COBALT PRECURSORS FOR LOW TEMPERATURE ALD OR CVD OF COBALT-BASED THIN FILMS
Номер патента: US20150246941A1
Опубликовано: 03-09-2015
Автор(ы): Peters David W.
Принадлежит: ENTEGRIS, INC.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-09-2015
Автор(ы): Peters David W.
Принадлежит: ENTEGRIS, INC.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Cobalt precursors for low temperature ald or cvd of cobalt-based thin films
Номер патента: KR102193925B1. Автор: 데이빗 더블유. 피터스. Владелец: 엔테그리스, 아이엔씨.. Дата публикации: 2020-12-22.