Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Multi-showerhead chemical vapor deposition reactor, process and products

Multi-showerhead chemical vapor deposition reactor, process and products

Номер патента: EP3931368A4
Опубликовано: 09-11-2022
Автор(ы): Abhijit Rao, Douglas Llewellyn Butler, John Alan Langstrand, Kladias, Nagaraja Shashidhar, Rajaram Bhat
Принадлежит: Corning Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Multi-showerhead chemical vapor deposition reactor, process and products

Номер патента: EP3931368A1. Автор: Rajaram Bhat. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2022-01-05.

MULTI-SHOWERHEAD CHEMICAL VAPOR DEPOSITION REACTOR, PROCESS AND PRODUCTS

Номер патента: US20220037577A1. Автор: Bhat Rajaram. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-03.

Apparatus for in situ deposition of multilayer structures via atomic layer deposition and ultra-high vacuum physical or chemical vapor deposition

Номер патента: US09994956B2. Автор: Rongtao Lu,Judy Z. Wu,Allen Hase,Alan Elliot. Владелец: University of Kansas. Дата публикации: 2018-06-12.

Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus and method for controlling the same

Номер патента: EP2689048A2. Автор: Kwangho Lee,Jinhyouk Shin,Jangwoo Lee,Junggeun Oh,Jeonggyu Kim,Moonkap Lee. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2014-01-29.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process and system

Номер патента: WO2022036147A3. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SiO2 Medical Products, Inc.. Дата публикации: 2022-04-14.

Apparatus for in situ deposition of multilayer structures via atomic layer deposition and ultra-high vacuum physical or chemical vapor deposition

Номер патента: US20160040288A1. Автор: Rongtao Lu,Judy Z. Wu,Allen Hase,Alan Elliot. Владелец: University of Kansas. Дата публикации: 2016-02-11.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process and system

Номер патента: WO2022036147A4. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SiO2 Medical Products, Inc.. Дата публикации: 2022-06-23.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process, system, and coated vessels

Номер патента: US20230340670A1. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SIO2 Medical Products Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus and method for controlling the same

Номер патента: EP2689049A2. Автор: Kwangho Lee,Jinhyouk Shin,Jangwoo Lee,Junggeun Oh,Jeonggyu Kim. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2014-01-29.

Atomic layer deposition reactor arrangement and a method for operating an atomic layer deposition reactor arrangement

Номер патента: US12116668B2. Автор: Jonas Andersson,Pekka Soininen,Johannes Wesslin. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-10-15.

An atomic layer deposition reactor arrangement and a method for operating an atomic layer deposition reactor arrangement

Номер патента: EP4314378A1. Автор: Jonas Andersson,Pekka Soininen,Johannes Wesslin. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-02-07.

Atomic layer deposition reactor arrangement and a method for operating an atomic layer deposition reactor arrangement

Номер патента: US20240043998A1. Автор: Jonas Andersson,Pekka Soininen,Johannes Wesslin. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2024-02-08.

Vapor deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US20150191822A1. Автор: Sang-Joon SEO,Jae-eung Oh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-09.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US12065735B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Sung-Chul Kim,Seung-Yong Song,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Vapor deposition apparatus, method of forming thin film using the same and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US9390841B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Sung-Chul Kim,Seung-Yong Song,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-12.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11702749B2. Автор: Jing Lu,Jes Asmussen,Yajun Gu,Shreya Nad. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-07-18.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11854775B2. Автор: Timothy A. Grotjohn,Jes Asmussen. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-12-26.

RF powered plasma enhanced chemical vapor deposition reactor and methods

Номер патента: US6112697A. Автор: Paul Smith,Sujit Sharan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-09-05.

Device, system and method for plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20230349046A1. Автор: Jens-Uwe FUCHS,Ralf Reize,Mirko Tröller,Roland Leichtle. Владелец: Centrotherm International AG. Дата публикации: 2023-11-02.

Method for efficiently eliminating graphene wrinkles formed by chemical vapor deposition

Номер патента: US12116281B2. Автор: Jie Xu,Libo GAO,Guowen Yuan. Владелец: NANJING UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-10-15.

Directing plasma distribution in plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US09543125B2. Автор: Hsiang-Wei Lin,Chia-Ho Chen,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: US09663855B2. Автор: Jung-Sik Lee,Seok-won JUNG,Myung-Su Heo. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma source and methods for depositing thin film coatings using plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US09478401B2. Автор: Peter Maschwitz. Владелец: AGC Flat Glass North America Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Vapor deposition reactor and method for forming thin film

Номер патента: US20100310771A1. Автор: Sang In LEE. Владелец: Synos Technology Inc. Дата публикации: 2010-12-09.

High density plasma chemical vapor deposition chamber

Номер патента: US20020112666A1. Автор: Pei-Ren Jeng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-22.

Chemical vapor deposition tool and operating method thereof

Номер патента: US20170032940A1. Автор: Chien-Ta Lee,Pen-Li HUNG,Yu-Shan SHIH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-02-02.

Device, system and method for plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: CA3192596A1. Автор: Jens-Uwe FUCHS,Ralf Reize,Mirko Tröller,Roland Leichtle. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-03-24.

Multifunctional wafer pretreatment chamber and chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240337011A1. Автор: Yongjun Feng,Dongping Zhou,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Method for testing susceptor of chemical vapor deposition apparatus and method for manufacturing organic light emitting display apparatus by using the same

Номер патента: US09508613B2. Автор: Jin-Woo Yang. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Deposition of silicon nitride by plasma-enchanced chemical vapor deposition

Номер патента: US5508067A. Автор: Atsushi Tabata,Tatsuya Sato,Naoaki Kobayashi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-04-16.

Hardmasks and processes for forming hardmasks by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20220119953A1. Автор: Pramit MANNA,Karthik Janakiraman,Krishna Nittala,Jui-Yuan Hsu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-04-21.

Hardmasks and processes for forming hardmasks by plasma- enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2022086708A1. Автор: Pramit MANNA,Karthik Janakiraman,Krishna Nittala,Jui-Yuan Hsu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-28.

Multiple Chamber System for Plasma Chemical Vapor Deposition of Diamond and Related Materials

Номер патента: US20230392255A1. Автор: William Holber. Владелец: PLASMABILITY LLC. Дата публикации: 2023-12-07.

High density plasma chemical vapor deposition chamber and method of using

Номер патента: US20210125811A1. Автор: Ding-I Liu,Wen-Long Lee,Wei-Ching Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Integration of vapor deposition process into plasma etch reactor

Номер патента: US20230260759A1. Автор: Eric A. Hudson,Ramesh Chandrasekharan,Andrew Clark SERINO,Alan M. Schoepp,Thad NICHOLSON. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Cleaning apparatus of a high density plasma chemical vapor deposition chamber and cleaning thereof

Номер патента: US20050211279A1. Автор: Sung Hwang,Kyoung Chin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-29.

Vapor deposition device, vapor deposition method, and organic electroluminescence element manufacturing method

Номер патента: US09893283B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Shinichi Kawato,Kazuki Matsunaga. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Mask for vapor deposition apparatus, vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for producing organic electroluminescence element

Номер патента: US09845530B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Shinichi Kawato,Kazuki Matsunaga. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Deposition reactor with plasma source

Номер патента: RU2571547C2. Автор: Свен ЛИНДФОРС,Тимо МАЛИНЕН,Юхана КОСТАМО,Вяйнё КИЛЬПИ,Вэй-Минь ЛИ. Владелец: Пикосан Ой. Дата публикации: 2015-12-20.

Chemical vapor deposition reactor to grow diamond film by microwave plasma chemical vapor deposition

Номер патента: US11214871B2. Автор: Elgin E. Eissler,David SABENS,Charles D. Tanner. Владелец: II VI Delaware Inc. Дата публикации: 2022-01-04.

Plasma display panel suitable for high-quality display and production method

Номер патента: EP1221709A2. Автор: Yutaka Nishimura,Ryuichi Murai,Takashi Inami,Masaki Aoki,Hideo Torii,Hiroyoshi Tanaka,Hiroyuki Kawamura,Yasuhisa Ishikura,Eiji Fujii,Katsuyoshi Yamashita,Mitsuhiro Ohtani. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-10.

Microwave plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240158910A1. Автор: Zhiwen Kang,Bingfeng CAI,Kangfu GUO. Владелец: Wuhan Youmeike Automation Co ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US10151033B2. Автор: Yuji Takano,Hiromichi Nakata,Yoji Sato,Takayasu Sato,Kazutaka Tachibana,Osamu Ariyada,Ryo TSURUMOTO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2018-12-11.

Plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US20160376707A1. Автор: Yuji Takano,Hiromichi Nakata,Yoji Sato,Takayasu Sato,Kazutaka Tachibana,Osamu Ariyada,Ryo TSURUMOTO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2016-12-29.

System for chemical vapor deposition at ambient temperature using electron cyclotron resonance and method for depositing metal composite film using the same

Номер патента: US20030000827A1. Автор: Byung-Won Cho,Joong-Kee Lee,Dal-Keun Park,Joo-Man Woo,Bup-Ju Jeon. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2003-01-02.

Reductive elimination chemical vapor deposition processes utilizing organometallic precursor compounds in semiconductor wafer processing

Номер патента: US5384289A. Автор: Donald L. Westmoreland. Владелец: Micron Semiconductor Inc. Дата публикации: 1995-01-24.

Chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US8778079B2. Автор: Michael J. Begarney,Frank J. Campanale. Владелец: Valence Process Equipment Inc. Дата публикации: 2014-07-15.

Platinum source compositions for chemical vapor deposition of platinum

Номер патента: US5783716A. Автор: Thomas H. Baum,Peter S. Kirlin,Sofia Pombrik. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 1998-07-21.

Process and method for in-situ dry cleaning of thin film deposition reactors and thin film layers

Номер патента: WO2014094103A1. Автор: Rajesh Odedra. Владелец: SEASTAR CHEMICALS INC.. Дата публикации: 2014-06-26.

Metal-organic (MO) chemical vapor deposition method and MO chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US6180541B1. Автор: Jae-Hyun Joo. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 2001-01-30.

Chemical vapor deposition of low density silicon dioxide films

Номер патента: US6054206A. Автор: Thomas Weller Mountsier. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2000-04-25.

Laser-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20230203660A1. Автор: Rodney S. Harris,Stephen G. Topping. Владелец: River Electro Optics LLC. Дата публикации: 2023-06-29.

Oxide/organic polymer multilayer thin films deposited by chemical vapor deposition

Номер патента: WO1999057330A9. Автор: Seshu B Desu,John J Senkevich. Владелец: Seshu B Desu. Дата публикации: 2000-02-10.

Method for depositing amorphous silicon thin film by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2010032978A2. Автор: Chang Auck Choi,Byoung Gon Yu,Woo Seok Yang,Sang Hoon Cheon,Seong Mok Cho,Ho Jun Ryu. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2010-03-25.

