THIN FILM FORMING APPARATUS AND RADICAL UNIT FOR FORMING THIN FILM
Номер патента: US20210222301A1
Опубликовано: 22-07-2021
Автор(ы): Kim Yong Weon, Shin Dong Hwa
Принадлежит: EQ TECH PLUS CO., LTD.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 22-07-2021
Автор(ы): Kim Yong Weon, Shin Dong Hwa
Принадлежит: EQ TECH PLUS CO., LTD.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Stacked-film-forming system, sputtering apparatus, and method for forming stacked film
Номер патента: US20080233301A1. Автор: Katsunori Takahashi,Kazuya Takahashi,Yoichi Sato. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2008-09-25.