raymond W. Monroe. Владелец: Casteel Technology Associates Ltd. Дата публикации: 1988-11-22.

Top-down bottom-up window covering

Номер патента: NL2027027B1. Автор: Chen Lin. Владелец: Nien Made Entpr Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-06.

Variable Aperture Estimation using Bottom-Up Ray Tracing

Номер патента: US20190204463A1. Автор: Yaxun TANG,David Gaines,Valeriy V. Brytik,Fuxian Song,Anton Spirkin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-07-04.

A bottom-up cache structure for storage servers

Номер патента: EP1690185A1. Автор: QING Yang,Ming Zhang. Владелец: Rhode Island Board of Education. Дата публикации: 2006-08-16.

Stopper plug for bottom pour ladles

Номер патента: US3958730A. Автор: Robert A. Caldwell. Владелец: Individual. Дата публикации: 1976-05-25.

Flap-gate for bottom discharge control in canals having ice problems

Номер патента: CA1158875A. Автор: Helmut H. Wirschal. Владелец: Allis Chalmers Corp. Дата публикации: 1983-12-20.

Crowd-sourcing for gap filling in social networks

Номер патента: US20110302174A1. Автор: Ido Guy,Ohad Greenshpan,Itai Turbahn,Michal Jacovi. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2011-12-08.

Appliance and Countertop Gap-Filling Device

Номер патента: US20230354999A1. Автор: Marian Russell. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-11-09.

Membrane for bottom-ventilation of a baby bottle

Номер патента: EP3738575A1. Автор: Francesco Gatti,Antonio DEL BOSCO. Владелец: Artsana SpA. Дата публикации: 2020-11-18.

Osteotomy gap filling implant and methods

Номер патента: US20240156602A1. Автор: Aaron Noble,Spencer Jones. Владелец: Poriferous LLC. Дата публикации: 2024-05-16.

Osteotomy gap filling implant

Номер патента: WO2024107663A1. Автор: Aaron Noble,Spencer Jones. Владелец: PORIFEROUS, LLC. Дата публикации: 2024-05-23.

Scanning probe microscope providing unobstructed top down and bottom up views

Номер патента: US5854487A. Автор: Michael Kirk,Thai Nguyen,David Braunstein,Quoc Ly. Владелец: Park Scientific Instruments. Дата публикации: 1998-12-29.

Bottom-up solvent-aided process and system for hydrocarbon recovery

Номер патента: CA2833068C. Автор: Subodh Gupta,Simon Gittins. Владелец: Cenovus Energy Inc. Дата публикации: 2022-04-26.

Use of pet film as a barrier to bottom-up staining

Номер патента: US20020150779A1. Автор: Harry Ward,Thomas Moore,Bruce Adams,William Kauffman,Eugene Kirchner. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-17.

Top-down bottom-up window covering

Номер патента: US20220205320A1. Автор: Lin Chen. Владелец: Nien Made Enterprise Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Top-down bottom-up window covering

Номер патента: GB2601314A. Автор: Chen Lin. Владелец: Nien Made Enterprise Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-01.

Parallel processing using a bottom-up approach

Номер патента: EP3195158A1. Автор: Matthew W. Smith,Michael Alan Foster,Timothy E. Abla,John T. Koerner,Mikel L. Martin,Dennis M. Mulonas. Владелец: Autodesk Inc. Дата публикации: 2017-07-26.

Combination Bottom Up and Top Down Cementing with Reduced Time to Set Liner Hanger/Packer after Top Down Cementing

Номер патента: US20190024476A1. Автор: Mark K. Adam. Владелец: Baker Hughes Inc. Дата публикации: 2019-01-24.

Bottom-up query processing scheme for xml twigs with arbitrary boolean predicates

Номер патента: US20130007038A1. Автор: Sumit Kumar Bose,Rashi Malviya. Владелец: Infosys Ltd. Дата публикации: 2013-01-03.

Method of selective etching of steel

Номер патента: RU2709558C1. Автор: Сергей Геннадьевич Каплунов. Владелец: Сергей Геннадьевич Каплунов. Дата публикации: 2019-12-18.

Structurally modified nanosheets of metal oxides and related methods

Номер патента: US20240254633A1. Автор: QIAN Rong,Vinayak P. Dravid,Jingshan Du. Владелец: Northwestern University. Дата публикации: 2024-08-01.

Environmenal friendly ethylene oxide, propylene oxide and downstream products

Номер патента: WO2024180261A2. Автор: Stephan Hueffer,Marco Krueger. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-09-06.

System and method for preparing graphene oxide and reduced graphene oxide

Номер патента: US20190002292A1. Автор: Anthony B. Taves. Владелец: Nano Trek Holdings LLC. Дата публикации: 2019-01-03.

