• Главная
  • NANOSHEET TRANSISTOR HAVING A STRAINED CHANNEL WITH STRAIN-PRESERVING MULTI-SEGMENTED SOURCE/DRAIN REGIONS

NANOSHEET TRANSISTOR HAVING A STRAINED CHANNEL WITH STRAIN-PRESERVING MULTI-SEGMENTED SOURCE/DRAIN REGIONS

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Methods for high-k metal gate CMOS with SiC and SiGe source/drain regions

Номер патента: US09595585B2. Автор: Gang MAO. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2017-03-14.

Semiconductor device including source/drain region

Номер патента: US20220102497A1. Автор: Seung Hun Lee,Young Dae Cho,Su Jin Jung,Sung Uk JANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-31.

Method of reducing junction capacitance of source/drain region

Номер патента: US6383883B1. Автор: Kuan-Cheng Su,Yao-Chin Cheng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-05-07.

Transistor source/drain regions

Номер патента: US20240371930A1. Автор: Yee-Chia Yeo,Wei-Yuan Lu,Chien-I Kuo,Chia-Pin Lin,Wei-Jen Lai,Yan-Ting Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Device with stepped source/drain region profile

Номер патента: US7335959B2. Автор: Bernhard Sell,Chris Auth,Sunit Tyagi,Giuseppe Curello. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2008-02-26.

Three part source/drain region structure for transistor

Номер патента: US20210320207A1. Автор: Haiting Wang,Judson R. Holt,Sipeng Gu. Владелец: GlobalFoundries US Inc. Дата публикации: 2021-10-14.

Arsenic-doped epitaxial source/drain regions for NMOS

Номер патента: US12094881B2. Автор: Anand Murthy,Ritesh JHAVERI,Nicholas G. MINUTILLO,Ryan KEECH. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Arsenic-doped epitaxial source/drain regions for nmos

Номер патента: US20230197729A1. Автор: Anand Murthy,Ritesh JHAVERI,Nicholas G. MINUTILLO,Ryan KEECH. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2023-06-22.

Nanostructure field-effect transistors with enhanced mobility source/drain regions

Номер патента: US09978836B1. Автор: Bartlomiej J. Pawlak. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-05-22.

Nanostructure field-effect transistors with enhanced mobility source/drain regions

Номер патента: US20180130878A1. Автор: Bartlomiej J. Pawlak. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-05-10.

Transistors with hybrid source/drain regions

Номер патента: US20220028854A1. Автор: Wenjun Li,Man Gu. Владелец: GlobalFoundries US Inc. Дата публикации: 2022-01-27.

Silicidation of source/drain region of vertical field effect transistor (vfet) structure

Номер патента: US20210242025A1. Автор: Min Gyu Kim,Hwi Chan Jun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-08-05.

MOS transistor including extended NLDD source-drain regions for improved ruggedness

Номер патента: TW201123311A. Автор: Martin Alter. Владелец: Micrel Inc. Дата публикации: 2011-07-01.

NANOWIRE TRANSISTOR STRUCTURES WITH MERGED SOURCE/DRAIN REGIONS USING AUXILIARY PILLARS

Номер патента: US20160064482A1. Автор: Reznicek Alexander,Khakifirooz Ali,Hashemi Pouya. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-03.

Forming source/drain region in stacked fet structure

Номер патента: US20240120380A1. Автор: Chen Zhang,Shogo Mochizuki,Ruilong Xie,Tenko Yamashita. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-04-11.

Raised source/drain regions in mos device

Номер патента: WO2008144629A1. Автор: Seetharaman Sridhar,Majid Mansoori. Владелец: TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED. Дата публикации: 2008-11-27.

Semiconductor device including dual-layer source/drain region

Номер патента: US09793400B2. Автор: Kangguo Cheng,Zhen Zhang,Robert H. Dennard. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Semiconductor device including dual-layer source/drain region

Номер патента: US09748336B2. Автор: Kangguo Cheng,Zhen Zhang,Robert H. Dennard. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Epitaxial source/drain regions in FinFETs and methods for forming the same

Номер патента: US09496398B2. Автор: Tung Ying Lee,Chen-Han Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Device with diffusion blocking layer in source/drain region

Номер патента: US09947788B2. Автор: Shesh Mani Pandey,Pei ZHAO,Baofu ZHU,Francis L. Benistant. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Device with epitaxial source/drain region

Номер патента: US20240321966A1. Автор: Shahaji B. More. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Method of manufacturing source/drain regions having a deep junction

Номер патента: EP1264337A1. Автор: David Donggang Wu. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2002-12-11.

Semiconductor device including dual-layer source/drain region

Номер патента: US20170104101A1. Автор: Kangguo Cheng,Zhen Zhang,Robert H. Dennard. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-04-13.

Semiconductor device including dual-layer source/drain region

Номер патента: US20170104065A1. Автор: Kangguo Cheng,Zhen Zhang,Robert H. Dennard. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-04-13.

Semiconductor memory devices having an undercut source/drain region

Номер патента: US20180197867A1. Автор: Hui Zang,Manfred Eller. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-07-12.

Semiconductor memory devices having an undercut source/drain region

Номер патента: US20190198503A1. Автор: Hui Zang,Manfred Eller. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

Semiconductor memory devices having an undercut source/drain region

Номер патента: US10157927B2. Автор: Hui Zang,Manfred Eller. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-12-18.

Field-effect transistors with source/drain regions of reduced topography

Номер патента: US09536989B1. Автор: Viorel Ontalus,Annie Levesque. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Heterogeneous source drain region and extension region

Номер патента: US09472628B2. Автор: Kangguo Cheng,Pouya Hashemi,Alexander Reznicek,Ali Khakifirooz. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Semiconductor device having LDD-type source/drain regions and fabrication method thereof

Номер патента: US6818489B2. Автор: Do-Hyung Kim,Jin-Ho Kim,Byung-Jun Hwang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-11-16.

Semiconductor Device Convex Source/Drain Region

Номер патента: US20200111712A1. Автор: Chii-Horng Li,Chien-I Kuo,Li-Li Su,Tzu-Ching Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-09.

Semiconductor Device Convex Source/Drain Region

Номер патента: US20200111711A1. Автор: Chii-Horng Li,Chien-I Kuo,Li-Li Su,Tzu-Ching Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-09.

Semiconductor Device Convex Source/Drain Region

Номер патента: US20190393095A1. Автор: Chii-Horng Li,Chien-I Kuo,Li-Li Su,Tzu-Ching Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Semiconductor device convex source/drain region

Номер патента: US11004745B2. Автор: Chii-Horng Li,Chien-I Kuo,Li-Li Su,Tzu-Ching Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-05-11.

Finfet with source/drain regions comprising an insulator layer

Номер патента: US20240021466A1. Автор: Tuoh Bin Ng,Tzu-Ching Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

FinFet with source/drain regions comprising an insulator layer

Номер патента: US11823949B2. Автор: Tuoh Bin Ng,Tzu-Ching Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Device with epitaxial source/drain region

Номер патента: US20220102496A1. Автор: Shahaji B. More. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-03-31.

Device with epitaxial source/drain region

Номер патента: US12046636B2. Автор: Shahaji B. More. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Methods of forming embedded source/drain regions on finFET devices

Номер патента: US09530869B2. Автор: Murat Kerem Akarvardar,Jody A. FRONHEISER,Steven Bentley. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-12-27.

Device with epitaxial source/drain region

Номер патента: US20220393000A1. Автор: Shahaji B. More. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Methods of forming embedded source/drain regions on finfet devices

Номер патента: US20160268399A1. Автор: Murat Kerem Akarvardar,Jody A. FRONHEISER,Steven Bentley. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-09-15.

Nanosheet device with air-gaped source/drain regions

Номер патента: US20230178596A1. Автор: Yi Song,Kangguo Cheng,Ruilong Xie,Huimei Zhou. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Formation of silicided surfaces for silicon/carbon source/drain regions

Номер патента: US20070200176A1. Автор: Sven Beyer,Rolf Stephan,Thorsten Kammler,Patrick Press. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2007-08-30.

HETEROGENEOUS SOURCE DRAIN REGION AND EXTENSION REGION

Номер патента: US20160359046A1. Автор: Cheng Kangguo,Reznicek Alexander,Khakifirooz Ali,Hashemi Pouya. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-08.

EPI integrality on source/drain region of FinFET

Номер патента: US10332980B2. Автор: Zhaoxu Shen. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2019-06-25.

EPI INTEGRALITY ON SOURCE/DRAIN REGION OF FINFET

Номер патента: US20180006135A1. Автор: SHEN Zhaoxu. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-04.

CONTACT TO SOURCE/DRAIN REGIONS AND METHOD OF FORMING SAME

Номер патента: US20190081145A1. Автор: Xie Ruilong,Prindle Christopher M.,Raymond Mark V.,Cave Nigel G.. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-14.

Epitaxial Source/Drain Regions in FinFETs and Methods for Forming the Same

Номер патента: US20150200271A1. Автор: Lee Tung Ying,WANG Chen-Han. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2015-07-16.

USING SELECTIVELY FORMED CAP LAYERS TO FORM SELF-ALIGNED CONTACTS TO SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20210280690A1. Автор: Cheng Kangguo,Xie Ruilong,Park Chanro,Lee Choonghyun. Владелец: . Дата публикации: 2021-09-09.

SOURCE/DRAIN REGIONS OF FINFET DEVICES AND METHODS OF FORMING SAME

Номер патента: US20210391456A1. Автор: SUNG Hsueh-Chang,Li Kun-Mu,Lee Yen-Ru,TING Heng-Wen. Владелец: . Дата публикации: 2021-12-16.

INTERFACE-LESS CONTACTS TO SOURCE/DRAIN REGIONS AND GATE ELECTRODE OVER ACTIVE PORTION OF DEVICE

Номер патента: US20190355829A1. Автор: Basker Veeraraghavan S.,Wang Junli,Bu Huiming. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-21.

Fabricating transistors having resurfaced source/drain regions with stressed portions

Номер патента: US09559166B2. Автор: Min-Hwa Chi,Bharat Krishnan,Shishir Ray. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Embedded stressors in epitaxy source/drain regions

Номер патента: US20230377979A1. Автор: Shahaji B. More. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Inner spacer formation for nanosheet transistors

Номер патента: US12046680B2. Автор: Yi Song,Muthumanickam Sankarapandian,Chi-chun Liu,Robin Hsin Kuo Chao. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Inner spacer formation for nanosheet transistors

Номер патента: US20230114163A1. Автор: Yi Song,Muthumanickam Sankarapandian,Chi-chun Liu,Robin Hsin Kuo Chao. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-04-13.

Nanosheet transistor with inner spacers

Номер патента: US11764265B2. Автор: Kangguo Cheng,Ruilong Xie,Juntao Li,Julien Frougier. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Nanosheet transistors with inner airgaps

Номер патента: US20210020741A1. Автор: LAN Yu,Alexander Reznicek,Ruilong Xie,Heng Wu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-01-21.

Nanosheet transistors with inner airgaps

Номер патента: US11557651B2. Автор: LAN Yu,Alexander Reznicek,Ruilong Xie,Heng Wu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-01-17.

