Metal-insulator-metal (mim) structure supporting high voltage applications and low voltage applications
Номер патента: US20200273746A1
Опубликовано: 27-08-2020
Автор(ы): Kevin Lin
Принадлежит: Intel Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-08-2020
Автор(ы): Kevin Lin
Принадлежит: Intel Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Metal-insulator-metal (mim) structure supporting high voltage applications and low voltage applications
Номер патента: US20210225696A1. Автор: Kevin Lin. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2021-07-22.