Mesoporous metal oxides and processes for preparation thereof

Номер патента: US09908103B2. Автор: Steven L. Suib,Altug Suleyman POYRAZ. Владелец: University of Connecticut. Дата публикации: 2018-03-06.

Method for the mask-etching of a piercing element

Номер патента: US09522566B2. Автор: Marzellinus Zipfel,Angel Lopez-Mras. Владелец: Roche Diabetes Care Inc. Дата публикации: 2016-12-20.

Mesoporous metal oxides and processes for preparation thereof

Номер патента: US09452933B2. Автор: Steven L. Suib,Altug Suleyman POYRAZ. Владелец: University of Connecticut. Дата публикации: 2016-09-27.

Powder coated with copper (i) oxide, and process for production thereof

Номер патента: US20100282612A1. Автор: Yasuyuki Tanaka,Yutaka Kinose. Владелец: Nippon Chemical Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-11.

Oxidizer and fuel supply system for internal combustion engines

Номер патента: US12025083B2. Автор: Manuel Muñoz Saiz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-02.

Apparatus for removing nitrogen oxides and method for removing nitrogen oxides

Номер патента: EP1645322A4. Автор: Tsutomu Tanaka,Tamotsu Nishi,Tadahiko Itoh. Владелец: Nishimatsu Construction Co Ltd. Дата публикации: 2009-03-11.

Zinc oxide and aluminium oxide containing materials

Номер патента: AU2022390228A1. Автор: Lev Mizikovsky. Владелец: Advance Zinctek Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Process for the manufacture of hydrated oxides and tri- and tetra- basic lead sulphates

Номер патента: US4673561A. Автор: David Cox. Владелец: Gasohol Energy Pty Ltd. Дата публикации: 1987-06-16.

Al-P COMPOSITE OXIDE AND EXHAUST GAS PURIFICATION CATALYST USING SAME

Номер патента: US20240001349A1. Автор: Yosuke Goto,Tatsuya KUMON,Yusaku MAEJIMA. Владелец: Umicore Shokubai Japan Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Nanoparticulate complex of nicotine and cerium oxide and use thereof

Номер патента: EP3154530A2. Автор: Syed Imam. Владелец: US Department of Health and Human Services. Дата публикации: 2017-04-19.

Nanoparticulate complex of nicotine and cerium oxide and use thereof

Номер патента: US20170105941A1. Автор: Syed Imam. Владелец: US Department of Health and Human Services. Дата публикации: 2017-04-20.

Oxidizer and fuel supply system for internal combustion engines

Номер патента: US20230383713A1. Автор: Manuel Muñoz Saiz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-11-30.

Graphite oxide, graphene oxide, and reduced graphene oxide

Номер патента: CA3242097A1. Автор: Joo Cheol Lee,Hwi Chan Yang,Woo Hyun An,Seung Du Kim. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-06.

Dihydrolipoic acid derivatives comprising nitric oxide and therapeutic uses thereof

Номер патента: EP2539317A2. Автор: Sampath Parthasarathy. Владелец: Invasc Therapeutics Inc. Дата публикации: 2013-01-02.

Dihydrolipoic acid derivatives comprising nitric oxide and therapeutic uses thereof

Номер патента: WO2010096677A3. Автор: Sampath Parthasarathy. Владелец: Invasc Therapeutics, Inc.. Дата публикации: 2010-12-09.

Oxidative and adsorptive catalytic media

Номер патента: US20240269660A1. Автор: Alden Bruce Badger,Everett Earl Carpenter,Bruce R. Kitchen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-08-15.

Laminate comprising a needle-like antimony-containing tin oxide and antireflection film comprising the same

Номер патента: EP1245968A3. Автор: Akira Nishikawa,Hiroomi Shimomura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2002-10-09.

Device for creation of an oxidation and precipitation zone or a reduction zone in an aquifer

Номер патента: US6174107B1. Автор: Rudolf Martinell. Владелец: Hydrophilia AB. Дата публикации: 2001-01-16.

Silyl-substituted polyalkylene oxides and methods of preparation

Номер патента: US10259908B2. Автор: Barry C. Arkles,Gerald L. Larson,Jonathan D. GOFF,Ferdinand Gonzaga. Владелец: Gelest Technologies Inc. Дата публикации: 2019-04-16.

Method and apparatus for reducing a nitrogen oxide, and control thereof

Номер патента: EP1513604B1. Автор: Patricia A. Morris,John Carl Steichen,John James Barnes. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2012-06-20.

Process for inhibiting oxidation and polymerization of furfural and its derivatives

Номер патента: US5453519A. Автор: Ghazi Dickakian. Владелец: Exxon Chemical Patents Inc. Дата публикации: 1995-09-26.