Low-pressure chemical vapor deposition apparatus and thin-film deposition method thereof

Номер патента: US09478440B2. Автор: XIAO Wu,Xunhui Wang,Qijun Guo,Jianchao Fan. Владелец: University of Utah Research Foundation UURF. Дата публикации: 2016-10-25.

Systems and methods for depositing materials on either side of a freestanding film using laser-assisted chemical vapor deposition (LA-CVD), and structures formed using same

Номер патента: US09583354B2. Автор: David P. Taylor,Margaret H. Abraham. Владелец: Aerospace Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Chemical vapor deposition film profile uniformity control

Номер патента: US20130149871A1. Автор: Chin-Hsiang Lin,Chia-Ho Chen,Chih-Tsung Lee,You-Hua Chou,Ming-Chin Tsai,Ming-Shiou Kuo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-06-13.

Technique for high efficiency metalorganic chemical vapor deposition

Номер патента: US20030049932A1. Автор: Sam Yang,Weimin Li. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-13.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US6110283A. Автор: Takaaki Kawahara,Mikio Yamamuka,Tsuyoshi Horikawa,Masayoshi Tarutani. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2000-08-29.

Method and system for inline chemical vapor deposition

Номер патента: WO2012170166A3. Автор: Piero Sferlazzo,Thomas Michael Lampros. Владелец: AVENTA TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2013-04-25.

Feedback control of sub-atmospheric chemical vapor deposition processes

Номер патента: US20030049376A1. Автор: Arulkumar Shanmugasundram,Manuel Hernandez,Rong Pan,Alexander Schwarm,Amna Mohammad. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-03-13.

Method of ensuring adhesion of chemically vapor deposited oxide to gold integrated circuit interconnect lines

Номер патента: US4716071A. Автор: Dyer A. Matlock,Bruce E. Roberts,Jimmy C. Black. Владелец: HARRIS CORP. Дата публикации: 1987-12-29.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4503807A. Автор: Satoshi Nakayama,Shigeru Takeda,Masuo Suzuki,Hideaki Takeuchi,Harushige Kurokawa,Junichi Murota,Tatuhiko Hurukado,Humihide Ikeda. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1985-03-12.

Chamber for reducing contamination during chemical vapor deposition

Номер патента: US6114227A. Автор: Joseph P. Ellul,Stephen M. Campbell,Chung J. Lee,Giovanni Antonio Foggiato,David Leksell,Ming Xi Chan,Jeanne L. Luce,David T. Ryan,Iqbal A. Shareef. Владелец: Quester Technology Inc. Дата публикации: 2000-09-05.

Method for depositing amorphous silicon thin film by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2010032978A3. Автор: Chang Auck Choi,Byoung Gon Yu,Woo Seok Yang,Sang Hoon Cheon,Seong Mok Cho,Ho Jun Ryu. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2013-01-03.

Method for improving film uniformity in plasma enhanced chemical vapor deposition system

Номер патента: US20050025906A1. Автор: Hui-Chu Lin,Wen-Cheng Lu. Владелец: Toppoly Optoelectronics Corp. Дата публикации: 2005-02-03.

Method for producing nickel thin film on a Si substrate by chemical vapor deposition method, and method for producing Ni silicide thin film on Si substrate

Номер патента: US09805936B2. Автор: Takayuki Sone,Ryosuke Harada,Kazuharu Suzuki,Shunichi Nabeya,Michihiro YOKOO. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2017-10-31.

Chemical vapor deposition method of growing oxide films with giant magnetoresistance

Номер патента: US5487356A. Автор: Jiming Zhang,Yi-Oun Li. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 1996-01-30.

Metal organic chemical vapor deposition apparatus for solar cell

Номер патента: US20160225933A1. Автор: Heonmin Lee,Dongjoo YOU,Wonki Yoon. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2016-08-04.

Rapid hybrid chemical vapor deposition for perovskite solar modules

Номер патента: WO2021250499A1. Автор: Yabing Qi,Luis Katsuya ONO,Longbin Qiu,Sisi He. Владелец: OKINAWA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY SCHOOL CORPORATION. Дата публикации: 2021-12-16.

Rapid hybrid chemical vapor deposition for perovskite solar modules

Номер патента: EP4143363A1. Автор: Yabing Qi,Luis Katsuya ONO,Longbin Qiu,Sisi He. Владелец: Okinawa Institute of Science and Technology School Corp. Дата публикации: 2023-03-08.

Temperature-controlled purge gate valve for chemical vapor deposition chamber

Номер патента: US20090205563A1. Автор: Chantal Arena,Christiaan Werkhoven. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2009-08-20.

Diamond manufacturing system and method via chemical vapor deposition assisted with laser initiated plasma fed with microwave energy

Номер патента: EP3291279A1. Автор: Elena PALACIOS ZAMBRANO,Pedro Julián MARTÍN VELASCO,Vasily LENNIKOV,Susana Maria LUACES OROBITG. Владелец: Nano Coatings SL. Дата публикации: 2018-03-07.

Method for manufacturing cigs light absorption layer for solar cell through chemical vapor deposition

Номер патента: EP4340047A1. Автор: Seung Hyun Lee,Hyuk Kyoo Jang,Gyu Hyun LEE,Hea Yong KWON,Tae Yeop Jeon,Tae Woo Eom. Владелец: Mecaroenergy Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-20.

Chemical vapor deposition of perovskite thin films

Номер патента: US20190074439A1. Автор: Xiao Chen,Parag Banerjee,Peifu Cheng,Yoon Myung. Владелец: Washington University in St Louis WUSTL. Дата публикации: 2019-03-07.

Wafter carrier for chemical vapor deposition systems

Номер патента: US10316412B2. Автор: Yuliy Rashkovsky,Sandeep Krishnan,Alexander I. Gurary,Lukas Urban,Jeffrey Scott Montgomery. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2019-06-11.

Method for Fabricating Solar Cell Using Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition

Номер патента: US20120077306A1. Автор: Jong Ho Lee,Ho-Sung Kim,Chaehwan JEONG,Seongjae Boo. Владелец: Korea Institute of Industrial Technology KITECH. Дата публикации: 2012-03-29.

Gachemical vapor deposition apparatus with cleaning gas flow guiding member

Номер патента: US20230098570A1. Автор: Tung-Ching Tseng,Tsung-Lin Lee,Yi-Ming Lin,Sheng-chun YANG,Chih-Hung Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Vapor deposition method and vapor deposition device

Номер патента: US12100590B2. Автор: Naoyuki Wada,Yu Minamide. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Plasma enhanced chemical vapor reactor with shaped electrodes

Номер патента: US5628869A. Автор: Thomas G. Mallon. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 1997-05-13.

Atomic layer deposition reactor for processing batch of substrates and method of processing batch of substrates

Номер патента: RU2586956C2. Автор: Свен ЛИНДФОРС,Пекка Й. СОЙНИНЕН. Владелец: Пикосан Ой. Дата публикации: 2016-06-10.

Vapor deposition apparatus, deposition method using the same, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US20140322849A1. Автор: Jae-Hyun Kim,Myung-Soo Huh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-30.

Vapor deposition apparatus, deposition method using the same, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US9543518B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Myung-Soo Huh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Vapor Deposition Apparatus and Process for Continuous Indirect Deposition of a Thin Film Layer on a Substrate

Номер патента: US20130122630A1. Автор: Stacy Ann Black. Владелец: Primestar Solar Inc. Дата публикации: 2013-05-16.

Vapor deposition apparatus, deposition method using the same, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US09543518B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Myung-Soo Huh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Thin film vapor deposition method and thin film vapor deposition apparatus

Номер патента: US09506146B2. Автор: Ju-Hwan Park,Byung-Chul Cho,In-Hwan Yi. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Vapor deposition apparatus and process for continuous indirect deposition of a thin film layer on a substrate

Номер патента: US09412892B2. Автор: Stacy Ann Black. Владелец: First Solar Inc. Дата публикации: 2016-08-09.

Production method of epitaxial silicon wafer and vapor deposition apparatus

Номер патента: US20160083836A1. Автор: Hitoshi Takamiya,Kan Yoshitake,Motoki GOTO,Yusuke Kurozumi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2016-03-24.

Vapor deposition apparatus and process for continuous deposition of a doped thin film layer on a substrate

Номер патента: MY161000A. Автор: Scott Daniel Feldman-Peabody,Mark Jeffrey Pavol. Владелец: First Solar Malaysia Sdn Bhd. Дата публикации: 2017-03-31.

Production method of epitaxial silicon wafer and vapor deposition apparatus

Номер патента: US09670581B2. Автор: Hitoshi Takamiya,Kan Yoshitake,Motoki GOTO,Yusuke Kurozumi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Phase change material source for physical vapor deposition

Номер патента: US20160093873A1. Автор: Ann Marie Sastry,Hyoncheol KIM,Myoungdo Chung. Владелец: Sakti3 Inc. Дата публикации: 2016-03-31.

A vapor deposition apparatus

Номер патента: US20170037508A1. Автор: Peng Zhang,Lifei Ma. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-09.

Apparatus for gas injection in a physical vapor deposition chamber

Номер патента: US20140261177A1. Автор: Alan A. Ritchie,Keith A. Miller,Muhammad Rasheed,Kirankumar Savandaiah,Isaac Porras. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Semiconductor deposition reactor manifolds

Номер патента: US11830731B2. Автор: Jereld Lee Winkler,Todd Robert Dunn,Carl Louis White,Eric James Shero,William George Petro,Dinkar Nandwana,Aniket Chitale. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-11-28.

Plasma vapor deposition system and method for making multi-junction silicon thin film solar cell modules and panels

Номер патента: WO2010008439A1. Автор: Mohd Aslami. Владелец: Mohd Aslami. Дата публикации: 2010-01-21.

Plasma vapor deposition system and method for making multi-junction silicon thin film solar cell modules and panels

Номер патента: EP2318561A1. Автор: Mohd Aslami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-05-11.

Vapor deposition mask, frame-equipped vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation body, vapor deposition pattern forming method, method for producing organic semiconductor element, and method for producing organic el display

Номер патента: US20190211437A1. Автор: Katsunari Obata,Kumiko Hokari,Yasuko Sone. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2019-07-11.

Vapor deposition mask, frame-equipped vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation body, vapor deposition pattern forming method, method for producing organic semiconductor element, and method for producing organic el display

Номер патента: US20210222283A1. Автор: Katsunari Obata,Kumiko Hokari,Yasuko Sone. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2021-07-22.

Optical coatings of variable refractive index and high laser-resistance from physical-vapor-deposited perfluorinated amorphous polymer

Номер патента: US5882773A. Автор: Ian M. Thomas,Robert Chow,Gary E. Loomis. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 1999-03-16.