Nanosheet transistors with inner airgaps

Номер патента: US20210151556A1. Автор: LAN Yu,Alexander Reznicek,Ruilong Xie,Heng Wu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-05-20.

Nanosheet transistor with enhanced bottom isolation

Номер патента: US11942557B2. Автор: LAN Yu,Andrew M. Greene,Heng Wu,Wenyu Xu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-03-26.

Methods of forming 3d devices with dielectric isolation and a strained channel region

Номер патента: US20160118472A1. Автор: YI Qi. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-04-28.

Semiconductor device having a contact pad

Номер патента: US20080111196A1. Автор: Yasushi Yamazaki. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2008-05-15.

Semiconductor device having strained channels

Номер патента: US20220367670A1. Автор: Wei-Yuan Lu,Chia-Pin Lin,Wei-Jen Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Semiconductor device having strained channels

Номер патента: US11791402B2. Автор: Wei-Yuan Lu,Chia-Pin Lin,Wei-Jen Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Transistor having forked nanosheets with wraparound contacts

Номер патента: US20210358911A1. Автор: Alexander Reznicek,Jingyun Zhang,Xin Miao,Ruilong Xie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-11-18.

Source/Drain Regions and Methods of Forming Same

Номер патента: US20240379454A1. Автор: Yee-Chia Yeo,Chii-Horng Li,Li-Li Su,Hui-Lin Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Transistor structure with hybrid gate dielectric structure and asymmetric source/drain regions

Номер патента: US20240030343A1. Автор: Jagar Singh,Man Gu,Saloni Chaurasia. Владелец: GlobalFoundries US Inc. Дата публикации: 2024-01-25.

TRANSISTOR HAVING CONFINED SOURCE/DRAIN REGIONS WITH WRAP-AROUND SOURCE/DRAIN CONTACTS

Номер патента: US20210226032A1. Автор: Cheng Kangguo,Reznicek Alexander,Xie Ruilong,Bergendahl Marc A.. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-22.

Method of forming source/drain regions with expanded widths

Номер патента: US12034077B2. Автор: Chi-Wen Liu,Kuo-Cheng Chiang,Ying-Keung Leung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

STRUCTURE TO ENABLE TITANIUM CONTACT LINER ON pFET SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20170012120A1. Автор: Basker Veeraraghavan S.,Reznicek Alexander,Fogel Keith E.,Munro Nicole S.. Владелец: . Дата публикации: 2017-01-12.

TRANSISTOR WITH STRAINED SUPERLATTICE AS SOURCE/DRAIN REGION

Номер патента: US20210057579A1. Автор: Chen Chun-Jen,Huang Jhong-Yi,Tang Chi-Hsuan,Chen Bo-Shiun,Huang Chung-Ting,Wu Guan-Ying. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-25.

Semiconductor device including source/drain region

Номер патента: US20220102497A1. Автор: Seung Hun Lee,Young Dae Cho,Su Jin Jung,Sung Uk JANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-31.

SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING DUAL-LAYER SOURCE/DRAIN REGION

Номер патента: US20170104065A1. Автор: Cheng Kangguo,Zhang Zhen,Dennard Robert H.. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-13.

NANOSTRUCTURE FIELD-EFFECT TRANSISTORS WITH ENHANCED MOBILITY SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20180130878A1. Автор: Pawlak Bartlomiej J.. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-10.

STRUCTURE TO ENABLE TITANIUM CONTACT LINER ON pFET SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20200127132A1. Автор: Basker Veeraraghavan S.,Reznicek Alexander,Fogel Keith E.,Munro Nicole S.. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-23.

Semiconductor device including source/drain region

Номер патента: US20200152740A1. Автор: Seung Hun Lee,Young Dae Cho,Su Jin Jung,Sung Uk JANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-05-14.

NOVEL SOURCE/DRAIN REGIONS FOR TRANSISTOR DEVICES AND METHODS OF FORMING SAME

Номер патента: US20210234045A1. Автор: Holt Judson R.,ZHU Baofu,Malinowski Arkadiusz,Mishra Shiv Kumar. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-29.

METHODS OF FORMING UPPER SOURCE/DRAIN REGIONS ON A VERTICAL TRANSISTOR DEVICE

Номер патента: US20180248046A1. Автор: Zhang John,Shu Jiehui,Huang Haigou,Wu Xusheng. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-30.

SOURCE/DRAIN REGIONS FOR FIN FIELD EFFECT TRANSISTORS AND METHODS OF FORMING SAME

Номер патента: US20160268434A1. Автор: LIU Chi-Wen,Ching Kuo-Cheng. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-15.

Method for fabricating a semiconductor device having shallow source/drain regions

Номер патента: KR100510525B1. Автор: 이상진,김경수,강희성,오창봉. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2005-08-26.

Semiconductor structure including stepped source/drain region

Номер патента: TW200845390A. Автор: Huilong Zhu,Zhi-Jiong Luo,Sunfei Fang,Thomas W Dyer. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2008-11-16.

Methods of forming upper source/drain regions on a vertical transistor device

Номер патента: US10229999B2. Автор: John Zhang,Xusheng Wu,Jiehui SHU,Haigou Huang. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2019-03-12.

Source/drain regions in integrated circuit structures

Номер патента: US11450738B2. Автор: Glenn A. Glass,Anand S. Murthy,Sean T. MA,Biswajeet Guha. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2022-09-20.

Method of forming source/drain regions in a semiconductor device

Номер патента: US6720227B1. Автор: Basab Bandyopadhyay,Jon D. Cheek,Daniel Kadosh,James F. Buller. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2004-04-13.

Self-aligned contact (sac) in nanosheet transistors

Номер патента: US20230290821A1. Автор: Kangguo Cheng,Ruilong Xie,Chanro Park,Julien Frougier. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Transistors having strained channel under gate in a recess

Номер патента: US09876109B2. Автор: Mark Fischer,Satoru Mayuzumi. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Transistors having strained channel under gate in a recess

Номер патента: US09640656B2. Автор: Mark Fischer,Satoru Mayuzumi. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-02.

Vertical field effect transistor with strained channel

Номер патента: US20230411523A1. Автор: Kangguo Cheng,Shogo Mochizuki,Juntao Li. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

2d channel with self-aligned source/drain

Номер патента: US20230037927A1. Автор: Jin Cai,Cheng-Ting Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Thin film transistor having ldd structure

Номер патента: US20070249108A1. Автор: Kyu-hwan Choi. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2007-10-25.

Vertical field effect transistor having u-shaped top spacer

Номер патента: US20190122935A1. Автор: Chen Zhang,Kangguo Cheng,Xin Miao,Wenyu Xu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-04-25.

Stacked transistors having bottom contact with replacement spacer

Номер патента: US20230335554A1. Автор: Kangguo Cheng,Ruilong Xie,Heng Wu,Julien Frougier. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Source/Drain Regions and Methods of Forming Same

Номер патента: US20230377989A1. Автор: Yee-Chia Yeo,Chii-Horng Li,Li-Li Su,Hui-Lin Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Metal oxide semiconductor having epitaxial source drain regions and a method of manufacturing same using dummy gate process

Номер патента: US09865733B2. Автор: Yasushi Tateshita. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Metal oxide semiconductor having epitaxial source drain regions and a method of manufacturing same using dummy gate process

Номер патента: US09673326B2. Автор: Yasushi Tateshita. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Metal oxide semiconductor having epitaxial source drain regions and a method of manufacturing same using dummy gate process

Номер патента: US09502529B2. Автор: Yasushi Tateshita. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Metal oxide semiconductor having epitaxial source drain regions and a method of manufacturing same using dummy gate process

Номер патента: US09419096B2. Автор: Yasushi Tateshita. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

METAL OXIDE SEMICONDUCTOR HAVING EPITAXIAL SOURCE DRAIN REGIONS AND A METHOD OF MANUFACTURING SAME USING DUMMY GATE PROCESS

Номер патента: US20210074858A1. Автор: Tateshita Yasushi. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-11.

SIMPLIFIED GATE TO SOURCE/DRAIN REGION CONNECTIONS

Номер патента: US20180240885A1. Автор: Luning Scott D.,Pritchard David,Neogi Tuhin Guha,Punchihewa Kasun Anupama. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-23.

Air gap adjacent a bottom source/drain region of vertical transistor device

Номер патента: US20180308930A1. Автор: Kangguo Cheng,Ruilong Xie,Tenko Yamashita,Chun-Chen Yeh. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-10-25.

Field effect transistors including source/drain regions extending beneath pillars

Номер патента: CN101093855A. Автор: 尹在万,徐亨源,金奉秀,孙英雄. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-12-26.

Forming strained channel with germanium condensation

Номер патента: US20180358460A1. Автор: Jie Yang,Kangguo Cheng,Shogo Mochizuki. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-12-13.

Nanosheet transistors on bulk material

Номер патента: US20180331179A1. Автор: Kangguo Cheng,Ruilong Xie,Tenko Yamashita,Chun-Chen Yeh. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-11-15.

Forming strained channel with germanium condensation

Номер патента: US20180108769A1. Автор: Jie Yang,Kangguo Cheng,Shogo Mochizuki. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-04-19.

Producing stress in nanosheet transistor channels

Номер патента: US20240213325A1. Автор: Robert Robison,Reinaldo Vega,Mohammad Hasanuzzaman. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Transistor having a stressed body

Номер патента: US9123809B2. Автор: Qing Liu,Nicolas Loubet,Prasanna Khare. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2015-09-01.

Transistor having a stressed body

Номер патента: US20150008521A1. Автор: Qing Liu,Nicolas Loubet,Prasanna Khare. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2015-01-08.

Vertical field effect transistor having U-shaped top spacer

Номер патента: US09859166B1. Автор: Chen Zhang,Kangguo Cheng,Xin Miao,Wenyu Xu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

FinFET with high mobility and strain channel

Номер патента: US09997629B2. Автор: Chi-Hsi Wu,Kuo-Chiang Ting,Hou-Ju Li,Kao-Ting Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Systems and methods for forming finFET analog designs having a modular memory-like layout

Номер патента: US10978592B1. Автор: HUI Wang,Runzi Chang. Владелец: Marvell Asia Pte Ltd. Дата публикации: 2021-04-13.

Finfet devices having a material formed on reduced source/drain region

Номер патента: US20170229559A1. Автор: Xinyun Xie. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2017-08-10.

Field effect transistors having a fin

Номер патента: US20150349126A1. Автор: Toru Tanzawa. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2015-12-03.

Method for manufacturing a semiconductor device having a low junction leakage current

Номер патента: US20050153528A1. Автор: Kensuke Okonogi,Kiyonori Oyu. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2005-07-14.

Vertical field effect transistor having U-shaped top spacer

Номер патента: US10032676B1. Автор: Chen Zhang,Kangguo Cheng,Xin Miao,Wenyu Xu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-07-24.

FinFET with High Mobility and Strain Channel

Номер патента: US20160293762A1. Автор: Chi-Hsi Wu,Kuo-Chiang Ting,Hou-Ju Li,Kao-Ting Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Field effect transistors having a fin

Номер патента: US20180374937A1. Автор: Toru Tanzawa. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-12-27.

Field effect transistors having a fin

Номер патента: US20190348529A1. Автор: Toru Tanzawa. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-14.