Removal of hydrogen sulfide and sulfur recovery from a gas stream by catalytic direct oxidation and claus reaction

Номер патента: EP3237096A1. Автор: Michael Heisel,Benoit MARES. Владелец: Prosernat SA. Дата публикации: 2017-11-01.

Method and apparatus for reducing a nitrogen oxide, and control thereof

Номер патента: EP1513604A1. Автор: Patricia A. Morris,John Carl Steichen,John James Barnes. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2005-03-16.

Organosilicon on solid oxides, and related complexes, compositions, methods and systems

Номер патента: US11512102B2. Автор: Matthew P. Conley,Damien B. CULVER. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2022-11-29.

Methods of protecting seeds from oxidants and microorganisms

Номер патента: US20220159953A1. Автор: Jong Heon Kim. Владелец: US Department of Agriculture USDA. Дата публикации: 2022-05-26.

Process for recovering propylene oxide and carbon dioxide in ppc polyol production

Номер патента: US20230064622A1. Автор: ASM Obidullah,Omar Mohammed O AlAmoudi. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2023-03-02.

Treatment of acute heart failure using nitrous oxide and chronic heart failure using botulinum toxin

Номер патента: US20240238392A1. Автор: Roland M. Williams. Владелец: Penland Foundation. Дата публикации: 2024-07-18.

Silyl-substituted polyalkylene oxides and methods of preparation

Номер патента: US20170129998A1. Автор: Barry C. Arkles,Gerald L. Larson,Jonathan D. GOFF,Ferdinand Gonzaga. Владелец: Gelest Technologies Inc. Дата публикации: 2017-05-11.

A process for recovering propylene oxide and carbon dioxide in ppc polyol production

Номер патента: WO2023034004A1. Автор: ASM Obidullah,Omar Mohammed O. ALAMOUDI. Владелец: Aramco Services Company. Дата публикации: 2023-03-09.

A personal care composition based on titanium oxide and a crosspolymer of adipic acid and neopentyl glycol

Номер патента: ZA202212708B. Автор: WANG Lin,Xu Bo,Yi Shangchun. Владелец: Unilever Global IP Ltd. Дата публикации: 2024-04-24.

Oxidation and corrosion resistant nuclear fuel

Номер патента: WO2021016566A1. Автор: Jie Lian. Владелец: Jie Lian. Дата публикации: 2021-01-28.

Methods of protecting seeds from oxidants and microorganisms

Номер патента: US11950596B2. Автор: Jong Heon Kim. Владелец: US Department of Agriculture USDA. Дата публикации: 2024-04-09.

Porous materials comprising metal oxides and the use thereof

Номер патента: AU2022228197B2. Автор: Jinghua Fang. Владелец: Aloxitec Pty Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Random ethylene oxide and non-random alkylene oxide(s) polymers

Номер патента: US09919074B2. Автор: Timothy C. Fisher,Jonathan K. Armstrong,John Cambridge,Tadeusz Wellisz. Владелец: Syncera Inc. Дата публикации: 2018-03-20.

Method for producing composite oxide and composite oxide catalyst

Номер патента: US09868110B2. Автор: Tadatoshi Murota,Shinya Matsuo. Владелец: Santoku Corp. Дата публикации: 2018-01-16.

Assembly for producing alkylene oxides and glycol ethers

Номер патента: US09822087B2. Автор: Derrick W. Flick,Tina L. Arrowood,John F. Ackford. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2017-11-21.

Combination of an oxidant and a photoactivator for the healing of wounds

Номер патента: US09597349B2. Автор: Nikolaos Loupis,Remigio Piergallini,Francesco Bellini. Владелец: Klox Technologies Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Foam dye composition comprising a polycondensate of ethylene oxide and propylene oxide

Номер патента: US09463148B2. Автор: Caroline Goget,Delphine Allard,Richard Sabourin. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2016-10-11.

Highly oxidized graphene oxide and methods for production thereof

Номер патента: US09428394B2. Автор: James M. Tour,Dmitry V. Kosynkin. Владелец: William Marsh Rice University. Дата публикации: 2016-08-30.

A composition comprising graphite oxide and an infrared absorbing compound

Номер патента: WO2017013058A1. Автор: Tim Desmet. Владелец: AGFA-GEVAERT. Дата публикации: 2017-01-26.

Zinc oxide and cobalt oxide nanostructures and methods of making thereof

Номер патента: EP2470476A1. Автор: Shrisudersan Jayaraman. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2012-07-04.

A composition comprising graphite oxide and an infrared absorbing compound

Номер патента: EP3325405A1. Автор: Tim Desmet. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 2018-05-30.