Susceptor for a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: WO2021167847A1. Автор: Alex Ignatiev,Shahab Khandan,Mikhail NOVOZHILOV,James JEWETT. Владелец: Metox Technologies, Inc.. Дата публикации: 2021-08-26.

Method of reducing carbon incorporation into films produced by chemical vapor deposition involving organic precursor compounds

Номер патента: US5661115A. Автор: Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1997-08-26.

Exclusion guard and gas-based substrate protection for chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US5843233A. Автор: Barry L. Chin,Eliot K. Broadbent,Jeffrey C. Benzing,Christopher W. Burkhart,Edward J. McInerney,Everhardus P. van de Ven,Lawrence C. Lane. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 1998-12-01.

Process and aparatus for atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2009073292A1. Автор: Robert P. Haley,Mark G.C. Vreys,Christina A. Rhoton,Alphonsus J.P. De Rijcke. Владелец: Dow Global Technologies Inc.. Дата публикации: 2009-06-11.

Susceptor for a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: EP4107795A1. Автор: Alex Ignatiev,Shahab Khandan,Mikhail NOVOZHILOV,James JEWETT. Владелец: Metox Technologies Inc. Дата публикации: 2022-12-28.

Susceptor for a Chemical Vapor Deposition Reactor

Номер патента: US20230079651A1. Автор: Alex Ignatiev,Shahab Khandan,Mikhail NOVOZHILOV,W. James JEWITT. Владелец: Metox Technologies Inc. Дата публикации: 2023-03-16.

Methods for area-selective deposition of polymer films using sequentially pulsed initiated chemical vapor deposition (spicvd)

Номер патента: WO2024019842A1. Автор: Jacques Faguet,Omid Zandi,Ornella Sathoud. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-01-25.

Chemical vapor deposition of chalcogenide materials

Номер патента: CA2595761A1. Автор: Stanford R. Ovshinsky,Smuruthi Kamepalli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-10.

Plasma enhanced chemical vapor deposition method of forming titanium silicide comprising layers

Номер патента: US20030170982A1. Автор: Gurtej Sandhu,Cem Basceri,Ammar Derraa,Philip Campbell,Irina Vasilyeva. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-11.

Plasma enhanced chemical vapor deposition method of forming titanium silicide comprising layers

Номер патента: US20060172087A1. Автор: Gurtej Sandhu,Cem Basceri,Ammar Derraa,Philip Campbell,Irina Vasilyeva. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-03.

Metalorganic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: US20200115800A1. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2020-04-16.

Precursor and process design for photo-assisted metal atomic layer deposition (ALD) and chemical vapor deposition (CVD)

Номер патента: US09932671B2. Автор: Florian Gstrein,James M. Blackwell,Robert L. Bristol,Paul A. Zimmerman,Scott B. Clendenning,Patricio E. Romero,Harsono S. Simka,Grant M. Kloster. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Chemical vapor deposition of silicon oxide films using alkylsiloxane oligomers with ozone

Номер патента: EP1204987A4. Автор: ZHENG Yuan,Sanjeev Jain. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2002-10-30.

Chemical vapor deposition of silicon oxide films using alkylsiloxane oligomers with ozone

Номер патента: EP1204987A1. Автор: ZHENG Yuan,Sanjeev Jain. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2002-05-15.

A chemical vapor deposition chamber article

Номер патента: WO2020242292A8. Автор: Marcus Gerardus Van Munster,Guiming SONG. Владелец: Schunk Xycarb Technology B.V.. Дата публикации: 2021-01-28.

Precursor compositions for atomic layer deposition and chemical vapor deposition of titanate, lanthanate, and tantalate dielectric films

Номер патента: US09534285B2. Автор: Thomas H. Baum,Jeffrey F. Roeder,Tianniu Chen,Chongying Xu,Thomas M. Cameron. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Neutral beam-assisted atomic layer chemical vapor deposition apparatus and method of processing substrate using the same

Номер патента: US7799706B2. Автор: Sung-Woo Kim,Geun-Young Yeom,Byoung-Jae Park,Jong-Tae Lim. Владелец: Sungkyunkwan University Foundation For Corporate Collaboration. Дата публикации: 2010-09-21.

Atomic layer deposition and vapor deposition reactor with in-chamber microplasma source

Номер патента: WO2020081574A1. Автор: Sung-Jin Park,J. Gary Eden,Jinhong Kim,Andrey Mironov. Владелец: The Board of Trustees of the University of Illinois. Дата публикации: 2020-04-23.

Composition control of chemical vapor deposition nitrogen doped germanium antimony tellurium

Номер патента: US20190345607A1. Автор: Takeshi Masuda,Robert Bruce,Matthew J. BrightSky,Norma Edith Sosa,Fabio Carta,Gloria W.Y. Fraczak. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2019-11-14.

Apparatus of chemical vapor deposition with a showerhead regulating injection velocity of reactive gases positively and method thereof

Номер патента: US09476121B2. Автор: Chul Soo Byun,Man Cheol Han. Владелец: Piezonics Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Method for the selective deposition of bismuth based ferroelectric thin films by chemical vapor deposition

Номер патента: US6120846A. Автор: Thomas H. Baum,Frank Hintermaier,Bryan Hendrix,Peter Van Buskirk,Jeff Roeder. Владелец: Infineon Technologies North America Corp. Дата публикации: 2000-09-19.

Very low pressure chemical vapor deposition process for deposition of titanium silicide films

Номер патента: US4957777A. Автор: Vida Ilderem,L. Rafael Reif,Prabha K. Tedrow. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 1990-09-18.

Low thermal budget chemical vapor deposition processing

Номер патента: US20080119059A1. Автор: Yuji Maeda,R. Suryanarayanan Iyer,Jacob W. Smith. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-05-22.

Dispenser system for atomic beam assisted metal organic chemical vapor deposition (MOCVD)

Номер патента: US20080026575A1. Автор: Supratik Guha,Fenton R. McFeely,John J. Yurkas. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2008-01-31.

Chemical vapor deposition of chalcogenide materials via alternating layers

Номер патента: US20090022883A1. Автор: Stanford R. Ovshinsky,Smuruthi Kamepalli. Владелец: Ovonyx Inc. Дата публикации: 2009-01-22.

Apparatus and concept for minimizing parasitic chemical vapor deposition during atomic layer deposition

Номер патента: EP1238421A4. Автор: Ofer Sneh,Carl Galewski. Владелец: Genus Inc. Дата публикации: 2006-06-21.

Chemical Vapor Deposition Diamond (CVDD) Wires for Thermal Transport

Номер патента: US20210143080A1. Автор: Philip Andrew Swire,Nina Biddle. Владелец: Microsemi Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

High pressure spatial chemical vapor deposition system and related process

Номер патента: US20240209502A1. Автор: Siddha Pimputkar. Владелец: Lehigh University. Дата публикации: 2024-06-27.

Chemical vapor deposition apparatus and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US09899210B2. Автор: Ren-Hua GUO,Ju-Ru HSIEH,Jen-Hao Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US09410247B2. Автор: Jung Hyun Lee,Jong Hyun Lee,Young Sun Kim,Ki Sung Kim,Suk Ho Yoon,Hyun Seok Ryu. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-08-09.

Deposition systems and processes for transport polymerization and chemical vapor deposition

Номер патента: US6086679A. Автор: HUI Wang,Chung J. Lee,Giovanni Antonio Foggiato. Владелец: Quester Technology Inc. Дата публикации: 2000-07-11.

Method for tungsten chemical vapor deposition on a semiconductor substrate

Номер патента: EP1219725A1. Автор: Joris Baele,Hans Vercammen. Владелец: Alcatel SA. Дата публикации: 2002-07-03.

Photo-chemical vapor deposition of silicon nitride film

Номер патента: US4588610A. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1986-05-13.

Metalorganic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: US11661655B2. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2023-05-30.

Metal organic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: EP3652358A1. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2020-05-20.

Methods for depositing polymer layer for sensor applications via hot wire chemical vapor deposition

Номер патента: EP3551780A1. Автор: Pravin K. Narwankar,Yuriy Melnik,Colin NEIKIRK. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-16.

Methods for depositing polymer layer for sensor applications via hot wire chemical vapor deposition

Номер патента: WO2018106886A1. Автор: Pravin K. Narwankar,Yuriy Melnik,Colin NEIKIRK. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-06-14.

Precursor compositions for atomic layer deposition and chemical vapor deposition of titanate, lanthanate, and tantalate dielectric films

Номер патента: WO2007106788A2. Автор: Thomas H. Baum,Jeffrey F. Roeder,Tianniu Chen,Chongying Xu,Thomas M. Cameron. Владелец: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.. Дата публикации: 2007-09-20.

Chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: US11842883B2. Автор: Jong-Hoon Park,Sukwon Jung,Hyunwoo Joo,Jaihyuk Choi,Kyungjoo Min,Wonwoong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: EP4243052A3. Автор: Jong-Hoon Park,Sukwon Jung,Hyunwoo Joo,Jaihyuk Choi,Kyungjoo Min,Wonwoong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

Chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: EP4243052A2. Автор: Jong-Hoon Park,Sukwon Jung,Hyunwoo Joo,Jaihyuk Choi,Kyungjoo Min,Wonwoong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-13.

Unitary wafer plasma enhanced chemical vapor deposition holding device

Номер патента: US5478399A. Автор: Calvin K. Willard. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1995-12-26.

Inverted positive vertical flow chemical vapor deposition chamber

Номер патента: CA1209330A. Автор: James D. Parsons. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1986-08-12.

Equipment for chemical vapor deposition

Номер патента: KR20070002277A. Автор: 나민재. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-01-05.

Migration and plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: CA2756994C. Автор: Kenneth Scott Alexander Butcher. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-03-07.

Haloalkynyl dicobalt hexacarbonyl precursors for chemical vapor deposition of cobalt

Номер патента: US11804375B2. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Seobong CHANG,Sangbum Han,JaeEon Park. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Thermal chemical vapor deposition system and operating method thereof

Номер патента: US20170107619A1. Автор: Ding-I Liu,Si-Wen Liao,Po-Hsiung Leu,Kai-Shiung Hsu,Jui-Fu Hsu,Cheng-Tsung WU,Yi-Fang Lai,Yen-Chan LO,Jheng-Uei HSIEH,Shian-Huei LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-20.

Haloalkynyl dicobalt hexacarbonyl precursors for chemical vapor deposition of cobalt

Номер патента: US20240096631A1. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Seobong CHANG,Sangbum Han,JaeEon Park. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Laser-assisted metal-organic chemical vapor deposition devices and methods of use thereof

Номер патента: US20210355581A1. Автор: Hongping Zhao,Zhaoying Chen. Владелец: Ohio State Innovation Foundation. Дата публикации: 2021-11-18.

High pressure spatial chemical vapor deposition system and related process

Номер патента: US11885018B2. Автор: Siddha Pimputkar. Владелец: Lehigh University. Дата публикации: 2024-01-30.