Field effect transistors having a fin

Номер патента: US10573728B2. Автор: Toru Tanzawa. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2020-02-25.

Fabricating strained channel epitaxial source/drain transistors

Номер патента: US20070194391A1. Автор: Justin Brask,Boyan Boyanov,Anand Murthy,Nick Lindert,Andrew Westmeyer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-08-23.

Rf switch device with a sidewall spacer having a low dielectric constant

Номер патента: US20220223714A1. Автор: Cheng-ta Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-07-14.

Rf switch device with a sidewall spacer having a low dielectric constant

Номер патента: US20240154023A1. Автор: Cheng-ta Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Methods of forming graphene contacts on source/drain regions of FinFET devices

Номер патента: US09972537B2. Автор: Ajey Poovannummoottil Jacob. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Silicon germanium source/drain regions

Номер патента: US09887290B2. Автор: Clement Hsingjen Wann,Chih-Hsin Ko,Yao-Tsung Huang,Ji-Yin Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Graphene contacts on source/drain regions of FinFET devices

Номер патента: US10325812B2. Автор: Ajey Poovannummoottil Jacob. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2019-06-18.

FABRICATING TRANSISTORS HAVING RESURFACED SOURCE/DRAIN REGIONS WITH STRESSED PORTIONS

Номер патента: US20160225852A1. Автор: Chi Min-Hwa,Ray Shishir,KRISHNAN Bharat. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2016-08-04.

RF switch device with a sidewall spacer having a low dielectric constant

Номер патента: US11901435B2. Автор: Cheng-ta Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Rf switch device with a sidewall spacer having a low dielectric constant

Номер патента: US20210066472A1. Автор: Cheng-ta Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

HETEROGENEOUS SOURCE DRAIN REGION AND EXTENSION REGION

Номер патента: US20160013313A1. Автор: Cheng Kangguo,Reznicek Alexander,Khakifirooz Ali,Hashemi Pouya. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-14.

HETEROGENEOUS SOURCE DRAIN REGION AND EXTENSION REGION

Номер патента: US20180069124A1. Автор: Cheng Kangguo,Reznicek Alexander,Khakifirooz Ali,Hashemi Pouya. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-08.

FINFET DEVICES HAVING A MATERIAL FORMED ON REDUCED SOURCE/DRAIN REGION

Номер патента: US20170229559A1. Автор: XIE Xinyun. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-10.

Methods of forming source/drain regions on finfet devices

Номер патента: US20170294522A1. Автор: Srikanth Balaji Samavedam,Shesh Mani Pandey,Muhammad Rahman. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-10-12.

Finfet devices with different fin heights in the channel and source/drain regions

Номер патента: US20150279999A1. Автор: Xiuyu Cai,Ruilong Xie,Andy C. Wei. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2015-10-01.

FinFET with merged, epitaxial source/drain regions

Номер патента: US09882054B2. Автор: Yu-Cheng Tung,En-Chiuan Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

METHODS OF FORMING SOURCE/DRAIN REGIONS OF A FINFET DEVICE AND THE RESULTING STRUCTURES

Номер патента: US20210020515A1. Автор: Gu Man,Liu Bingwu,Chu Tao. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-21.

Embedded Stressors in Epitaxy Source/Drain Regions

Номер патента: US20220051945A1. Автор: MORE Shahaji B.. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-17.

Methods for Forming Recesses in Source/Drain Regions and Devices Formed Thereof

Номер патента: US20200035797A1. Автор: HUANG Yu-Lien. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-30.

METHOD OF FORMING SOURCE/DRAIN REGIONS OF TRANSISTORS

Номер патента: US20200051871A1. Автор: Chen Wei-Li,Tsai Ching-Wei,Tu Yeur-Luen,Cheng Yu-Hung,Lin Tung-I. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-13.

SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING TIPLESS EPITAXIAL SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20200058791A1. Автор: Bohr Mark T.. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2020-02-20.

METAL OXIDE SEMICONDUCTOR HAVING EPITAXIAL SOURCE DRAIN REGIONS AND A METHOD OF MANUFACTURING SAME USING DUMMY GATE PROCESS

Номер патента: US20180076325A1. Автор: Tateshita Yasushi. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-15.

DEVICE WITH EPITAXIAL SOURCE/DRAIN REGION

Номер патента: US20220102496A1. Автор: MORE Shahaji B.. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-31.

Epitaxy Source/Drain Regions of FinFETs and Method Forming Same

Номер патента: US20190097026A1. Автор: HSU PIN-CHENG,Shen Guan-Jie,Hung Tung-Husan. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-28.

Arsenic-doped epitaxial source/drain regions for nmos

Номер патента: US20200105754A1. Автор: Anand Murthy,Ritesh JHAVERI,Nicholas G. MINUTILLO,Ryan KEECH. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2020-04-02.

Semiconductor Device Convex Source/Drain Region

Номер патента: US20200111711A1. Автор: Li Chii-Horng,KUO Chien-I,LIN TZU-CHING,Su Li-Li. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-09.

Semiconductor Device Convex Source/Drain Region

Номер патента: US20200111712A1. Автор: Li Chii-Horng,KUO Chien-I,LIN TZU-CHING,Su Li-Li. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-09.

SOURCE/DRAIN REGIONS IN FIN FIELD EFFECT TRANSISTORS (FINFETS) AND METHODS OF FORMING SAME

Номер патента: US20200126982A1. Автор: Chang Che-Cheng,LIN Chih-Han,Tseng Horng-Huei. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-23.

ELONGATED SOURCE/DRAIN REGION STRUCTURE IN FINFET DEVICE

Номер патента: US20180151731A1. Автор: Yang Feng-Cheng,LEE Wei-Yang,Li Chii-Horng,Chen Ting-Yeh. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-31.

NITRIDE LAYER PROTECTION BETWEEN PFET SOURCE/DRAIN REGIONS AND DUMMY GATE DURING SOURCE/DRAIN ETCH

Номер патента: US20160163859A1. Автор: ZHANG Qi,Wu Xusheng,PARK Jeasung,MO Hongxiang,MIN Byoung-Gi. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-09.

Engineered Source/Drain Region for N-Type MOSFET

Номер патента: US20140252468A1. Автор: CHEN Jyh-Huei,Lu Wei-Yuan,HUANG Chun-Hung,Li Chii-Horng,SU Lilly. Владелец: TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO. LTD.. Дата публикации: 2014-09-11.

DEVICE WITH DIFFUSION BLOCKING LAYER IN SOURCE/DRAIN REGION

Номер патента: US20180175198A1. Автор: Pandey Shesh Mani,ZHU Baofu,Zhao Pei,Benistant Francis L.. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-21.

VERTICAL FIELD EFFECT TRANSISTOR WITH BOTTOM SOURCE-DRAIN REGION

Номер патента: US20210210632A1. Автор: Reznicek Alexander,Yeh Chun-chen,Xie Ruilong,Pranatharthi Haran Balasubramanian S.. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-08.

SOI BASED FINFET WITH STRAINED SOURCE-DRAIN REGIONS

Номер патента: US20160190302A1. Автор: Bedell Stephen W.,Sadana Devendra K.,Reznicek Alexander,Fogel Keith E.,Schepis Dominic J.,de Souza Joel P.. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-30.

Selective NFET/PFET Recess of Source/Drain Regions

Номер патента: US20200185278A1. Автор: Chen Chien-An,WANG Peng,Lin Huan-Just,Chen Huang-Ming,Wang Guan-Ren,Chang Yun-Min. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-11.

SEMICONDUCTOR DEVICE WITH SILICIDED SOURCE/DRAIN REGION

Номер патента: US20180197955A1. Автор: Huang Chien-Chao,Yeo Yee-Chia,LIN Chun-Chieh,Wang Chao-Hsiung,Hu Chenming. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-12.

Semiconductor memory devices having an undercut source/drain region

Номер патента: US20190198503A1. Автор: Hui Zang,Manfred Eller. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

SILICIDATION OF SOURCE/DRAIN REGION OF VERTICAL FIELD EFFECT TRANSISTOR (VFET) STRUCTURE

Номер патента: US20210242025A1. Автор: Kim Min Gyu,Jun Hwi Chan. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2021-08-05.

DEVICE WITH DIFFUSION BLOCKING LAYER IN SOURCE/DRAIN REGION

Номер патента: US20170229578A1. Автор: Pandey Shesh Mani,ZHU Baofu,Zhao Pei,Benistant Francis L.. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-10.

Source/Drain Regions in Fin Field Effect Transistors (FinFETS) and Methods of Forming Same

Номер патента: US20210265341A1. Автор: Chang Che-Cheng,LIN Chih-Han,Tseng Horng-Huei. Владелец: . Дата публикации: 2021-08-26.

METHODS OF FORMING GRAPHENE CONTACTS ON SOURCE/DRAIN REGIONS OF FINFET DEVICES

Номер патента: US20170243791A1. Автор: JACOB Ajey Poovannummoottil. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-24.

DOPING PROFILE FOR STRAINED SOURCE/DRAIN REGION

Номер патента: US20170243975A1. Автор: Lee Tze-Liang,KWOK Tsz-Mei,SUNG Hsueh-Chang,Li Chii-Horng,Li Kun-Mu. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-24.

HYBRID FINFET STRUCTURE WITH BULK SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20190237564A1. Автор: Jan Chia-Hong,Hafez Walid M.,Ramaswamy Rahul,OLAC-VAW Roman W.,LEE CHEN-GUAN,CHANG Hsu-Yu,DIAS Neville L.. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-01.

SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20190245076A1. Автор: Lee Jeong-Yun,LIM Bo-ra,SEONG Geum-jung,JI Ah-reum. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2019-08-08.

METHODS OF FORMING EMBEDDED SOURCE/DRAIN REGIONS ON FINFET DEVICES

Номер патента: US20160268399A1. Автор: Fronheiser Jody A.,AKARVARDAR Murat Kerem,Bentley Steven. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-15.

FIN SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURE WITH SOURCE/DRAIN REGIONS HAVING OPPOSITE CONDUCTIVITIES

Номер патента: US20170278946A1. Автор: Duriez Blandine,Afzalian Aryan. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-28.

METHODS OF FORMING SOURCE/DRAIN REGIONS ON FINFET DEVICES

Номер патента: US20170294522A1. Автор: Pandey Shesh Mani,Rahman Muhammad,SAMAVEDAM Srikanth Balaji. Владелец: . Дата публикации: 2017-10-12.

SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING TIPLESS EPITAXIAL SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20170338347A1. Автор: Bohr Mark T.. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2017-11-23.

SELECTIVE NFET/PFET RECESS OF SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20190333820A1. Автор: Chen Chien-An,WANG Peng,Lin Huan-Just,Chen Huang-Ming,Wang Guan-Ren,Chang Yun-Min. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-31.

SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING TIPLESS EPITAXIAL SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20200335626A1. Автор: Bohr Mark T.. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2020-10-22.

Methods for Forming Recesses in Source/Drain Regions and Devices Formed Thereof

Номер патента: US20200343351A1. Автор: HUANG Yu-Lien. Владелец: . Дата публикации: 2020-10-29.

Semiconductor Device Convex Source/Drain Region

Номер патента: US20190393095A1. Автор: Li Chii-Horng,KUO Chien-I,LIN TZU-CHING,Su Li-Li. Владелец: . Дата публикации: 2019-12-26.

SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING TIPLESS EPITAXIAL SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20220359753A1. Автор: Bohr Mark T.. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2022-11-10.

Engineered Source/drain Region For N-type Mosfet

Номер патента: CN104037224A. Автор: 陈志辉,李启弘,吕伟元,舒丽丽,黃俊鸿. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-09-10.

Semiconductor device having tipless epitaxial source/drain regions

Номер патента: EP2302668A2. Автор: Mark T. Bohr. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2011-03-30.

Semiconductor device having tipless epitaxial source/drain regions

Номер патента: KR101389715B1. Автор: 마크 티 볼. Владелец: 인텔 코포레이션. Дата публикации: 2014-04-29.

Shallow source/drain regions for CMOS transistors

Номер патента: US20070037326A1. Автор: Chien-Hao Chen,Tze-Liang Lee,Chun-Feng Nieh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2007-02-15.

Transistor with asymmetrically arranged source/drain regions

Номер патента: CN113224137A. Автор: 李文君,谷曼. Владелец: GlobalFoundries US Inc. Дата публикации: 2021-08-06.

Semiconductor device having tipless epitaxial source/drain regions

Номер патента: US10490662B2. Автор: Mark T. Bohr. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2019-11-26.

Semiconductor device having tipless epitaxial source/drain regions

Номер патента: EP2149150A4. Автор: Mark T Bohr. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2012-02-22.

Device with diffusion barrier layer in source/drain regions

Номер патента: CN107045987B. Автор: 赵沛,S·M·潘迪,朱宝富,F·L·贝尼斯坦特. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2020-08-21.

Methods of forming source/drain regions on FinFET devices

Номер патента: US10347748B2. Автор: Srikanth Balaji Samavedam,Shesh Mani Pandey,Muhammad Rahman. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2019-07-09.

Semiconductor device having tipless epitaxial source/drain regions and manufacturing method

Номер патента: CN101681842B. Автор: M·T·博尔. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2011-07-13.

Tensile strained NMOS transistor using group III-N source/drain regions

Номер патента: US7592213B2. Автор: Jack T. Kavalieros,Justin K. Brask,Suman Datta,Mantu K. Hudait,Been-Yih Jin. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2009-09-22.

Semiconductor device having tipless epitaxial source/drain regions

Номер патента: EP3151267B1. Автор: Mark T. Bohr. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-12.

Transistor Architecture having extended recessed spacer and source/drain regions and method of making same

Номер патента: GB201513898D0. Автор: . Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2015-09-23.

Nanosheet transistors with different gate materials in same stack and method of making

Номер патента: US11776856B2. Автор: Anirban Roy,Mark Douglas Hall,Tushar Praful Merchant. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2023-10-03.

Inner spacer for nanosheet transistors

Номер патента: US20200098860A1. Автор: Peng Xu,Kangguo Cheng,ChoongHyun Lee,Juntao Li. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-03-26.

Nanosheet transistor device with bottom isolation

Номер патента: US20210074809A1. Автор: Andrew M. Greene,Ruilong Xie,Veeraraghavan S. Basker,Pietro Montanini. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-03-11.

Semiconductor device having nanosheet transistor and methods of fabrication thereof

Номер патента: US20240250124A1. Автор: Shu-Wen Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Semiconductor device having nanosheet transistor and methods of fabrication thereof

Номер патента: US20220320283A1. Автор: Shu-Wen Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-10-06.

Semiconductor device having nanosheet transistor and methods of fabrication thereof

Номер патента: US20230095479A1. Автор: Shu-Wen Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Semiconductor device having nanosheet transistor and methods of fabrication thereof

Номер патента: US11961887B2. Автор: Shu-Wen Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Deep etch processing for transistors having varying pitch

Номер патента: US20230282718A1. Автор: Tahir Ghani,Charles H. Wallace,Mohammad Hasan,Leonard P. GULER. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Transistors having different channel lengths and comparable source/drain spaces

Номер патента: US20240297218A1. Автор: Haining Yang,Hyunwoo Park,Junjing Bao,Kwanyong LIM. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Transistors having different channel lengths and comparable source/drain spaces

Номер патента: WO2024186460A1. Автор: Haining Yang,Hyunwoo Park,Junjing Bao,Kwanyong LIM. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2024-09-12.

DMOS transistor having thick gate oxide and STI and method of fabricating

Номер патента: US12113128B2. Автор: Alexei Sadovnikov,Natalia Lavrovskaya. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Devices including stacked nanosheet transistors

Номер патента: US11843001B2. Автор: Kang-ill Seo,Seunghyun Song,Byounghak Hong,Ki-Il KIM,Gunho JO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-12.

Devices including stacked nanosheet transistors

Номер патента: US20240072060A1. Автор: Kang-ill Seo,Seunghyun Song,Byounghak Hong,Ki-Il KIM,Gunho JO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-29.

Forming nanosheet transistor using sacrificial spacer and inner spacers

Номер патента: US20190252516A1. Автор: Kangguo Cheng,Nicolas Loubet,Julien Frougier. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-08-15.

Forming nanosheet transistor using sacrificial spacer and inner spacers

Номер патента: US11121233B2. Автор: Kangguo Cheng,Nicolas Loubet,Julien Frougier. Владелец: Tessera LLC. Дата публикации: 2021-09-14.

Forming nanosheet transistor using sacrificial spacer and inner spacers

Номер патента: US20240120408A1. Автор: Kangguo Cheng,Nicolas Loubet,Julien Frougier. Владелец: Tessera LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Forming nanosheet transistor using sacrificial spacer and inner spacers

Номер патента: US20210399114A1. Автор: Kangguo Cheng,Nicolas Loubet,Julien Frougier. Владелец: Tessera LLC. Дата публикации: 2021-12-23.

Nanosheet transistor

Номер патента: US11901438B2. Автор: Peng Xu,Kangguo Cheng,Heng Wu,Juntao Li. Владелец: Adeia Semiconductor Solutions LLC. Дата публикации: 2024-02-13.

Nanosheet transistor

Номер патента: US20190157420A1. Автор: Peng Xu,Kangguo Cheng,Heng Wu,Juntao Li. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-05-23.

Nanosheet transistor

Номер патента: US20210280688A1. Автор: Peng Xu,Kangguo Cheng,Heng Wu,Juntao Li. Владелец: Tessera LLC. Дата публикации: 2021-09-09.

Method to form strained channel in thin box SOI structures by elastic strain relaxation of the substrate

Номер патента: US09768299B2. Автор: Pierre Morin. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2017-09-19.

Body-tied, strained-channel multi-gate device and methods

Номер патента: US09653552B2. Автор: Tiao-Yuan Huang,Hong-Nien Lin,Horng-Chih Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Vertical finfet with strained channel

Номер патента: US09614077B1. Автор: Kangguo Cheng,Juntao Li,Ramachandra Divakaruni. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Mosfet device with a strained channel

Номер патента: US20050003599A1. Автор: Chen Hu,FU Yang,Yee-Chia Yeo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2005-01-06.

Contact resistance of nanosheet transistor

Номер патента: US20230282748A1. Автор: Shogo Mochizuki,Xuan Liu,Su Chen Fan,Nicolas Jean Loubet. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Method to form strained channel in thin box soi structures by elastic strain relaxation of the substrate

Номер патента: US20170345935A1. Автор: Pierre Morin. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2017-11-30.

Method for controlling transistor delay of nanowire or nanosheet transistor devices

Номер патента: US20200303256A1. Автор: Subhadeep Kal,Jeffrey Smith,Anton Devilliers. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Method for controlling transistor delay of nanowire or nanosheet transistor devices

Номер патента: US10991626B2. Автор: Subhadeep Kal,Jeffrey Smith,Anton Devilliers. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-04-27.

Fabrication of vertical field effect transistor structure with strained channels

Номер патента: US09755073B1. Автор: Kangguo Cheng,Juntao Li. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Body-Tied, Strained-Channel Multi-Gate Device and Methods

Номер патента: US20160322463A1. Автор: Tiao-Yuan Huang,Hong-Nien Lin,Horng-Chih Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-11-03.

Fabrication Of Vertical Field Effect Transistor Structure With Strained Channels

Номер патента: US20200091318A1. Автор: Kangguo Cheng,Juntao Li. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-03-19.

Fabrication Of Vertical Field Effect Transistor Structure With Strained Channels

Номер патента: US20180366560A1. Автор: Kangguo Cheng,Juntao Li. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-12-20.

Fabrication Of Vertical Field Effect Transistor Structure With Strained Channels

Номер патента: US20170330969A1. Автор: Kangguo Cheng,Juntao Li. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-11-16.

Field Effect Transistor Having Multiple Effective Oxide Thicknesses and Corresponding Multiple Channel Doping Profiles

Номер патента: US20130214353A1. Автор: Akira Ito. Владелец: Broadcom Corp. Дата публикации: 2013-08-22.

Semiconductor device having a trench with a step-free insulation film

Номер патента: US7259424B2. Автор: Kenichi Yoshimochi. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 2007-08-21.

Nanosheet transistors with strained channel regions

Номер патента: US20210151601A1. Автор: Chen Zhang,Kangguo Cheng,Xin Miao,Wenyu Xu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-05-20.

Fabrication of a strained region on a substrate

Номер патента: US20180308976A1. Автор: Isaac Lauer,Renee T. Mo,Jiaxing Liu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-10-25.

Semiconductor device having compressively strained channel region and method of making same

Номер патента: US10069010B2. Автор: Toshiharu Nagumo. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2018-09-04.

Fabrication of a strained region on a substrate

Номер патента: US09793398B1. Автор: Isaac Lauer,Renee T. Mo,Jiaxing Liu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Semiconductor device having compressively strained channel region and method of making same

Номер патента: US20180301552A1. Автор: Toshiharu Nagumo. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2018-10-18.

Fabrication of a strained region on a substrate

Номер патента: US20180040730A1. Автор: Isaac Lauer,Renee T. Mo,Jiaxing Liu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-02-08.

Strained channel field effect transistor

Номер патента: US09761666B2. Автор: FENG Yuan,Tsung-Lin Lee,Georgios Vellianitis,Mark Van Dal,Gerben Doornbos. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Strained channel transistor structure and method

Номер патента: SG154381A1. Автор: HSIA Liang Choo,Liu Jin Ping,Zhou Mei Sheng,Alex See Kh. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2009-08-28.

Semiconductor device having a strained region

Номер патента: US09997616B2. Автор: FENG Yuan,Tsung-Lin Lee,Chih Chieh Yeh,Hung-Li Chiang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Fabricating method of a strained FET

Номер патента: US09865707B2. Автор: Po-Yu YANG. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Method of making a dual strained channel semiconductor device

Номер патента: US09601385B1. Автор: Effendi Leobandung. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Method of producing a semiconductor device having a ferroelectric gate stack

Номер патента: US12107128B2. Автор: Hans-Joachim Schulze,Thomas Aichinger,Saurabh Roy. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2024-10-01.

Tunnel field effect transistors having low turn-on voltage

Номер патента: US09728639B2. Автор: Jing Wang,Nuo XU,Woosung CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-08-08.