Zirconium composite oxide and method for producing zirconium composite oxide

Номер патента: US20240254002A1. Автор: Hiroshi Kodama. Владелец: Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Vapor etching of nuclear tracks in dielectric materials

Номер патента: US6033583A. Автор: Robert J. Contolini,Ronald G. Musket,John D. Porter,James M. Yoshiyama. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2000-03-07.

Monitoring system based on etching of metals

Номер патента: RU2507516C2. Автор: Г. Пэйтел. Владелец: Г. Пэйтел. Дата публикации: 2014-02-20.

A1n masking for selective etching of sapphire

Номер патента: CA1065746A. Автор: Richard F. Rutz. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1979-11-06.

Etching solution for etching of photopolymeric films

Номер патента: CA1195595A. Автор: Manfred A.J. Sondergeld. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1985-10-22.

A monitoring system based on etching of metals

Номер патента: CA2726993C. Автор: G. Patel. Владелец: Jp Laboratories Inc. Дата публикации: 2021-06-08.

Solvent mixture with nitric acid and hydrofluoric acid for wet chemical etching of silicon

Номер патента: US3592773A. Автор: Alfred Muller. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1971-07-13.

Method and apparatus for decorative etching of surfaces

Номер патента: CA1154257A. Автор: Thomas E. Makus,James B. Hubbard. Владелец: Mak Ard Industries Inc. Дата публикации: 1983-09-27.

Method for the electrolytic etching of metal workpiece

Номер патента: US4045312A. Автор: TAKEUCHI Satoshi. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1977-08-30.

Etching of multiple holes of uniform size

Номер патента: CA1137395A. Автор: Robert Hammer,John B. Gunn,James A. Van Vechten,Richard A. Ghez. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1982-12-14.

Method of preparing catalyst for oxidation and ammoxidation of olefins

Номер патента: RU2341327C2. Автор: Кэти Л. ТУЭЙ. Владелец: Сольюшиа, Инк.. Дата публикации: 2008-12-20.

Superalloy coating composition with oxidation and/or sulfidation resistance

Номер патента: US4339509A. Автор: Srinivasan Shankar,Louis E. Dardi. Владелец: Howmet Turbine Components Corp. Дата публикации: 1982-07-13.

Gas burner with low content of nitrogen oxides and method of fuel gas combustion

Номер патента: RU2642997C2. Автор: Паули ДЕРНЯТИН. Владелец: Фортум Оюй. Дата публикации: 2018-01-29.

Method and device for obtaining alkylene oxides and alkylene glycols

Номер патента: RU2558358C2. Автор: Фердинанд Рудольф РАЙФ. Владелец: Тиссенкрупп Уде Гмбх. Дата публикации: 2015-08-10.

Polyamide membrane with a coating comprising polyalkylene oxide and acetophenone compounds

Номер патента: WO2011112351A1. Автор: Chunming Zhang,William Mickols. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2011-09-15.

Alkali metal oxide and alkaline earth metal oxide source material

Номер патента: GB1260198A. Автор: William August Mod,Donald Lee Caldwell,Robert John Moolenaar. Владелец: Dow Chemical Co. Дата публикации: 1972-01-12.

Superalloy coating composition with oxidation and/or sulfidation resistance

Номер патента: US4615864A. Автор: Srinivasan Shankar,Louis E. Dardi. Владелец: Howmet Turbine Components Corp. Дата публикации: 1986-10-07.

Particulate titanium oxide and production process therefor

Номер патента: CA2385695C. Автор: Jun Tanaka,Hayato Yamaya,Susumu Kayama. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2007-07-10.

Process for simultaneously removing nitrogen oxide, sulfur oxide, and particulates

Номер патента: CA1235882A. Автор: Richard A. Kretchmer,Thomas W. Tolpin. Владелец: BP Corp North America Inc. Дата публикации: 1988-05-03.

Method for producing composites of aluminum oxide and cerium/zirconium mixed oxides

Номер патента: CA2841803C. Автор: Marcos Schoneborn,Reiner Glockler,Anja Paeger. Владелец: Sasol Germany GMBH. Дата публикации: 2019-04-16.

Layered metal oxides containing interlayer oxides and their synthesis

Номер патента: CA1283646C. Автор: Brent Allen Aufdembrink. Владелец: Mobil Oil Corp. Дата публикации: 1991-04-30.

Process for removing sulphur oxides and nitrogen oxides from combustion exhaust gas

Номер патента: GB1472985A. Автор: . Владелец: Fujikasui Engineering Co Ltd. Дата публикации: 1977-05-11.

Enhanced bonding of adjacent layers of silicon oxides and silver

Номер патента: CA1113764A. Автор: Jon D. Masso. Владелец: Sola International, Inc.. Дата публикации: 1981-12-08.