Laser-assisted metal-organic chemical vapor deposition devices and methods of use thereof for suppressing background carbon incorporation

Номер патента: US11846024B2. Автор: Hongping Zhao,Yuxuan ZHANG,Zhaoying Chen. Владелец: Ohio State Innovation Foundation. Дата публикации: 2023-12-19.

Apparatus for plasma chemical vapor deposition and method for fabricating semiconductor device by using the same

Номер патента: US20080194104A1. Автор: Sang-Tae Ahn,Dong-Sun Sheen,Seok-Pyo Song. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2008-08-14.

Apparatus for plasma chemical vapor deposition and method for fabricating semiconductor device by using the same

Номер патента: US20060094218A1. Автор: Sang-Tae Ahn,Dong-Sun Sheen,Seok-Pyo Song. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-05-04.

Wafer carrier for metal organic chemical vapor deposition

Номер патента: EP3907308A1. Автор: Yuxi Wan,Zetao PENG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-10.

Wafer support, chemical vapor phase growth device, epitaxial wafer and manufacturing method thereof

Номер патента: US10208398B2. Автор: Daisuke Muto,Jun NORIMATSU. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2019-02-19.

Physical vapor deposition methods and systems to form semiconductor films using counterbalance magnetic field generators

Номер патента: US20150311065A1. Автор: Jeonghee Park,Jae Yeol Park. Владелец: Semicat Inc. Дата публикации: 2015-10-29.

Metallization process and apparatus

Номер патента: EP1048062A1. Автор: Liang-Yuh Chen,Mehul B. Naik,Israel Beinglass,Ted Guo,Roderick Craig Mosely. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-11-02.

Physical vapor deposition methods and systems to form semiconductor films using counterbalance magnetic field generators

Номер патента: US09761441B2. Автор: Jeonghee Park,Jae Yeol Park. Владелец: Semicat Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Film quality control in a linear scan physical vapor deposition process

Номер патента: US20190311905A1. Автор: Joung Joo Lee,Xianmin Tang,Bencherki Mebarki. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-10.

Particle reduction in physical vapor deposition of amorphous silicon

Номер патента: WO2024081221A1. Автор: Mingdong Li,Chengyu Liu,Peijiao FANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-18.

Vapor deposition method for producing an organic EL panel

Номер патента: US09947904B2. Автор: Nobuhiro Hayashi,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Vapor deposition device, vapor deposition method, and method of manufacturing organic electroluminescent display device

Номер патента: US09714466B2. Автор: Satoshi Inoue,Satoshi Hashimoto,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-07-25.

Method for stretching vapor deposition mask, method for producing frame-equipped vapor deposition mask, method for producing organic semiconductor element, and stretching apparatus

Номер патента: US09705083B2. Автор: Toshihiko Takeda,Hideyuki Okamoto,Yoshiyuki Honma,Katsunari Obata. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-07-11.

Vapor deposition apparatus and method for producing organic electroluminescent element

Номер патента: US09493872B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Vapor deposition method and vapor deposition apparatus

Номер патента: US09458532B2. Автор: Nobuhiro Hayashi,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Vapor deposition apparatus and method associated

Номер патента: EP2839055A1. Автор: Masashi Mizuta. Владелец: Furukawa Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-25.

Vapor deposition apparatus and method associated

Номер патента: WO2013157057A1. Автор: Masashi Mizuta. Владелец: FURUKAWA CO., LTD.. Дата публикации: 2013-10-24.

Methods for depositing amorphous silicon layers or silicon oxycarbide layers via physical vapor deposition

Номер патента: US20180142343A1. Автор: Yong Cao,Huixiong Dai,Khoi Phan,Xianmin Tang,Christopher Ngai,Rongjun Wang,Weimin Zeng,Daniel Lee Diehl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-24.

Toposelective vapor deposition using an inhibitor

Номер патента: US20220181163A1. Автор: Michael Givens,Varun Sharma,Shaoren Deng,Marko Tuominen,Andrea Illiberi. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-06-09.

Vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for producing organic electroluminescent element

Номер патента: US09614155B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Yoshiyuki Isomura,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Methods of reducing particles in a physical vapor deposition (pvd) chamber

Номер патента: WO2022197723A1. Автор: Yong Cao,Mingdong Li,Chengyu Liu,Shane Lavan,Jothilingam RAMALINGAM,Wei Dou. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-22.

Methods of reducing particles in a physical vapor deposition (pvd) chamber

Номер патента: US20220301828A1. Автор: Yong Cao,Mingdong Li,Chengyu Liu,Shane Lavan,Jothilingam RAMALINGAM,Wei Dou. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-22.

Method for manufacturing vapor deposition mask and method for vapor deposition of organic light-emittng material

Номер патента: US20190355938A1. Автор: YASUHIRO Mizuno,Ying-Chieh Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Scan vapor deposition metal mask, vapor deposition device, vapor deposition method, and electroluminescence display device

Номер патента: US20190071762A1. Автор: Satoshi Inoue,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Manabu Niboshi,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2019-03-07.

Physical vapor deposition tile arrangement and physical vapor deposition arrangement

Номер патента: US20150114824A1. Автор: Klaus Schneider,Christoph Kaiser,Bernd Teichert,Michael Rivkin,George Arthur Proulx. Владелец: First Solar Inc. Дата публикации: 2015-04-30.

Method for changing physical vapor deposition film form

Номер патента: US20100022101A1. Автор: Yi-Hao Ting. Владелец: Inotera Memories Inc. Дата публикации: 2010-01-28.

Physical vapor deposition of low-stress nitrogen-doped tungsten films

Номер патента: US09938616B2. Автор: Michael Ng,Michael Rumer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Vapor deposition device

Номер патента: US09315893B2. Автор: Chunyun Huang. Владелец: EverDisplay Optronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-19.

Vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for manufacturing organic el display apparatus

Номер патента: US20220220600A1. Автор: Katsuhiko Kishimoto,Kozo Yano,Susumu Sakio,Koshi Nishida. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-14.

Vapor deposition mask, method for manufacturing vapor deposition mask, vapor deposition method, and method for manufacturing organic el display device

Номер патента: US20190106781A1. Автор: Katsuhiko Kishimoto,Susumu Sakio,Koshi Nishida. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-11.

Method of controlling contamination of vapor deposition apparatus and method of producing epitaxial wafer

Номер патента: US20200392618A1. Автор: Shota Kinose. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2020-12-17.

Electron beam physical vapor deposition apparatus and processes

Номер патента: EP1939924A3. Автор: Richard S. Mullin,Igor V. Belousov,Yurity M. Barabash,Yurity G. Kononenko. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-12.

Physical vapor deposition chamber with rotating magnet assembly and centrally fed rf power

Номер патента: WO2011139439A3. Автор: Keith Miller,Alan Ritchie. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Physical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230175113A1. Автор: Sangwook Park,Kyuhee Han,Jaesuk KIM,Gukrok YUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Vapor deposition carrier plate and method for performing vapor deposition on substrate by using vapor deposition carrier plate

Номер патента: US20210180181A1. Автор: Zhiqiao LIU. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Particle Reduction in Physical Vapor Deposition of Amorphous Silicon

Номер патента: US20240128075A1. Автор: Mingdong Li,Chengyu Liu,Peijiao FANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Physical vapor deposition system and methods of operating the same

Номер патента: US20240271271A1. Автор: Yen-Yu Chen,Chia-Hsi Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Indium electroplating on physical vapor deposition tantalum

Номер патента: US11753736B2. Автор: Eric R. Miller,Michael J. Rondon,Jon Sigurdson. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2023-09-12.

Method and system for conditioning a vapor deposition target

Номер патента: EP2013373B1. Автор: Robert Huff,Milan Ilic,George McDonough. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2011-08-31.

Method and apparatus for depositing a layer on a semiconductor wafer by vapor deposition in a process chamber

Номер патента: MY166009A. Автор: Brenninger Georg. Владелец: SILTRONIC AG. Дата публикации: 2018-05-21.

Systems and Methods for Integrated Resputtering in a Physical Vapor Deposition Chamber

Номер патента: US20180158658A1. Автор: Syun-Ming Jang,Ming-Hsing Tsai,Ching-Hua Hsieh,Shing-Chyang Pan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-07.

Physical vapor deposition system comprising positioning marker and method for adjusting distance between crucible and substrate

Номер патента: EP3717675A1. Автор: BASTIAN SIEPCHEN,MICHAEL HARR,SHOU PENG,Bettina Späth,Xinjian Yin,Ganhua FU,Marcel MISCHKE. Владелец: China Triumph International Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-07.

Physical vapor deposition system comprising positioning marker and method for adjusting distance between crucible and substrate

Номер патента: WO2019104727A1. Автор: BASTIAN SIEPCHEN,MICHAEL HARR,SHOU PENG,Bettina Späth,Xinjian Yin,Ganhua FU,Marcel MISCHKE. Владелец: CTF SOLAR GMBH. Дата публикации: 2019-06-06.

Methods and apparatus for physical vapor deposition (pvd) dielectric deposition

Номер патента: US20210050195A1. Автор: Jothilingam RAMALINGAM,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-02-18.

Physical vapor deposition chamber and physical vapor deposition apparatus

Номер патента: US11732346B2. Автор: Bing Li,Qiwei Huang,Hongrui GUO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Indium electroplating on physical vapor deposition tantalum

Номер патента: US20240018684A1. Автор: Eric R. Miller,Michael J. Rondon,Jon Sigurdson. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2024-01-18.

Apparatus and method for physical vapor deposition

Номер патента: US20240339310A1. Автор: Wen-Cheng Yang,Chyi-Tsong Ni,Yu-Young Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Apparatus for gas injection in a physical vapor deposition chamber

Номер патента: US09957601B2. Автор: Alan A. Ritchie,Keith A. Miller,Muhammad Rasheed,Kirankumar Savandaiah,Isaac Porras. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Vapor deposition and vapor deposition method

Номер патента: US09932672B2. Автор: Sang-Joon SEO,Myung-Soo Huh,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG,Jeong-Ho Yi,Cheol-Rae JO,Seung-Hun Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Physical vapor deposition system and physical vapor depositing method using the same

Номер патента: US09887073B2. Автор: Hung-Wen Su,Chih-Chien Chi,Pei-Hsuan Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Methods of vapor deposition with multiple vapor sources

Номер патента: US09873942B2. Автор: Mohith Verghese,Eric Shero,Jan Willem Maes,Christophe Pomarede,Chang-gong Wang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-01-23.

Vapor deposition mask, frame-equipped vapor deposition mask, and method for producing organic semiconductor element

Номер патента: US09806257B2. Автор: Hiroshi Kawasaki,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-10-31.