Trench isolated IC with transistors having locos gate dielectric

Номер патента: US10014206B1. Автор: Ming-Yeh Chuang. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2018-07-03.

Semiconductor devices including source/drain regions having silicon carbon

Номер патента: US09837500B2. Автор: Hyunjung Lee,Yong-Suk Tak,Jinyeong Joe,Keumseok PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-12-05.

A method of producing a semiconductor device having a source drain region of small junction depth

Номер патента: US20010036712A1. Автор: Toru Yamazaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-01.

Semiconductor device having a ghost source/drain region and a method of manufacture therefor

Номер патента: US20020190344A1. Автор: Ian Wylie,John Michejda. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-19.

Semiconductor device having a ghost source/drain region and a method of manufacture therefor

Номер патента: US6864547B2. Автор: Ian Wylie,John A. Michejda. Владелец: Agere Systems LLC. Дата публикации: 2005-03-08.

PREVENTING BRIDGE FORMATION BETWEEN REPLACEMENT GATE AND SOURCE/DRAIN REGION THROUGH STI STRUCTURE

Номер патента: US20180033870A1. Автор: Huang Haigou,Wu Xusheng,DAI Xintuo. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-01.

METHODS OF FORMING BOTTOM AND TOP SOURCE/DRAIN REGIONS ON A VERTICAL TRANSISTOR DEVICE

Номер патента: US20180083121A1. Автор: Chanemougame Daniel,Suvarna Puneet Harischandra,Bentley Steven J.. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-22.

METHODS FOR HIGH-K METAL GATE CMOS WITH SiC AND SiGe SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20160087040A1. Автор: MAO Gang. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-24.

Field effect transistor having field plate

Номер патента: AU2020375557B2. Автор: Michael S. Davis,Eduardo M. Chumbes,Brian T. APPLETON JR.. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2024-09-05.

Source/Drain Regions for High Electron Mobility Transistors (HEMT) and Methods of Forming Same

Номер патента: US20170084717A1. Автор: Huang Mao-Lin,Fan Chun-Hsiang,Lin Chun-Hsiung. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-23.

Source/drain regions in integrated circuit structures

Номер патента: US20240162289A1. Автор: Guillaume Bouche,Sean T. MA,Andy Chih-Hung Wei. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Source/drain regions in integrated circuit structures

Номер патента: US11916106B2. Автор: Guillaume Bouche,Sean T. MA,Andy Chih-Hung Wei. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Source/drain regions in integrated circuit structures

Номер патента: US20220344459A1. Автор: Guillaume Bouche,Sean T. MA,Andy Chih-Hung Wei. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2022-10-27.

Source/drain regions in integrated circuit structures

Номер патента: US20210305365A1. Автор: Guillaume Bouche,Sean T. MA,Andy Chih-Hung Wei. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2021-09-30.

Transistors with asymmetric source/drain regions

Номер патента: US20240145538A1. Автор: Kangguo Cheng,Ruilong Xie,Chanro Park,Min Gyu Sung,Julien Frougier. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Semiconductor MOSFET device having a shallow nitrogen implanted channel region

Номер патента: US5557129A. Автор: Shuichi Ueno,Takehisa Yamaguchi,Hidekazu Oda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1996-09-17.

Inert barrier region for source/drain regions of sonos memory devices

Номер патента: WO2008070624A1. Автор: He Yi,Liu Zhizheng,Sinha Shankar,Kwan Ming-Sang. Владелец: SPANSION LLC. Дата публикации: 2008-06-12.

FINFET DEVICE WITH SILICIDED SOURCE-DRAIN REGIONS AND METHOD OF MAKING SAME USING A TWO STEP ANNEAL

Номер патента: US20140106529A1. Автор: Beneyton Rémi,Morin Pierre. Владелец: . Дата публикации: 2014-04-17.

SOURCE/DRAIN REGIONS IN INTEGRATED CIRCUIT STRUCTURES

Номер патента: US20210305367A1. Автор: Glass Glenn A.,Murthy Anand S.,GUHA BISWAJEET,Ma Sean T.. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2021-09-30.

Methods of forming source/drain regions using multilayer side wall spacers and structures so formed

Номер патента: US20030186508A1. Автор: Do-Hyung Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-10-02.

Simplified gate to source/drain region connections

Номер патента: US20180240885A1. Автор: David Pritchard,Scott D. Luning,Tuhin Guha Neogi,Kasun Anupama Punchihewa. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-08-23.

A strained channel transistor and method of fabrication thereof

Номер патента: SG157397A1. Автор: Luo Zhijiong,CHONG Yung Fu,Judson Holt. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2009-12-29.

A strained channel transistor and method of fabrication thereof

Номер патента: SG137798A1. Автор: Luo Zhijiong,CHONG Yung Fu,Judson Holt. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2007-12-28.

A strained channel transistor and method of fabrication thereof

Номер патента: SG137761A1. Автор: Yung Fu Chong,Zhijiong Luo,Judson Holt. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2007-12-28.

A strained channel transistor and method of fabrication thereof

Номер патента: SG190567A1. Автор: Holt Judson,Yung Fu Chong,Zhijiong Luo. Владелец: Globalfoundries Sg Pte Ltd. Дата публикации: 2013-06-28.

Implantations for Forming Source/Drain Regions of Different Transistors

Номер патента: US20190035694A1. Автор: Wang Chun-Chieh,Chang Shih-Chieh,MORE Shahaji B.,Pan Zheng-Yang. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-31.

Method for fabricating a bipolar transistor having self-aligned emitter contact

Номер патента: US09508824B2. Автор: Alexander Fox,Bernd Heinemann,Steffen Marschmeyer. Владелец: IHP GMBH. Дата публикации: 2016-11-29.

Bipolar transistor having recessed and rounded surface and its manufacturing method

Номер патента: US20010022386A1. Автор: Akira Sato. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2001-09-20.

SELECTIVE CONTACT ETCH FOR UNMERGED EPITAXIAL SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20170047325A1. Автор: Reznicek Alexander,Mehta Sanjay C.. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-16.

LOW RESISTANCE SOURCE/DRAIN REGIONS IN III-V TRANSISTORS

Номер патента: US20200075753A1. Автор: YANG Bin,Li Xia,Tao Gengming. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-05.

SOURCE/DRAIN REGIONS IN FIN FIELD EFFECT TRANSISTORS (FINFETS) AND METHODS OF FORMING SAME

Номер патента: US20190115343A1. Автор: Chang Che-Cheng,LIN Chih-Han,Tseng Horng-Huei. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-18.

METHODS OF FORMING CONTACTS TO SOURCE/DRAIN REGIONS OF FINFET DEVICES

Номер патента: US20140273369A1. Автор: Wei Andy C.,Koh Shao Ming. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2014-09-18.

Implantations for Forming Source/Drain Regions of Different Transistors

Номер патента: US20190279992A1. Автор: LIAW Jhon Jhy,Yu Dian-Sheg,Tsui Ren-Fen. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-12.

SOURCE/DRAIN REGIONS IN FIN FIELD EFFECT TRANSISTORS (FINFETS) AND METHODS OF FORMING SAME

Номер патента: US20170317078A1. Автор: Chang Che-Cheng,LIN Chih-Han,Tseng Horng-Huei. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-02.

Semiconductor device having depletion barrier layer at source/drain regions and method of forming the same

Номер патента: KR100543472B1. Автор: 리밍. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2006-01-20.

Method for forming elevated salicide source / drain regions

Номер патента: JP4446949B2. Автор: 滋 欽 具,東 浩 安,錫 薫 洪,哲 性 金,載 潤 柳,哲 準 崔. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-04-07.

SOURCE/DRAIN REGIONS IN INTEGRATED CIRCUIT STRUCTURES

Номер патента: US20210384307A1. Автор: Ma Sean T.,WEBER Cory E.. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2021-12-09.

High-electron-mobility transistor having a buried field plate

Номер патента: US09728630B2. Автор: Oliver Haeberlen,Clemens Ostermaier,Gerhard Prechtl. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2017-08-08.

Field effect power transistor metalization having a comb structure with contact fingers

Номер патента: US09570565B2. Автор: Gerhard Prechtl. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2017-02-14.

SEMICONDUCTOR DEVICES INCLUDING SOURCE/DRAIN REGIONS HAVING SILICON CARBON

Номер патента: US20160315160A1. Автор: TAK Yong-Suk,LEE Hyunjung,Joe Jinyeong,PARK Keumseok. Владелец: . Дата публикации: 2016-10-27.

VERTICAL FIELD EFFECT TRANSISTORS WITH METALLIC SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20170317177A1. Автор: Venigalla Rajasekhar,Robison Robert R.,Vega Reinaldo,Mallela Hari V.. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-02.

Method of manufacturing improving quality of sige source/drain region

Номер патента: WO2017067157A1. Автор: 钟旻. Владелец: 上海集成电路研发中心有限公司. Дата публикации: 2017-04-27.

Asymmetric source/drain regions of transistors

Номер патента: US20200176564A1. Автор: Si-Woo Lee,Srinivas Pulugurtha,Yunfei GAO. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2020-06-04.

Memory cells which include transistors having gap channel material

Номер патента: EP3639298A1. Автор: Gurtej S. Sandhu,Martin C. Roberts. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2020-04-22.

METAL OXIDE SEMICONDUCTOR HAVING EPITAXIAL SOURCE DRAIN REGIONS AND A METHOD OF MANUFACTURING SAME USING DUMMY GATE PROCESS

Номер патента: US20160204203A1. Автор: Tateshita Yasushi. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-14.

Memory cells comprising a programmable field effect transistor having a reversibly programmable gate insulator

Номер патента: US09947687B2. Автор: Ferdinando Bedeschi. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

A semiconductor memory device having a silicon on insulator substrate

Номер патента: GB2337851A. Автор: Yun-gi Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-12-01.

GATE-ALL-AROUND (GAA) TRANSISTORS WITH SHALLOW SOURCE/DRAIN REGIONS AND METHODS OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20220037493A1. Автор: SONG Stanley Seungchul,RIM Kern,Feng Peijie. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-03.

Field effect transistor structure with gate structure having a wall and floor portions

Номер патента: US09843007B2. Автор: Chun-Yen Chang. Владелец: National Chiao Tung University NCTU. Дата публикации: 2017-12-12.

Metal gates of transistors having reduced resistivity

Номер патента: US11810819B2. Автор: Yi-Wei Chiu,Chia-Ching Tsai,Li-Te Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Nanowire field effect transistor device having a replacement gate

Номер патента: US20190229186A1. Автор: Richard Kenneth Oxland. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-07-25.

Metal Gates of Transistors Having Reduced Resistivity

Номер патента: US20240021473A1. Автор: Yi-Wei Chiu,Chia-Ching Tsai,Li-Te Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Nanowire Field Effect Transistor Device Having a Replacement Gate

Номер патента: US20170025538A1. Автор: Richard Kenneth Oxland. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-26.

Nanowire field effect transistor device having a replacement gate

Номер патента: US20180174821A1. Автор: Richard Kenneth Oxland. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

Semiconductor transistor having buffer layer between channel and substrate

Номер патента: US20160336449A1. Автор: Deyuan Xiao. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2016-11-17.