Improvements in or relating to the production of metal oxides and other compounds ofmetals

Номер патента: GB149925A. Автор: . Владелец: New Jersey Zinc Co. Дата публикации: 1921-01-13.

Method for arsenic oxidation and removal from process and waste solutions

Номер патента: CA2912132C. Автор: Yeonuk Choi,Ahmad Ghahremaninezhad Gharelar,Noelene Ahern. Владелец: Barrick Gold Corp. Дата публикации: 2019-08-13.

Cerium oxide-zirconium oxide-based mixed oxide and method for producing thereof

Номер патента: US8048389B2. Автор: Hiroshi Okamoto,Masatoshi Maruki. Владелец: Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2011-11-01.

A method for separating the mixture of zirconium oxide and hafnium oxide by pyrometallurgy

Номер патента: CA2933285C. Автор: Xingfeng ZHU. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-04-02.

Nitrogen oxide, sulfur oxide, and particulate removal system

Номер патента: US4617175A. Автор: Richard A. Kretchmer,Thomas W. Tolpin. Владелец: BP Corp North America Inc. Дата публикации: 1986-10-14.

Hydroxyalkyl phosphine oxides and sulfides

Номер патента: CA1065897A. Автор: Ingenuin Hechenbleikner. Владелец: Borg Warner Corp. Дата публикации: 1979-11-06.

propylene oxide and styrene monomer co-production procedure

Номер патента: US6080894A. Автор: Juan Antonio Delgado Oyague,Ignacio Vic Fernandez,Pilar De Frutos Escrig. Владелец: Repsol Quimica SA. Дата публикации: 2000-06-27.

Oxidized and maleated derivative composition

Номер патента: CA2713773C. Автор: Roger Scott Johnson,John B. Hines,Brett A. Neumann,Phillip W. Hurd. Владелец: Georgia Pacific Chemicals LLC. Дата публикации: 2017-05-30.

Mixed ether compositions containing oligomers of polyfunctional phosphine oxides and method for their manufacture

Номер патента: CA1205244A. Автор: Edward R. Fretz, Jr.. Владелец: FMC Corp. Дата публикации: 1986-05-27.

Combination of an oxidant and a photoactivator for the healing of wounds

Номер патента: WO2010051636A1. Автор: Nikolaos Loupis,Remigio Piergallini,Francesco Bellini. Владелец: Klox Technologies Inc .. Дата публикации: 2010-05-14.

Method for the removal of sulfur oxides and nitrogen oxides from exhaust gases

Номер патента: US4400363A. Автор: Karl Knoblauch,Horst Grochowski. Владелец: Bergwerksverband GmbH. Дата публикации: 1983-08-23.

Removal and recovery of nitrogen oxides and sulfur dioxide from gaseous mixtures containing them

Номер патента: CA1129628A. Автор: Hal B.H. Cooper. Владелец: Individual. Дата публикации: 1982-08-17.

Coating compositions containing copolymers of ethylene oxide and long chain epoxides

Номер патента: CA1248669A. Автор: Richard D. Royce, Jr.. Владелец: HERCULES LLC. Дата публикации: 1989-01-10.

Electrode with electroconductive titanium oxide and process for manufacturing same

Номер патента: CA2529190C. Автор: Takayuki Shimamune. Владелец: Akzo Nobel NV. Дата публикации: 2011-08-09.

3,6 bis(substituted) acridine n-oxides and n,n - dioxides

Номер патента: CA1284327C. Автор: Ralph G. Child,Yang-I Lin,Raymond G. Wilkinson,Thomas L. Fields. Владелец: American Cyanamid Co. Дата публикации: 1991-05-21.

Method of operating a detoxicating plant for a town gas containing nitrogen oxides and gum forming substances

Номер патента: GB887680A. Автор: . Владелец: Metallgesellschaft AG. Дата публикации: 1962-01-24.

Method and apparatus for removing nitrogen oxide and sulfur dioxide from gas streams

Номер патента: CA2990085C. Автор: Liwei Huang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-12-28.

Titanium oxide and alumina alkali metal compositions

Номер патента: CA2799535C. Автор: Michael Lefenfeld,James L. Dye. Владелец: Signa Chemistry Inc. Дата публикации: 2016-08-02.

Method and apparatus for removing nitrogen oxide and sulfur dioxide from gas streams

Номер патента: CA2990085A1. Автор: Liwei Huang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-01-05.

Phenylazothioformamide-s-oxides and improvements in or relating to combating fungi and other noxious organisms

Номер патента: GB1129094A. Автор: . Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1968-10-02.

