Gradient oxidation and etch of pvd molybdenum for bottom up gap fill
Номер патента: US20230343645A1
Опубликовано: 26-10-2023
Автор(ы): Annamalai Lakshmanan, Chih-Hsun Hsu, Chun-Chieh Wang, Jiang Lu, Meng-Shan WU, Shiyu Yue, Yixiong Yang
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 26-10-2023
Автор(ы): Annamalai Lakshmanan, Chih-Hsun Hsu, Chun-Chieh Wang, Jiang Lu, Meng-Shan WU, Shiyu Yue, Yixiong Yang
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Gradient oxidation and etch of pvd molybdenum for bottom up gap fill
Номер патента: WO2023211624A1. Автор: Jiang Lu,Chun-Chieh Wang,Annamalai Lakshmanan,Yixiong Yang,Chih-Hsun Hsu,Shiyu Yue,Meng-Shan WU. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-02.