Vapor deposition method and method for producing an organic electroluminescence display device

Номер патента: US09741932B2. Автор: Satoshi Inoue,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Coaxial hollow cathode plasma assisted directed vapor deposition and related method thereof

Номер патента: US09640369B2. Автор: Goesta Mattausch,Haydn N. G. Wadley,Henry Morgner,Frank-Holm Roegner. Владелец: UNIVERSITY OF VIRGINIA PATENT FOUNDATION. Дата публикации: 2017-05-02.

Physical vapor deposition RF plasma shield deposit control

Номер патента: US09605341B2. Автор: Keith A. Miller. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Physical vapor deposition of an aluminum nitride film

Номер патента: US09484198B1. Автор: Yung-Chin Yang,Chen-Te Chang,Jyh-Wei Lee. Владелец: Ming Chi University of Technology. Дата публикации: 2016-11-01.

Deflection magnetic field type vacuum arc vapor deposition device

Номер патента: US20070023282A1. Автор: Yasuo Murakami. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-01.

Method and chamber for backside physical vapor deposition

Номер патента: US20230335393A1. Автор: Yong Cao,Kevin Vincent Moraes,Shane Lavan,Jothilingam RAMALINGAM,Chunming Zhou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Method for manufacturing vapor deposition mask and method for vapor deposition of organic light-emitting material

Номер патента: US10553834B2. Автор: YASUHIRO Mizuno,Ying-Chieh Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-04.

Physical vapor deposition with impedance matching network

Номер патента: EP2398930A1. Автор: Youming Li,Jeffrey Birkmeyer,Takamichi Fujii,Takayuki Naono,Yoshikazu Hishinuma. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-12-28.

Physical vapor deposition with impedance matching network

Номер патента: WO2010096533A1. Автор: Youming Li,Jeffrey Birkmeyer,Takamichi Fujii,Takayuki Naono,Yoshikazu Hishinuma. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2010-08-26.

Vapor deposition of molybdenum using a bis(alkyl-arene) molybdenum precursor

Номер патента: EP3740600A1. Автор: Thomas H. Baum,Shuang Meng,Bryan C. Hendrix,Philip S.H. Chen,JR. Robert WRIGHT. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2020-11-25.

Method and apparatus for asymmetric selective physical vapor deposition

Номер патента: US20190276926A1. Автор: Joung Joo Lee,Keith Miller,Sudarsan Srinivasan,Xianmin Tang,Bencherki Mebarki,Sree Rangasai KESAPRAGADA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-09-12.

Vapor deposition apparatus, vapor deposition method and method of manufacturing organic el display apparatus

Номер патента: US20190067582A1. Автор: Katsuhiko Kishimoto. Владелец: Sakai Display Products Corp. Дата публикации: 2019-02-28.

Container-shaped physical vapor deposition targets

Номер патента: US20030015432A1. Автор: Jianxing Li,Steven Wu,Michael Pinter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-23.

Vapor deposition routes to nanoporous silica

Номер патента: US6022812A. Автор: Douglas M. Smith,Teresa Ramos,Kevin H. Roderick. Владелец: AlliedSignal Inc. Дата публикации: 2000-02-08.

Electrode for vapor deposition and vapor-deposition method using same

Номер патента: US4978556A. Автор: Eduard Pinkahsov. Владелец: Vapor Technologies Inc. Дата публикации: 1990-12-18.

Method of vapor deposition

Номер патента: US3934059A. Автор: Murray Arthur Polinsky. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1976-01-20.

Lamination and conversion process and apparatus

Номер патента: US20070138003A1. Автор: Peter Quinn. Владелец: Annaqin LLC. Дата публикации: 2007-06-21.

Physical vapor deposition processing systems target cooling

Номер патента: SG11201905739QA. Автор: Vishwas Kumar Pandey,Kartik Shah,Wei W Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-08-27.

Vapor deposition source and method for making organic light-emitting diode display panel

Номер патента: US20190214562A1. Автор: Ying-Chieh Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-11.

Metallization process and apparatus

Номер патента: WO1999036952A1. Автор: Liang-Yuh Chen,Mehul B. Naik,Israel Beinglass,Ted Guo,Roderick Craig Mosely. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1999-07-22.

Vapor deposition of chalcogenide-containing films

Номер патента: US09543144B2. Автор: Julien Gatineau,Hana ISHII,Nathanaelle Schneider. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-01-10.

Process for manufacturing an auto-collimating scintillator and product produced thereby

Номер патента: US5427817A. Автор: Claude A. Goodman,Alan F. Lyon,Victor Perez-Mendez. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 1995-06-27.

Methods and apparatus for physical vapor deposition (PVD) dielectric deposition

Номер патента: US11842890B2. Автор: Jothilingam RAMALINGAM,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-12.

Film thickness test apparatus and method and vapor deposition device

Номер патента: US11092429B2. Автор: Chihwei SU. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-17.

Physical vapor deposition in-chamber electro-magnet

Номер патента: EP3791422A1. Автор: Michael S. Cox,Brian T. West,Dinkesh SOMANNA,Miroslav Gelo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-03-17.

Methods and apparatus for physical vapor deposition (pvd) dielectric deposition

Номер патента: US20240105433A1. Автор: Jothilingam RAMALINGAM,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-28.

Process for chemical vapor deposition of materials with via filling capability and structure formed thereby

Номер патента: US20080164579A1. Автор: Alejandro G. Schrott,Fenton R. McFeely,John J. Yurkas. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2008-07-10.

Chemical vapor deposition methods and methods of etching a contact opening over a node location on a semiconductor substrate

Номер патента: US20020123221A1. Автор: Chris Hill,Mark Jost. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-05.

Chemical vapor deposition coating, article, and method

Номер патента: US09777368B2. Автор: David A. Smith,James B. Mattzela,Paul H. Silvis,Gary A. Barone. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Metalorganic chemical vapor deposition of zinc oxide

Номер патента: WO2009131842A1. Автор: Bunmi T. Adekore,Jonathan Pierce. Владелец: Lumenz, Inc.. Дата публикации: 2009-10-29.

Metalorganic chemical vapor deposition of zinc oxide

Номер патента: EP2279284A1. Автор: Bunmi T. Adekore,Jonathan Pierce. Владелец: LUMENZ Inc. Дата публикации: 2011-02-02.

Aerosol assisted chemical vapor deposition methods useful for making dye-sensitized solar cells with platinum dialkyldithiocarbamate complexes

Номер патента: US11742151B2. Автор: Muhammad Ali Ehsan,Abdul REHMAN,Abbas Saeed Hakeem. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2023-08-29.

Method of making primary current detector using plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US4851367A. Автор: David J. Wolf. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1989-07-25.

Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method of forming vanadium oxide films and vanadium oxide thin-films prepared thereby

Номер патента: US6156395A. Автор: Ping Liu,David K. Benson,C. Edwin Tracy,Ji-Guang Zhang,John A. Turner. Владелец: Midwest Research Institute. Дата публикации: 2000-12-05.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and method of forming lithium-based film by using the same

Номер патента: US20220025515A1. Автор: Jooho Lee,Yongsung Kim,Changseung LEE,Sungjin Lim,Junsik Hwang,Wooyoung Yang,Sanghoon Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-01-27.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and method of forming lithium-based film by using the same

Номер патента: US20180010245A1. Автор: Jooho Lee,Yongsung Kim,Changseung LEE,Sungjin Lim,Junsik Hwang,Wooyoung Yang,Sanghoon Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-11.

Chemical vapor deposition of titanium

Номер патента: US6903462B2. Автор: Gurtej Singh Sandhu,Donald L. Westmoreland. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-06-07.

Chemical vapor deposition of titanium

Номер патента: US20090039517A1. Автор: Gurtej Singh Sandhu,Donald L. Westmoreland. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-02-12.

Process gas management for an inductively-coupled plasma deposition reactor

Номер патента: US09605342B2. Автор: Robert Brennan Milligan,Fred Alokozai. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-03-28.

Photoelectric conversion device vapor deposition material, photoelectric conversion device, sensor, and imaging device

Номер патента: US09691999B2. Автор: Mitsumasa Hamano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Photoelectric conversion device vapor deposition material, photoelectric conversion device, sensor, and image pickup device

Номер патента: WO2013015441A1. Автор: Mitsumasa Hamano. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-01-31.

Device and methods for deposition reactors

Номер патента: RU2630727C2. Автор: Свен ЛИНДФОРС,Пекка Й. СОИНИНЕН. Владелец: Пикосун Ой. Дата публикации: 2017-09-12.

Selective area deposition of metal films by atomic layer deposition (ALD) and chemical vapor deposition (CVD)

Номер патента: US09583389B2. Автор: Florian Gstrein,Scott B. Clendenning,Patricio E. Romero,Jeanette M. Roberts. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Method for performing metallo-organic chemical vapor deposition of titanium nitride at reduced temperature

Номер патента: US20020001928A1. Автор: Mei Chang,Ming Xi,Keith K. Koai,Shulin Wang,Huan LUO,Russell C. Ellwanger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-03.

Chemical-vapor-deposition silicon carbide bulk having improved etching characteristic

Номер патента: US11859309B2. Автор: Kang Suk Kim,Young Ju Kim,Hak Jun AHN,Youn Woong JUNG,Jun Baek SONG,Won Geun SON. Владелец: DS TECHNO Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Magnetically enhanced high density plasma-chemical vapor deposition plasma source for depositing diamond and diamond-like films

Номер патента: US09951414B2. Автор: Roman Chistyakov,Bassam Hanna Abraham. Владелец: IonQuest Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Chemical vapor deposition processes using ruthenium precursor and reducing gas

Номер патента: WO2020096976A1. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Philip S.H. Chen. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2020-05-14.

Chemical vapor deposition processes using ruthenium precursor and reducing gas

Номер патента: US11987878B2. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Philip S. H. Chen. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Plasma enhanced chemical vapor deposition of graphene on optical fibers

Номер патента: US20230212743A1. Автор: Nai-Chang Yeh,Deepan Kishore Kumar. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2023-07-06.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US4107352A. Автор: Mohammad Javid Hakim. Владелец: Westinghouse Canada Inc. Дата публикации: 1978-08-15.

Catalytic chemical vapor deposition device, and deposition method and catalyst body surface treatment method using same

Номер патента: US20130344247A1. Автор: Motohide Kai,Tomonori UEYAMA. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Method of chemical vapor deposition in a continuous treatment line

Номер патента: US5352490A. Автор: Masahiro Abe,Kazuhisa Okada,Shuzo Fukuda. Владелец: NKK Corp. Дата публикации: 1994-10-04.

High speed chemical vapor deposition process utilizing a reactor having a fiber coating liquid seal and a gas sea;

Номер патента: US4863760A. Автор: Christopher A. Schantz,Ronald Hiskes. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 1989-09-05.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230105104A1. Автор: Jinsan Moon,Wonbae Park. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2023-04-06.

Process-specific wafer carrier correction to improve thermal uniformity in chemical vapor deposition systems and processes

Номер патента: US20170053049A1. Автор: Sandeep Krishnan,Lukas Urban. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2017-02-23.