Method for manufacturing solid oxide and device therefor

Номер патента: US11220757B2. Автор: Kazuto Yamauchi. Владелец: Osaka Uiversity. Дата публикации: 2022-01-11.

Oxidation and corrosion resistant diesel engine lubricant

Номер патента: US4981604A. Автор: Rodney L. Sung,Benjamin H. Zoleski,Ronald L. O'Rourke. Владелец: Texaco Inc. Дата публикации: 1991-01-01.

Process for preparing propylene oxide and acetic acid

Номер патента: US4256650A. Автор: Inna P. Borovinskaya,Erna A. Bljumberg,Sergei A. Maslov,Nikolai M. Emanuel,Alexandr G. Merzhanov. Владелец: Individual. Дата публикации: 1981-03-17.

Method of removing sulfur oxides and nitrogen oxides by dry process

Номер патента: CA1186491A. Автор: Takeshi Hamada,Yoshinobu Komatsubara. Владелец: Mitsui Mining Co Ltd. Дата публикации: 1985-05-07.

Long life lubricating oil with enhanced oxidation and nitration resistance

Номер патента: US20040110646A1. Автор: Stanley Cartwright. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-06-10.

Copolymers of polyphenylene oxides and polyarylates

Номер патента: CA1260176A. Автор: Markus Matzner,Donald M. Papuga. Владелец: BP Corp North America Inc. Дата публикации: 1989-09-26.

Chemical dissolution of scale formed during pressure leaching of nickeliferous oxide and silicate ores

Номер патента: US4374101A. Автор: Mahesh C. Jha,Guy W. Lussiez. Владелец: Amax Inc. Дата публикации: 1983-02-15.

Carriers doubly coated with metal oxide and intended for electro-photography

Номер патента: US5534378A. Автор: Rainer Dyllick-Brenzinger,Jorg Adel. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1996-07-09.

Anti-oxidative and anti-inflammatory metal:peptide complexes and uses thereof

Номер патента: WO1991012267A1. Автор: Loren R. Pickart. Владелец: Procyte Corporation. Дата публикации: 1991-08-22.

TERTIARY DI-(.beta.-HYDROXY ORGANO) AMINE OXIDES AND THEIR PREPARATION

Номер патента: CA1149417A. Автор: Gary W. Earl,Howard M. Hickman. Владелец: Sherex Chemical Co Inc. Дата публикации: 1983-07-05.

Process for recovering a metal oxide and sulfur dioxide from a metal sulfate

Номер патента: GB1271733A. Автор: . Владелец: Elk Corp. Дата публикации: 1972-04-26.

Polyether polyol and polyurethane compositions protected against oxidation and core scorching

Номер патента: CA2083111C. Автор: Peter Michaelis. Владелец: Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG. Дата публикации: 2006-03-14.

Zinc oxide and a process of making it

Номер патента: US5876688A. Автор: Roy David Laundon. Владелец: Elementis UK Ltd. Дата публикации: 1999-03-02.

Acicular ferrimagnetic iron oxide and its preparation

Номер патента: US4457982A. Автор: Peter Rudolf,Guenter Vaeth,Manfred Ohlinger,Jenoe Kovacs. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1984-07-03.

Metohd of producing oxide and power thus obtained

Номер патента: US20100086455A1. Автор: Duncan Turner,Antoine Masse,Philippe Leblanc,Kevin Clais. Владелец: ZincOx Resources PLC. Дата публикации: 2010-04-08.

Process for the production of a composite material protected against oxidation and material obtained by this process

Номер патента: US5352494A. Автор: Gerard Rousseau. Владелец: AIRBUS GROUP SAS. Дата публикации: 1994-10-04.

Carriers doubly coated with metal oxide and intended for electrophotography

Номер патента: CA2144894A1. Автор: Rainer Dyllick-Brenzinger,Jorg Adel. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 1995-09-24.

Composite fine particles of metal oxides and production thereof

Номер патента: US5770310A. Автор: Tamio Noguchi,Yukitaka Watanabe. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 1998-06-23.

Haze, oxidation, and corrosion resistant diesel engine lubricant

Номер патента: US4705642A. Автор: Rodney L. Sung,Benjamin H. Zoleski,Ronald L. O'Rourke. Владелец: Texaco Inc. Дата публикации: 1987-11-10.

Flame-retardant composition comprising polyvinylidene fluoride,antimony oxide and dehydrofluorination catalyst

Номер патента: US3582518A. Автор: Bernard John Lyons. Владелец: Raychem Corp. Дата публикации: 1971-06-01.

Compositions of polyphenylene oxides and thermoplastic polymers

Номер патента: CA1332852C. Автор: Bruce VanBuskirk,Murali Krishna Akkapeddi,Alan Curtis Brown. Владелец: AlliedSignal Inc. Дата публикации: 1994-11-01.

