NANOSHEET TRANSISTOR HAVING A STRAINED CHANNEL WITH STRAIN-PRESERVING MULTI-SEGMENTED SOURCE/DRAIN REGIONS
Номер патента: US20210234020A1
Опубликовано: 29-07-2021
Автор(ы): Bi Zhenxing, Conti Richard A., Loubet Nicolas, Mochizuki Shogo
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 29-07-2021
Автор(ы): Bi Zhenxing, Conti Richard A., Loubet Nicolas, Mochizuki Shogo
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Wraparound contact surrounding source/drain regions of integrated circuit structures and method of forming same
Номер патента: US20200075738A1. Автор: Hui Zang,Laertis Economikos,Ruilong Xie,Shesh M. Pandey. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2020-03-05.