Method and system for producing graphene on a copper substrate by modified chemical vapor deposition (AP-CVD)

Номер патента: US11624114B2. Автор: Patricio HÄBERLE TAPIA,Christian ORELLANA GÓMEZ. Владелец: Universidad Tecnica Federico Santa Maria USM. Дата публикации: 2023-04-11.

Passivation against vapor deposition

Номер патента: US20210115559A1. Автор: Varun Sharma,Eva E. Tois. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-04-22.

Vapor deposition mask, and manufacturing method and manufacturing device for organic EL element using vapor deposition mask

Номер патента: US09580791B2. Автор: Satoshi Inoue,Nobuhiro Hayashi,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Method and apparatus for forming a substrate web track in an atomic layer deposition reactor

Номер патента: US09745661B2. Автор: Vaino Kilpi,Timo Malinen. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2017-08-29.

Method for treatment of deposition reactor

Номер патента: US11967488B2. Автор: Dong Li,Jereld Lee Winkler,Eric James Shero,Suvi Haukka,Fred Alokozai,Xichong Chen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-23.

Apparatus for gaseous vapor deposition

Номер патента: WO2011026078A3. Автор: Geoffrey Nunes,Richard Dale Kinard,Peter Francis Carcia,Robert Scott Mclean,Kirstin H Shilkitus. Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Дата публикации: 2011-06-16.

Apparatus for gaseous vapor deposition

Номер патента: WO2011026078A2. Автор: Geoffrey Nunes,Richard Dale Kinard,Peter Francis Carcia,Robert Scott Mclean,Kirstin H Shilkitus. Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Дата публикации: 2011-03-03.

Vanadium-containing film forming compositions and vapor deposition of vanadium-containing films

Номер патента: US09691771B2. Автор: Wontae NOH,Clement Lansalot-Matras. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-06-27.

Method for treatment of deposition reactor

Номер патента: US20240014012A9. Автор: Dong Li,Jereld Lee Winkler,Eric James Shero,Suvi Haukka,Fred Alokozai,Xichong Chen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-11.

Film cassette for gaseous vapor deposition

Номер патента: WO2011026066A3. Автор: Richard Dale Kinard,Calixto Estrada,Peter Francis Carcia,Robert Scott Mclean,Kirstin H Shilkitus. Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Дата публикации: 2011-06-16.

Method for treatment of deposition reactor

Номер патента: US20230230813A2. Автор: Dong Li,Jereld Lee Winkler,Eric James Shero,Suvi Haukka,Fred Alokozai,Xichong Chen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-07-20.

Surface treatment system, surface treatment method and product produced by surface treatment method

Номер патента: EP1509634A1. Автор: Hyun-Woo Jun,Samchul Ha,Hyun-Wook Lee,Cheon-Soo Cho,Dong-Sik Youn. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2005-03-02.

Surface treatment system, surface treatment method and product produced by surface treatment method

Номер патента: EP1509634B1. Автор: Hyun-Woo Jun,Samchul Ha,Hyun-Wook Lee,Cheon-Soo Cho,Dong-Sik Youn. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2011-08-24.

Continuous chemical vapor deposition reactor

Номер патента: CA1068582A. Автор: Roger N. Anderson. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1979-12-25.

Single ended ultra-high vacuum chemical vapor deposition (uhv/cvd) reactor

Номер патента: US5181964A. Автор: Bernard S. Meyerson. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1993-01-26.

Defined dosing atmospheric temperature and pressure vapor deposition system

Номер патента: US09562288B2. Автор: Adam Zax,Russell C. SLAYBAUGH,Michael Stephen METCALFE,Guillermo SETA. Владелец: Diamon Fusion International Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Continuous-feed chemical vapor deposition system

Номер патента: US20230002906A1. Автор: Yaakov Gridish,Elad Mentovich,Yaniv Rotem,Doron NAVEH,Chen STERN,Yosi BEN-NAIM,Ariel Ismach,Tal KAUFMAN,Eran BAR-RABI. Владелец: Simtal Nano Coatings Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Embedded wire chemical vapor deposition (ewcvd)

Номер патента: EP4363630A1. Автор: Joseph Pegna,Kirk L. Williams,Shay L. Harrison. Владелец: Free Form Fibers LLC. Дата публикации: 2024-05-08.

Chemical vapor deposition system and method

Номер патента: EP1204782A1. Автор: Robert J. Bailey,Thomas E. Kane,Lisa H. Michael. Владелец: Silicon Valley Group Thermal Systems LLC. Дата публикации: 2002-05-15.

Method of forming a film on a substrate by chemical vapor deposition

Номер патента: US11885022B2. Автор: Waichi Yamamura,Chikara MORI. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Apparatus and method for chemical vapor deposition using an axially symmetric gas flow

Номер патента: GB2181460A. Автор: Mcdonald Robinson,Klavs F Jensen,Wayne L Johnson,Wiebe B Deboer,Gary W Read. Владелец: Epsilon LP. Дата публикации: 1987-04-23.

Atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4834020A. Автор: Lawrence D. Bartholomew,Nicholas M. Gralenski,Michael A. Richie,Michael L. Hersh. Владелец: Watkins Johnson Co. Дата публикации: 1989-05-30.

Chemical vapor deposition apparatus and method for forming parylene film

Номер патента: US20110151121A1. Автор: Chun-Hao Chang,Chuan-Sheng Zhuang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2011-06-23.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: US20220275509A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2022-09-01.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: EP4298665A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2024-01-03.

Chemical vapor deposition process for producing diamond

Номер патента: US11905594B2. Автор: Neil Fox,Hugo DOMINGUEZ ANDRADE,Thomas B SCOTT,Edward JD MAHONEY,Alexander CROOT. Владелец: University of Bristol. Дата публикации: 2024-02-20.

Chemical vapor deposition apparatus of in-line type

Номер патента: US5288329A. Автор: Kazuyuki Ito,Masanori Hashimoto,Michio Ishikawa,Yoshifumi Ota,Kyuzo Nakamura,Noriaki Tani. Владелец: Nihon Shinku Gijutsu KK. Дата публикации: 1994-02-22.

Automated conveyance of articles in chemical vapor processing

Номер патента: US11946141B2. Автор: Michael Anthony Crockett. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2024-04-02.

Method of cooling induction-heated vapor deposition apparatus and cooling apparatus therefor

Номер патента: US4293755A. Автор: Dennis Garbis,Lawrence Hill,Robert Heller. Владелец: General Instrument Corp. Дата публикации: 1981-10-06.

Loaded film cassette for gaseous vapor deposition

Номер патента: WO2011026069A3. Автор: Richard Dale Kinard,Calixto Estrada,Peter Francis Carcia,Robert Scott Mclean,Kirstin H Shilkitus. Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Дата публикации: 2011-06-30.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4539933A. Автор: Dale R. DuBois,Bryant A. Campbell,Nicholas E. Miller,Ralph F. Manriquez. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1985-09-10.

Plasma chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US11956884B2. Автор: Igor Milicevic,Mattheus Jacobus Nicolaas Van Stralen,Gertjan KRABSHUIS,Antonius Henricus Elisabeth Breuls. Владелец: Draka Comteq BV. Дата публикации: 2024-04-09.

Plasma Chemical Vapor Deposition Apparatus

Номер патента: US20220377871A1. Автор: Igor Milicevic,Mattheus Jacobus Nicolaas Van Stralen,Gertjan KRABSHUIS,Antonius Henricus Elisabeth Breuls. Владелец: Draka Comteq BV. Дата публикации: 2022-11-24.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: CA1216419A. Автор: Dale R. DuBois,Bryant A. Campbell,Nicholas E. Miller,Ralph F. Manriquez. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1987-01-13.

Chemical vapor deposition during additive manufacturing

Номер патента: US11851763B2. Автор: Scott Alan Gold. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2023-12-26.

Chemical vapor deposition during additive manufacturing

Номер патента: US20240076779A1. Автор: Scott Alan Gold. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-03-07.

Vapor deposition method and vapor deposition container

Номер патента: US20240110274A1. Автор: Yoshihiko Mochizuki,Mitsuru Iwata,Yasunori Yonekuta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Vapor deposition apparatus and method for producing organic electronic device

Номер патента: EP3822388A1. Автор: Shinichiro Kobayashi,HIROSHI Miyazaki,Hiroshi Fujimoto. Владелец: Fukuoka Industry Science and Technology Foundation. Дата публикации: 2021-05-19.

Manufacturing method for vapor deposition mask device and manufacturing apparatus for vapor deposition mask device

Номер патента: US12128500B2. Автор: Hideyuki Okamoto. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2024-10-29.

Ion vapor deposition of aluminum on non-metallic materials

Номер патента: US09909207B1. Автор: Timothy Cranford. Владелец: Cametoid Technologies Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Vacuum vapor deposition method

Номер патента: US09863034B2. Автор: Yuji Yanagi. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Vapor deposition apparatus, vapor deposition method and method of manufacturing organic light emitting display apparatus

Номер патента: US09481929B2. Автор: In-Kyo Kim,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Choel-Min JANG,Sung-Hun KEY. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Vapor deposition source for vacuum vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230279536A1. Автор: Toshimitsu Nakamura,Jungo Onoda. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Vapor deposition device, vapor deposition method and organic EL display device

Номер патента: US8658545B2. Автор: Satoshi Inoue,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2014-02-25.

Evaporation source for use in vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230357919A1. Автор: Hironori Wakamatsu,Toshimitsu Nakamura,Fumitsugu Yanagihori,Masashi UMEHARA. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Method and apparatus for pulsed energy induced vapor deposition of thin films

Номер патента: US5015492A. Автор: THIRUMALAI VENKATESAN,Xin D. Wu. Владелец: Bell Communications Research Inc. Дата публикации: 1991-05-14.

Vapor deposition source and method for making organic light-emitting diode display panel

Номер патента: US11800779B2. Автор: Ying-Chieh Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Film forming source, vapor deposition apparatus, and apparatus for manufacturing an organic el element

Номер патента: US20110042208A1. Автор: Toshio Negishi,Tatsuhiko Koshida. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-02-24.

Vapor deposition mask and method for producing organic electronic device

Номер патента: US20240084434A1. Автор: Shinichiro Watanabe,Takahiro Yajima,Tatsuro Uchida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-03-14.

Plasma vapor deposited (pvd) coating process

Номер патента: US20170058399A1. Автор: Ann Marie Straccia,Larry P. Haack,Steven J. Simko. Владелец: FORD GLOBAL TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2017-03-02.

Chemical vapor deposition process and coated article

Номер патента: US09915001B2. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Gas injection system for chemical vapor deposition using sequenced valves

Номер патента: WO2012082225A1. Автор: William E. Quinn,Eric A. Armour. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2012-06-21.

Gas Injection System For Chemical Vapor Deposition Using Sequenced Valves

Номер патента: US20160168710A1. Автор: William E. Quinn,Eric A. Armour. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2016-06-16.