Process for removing sulfur oxides and/or nitrogen oxides from waste gas

Номер патента: CA1062883A. Автор: Makio Kobayashi,Teizo Senjo. Владелец: Fujikasui Engineering Co Ltd. Дата публикации: 1979-09-25.

Process and apparatus for continuously reducing and melting of metal oxides and/or pre-reduced metallic materials

Номер патента: CA1162053A. Автор: Horst Sulzbacher. Владелец: Voestalpine AG. Дата публикации: 1984-02-14.

Phosphine oxide and phosphonyl dichlorides of alkylated rho-hydroxyphenyl-alkanes

Номер патента: US3746758A. Автор: J Spivack. Владелец: Ciba Geigy Corp. Дата публикации: 1973-07-17.

Phenol, aldehyde, amine condensation reacted with alkylene oxide and p2s5 as an oil additive

Номер патента: CA1041247A. Автор: Robert E. Malec. Владелец: Ethyl Corp. Дата публикации: 1978-10-24.

Method and apparatus for mixing gaseous oxidant and lixiviant in an in situ leach operation

Номер патента: CA1094946A. Автор: Wilton F. Espenscheid,Tsoung-Yuan Yan. Владелец: Mobil Oil Corp. Дата публикации: 1981-02-03.

Catalysts for the oxidation and ammoxidation of alcohols

Номер патента: CA1202949A. Автор: Jerry R. Ebner. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1986-04-08.

Process for using iron oxide and alumina catalyst for slurry hydrocracking

Номер патента: EP2291490A2. Автор: Alakananda Bhattacharyya,Beckay J. Mezza. Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 2011-03-09.

Glass-like monoliths constituted by silicon oxide and titanium oxide and process for preparing them

Номер патента: CA2009672C. Автор: Guido Cogliati,Giovanni Bezzi. Владелец: Enichem SpA. Дата публикации: 2001-05-29.

Process and apparatus for injection of oxidant and liquid into a well

Номер патента: CA1279817C. Автор: Raymond Francis Drnevich,Thomas Robert Schulte,Peter Knecht. Владелец: Union Carbide Corp. Дата публикации: 1991-02-05.

Gas analyzer for measuring nitrogen oxides and least one further component of an exhaust gas

Номер патента: US10871443B2. Автор: Camiel Heffels,Benjamin Schmidt. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2020-12-22.

Polyether polyol and polyurethane compositions protected against oxidation and core scorching

Номер патента: US5308899A. Автор: Peter Michaelis. Владелец: Ciba Geigy Corp. Дата публикации: 1994-05-03.

Method for producing ethylene oxide and ethylene glycol

Номер патента: EP3835283A1. Автор: Hideto Suzuki,Shota Sato,Daisuke HIGASHIOKA. Владелец: NIPPON SHOKUBAI CO LTD. Дата публикации: 2021-06-16.

Tertiary phosphine oxides and process for their preparation

Номер патента: GB1451909A. Автор: . Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1976-10-06.

Process for the removal of nitrogen oxides and sulphur oxides from flue gases

Номер патента: CA1261591A. Автор: Peter C.S. Schoubye. Владелец: Haldor Topsoe AS. Дата публикации: 1989-09-26.

Process for the production of nickel, high-purity magnesium oxide and cement

Номер патента: CA1195510A. Автор: Nicholas P. Wynn,Michal Zabelka. Владелец: Individual. Дата публикации: 1985-10-22.

Oxidation and reduction using platinum metal perovskite catalysts

Номер патента: CA1068074A. Автор: Alan Lauder. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1979-12-18.

Combination fume oxidizer and asphalt heater

Номер патента: US3880143A. Автор: Wallace L Hart,Gordon D Vevang,Herman J Walkowicz. Владелец: Uip Engineered Products Corp. Дата публикации: 1975-04-29.

Process for the selective froth-flotation of sulfidic, oxidic and salt-type minerals

Номер патента: CA1120162A. Автор: Vaino V.H. Hintikka. Владелец: OUTOKUMPU OYJ. Дата публикации: 1982-03-16.

Superalloy coating composition with oxidation and/or sulfidation resistance

Номер патента: CA1169267A. Автор: Srinivasan Shankar,Louis E. Dardi. Владелец: Howmet Turbine Components Corp. Дата публикации: 1984-06-19.

Reducing agent composition for iron oxide and/or iron hydroxide

Номер патента: EP4293137A1. Автор: Noriaki Ushio. Владелец: Kao Corp. Дата публикации: 2023-12-20.