Semiconductor device having epitaxy source/drain regions

Номер патента: US20240203987A1. Автор: Ming-Hua Yu,Kun-Mu Li,Tsz-Mei Kwok,Yi-Jing Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING TIPLESS EPITAXIAL SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20130240950A1. Автор: Bohr Mark T.. Владелец: . Дата публикации: 2013-09-19.

SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING EPITAXY SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20220181320A1. Автор: Yu Ming-Hua,Lee Yi-Jing,KWOK Tsz-Mei,Li Kun-Mu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2022-06-09.

SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING TIPLESS EPITAXIAL SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20160133749A1. Автор: Bohr Mark T.. Владелец: . Дата публикации: 2016-05-12.

Controlling the Shape of Source/Drain Regions in FinFETs

Номер патента: US20150137183A1. Автор: Su Chien-Chang,Chen Kuan-Yu,KWOK Tsz-Mei,SUNG Hsueh-Chang,LIN Hsien-Hsin. Владелец: . Дата публикации: 2015-05-21.

SOURCE/DRAIN REGIONS FOR FIN FIELD EFFECT TRANSISTORS AND METHODS OF FORMING SAME

Номер патента: US20170133508A1. Автор: LIU Chi-Wen,Ching Kuo-Cheng. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-11.

Self-aligned doping in source/drain regions for low contact resistance

Номер патента: US20180197793A1. Автор: Dechao Guo,Heng Wu,Zuoguang Liu,Gen Tsutsui. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-07-12.

TRANSISTORS WITH ASYMMETRICALLY-POSITIONED SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20210249307A1. Автор: Li Wenjun,Gu Man. Владелец: . Дата публикации: 2021-08-12.

FINFET DEVICES WITH DIFFERENT FIN HEIGHTS IN THE CHANNEL AND SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20150279999A1. Автор: Xie Ruilong,Wei Andy C.,Cai Xiuyu. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-01.

METAL OXIDE SEMICONDUCTOR HAVING EPITAXIAL SOURCE DRAIN REGIONS AND A METHOD OF MANUFACTURING SAME USING DUMMY GATE PROCESS

Номер патента: US20150340498A1. Автор: Tateshita Yasushi. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-26.

CONSTRAINED EPITAXIAL SOURCE/DRAIN REGIONS ON SEMICONDUCTOR-ON-INSULATOR FINFET DEVICE

Номер патента: US20150357412A1. Автор: Greene Brian J.,Kumar Arvind,Mocuta Dan M.. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-10.

SELECTIVE CONTACT ETCH FOR UNMERGED EPITAXIAL SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20190333916A1. Автор: Reznicek Alexander,Mehta Sanjay C.. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-31.

METAL OXIDE SEMICONDUCTOR HAVING EPITAXIAL SOURCE DRAIN REGIONS AND A METHOD OF MANUFACTURING SAME USING DUMMY GATE PROCESS

Номер патента: US20160359042A1. Автор: Tateshita Yasushi. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-08.

Methods for Forming Recesses in Source/Drain Regions and Devices Formed Thereof

Номер патента: US20190371898A1. Автор: HUANG Yu-Lien. Владелец: . Дата публикации: 2019-12-05.

Selective recessing of source/drain regions of NFET/PFET

Номер патента: CN110416081B. Автор: 王鹏,陈建安,林焕哲,张云闵,王冠人,陈煌明. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-10-28.

Methods for forming recesses in source/drain regions and devices formed thereof

Номер патента: US10714578B2. Автор: Yu-Lien Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-07-14.

Selective contact etch for unmerged epitaxial source/drain regions

Номер патента: US10366988B2. Автор: Alexander Reznicek,Sanjay C. Mehta. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-07-30.

Methods for forming recesses in source/drain regions and devices formed thereof

Номер патента: US10937877B2. Автор: Yu-Lien Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-03-02.

Semiconductor device having epitaxy source/drain regions

Номер патента: US11916071B2. Автор: Ming-Hua Yu,Kun-Mu Li,Tsz-Mei Kwok,Yi-Jing Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Semiconductor device having epitaxy source/drain regions

Номер патента: US20220181320A1. Автор: Ming-Hua Yu,Kun-Mu Li,Tsz-Mei Kwok,Yi-Jing Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-06-09.

Semiconductor device having transistors in which source/drain regions are shared

Номер патента: US20210020746A1. Автор: Toshinao Ishii. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2021-01-21.

Thin film transistor having Schottky barrier

Номер патента: US8410531B2. Автор: Chun-Wei Su,Ming-Tse Chang. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2013-04-02.

Thin film transistor having schottky barrier

Номер патента: US20120146003A1. Автор: Chun-Wei Su,Ming-Tse Chang. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2012-06-14.

Method for fabricating a field-effect transistor having a floating gate

Номер патента: US20030119261A1. Автор: Franz Hofmann,Robert Strenz,Georg Tempel,Robert Wiesner. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-06-26.

Dram having deeper source drain region than that of an logic region

Номер патента: US7911005B2. Автор: Hiroki Shirai. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2011-03-22.

Method of enhancing surface doping concentration of source/drain regions

Номер патента: US9613817B1. Автор: Vimal Kamineni,Steven Bentley. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

Memory structure having a hexagonal shaped bit line contact disposed on a source/drain region

Номер патента: US20230124715A1. Автор: Yu-Ying Lin. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-04-20.

Fabrication of an eeprom cell with emitter-polysilicon source/drain regions

Номер патента: WO2006016972A2. Автор: Muhammad I. Chaudhry. Владелец: ATMEL CORPORATION. Дата публикации: 2006-02-16.

Fabrication of an eeprom cell with emitter-polysilicon source/drain regions

Номер патента: EP1779424A2. Автор: Muhammad I.; CHAUDHRY. Владелец: Atmel Corp. Дата публикации: 2007-05-02.

Field-effect transistors with a non-relaxed strained channel

Номер патента: US09871057B2. Автор: Karen A. Nummy,Claude Ortolland. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-01-16.

Methods for forming a memory cell having a top oxide spacer

Номер патента: US20120181601A1. Автор: Gang Xue,Kashmir Sahota,Chun Chen,Scott Bell,Wai Lo,Alexander Nickel,Shenqing Fang,Angela Hui. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-07-19.

Methods for forming a memory cell having a top oxide spacer

Номер патента: US20110233647A1. Автор: Gang Xue,Kashmir Sahota,Chun Chen,Scott Bell,Wai Lo,Alexander Nickel,Shenqing Fang,Angela Hui. Владелец: SPANSION LLC. Дата публикации: 2011-09-29.

Active pixel sensor having a raised source/drain

Номер патента: US20160148961A1. Автор: JHY-JYI SZE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-05-26.

Active pixel sensor having a raised source/drain

Номер патента: US09985070B2. Автор: JHY-JYI SZE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

GRAPHENE CONTACTS ON SOURCE/DRAIN REGIONS OF FINFET DEVICES

Номер патента: US20180233413A1. Автор: JACOB Ajey Poovannummoottil. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-16.

Nanosheet transistor with self-aligned dielectric pillar

Номер патента: AU2020423612B2. Автор: Kangguo Cheng,Ruilong Xie,Julien Frougier. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Vertical FET with strained channel

Номер патента: US09704990B1. Автор: Shogo Mochizuki,Junli Wang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Vertical fet with strained channel

Номер патента: US20180083139A1. Автор: Shogo Mochizuki,Junli Wang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-03-22.

Semiconductor pillar transistors having channels with different crystal orientations

Номер патента: US9355908B2. Автор: Masumi SAITOH. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-05-31.

Semiconductor pillar transistors having channels with different crystal orientations

Номер патента: US09355908B2. Автор: Masumi SAITOH. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-05-31.

Method for forming strained channel pmos devices and integrated circuits therefrom

Номер патента: US20090184375A1. Автор: Amitabh Jain. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2009-07-23.

Method for forming strained channel pmos devices and integrated circuits therefrom

Номер патента: US20110133287A1. Автор: Amitabh Jain. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2011-06-09.

Semiconductor device including a strain relief buffer

Номер патента: US09859371B2. Автор: Kangguo Cheng,Karthik Balakrishnan,Pouya Hashemi,Alexander Reznicek. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Transistors having argon gate implants and methods of forming the same

Номер патента: US8722480B2. Автор: F. Daniel Gealy,Cancheepuram V. Srividya,Suraj J. Mathew. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2014-05-13.

Transistors having argon gate implants and methods of forming the same

Номер патента: US20110198708A1. Автор: Suraj Mathew,Dan Gealy,Cancheepuram V Srividya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-08-18.

Transistors having argon gate implants and methods of forming the same

Номер патента: US20130164897A1. Автор: F. Daniel Gealy,Suraj J. Mathew. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2013-06-27.

Stack-gate flash cell structure having a high coupling ratio and its contactless flash memory arrays

Номер патента: US20040150032A1. Автор: Ching-Yuan Wu. Владелец: Silicon-Based Technology Corp. Дата публикации: 2004-08-05.

Non-volatile memory with sidewall channels and raised source/drain regions

Номер патента: TW201001717A. Автор: James Kai,Takashi Orimoto,Henry Chien,George Matamis,Vinod R Purayath. Владелец: SanDisk Corp. Дата публикации: 2010-01-01.

SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING TRANSISTORS IN WHICH SOURCE/DRAIN REGIONS ARE SHARED

Номер патента: US20210020746A1. Автор: ISHII Toshinao. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2021-01-21.

Semiconductor Device Having Transistors In Which Source/Drain Regions Are Shared

Номер патента: US20210175331A1. Автор: ISHII Toshinao. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2021-06-10.

FACETED EPITAXIAL SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20200144365A1. Автор: Hong Wei,McArdle Timothy J.,Holt Judson R.,Qi Yi,Zang Hui,JIANG Liu,MULFINGER George R.,SICHLER Steffen A.,AYDIN Ömür I.. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-07.

ASYMMETRIC SOURCE/DRAIN REGIONS OF TRANSISTORS

Номер патента: US20200176564A1. Автор: Lee Si-Woo,Pulugurtha Srinivas,GAO Yunfei. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-04.

SELF-ALIGNED DOPING IN SOURCE/DRAIN REGIONS FOR LOW CONTACT RESISTANCE

Номер патента: US20180197792A1. Автор: Guo Dechao,Wu Heng,Liu Zuoguang,Tsutsui Gen. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-12.

SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICES HAVING AN UNDERCUT SOURCE/DRAIN REGION

Номер патента: US20180197867A1. Автор: Zang Hui,Eller Manfred. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2018-07-12.

TRANSISTOR STRUCTURE INCLUDING EPITAXIAL CHANNEL LAYERS AND RAISED SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20150349065A1. Автор: Lee Tze-Liang,Li Chii-Horng,Li Kun-Mu. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-03.

Devices having a transistor and a capacitor along a common horizontal level, and methods of forming devices

Номер патента: EP3682477A1. Автор: Fredrick D. Fishburn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2020-07-22.

Field Effect Transistor Having Loop Distributed Field Effect Transistor Cells

Номер патента: US20170053910A1. Автор: Christopher M. LAIGHTON,Istvan Rodriguez,Alan J. Bielunis. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2017-02-23.