Chemical vapor deposition system arrangement

Номер патента: US20160053375A1. Автор: William David Grove,Nicholas Peter Deskevich. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-02-25.

Composite film applied to flexible substrate, preparation method therefor, and product thereof

Номер патента: US20240287674A1. Автор: Jian Zong. Владелец: Jiangsu Favored Nanotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Silicon-nitride-containing thermal chemical vapor deposition coating

Номер патента: US20170167015A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Single-unit reactor design for combined oxidative, initiated, and plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US09957618B2. Автор: Karen K. Gleason,Miles C. Barr,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2018-05-01.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: EP4395800A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-10.

Chemical vapor deposition process and coated article

Номер патента: US20160060763A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Method to reduce plasma charge damage from high density plasma chemical vapor deposition (hdp-cvd) process

Номер патента: US20080146039A1. Автор: Daewon Yang,Jeffery B. Maxson,Ann N. McDonald. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2008-06-19.

Chemical vapor deposition of thick inorganic coating on a polarizer

Номер патента: US11746418B2. Автор: Brian Johnson,Matthew R. Linford,Anubhav Diwan. Владелец: Moxtek Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Systems and methods for production of graphene by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20140255621A1. Автор: Peter V. Bedworth,Steven W. Sinton. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2014-09-11.

Method of operating filament assisted chemical vapor deposition system

Номер патента: WO2012112334A2. Автор: Jacques Faguet,Eric M. Lee. Владелец: Tokyo Electron America, Inc.. Дата публикации: 2012-08-23.

Variable-temperature vapor deposition process

Номер патента: US20240209498A1. Автор: Paul Connolly Quayle. Владелец: Great Lakes Crystal Technologies Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Chemical vapor deposition furnace with a cleaning gas system to provide a cleaning gas

Номер патента: US12077854B2. Автор: Herbert Terhorst,Bert Jongbloed,Dieter Pierreux,Theodorus G. M. Oosterlaken,Lucian JDIRA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Variable-temperature vapor deposition process

Номер патента: WO2024138229A1. Автор: . Владелец: Great Lakes Crystal Technologies, Inc.. Дата публикации: 2024-06-27.

Hydrophilic anti fog film layer, preparation method therefor, and application and product thereof

Номер патента: US20230183859A1. Автор: Jian Zong. Владелец: Jiangsu Favored Nanotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods

Номер патента: US20230072705A1. Автор: Prerna Goradia. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-03-09.

Cold thermal chemical vapor deposition

Номер патента: US20240117495A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,Jesse BISCHOF,James B. Mattzela,Gary A. Barone,Geoffrey K. WHITE,Nicholas P. DESKEVICH,Pierre A. LECLAIR. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-04-11.

Method of producing tungsten rhenium alloys by chemical vapor deposition

Номер патента: US3637374A. Автор: Frederick A Glaski,Robert A Holzi,James R Humphrey. Владелец: Fansteel Inc. Дата публикации: 1972-01-25.

Coated product and production method

Номер патента: US11932937B2. Автор: Karl Brennfleck,Johannes Galle,Dennis Muscutt,Volker Rauhut. Владелец: SCHUNK KOHLENSTOFFTECHNIK GMBH. Дата публикации: 2024-03-19.

Chemical vapor deposition system and method

Номер патента: WO2006116776A3. Автор: Eunsung Park,Kevin Casey,Catherine E Talor. Владелец: Catherine E Talor. Дата публикации: 2007-05-03.

Apparatus and method for chemical vapor deposition control

Номер патента: EP2580368A1. Автор: Eric J. Strang,Jacques Faguet,Eric M. Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-04-17.

Method of chemical vapor deposition of metal films

Номер патента: EP1021589A1. Автор: Chantal Arena,Joseph T. Hillman,Emmanuel Guidotti,Ronald T. Bertram. Владелец: Tokyo Electron Arizona Inc. Дата публикации: 2000-07-26.

Chemical vapor deposition of silicon nitride using a remote plasma

Номер патента: WO2024102586A1. Автор: Andrew J. McKerrow,Shane Tang,Gopinath Bhimarasetti. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-16.

Methods of vapor deposition of ruthenium using an oxygen-free co-reactant

Номер патента: US11976352B2. Автор: Jacob Woodruff,Guo Liu,Ravindra Kanjolia. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-05-07.

Plasma or CVD pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus

Номер патента: US9662450B2. Автор: Steven J. Martin,Christopher Weikart,Joseph A. Jones. Владелец: SIO2 Medical Products Inc. Дата публикации: 2017-05-30.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20040200413A1. Автор: Ho Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-10-14.

A method for operating a chemical vapor deposition process

Номер патента: SE2250842A1. Автор: Henrik Pedersen,Jens Birch,Choolakkal Arun Haridas. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-01-05.

A method for operating a chemical vapor deposition process

Номер патента: WO2024008472A2. Автор: Henrik Pedersen,Jens Birch,Arun HARIDAS CHOOLAKKAL. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-01-11.

A method for operating a chemical vapor deposition process

Номер патента: WO2024008472A3. Автор: Henrik Pedersen,Jens Birch,Arun HARIDAS CHOOLAKKAL. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-02-29.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US7217326B2. Автор: Ho Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-05-15.

Chromium -free passivation process of vapor deposited aluminum surfaces

Номер патента: EP2539488A1. Автор: John R. Kochilla,Jacob Grant Wiles. Владелец: Atotech Deutschland GmbH and Co KG. Дата публикации: 2013-01-02.

Vapor-deposited foamed body

Номер патента: CA2861849C. Автор: Takeshi Aihara,Kentarou Ichikawa,Nobuhisa Koiso. Владелец: Toyo Seikan Group Holdings Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Silicon carbide thin films and vapor deposition methods thereof

Номер патента: WO2022072258A1. Автор: Barry C. Arkles,Alain E. Kaloyeros. Владелец: Gelest, Inc.. Дата публикации: 2022-04-07.

Silicon carbide thin films and vapor deposition methods thereof

Номер патента: US20240271279A1. Автор: Barry C. Arkles,Alain E. Kaloyeros. Владелец: Gelest Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Electrical insulator for a plasma enhanced chemical vapor processor

Номер патента: US4761301A. Автор: Charles E. Ellenberger,Hayden K. Piper. Владелец: Pacific Western Systems Inc. Дата публикации: 1988-08-02.

Silicon carbide thin films and vapor deposition methods thereof

Номер патента: US11987882B2. Автор: Barry C. Arkles,Alain E. Kaloyeros. Владелец: Gelest Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Large area deposition and doping of graphene, and products including same

Номер патента: RU2567949C2. Автор: Виджайен С. ВЕЕРАСАМИ. Владелец: Гардиан Индастриз Корп.. Дата публикации: 2015-11-10.

Chemical vapor deposition tool and process for fabrication of photovoltaic structures

Номер патента: US09972740B2. Автор: Jianming Fu,Yongkee Chae. Владелец: Tesla Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Vapor deposition method for the gaas thin film

Номер патента: CA1274429A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1990-09-25.

Method for preparing perovskite solar cell absorbing layer by means of chemical vapor deposition

Номер патента: US20220230813A1. Автор: Hyuk Kyoo Jang,Gyu Hyun LEE,So Yeon Lee. Владелец: Mecaroenergy Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-21.

Chemical vapor deposition of dense and transparent zirconia films

Номер патента: US5145720A. Автор: Toshio Hirai,Hisanori Yamane. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 1992-09-08.

Carbon nanostructures and networks produced by chemical vapor deposition

Номер патента: US09617156B2. Автор: Gerardus Joseph Maria Koper,Krishna Narayan Kumar Kowlgi,Rutger Alexander David Van Raalten. Владелец: Carbonx BV. Дата публикации: 2017-04-11.

High throughput chemical vapor deposition electrode

Номер патента: US20160329456A1. Автор: Moon Chun. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-10.

Chemical vapor deposition graphene foam electrodes for pseudo-capacitors

Номер патента: US9263196B2. Автор: Thomas A. Yager. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2016-02-16.

High throughput chemical vapor deposition electrode

Номер патента: WO2016182824A1. Автор: Moon Chun. Владелец: SunPower Corporation. Дата публикации: 2016-11-17.

Method for producing multiple-surface imposition vapor deposition mask, multiple-surface imposition vapor deposition mask obtained therefrom, and method for producing organic semiconductor element

Номер патента: US09343679B2. Автор: Hiroyuki Nishimura,Yutaka Matsumoto,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata,Yoshinori Hirobe,Masato Ushikusa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2016-05-17.

Vapor phase epitaxial growth method by organometallic chemical vapor deposition

Номер патента: CA1242623A. Автор: Yoshinobu Matsuda,Akio Sasaki,Shigeo Fujita. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1988-10-04.

Multiple-surface imposition vapor deposition mask

Номер патента: US09548453B2. Автор: Hiroyuki Nishimura,Yutaka Matsumoto,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata,Yoshinori Hirobe,Masato Ushikusa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-01-17.

Carbon nanostructures and networks produced by chemical vapor deposition.

Номер патента: NL2005365C2. Автор: Rutger Alexander David Raalten,Gerardus Joseph Maria Koper,Krishna Narayan Kumar Kowlgi. Владелец: Univ Delft Tech. Дата публикации: 2012-03-20.

Carbon nanostructures and networks produced by chemical vapor deposition

Номер патента: CA2812166A1. Автор: Gerardus Joseph Maria Koper,Krishna Narayan Kumar Kowlgi,Rutger Alexander David Van Raalten. Владелец: Delft Enterprises BV. Дата публикации: 2012-03-22.

Carbon nanostructures and networks produced by chemical vapor deposition

Номер патента: CA2812166C. Автор: Gerardus Joseph Maria Koper,Krishna Narayan Kumar Kowlgi,Rutger Alexander David Van Raalten. Владелец: Carbonx BV. Дата публикации: 2021-04-06.

Transition metal composite hydroxide particles and production method thereof, cathode active material for non-aqueous electrolyte rechargeable battery and production method thereof, and nonaqueous electrolyte rechargeable battery

Номер патента: US20180254481A2. Автор: Hiroyuki Toya,Yasutaka Kamata,Taira Aida. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2018-09-06.

Conductive flakes by sputtering and vapor deposition

Номер патента: WO2004070733A2. Автор: Angelo Yializis,Michael G. Mikhael. Владелец: Sigma Laboratories Of Arizona, Inc.. Дата публикации: 2004-08-19.

Vapor deposition equipment including a selenization process for fabricating cigs film

Номер патента: US20160293789A1. Автор: Wen-Chueh Pan,Jen-Chieh Li,Chui-Yu Chiu,Tsang-Ming Hsu,Shih-Shan Wei,Tsan-Tung Chen. Владелец: National Chung Shan Institute of Science and Technology NCSIST. Дата публикации: 2016-10-06.