Al-p composite oxide and exhaust gas purifying catalyst using same

Номер патента: EP4265329A1. Автор: Yosuke Goto,Tatsuya KUMON,Yusaku MAEJIMA. Владелец: Umicore Shokubai Japan Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-25.

Method for controlling the oxidation and calcination of waste foundry sands

Номер патента: WO1993010926A1. Автор: Robert S. L. Andrews,Gerald J. Reier. Владелец: Gmd Engineered Systems, Inc.. Дата публикации: 1993-06-10.

Composite oxide and method for producing same

Номер патента: EP4292709A1. Автор: Takahiro Sato,Satoshi Watanabe. Владелец: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-20.

Process for treating human perspiration and body odors using magnesium oxide and a phosphate salt

Номер патента: US20240041715A1. Автор: Widad AJILI,Jean-Baptiste Galey. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2024-02-08.

Method of removing sulfur oxides and nitrogen oxides in the flue gas

Номер патента: US20140335005A1. Автор: Wei Wang,Jun Fu,Jiushun Zhang,Chaogang Xie,Anguo Mao,Dawei Guo,Jingchuan Yu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-11-13.

Therapy for mitochondrial fatty acid beta-oxidation and transport disorders

Номер патента: US11813258B2. Автор: Gerard VOCKLEY,Al-Walid A. MOHSEN. Владелец: University of Pittsburgh. Дата публикации: 2023-11-14.

Brominated polyphenylene oxide and flame retardant employing the brominated polyphenylene oxide

Номер патента: MY129683A. Автор: HIDEAKI Onishi. Владелец: Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd. Дата публикации: 2007-04-30.

Organosilicon on solid oxides, and related complexes, compositions, methods and systems

Номер патента: US20200079802A1. Автор: Matthew P. Conley,Damien B. CULVER. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2020-03-12.

Etching machine and etching device

Номер патента: RU2495754C2. Автор: Магомед Хабибович Магомедов. Владелец: Магомед Хабибович Магомедов. Дата публикации: 2013-10-20.

Tuyere for bottom gas metal purging in ladle and manufacturing method thereof

Номер патента: RU2373023C2. Автор: . Владелец: Завьялов Олег Александрович. Дата публикации: 2009-11-20.

Method for bottom water isolation in producing well

Номер патента: RU2263777C1. Автор: А.Е. Чикин. Владелец: Чикин Андрей Егорович. Дата публикации: 2005-11-10.

Method of and device for bottom discharge of loads from rail cars

Номер патента: RU2204519C1. Автор: Е.В. Основин. Владелец: Основин Евгений Владимирович. Дата публикации: 2003-05-20.

Device for bottom-hole orientation

Номер патента: RU2030575C1. Автор: В.Г. Жжонов,Г.М. Ишагулов,В.В. Залитов. Владелец: Жжонов Виктор Георгиевич. Дата публикации: 1995-03-10.

CRYSTALLINE CERIUM OXIDE AND PREPARATION METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120000137A1. Автор: CHOI Sang-Soon,CHO Seung-Beom,HA Hyun-Chul,KWAK Ick-Soon,CHO Jun-Yeon. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

RAPID CRYSTALLIZATION OF HEAVILY DOPED METAL OXIDES AND PRODUCTS PRODUCED THEREBY

Номер патента: US20120001172A1. Автор: Li Qi,Shang Jian-Ku. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

A method for preparing mixed amorphous vanadium oxides and their use as electrodes in rechargeable lithium cells

Номер патента: WO1998002929B1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1998-02-19.

Improvements in or relating to the Oxidation and Distillation of Tar, Naphtha and like Hydrocarbons.

Номер патента: GB190516182A. Автор: . Владелец: Combustibles Ind SA Des. Дата публикации: 1906-06-07.

Improvements in the Electrical Production of Iron Alloys with the Simultaneous Production of Alkaline Oxides and Alkaline Earths

Номер патента: GB190212702A. Автор: Gustave Gin. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-06-03.

Improvements in the Manufacture of Iron Oxides and Metallic Chlorides.

Номер патента: GB190004712A. Автор: James Hargreaves. Владелец: Individual. Дата публикации: 1901-02-09.

Auto-oxidation and internal heating type reforming method and apparatus for hydrogen production

Номер патента: CA2571914C. Автор: Saburo Maruko. Владелец: Nippon Chemical Plant Consultant Co Ltd. Дата публикации: 2009-09-29.

Block polymers of polyphenylene oxide and polystyrene

Номер патента: CA1131832A. Автор: Dwain M. White. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1982-09-14.

Layered oxides containing interlayer polymeric oxides and their synthesis

Номер патента: CA1251432A. Автор: Garry W. Kirker,Michael E. Landis,Pochen Chu. Владелец: Mobil Oil Corp. Дата публикации: 1989-03-21.