Field effect transistor having loop distributed field effect transistor cells

Номер патента: EP3338308A1. Автор: Christopher M. LAIGHTON,Istvan Rodriguez,Alan J. Bielunis. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2018-06-27.

Field effect transistor having loop distributed field effect transistor cells

Номер патента: WO2017030825A1. Автор: Christopher M. LAIGHTON,Istvan Rodriguez,Alan J. Bielunis. Владелец: Raytheon Company. Дата публикации: 2017-02-23.

Field effect transistor having loop distributed field effect transistor cells

Номер патента: US09698144B2. Автор: Christopher M. LAIGHTON,Istvan Rodriguez,Alan J. Bielunis. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2017-07-04.

HIGH VOLTAGE TRANSISTOR WITH FIN SOURCE/DRAIN REGIONS AND TRENCH GATE STRUCTURE

Номер патента: US20210036108A1. Автор: SINGH Jagar,SAMAVEDAM Srikanth Balaji. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-04.

High voltage transistor with fin source/drain regions and trench gate structure

Номер патента: US20210036108A1. Автор: Srikanth Balaji Samavedam,Jagar Singh. Владелец: GlobalFoundries US Inc. Дата публикации: 2021-02-04.

Field-effect transistor having dual channels

Номер патента: US20200328211A1. Автор: Peng Xu,Kangguo Cheng,Juntao Li,Zhenxing Bi. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-10-15.

Composite transistor having a slew-rate control

Номер патента: US20020084497A1. Автор: Kerry Bernstein,Anthony Correale,Terence Hook,Douglas Stout. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Structure and method of MOS transistor having increased substrate resistance

Номер патента: US20030207543A1. Автор: Zhiqiang Wu,Craig Salling,Che-Jen Hu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-11-06.

Systems, methods and devices for a memory having a buried select line

Номер патента: US09583195B2. Автор: Badih El-Kareh. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Semiconductor device having a backside power rail

Номер патента: WO2023241947A1. Автор: Xie Ruilong,Lawrence Clevenger,Dechao Guo,Junli Wang,Julien Frougier. Владелец: Ibm United Kingdom Limited. Дата публикации: 2023-12-21.

Semiconductor device having a backside power rail

Номер патента: US20230411293A1. Автор: Lawrence A. Clevenger,Dechao Guo,Ruilong Xie,Junli Wang,Julien Frougier. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

A bicmos device having a cmos gate electrode and a bipolar emitter each containing two imurities of the same conductivity type

Номер патента: US20020145167A1. Автор: Toru Yamazaki. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-10-10.

Methods of Forming a PMOS Device with In Situ Doped Epitaxial Source/Drain Regions

Номер патента: US20130029463A1. Автор: Ralf Illgen,Stefan Flachowsky,Ina Ostermay. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2013-01-31.

Hybrid Source Drain Regions Formed Based on Same Fin and Methods Forming Same

Номер патента: US20210020524A1. Автор: Wang Chih-hao,Lin Chun-Hsiung,WANG Pei-Hsun,Chen Shih-Cheng. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-21.

METHODS OF MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUITS HAVING FINFET STRUCTURES WITH EPITAXIALLY FORMED SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20150099336A1. Автор: Chi Min-Hwa,WONG Hoong Shing. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-09.

TRENCH BETWEEN STACKED SEMICONDUCTOR SUBSTRATES MAKING CONTACT WITH SOURCE-DRAIN REGION

Номер патента: US20180122846A1. Автор: Roy Francois. Владелец: STMICROELECTRONICS (CROLLES 2) SAS. Дата публикации: 2018-05-03.

Hybrid Source Drain Regions Formed Based on Same Fin and Methods Forming Same

Номер патента: US20210327768A1. Автор: Wang Chih-hao,Lin Chun-Hsiung,WANG Pei-Hsun,Chen Shih-Cheng. Владелец: . Дата публикации: 2021-10-21.

Method of forming source/drain region of semiconductor device

Номер патента: CN1855427A. Автор: 李东浩. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-11-01.

Methods of forming a PMOS device with in situ doped epitaxial source/drain regions

Номер патента: US8466018B2. Автор: Ralf Illgen,Stefan Flachowsky,Ina Ostermay. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2013-06-18.

Fabrication of an eeprom cell with emitter-polysilicon source/drain regions

Номер патента: EP1779424A4. Автор: Muhammad I Chaudhry. Владелец: Atmel Corp. Дата публикации: 2009-03-25.

Methods of forming strained epitaxial semiconductor material(S) above a strain-relaxed buffer layer

Номер патента: US09490123B2. Автор: YI Qi,David Paul Brunco. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-11-08.

Method of fabricating a strained semiconductor-on-insulator substrate

Номер патента: EP1695377A2. Автор: Huajie Chen,Guy Cohen,Stephen Bedell. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-08-30.

Method of fabricating a strained semiconductor-on-insulator substrate

Номер патента: WO2005055290A2. Автор: Huajie Chen,Guy Cohen,Stephen Bedell. Владелец: Ibm United Kingdom Limited. Дата публикации: 2005-06-16.

Method for fabricating at least three MOS transistors having different threshold voltages.

Номер патента: EP2437292A3. Автор: ARNAUD Franck. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2014-05-14.

Gan-on-si epiwafer comprising a strain-decoupling sub-stack

Номер патента: EP4345922A1. Автор: Atsushi Nishikawa,Alexander Lösing. Владелец: Allos Semiconductors GmbH. Дата публикации: 2024-04-03.

Gan-on-si epiwafer comprising a strain-decoupling sub-stack

Номер патента: US20240113256A1. Автор: Atsushi Nishikawa,Alexander Lösing. Владелец: Allos Semiconductors GmbH. Дата публикации: 2024-04-04.

Resistive memory cell having a compact structure

Номер патента: US09793321B2. Автор: Simon Jeannot,Philippe Boivin. Владелец: STMicroelectronics Crolles 2 SAS. Дата публикации: 2017-10-17.

Method for fabricating a strained semiconductor-on-insulator substrate

Номер патента: EP3459107A1. Автор: Walter Schwarzenbach,Nicolas Daval,Guillaume Chabanne. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2019-03-27.

Method for fabricating a strained semiconductor-on-insulator substrate

Номер патента: US20230386896A1. Автор: Walter Schwarzenbach,Nicolas Daval,Guillaume Chabanne. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2023-11-30.

A gan die having a main gan power transistor and a gan current sense transistor

Номер патента: EP4387101A1. Автор: Thomas Ferianz,Derek Bernardon. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2024-06-19.

Integrated circuit comprising multiple channels with integrated bypass capacitors and photodiodes

Номер патента: US20190339122A1. Автор: Ansheng Liu,Sungbong Park. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2019-11-07.

Memory device having buried source/drain region and fabrication thereof

Номер патента: US20030199142A1. Автор: Shui-Chin Huang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-23.

Method of manufacturing memory structure having a hexagonal shaped bit line contact disposed on a source/drain region

Номер патента: US11943914B2. Автор: Yu-Ying Lin. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-03-26.

Fabrication of an eeprom cell with sige source/drain regions

Номер патента: EP1787324A1. Автор: Muhammad I. Chaudhry. Владелец: Atmel Corp. Дата публикации: 2007-05-23.

Fabrication of an eeprom cell with sige source/drain regions

Номер патента: WO2006016969A1. Автор: Muhammad I. Chaudhry. Владелец: ATMEL CORPORATION. Дата публикации: 2006-02-16.

Electrical connector having a sloping outer shell and a light emitting member

Номер патента: US09698544B2. Автор: Jun Chen,Jerry Wu,Fan-Bo Meng. Владелец: Foxconn Interconnect Technology Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Strain relief having a flexible tail portion

Номер патента: CA1121870A. Автор: Albert R. Cox. Владелец: Belden Corp. Дата публикации: 1982-04-13.

A strain relief and a tool for its application

Номер патента: CA2265855C. Автор: Per Karlsson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-01-10.

Strain-relieved fuse and method of forming a strain-relieved fuse

Номер патента: EP3539143A1. Автор: Julio Urrea,Michael Schlaak. Владелец: Littelfuse Inc. Дата публикации: 2019-09-18.

Strain-relieved fuse and method of forming a strain-relieved fuse

Номер патента: WO2018089156A1. Автор: Julio Urrea,Michael Schlaak. Владелец: LITTELFUSE, INC.. Дата публикации: 2018-05-17.

Connector having a push-in termination for an electrically active grid

Номер патента: EP2823537A1. Автор: Sushil N. Keswani. Владелец: Ideal Industries Inc. Дата публикации: 2015-01-14.

Magnetic connector having a unitary housing

Номер патента: EP2486629A1. Автор: Zheng Gao,John C. DiFonzo,Min Chul Kim,Joshua Banko. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2012-08-15.

Magnetic connector having a unitary housing

Номер патента: US09923301B2. Автор: Zheng Gao,John C. DiFonzo,Min Chul Kim,Joshua Banko. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2018-03-20.

Sensing device having a large diameter d-shaped optical waveguide

Номер патента: CA2454970A1. Автор: Martin A. Putnam,Alan D. Kersey,Paul E. Sanders,Edward Michael Dowd. Владелец: Edward Michael Dowd. Дата публикации: 2004-07-13.

Methods of forming transistors having raised extension regions

Номер патента: US11756624B2. Автор: Haitao Liu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Systems, methods and devices for a memory having a buried select line

Номер патента: US20140003158A1. Автор: Badih El-Kareh. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2014-01-02.

High-capacitance dynamic random access memory cell having a storage capacitor on a continuous irregular surface

Номер патента: US5936273A. Автор: Anchor Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-08-10.

Pressure sensor chip and pressure transmitter having a strain gauge arrangement being disposed in a region of the diaphragm

Номер патента: US10816423B2. Автор: Tomohisa Tokuda. Владелец: Azbil Corp. Дата публикации: 2020-10-27.

Gate driver having a floating supply node

Номер патента: EP4338287A1. Автор: Gianluca Valentino,Troy Stockstad,Ricardo Goncalves. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-03-20.

Low power clock buffer having a reduced, clocked, pull-down transistor

Номер патента: US6124737A. Автор: Sudarshan Kumar,Kamal J. Koshy,Jiann-Cherng James Lan. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2000-09-26.

Manufacturing method of a strain gauge sensor

Номер патента: CA3187700A1. Автор: Jerome Polesel,Stephanie Girod,Raoul Joly,Patrick Grysan. Владелец: Luxembourg Institute of Science and Technology LIST. Дата публикации: 2022-02-03.

Manufacturing method of a strain gauge sensor

Номер патента: EP4189349A1. Автор: Jerome Polesel,Stephanie Girod,Raoul Joly,Patrick Grysan. Владелец: Luxembourg Institute of Science and Technology LIST. Дата публикации: 2023-06-07.

Manufacturing method of a strain gauge sensor

Номер патента: WO2022023482A1. Автор: Jerome Polesel. Владелец: Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST). Дата публикации: 2022-02-03.

System and method for measuring liquid levels having a fiber with a strain layer around a Bragg grating

Номер патента: US09952081B2. Автор: Tyler C. Staudinger,Jacob D. Delaney. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2018-04-24.

Handle with a strain gauge module used as a sensor for a car door

Номер патента: US20240076912A1. Автор: Anthony Guerin,Antonio Labalestra,Myriam Akanou. Владелец: Minebea AccessSolutions Italia SpA. Дата публикации: 2024-03-07.

Handle with a strain gauge module used as a sensor for a car door

Номер патента: EP4332333A1. Автор: Anthony Guerin,Antonio Labalestra,Myriam Akanou. Владелец: Minebea AccessSolutions Italia SpA. Дата публикации: 2024-03-06.

Fluid back pressure sensing with a strain sensor

Номер патента: EP3562675A1. Автор: Berkeley Fisher,Daryl E. Anderson,James M. Gardner. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2019-11-06.

Fluid back pressure sensing with a strain sensor

Номер патента: US20200122466A1. Автор: Berkeley Fisher,Daryl E. Anderson,James M. Gardner. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2020-04-23.

Load cell device having a flexural arrangement

Номер патента: US09766113B2. Автор: Michael Trakhimovich. Владелец: Shekel Scales Co (2008) Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Strain-measuring structure having a structured carrier

Номер патента: CA3114488A1. Автор: Achim Bittner,Bernd Folkmer,Mohamed Bourouah. Владелец: Hann-Schickard-Gesellschaft fuer Angewandte Forschung eV. Дата публикации: 2020-04-30.

Method of producing thy a-strains of vibrio cholerae, such strains and their use

Номер патента: WO1999061634A9. Автор: Nils Carlin,Michael R Lebens. Владелец: Michael R Lebens. Дата публикации: 2001-12-13.

Method of producing thy a-strains of vibrio cholerae, such strains and their use

Номер патента: AU4499999A. Автор: Nils Carlin,Michael R. Lebens. Владелец: SBL Vaccin AB. Дата публикации: 1999-12-13.

Strain-measuring structure having a structured carrier

Номер патента: US12013296B2. Автор: Achim Bittner,Bernd Folkmer,Mohamed Bourouah. Владелец: Hann-Schickard-Gesellschaft fuer Angewandte Forschung eV. Дата публикации: 2024-06-18.

Apparatus for and method of attaching a strain sensing element to a substrate

Номер патента: US20100089188A1. Автор: Raymond David Lohr,Arthur John Leigh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-04-15.

Implement Having a Strain Relief Means For a Connection Cable

Номер патента: US20090211807A1. Автор: Dieter Kremsler. Владелец: Andreas Stihl AG and Co KG. Дата публикации: 2009-08-27.

Rolling bearing arrangement having a strain sensor device

Номер патента: US10151342B2. Автор: Jens Heim,Jörg-Oliver Hestermann,Andreas Frühwald. Владелец: Schaeffler Technologies AG and Co KG. Дата публикации: 2018-12-11.

Arrangement for a fastener for a straining device

Номер патента: US4893382A. Автор: Lennart Lindblad. Владелец: Individual. Дата публикации: 1990-01-16.

A strain of chlorella sorokiniana

Номер патента: WO2023285400A2. Автор: Sidsel Koggersbøl THRANE,Michael Krag NIELSEN. Владелец: Aliga Aps. Дата публикации: 2023-01-19.

A strain of chlorella sorokiniana

Номер патента: CA3224453A1. Автор: Sidsel Koggersbøl THRANE,Michael Krag NIELSEN. Владелец: Aliga Aps. Дата публикации: 2023-01-19.

A strain of chlorella sorokiniana

Номер патента: EP4369949A2. Автор: Sidsel Koggersbøl THRANE,Michael Krag NIELSEN. Владелец: Aliga Aps. Дата публикации: 2024-05-22.

A strain of chlorella sorokiniana

Номер патента: WO2023285400A3. Автор: Sidsel Koggersbøl THRANE,Michael Krag NIELSEN. Владелец: Aliga Aps. Дата публикации: 2023-02-16.

Method for fastening an assembly comprising a strain gauge

Номер патента: CA3210600A1. Автор: Olivier Ondo,Fangyan Sun. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-09-15.

Sense amplifier having a high operation speed and a low power consumption

Номер патента: US5675535A. Автор: Toshikatsu Jinbo. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1997-10-07.

Methods and devices for ihibiting tissue growth from restricting a strain relief loop of an implantable medical lead

Номер патента: US10213595B2. Автор: Bryan D. Stem. Владелец: MEDTRONIC INC. Дата публикации: 2019-02-26.

Methods and devices for inhibiting tissue growth from restricting a strain relief loop of an implantable medical lead

Номер патента: US20170304607A1. Автор: Bryan D. Stem. Владелец: MEDTRONIC INC. Дата публикации: 2017-10-26.

Methods and devices for inhibiting tissue growth from restricting a strain relief loop of an implantable medical lead

Номер патента: US09700714B2. Автор: Bryan D. Stem. Владелец: MEDTRONIC INC. Дата публикации: 2017-07-11.

Strain sensor and a strain measuring assembly comprising the sensor

Номер патента: EP4042121A1. Автор: Tomas Kaplan,Jan Otoupalik,Josef Burian. Владелец: 4dot Mechatronic Systems SRO. Дата публикации: 2022-08-17.

A stable structure at the base of a strain tower

Номер патента: LU503650B1. Автор: QI Chen,MING Chen,Chunting Li,Jing Cao,Ziwei Deng,Yanghao Li,Xili Zuo,Yongbing Xiang. Владелец: Huaneng Ningnan Wind Power Co ltd. Дата публикации: 2023-09-15.

Applications of a strain-compensated heavily doped etch stop for silicon structure formation

Номер патента: WO2002098788A3. Автор: David W Burns,Robert D Horning. Владелец: Honeywell Int Inc. Дата публикации: 2003-10-09.

Display device and a method of measuring a strain of the display device

Номер патента: US09658145B2. Автор: Tae-eun Kim,Soon-Ryong Park,Seok-Gi Baek,Chul-Woo Jeong,Jung-Ho So. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Layered adhesive construct having a mouldable layer as skin contact surface

Номер патента: US7943812B2. Автор: Esben Stroebeck,Flemming Moss,Danuta Ciok. Владелец: Coloplast AS. Дата публикации: 2011-05-17.

A strain of Burkholderia lata PN1 and its application

Номер патента: AU2021104567A4. Автор: Yang Zhang,JUAN Liu,Yun Zhang,Rong MAO,Fuxi Shi,Songze Wan. Владелец: Jiangxi Agricultural University. Дата публикации: 2021-09-23.

Method for internally instrumenting a strain gauge load cell and strain gauge load cell thus obtained

Номер патента: EP4065944A1. Автор: Paolo Brivio,Antonio Brivio. Владелец: Studio Aip Srl. Дата публикации: 2022-10-05.

A strain gauge

Номер патента: WO2017009365A1. Автор: Lars Pilgaard MIKKELSEN,Jacopo GILI. Владелец: DANMARKS TEKNISKE UNIVERSITET. Дата публикации: 2017-01-19.

Hexagonal cartridge having a hexagon shaped mouthpiece with a plurality of air flow inlets

Номер патента: US12096796B2. Автор: Scott Reimann. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-24.

Methods of Fabricating MOS Transistors Having Recesses With Elevated Source/Drain Regions

Номер патента: US20120034746A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-02-09.

MOS Device for Making the Source/Drain Region Closer to the Channel Region and Method of Manufacturing the Same

Номер патента: US20130256664A1. Автор: Yin Huaxiang,Qin Changliang. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-03.

Method for reducing junction capacitance of source/drain region

Номер патента: TW430885B. Автор: Jian-Ting Lin,Wen-Guan Ye,Jr-Wen Jou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-04-21.

METHOD AND APPARATUS FOR NAND MEMORY WITH RECESSED SOURCE/DRAIN REGION

Номер патента: US20120139023A1. Автор: Hui Angela T.,WANG FEI,CHEN Chun. Владелец: SPANSION LLC. Дата публикации: 2012-06-07.

METAL OXIDE SEMICONDUCTOR HAVING EPITAXIAL SOURCE DRAIN REGIONS AND METHOD OF MANUFACTURING SAME USING DUMMY GATE PROCES

Номер патента: US20130009210A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2013-01-10.

SOURCE/DRAIN REGION, CONTACT HOLE AND METHOD FOR FORMING THE SAME

Номер патента: US20130015497A1. Автор: Zhu Huilong,Yin Haizhou,Luo Zhijiong. Владелец: . Дата публикации: 2013-01-17.

TRANSISTOR WITH BOOT SHAPED SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20130032864A1. Автор: Javorka Peter,Kessler Matthias,Boschke Roman,KRONHOLZ Stephan D.. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2013-02-07.

Methods of Forming Source/Drain Regions on Transistor Devices

Номер патента: US20130095627A1. Автор: Flachowsky Stefan,Kessler Matthias,GERHARDT Martin. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2013-04-18.

MULTIPLE STEP IMPLANT PROCESS FOR FORMING SOURCE/DRAIN REGIONS ON SEMICONDUCTOR DEVICES

Номер патента: US20130230948A1. Автор: Scheiper Thilo,Herrmann Tom. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2013-09-05.

Annealing method of source / drain regions of MOS transistors

Номер патента: KR970003447A. Автор: 이상선. Владелец: 현대전자산업 주식회사. Дата публикации: 1997-01-28.

The manufacture method of source/drain region

Номер патента: TW401597B. Автор: Ye-Sen Lin,Huei-Chi Ju,Jiun-Bin Yang. Владелец: Vanguard Int Semiconduct Corp. Дата публикации: 2000-08-11.

Method for producing MOSFET with elevated source/drain region

Номер патента: TW432542B. Автор: Shie-Lin Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2001-05-01.

BIPOLAR TRANSISTOR HAVING SELF-ADJUSTED EMITTER CONTACT

Номер патента: US20120001192A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for initial isolation of influenza virus a strain, strain virus a/duck/novosibirsk/56/05 h5n1 for preparation for diagnosis, prophylaxis and therapeutical agents, and for evaluation of antiviral activity of various compounds

Номер патента: RU2309983C2. Автор: Петр Григорьевич Дерябин,Тарас Иванович Алипер,Евгений Анатольевич Непоклонов,Татьяна Владимировна Гребенникова,Дмитрий Константинович Львов,Михаил Юрьевич Щелканов,Алексей Дмитриевич Забережный,Алексей Геннадьевич Прилипов,Николай Анатольевич Власов,Дмитрий Евгеньевич Киреев,Дмитрий Константинович Львов (RU),бин Пётр Григорьевич Дер (RU),Алексей Дмитриевич Забережный (RU),Тарас Иванович Алипер (RU),Тать на Владимировна Гребенникова (RU),Михаил Юрьевич Щелканов (RU),Алексей Геннадьевич Прилипов (RU),Евгений Анатольевич Непоклонов (RU),Николай Анатольевич Власов (RU),Дмитрий Евгеньевич Киреев (RU). Владелец: Государственное учреждение Научно-исследовательский институт вирусологии им. Д.И. Ивановского Российской академии медицинских наук. Дата публикации: 2007-11-10.

A Strain of Klebsiella pneumoniae Isolated From Mink

Номер патента: NL2022691B1. Автор: Wang Guisheng,Dan Hu,Tian Fulin. Владелец: Animal Disease Prevention And Control Center Of Shandong Province. Дата публикации: 2020-02-26.