Method of temperature determination for deposition reactors

Номер патента: US20120012047A1. Автор: Tze-Liang Lee,Pang-Yen Tsai,Chii-Horng Li,Jhi-Cherng Lu,Jr-Hung Li,Bing-Hung Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-01-19.

Conductive flakes manufactured by combined sputtering and vapor deposition

Номер патента: US7754106B2. Автор: Angelo Yializis,Michael G. Mikhael. Владелец: Sigma Labs Inc. Дата публикации: 2010-07-13.

Enhancing performance stability of electroactive polymers by vapor-deposited organic networks

Номер патента: US20190055371A1. Автор: T. Alan Hatton,Karen K. Gleason,Andong Liu,Xianwen Mao. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2019-02-21.

Method of producing particles by physical vapor deposition in an ionic liquid

Номер патента: CA2636662C. Автор: James J. Finley. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2011-08-16.

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF CuInXGa1- X(SeyS1-y)2 THIN FILMS AND USES THEREOF

Номер патента: WO2008151067A3. Автор: Tim Anderson,W K Kim. Владелец: W K Kim. Дата публикации: 2009-02-19.

Microwave plasma chemical vapor deposition apparatus comprising an inclined rotating substrate holder

Номер патента: US5234502A. Автор: Osamu Mochizuki,Toshiharu Hoshi,Hiroaki Itoh. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 1993-08-10.

Method for preventing vacuum pump pipeline from blockage, and chemical vapor deposition machine

Номер патента: US20200208262A1. Автор: Jianfeng SHAN. Владелец: HKC Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Prevention of low pressure chemical vapor deposition silicon dioxide undercutting and flaking

Номер патента: CA1166129A. Автор: Bernard M. Kemlage. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-04-24.

Chemical vapor deposition coatings on titanium

Номер патента: US3787223A. Автор: C Reedy. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1974-01-22.

Method and apparatus for the combustion chemical vapor deposition of films and coatings

Номер патента: CA2158568C. Автор: Andrew T. Hunt,Joe K. Cochran,William Brent Carter. Владелец: Georgia Tech Research Corp. Дата публикации: 2001-12-04.

Apparatus for producing diamonds by chemical vapor deposition and articles produced therefrom

Номер патента: US5204145A. Автор: Steven M. Gasworth. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1993-04-20.

Fixed abrasive planarization pad conditioner incorporating chemical vapor deposited polycrystalline diamond and method for making same

Номер патента: US6632127B1. Автор: Jerry W. Zimmer,Todd W. Buley,Albert B. Stubbmann. Владелец: Albert B. Stubbmann. Дата публикации: 2003-10-14.

Halogen-assisted chemical vapor deposition of diamond

Номер патента: US5071677A. Автор: Donald E. Patterson,Robert H. Hauge,John L. Margrave,C. Judith Chu. Владелец: Houston Advanced Research Center HARC. Дата публикации: 1991-12-10.

Method of producing articles by chemical vapor deposition and the support mandrels used therein

Номер патента: US5869133A. Автор: Thomas Richard Anthony,Robert Helmut Ettinger,James Fulton Fleischer. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1999-02-09.

Halogen-assisted chemical vapor deposition of diamond

Номер патента: WO1992019791A1. Автор: Donald E. Patterson,Robert H. Hauge,Judith C. Chu,John L. Margrave. Владелец: Houston Advanced Research Center. Дата публикации: 1992-11-12.

Additive chemical vapor deposition methods and systems

Номер патента: EP4208583A1. Автор: Dmitri S. Terekhov. Владелец: Tcm Research Ltd. Дата публикации: 2023-07-12.

Additive chemical vapor deposition methods and systems

Номер патента: CA3193161A1. Автор: Dmitri S. Terekhov. Владелец: Tcm Research Ltd. Дата публикации: 2022-03-10.

Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus, and manufacturing method of nano-structured particles

Номер патента: KR100779082B1. Автор: 정우석,백문철,유용구. Владелец: 한국전자통신연구원. Дата публикации: 2007-11-27.

Chemical vapor deposition of polycrystalline diamond with orientation and growth facets

Номер патента: US5437891A. Автор: Thomas R. Anthony,James F. Fleischer,David E. Slutz. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1995-08-01.

Cooled mirror construction by chemical vapor deposition

Номер патента: US4378626A. Автор: Frederick G. Eitel. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 1983-04-05.

System and Method for Sealing a Vapor Deposition Source

Номер патента: US20110255950A1. Автор: Joseph D. LoBue,Robert A. Enzenroth,Lawrence J. Knipp. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-10-20.

Method and apparatus for monitoring generation of liquid chemical vapor

Номер патента: EP1015659A1. Автор: John Vincent Schmitt. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-07-05.

A vapor deposition apparatus

Номер патента: EP1531189A1. Автор: Dennis R. Christensen. Владелец: Specialty Coating Systems Inc. Дата публикации: 2005-05-18.

Plasma vapor deposition-based diamond film and preparation method thereof

Номер патента: IES87296Y1. Автор: Wu Jianbo,YANG Chunmei,Jiang Jianhong,MAN Weidong,ZHU Changzheng,GONG Chuang. Владелец: Shanghai Zhengshi Tech Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-13.

Plasma vapor deposition-based diamond film and preparation method thereof

Номер патента: IE20210002U1. Автор: Wu Jianbo,YANG Chunmei,Jiang Jianhong,MAN Weidong,ZHU Changzheng,GONG Chuang. Владелец: Shanghai Zhengshi Tech Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-13.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition reactors and associated methods

Номер патента: WO2024168346A1. Автор: W. Shannan O'Shaughnessy,Andrew Grant,Sergio Fernandez,Lucas BLACK. Владелец: Kayaku Advanced Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-15.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition reactors and associated methods

Номер патента: US20240282546A1. Автор: W. Shannan O'Shaughnessy,Andrew Grant,Sergio Fernandez,Lucas BLACK. Владелец: Kayaku Advanced Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Chemical vapor deposition reactor having ceramic lining for production of polysilicon

Номер патента: US20140235041A1. Автор: Anatoly Alexandrovich Goncharov,Yury Dmitrievich Kalashnikov. Владелец: Ecolive Technologies Ltd. Дата публикации: 2014-08-21.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: AU2003232015A1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2003-11-17.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1502292B1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2010-08-25.

Metal organic chemical vapor depostion (mocvd) tunnel junction growth in iii-nitride devices

Номер патента: US20190245112A1. Автор: Steven P. DenBaars,James S. Speck,Abdullah Ibrahim Alhassan. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2019-08-08.

Metal organic chemical vapor depostion (mocvd) tunnel junction growth in iii-nitride devices

Номер патента: US20220029049A1. Автор: Steven P. DenBaars,James S. Speck,Ahmed Alyamani,Abdulrahman Albadri,Abdullah Ibrahim Alhassan. Владелец: King Abdulaziz City for Science and Technology KACST. Дата публикации: 2022-01-27.

Localized atmospheric laser chemical vapor deposition

Номер патента: EP2842156A1. Автор: Selim Elhadj,Manyalibo Joseph Matthews. Владелец: Lawrence Livermore National Security LLC. Дата публикации: 2015-03-04.

Single-crystal diamond, method for manufacturing single-crystal diamond, and chemical vapor deposition device used in same

Номер патента: US20190031515A1. Автор: Yutaka Kobayashi,Yoshiki Nishibayashi,Natsuo Tatsumi,Hitoshi Sumiya,Akihiko Ueda,Takuya NOHARA. Владелец: SUMITOMO ELECTRIC HARDMETAL CORP. Дата публикации: 2019-01-31.

Method of manufacturing self-healing polymer that can control physical character according to composition using initiated chemical vapor deposition

Номер патента: US11680124B2. Автор: Yujin Lee,SungGap IM,Moon Jin KWAK,Kihoon JEONG,Youson KIM. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-06-20.

Reactor and method for production of silicon by chemical vapor deposition

Номер патента: US09793116B2. Автор: Werner O. Filtvedt,Josef Filtvedt. Владелец: Dynatec Engineering AS. Дата публикации: 2017-10-17.

Silicon carbide carrier for wafer processing and method for making same

Номер патента: US5776391A. Автор: Thomas Sibley. Владелец: Individual. Дата публикации: 1998-07-07.

Method for enhancing growth of semipolar (Al,In,Ga,B)N via metalorganic chemical vapor deposition

Номер патента: US8405128B2. Автор: Hitoshi Sato,Shuji Nakamura,Steven P. DenBaars,Benjamin A. Haskell,John F. Kaeding,Michael Iza,Troy J. Baker. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2013-03-26.

Methods and devices for graphene formation on flexible substrates by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US11823895B2. Автор: Chyi-Ming Leu,Chih-Cheng Lin,Nai-Chang Yeh,Chi-Fu Tseng,Chen-Hsuan LU. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2023-11-21.

Process for preparing contact lens with film by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20190310494A1. Автор: Wen-Pin Lin,Meng-Jiy WANG. Владелец: Brighten Optix Corp. Дата публикации: 2019-10-10.

Growth of non-polar m-plane iii-nitride film using metalorganic chemical vapor deposition (mocvd)

Номер патента: US20080026502A1. Автор: James Speck,Steven DenBaars,Bilge Imer. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2008-01-31.

Method of selective growth of van der waals heterostructures on a graphene substrate by chemical vapor deposition using electron-beam irradiation and a heterostructure manufactured by this method

Номер патента: WO2024058678A1. Автор: Jakub SITEK,Karolina CZERNIAK-ŁOSIEWICZ. Владелец: Politechnika Warszawska. Дата публикации: 2024-03-21.

Plasma enhanced chemical vapor deposition system for forming carbon nanotubes

Номер патента: US20060008594A1. Автор: Sung Kang,Woo Bae. Владелец: JAPAN ASIA INVESTMENT Co Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Plasma enhanced chemical vapor deposition system for forming carbon nanotubes

Номер патента: WO2006017340A2. Автор: Sung Gu Kang,Woo Kyung Bae. Владелец: Cdream Corporation. Дата публикации: 2006-02-16.

Formation of thin semiconductor layers by low-energy plasma enhanced chemical vapor deposition and semiconductor heterostructure devices

Номер патента: US20070003696A1. Автор: Hans Von Kaenel. Владелец: Eidgenoessische Technische Hochschule Zurich ETHZ. Дата публикации: 2007-01-04.

Formation of thin semiconductor layers by low-energy plasma enhanced chemical vapor deposition and semiconductor heterostructure devices

Номер патента: EP1608799A1. Автор: Hans Von Kaenel. Владелец: Eidgenoessische Technische Hochschule Zurich ETHZ. Дата публикации: 2005-12-28.

Chemical vapor deposition method for fabricating two-dimensional materials

Номер патента: EP3443138A1. Автор: Nigel Pickett,Ombretta Masala,Nicky Prabhudas SAVJANI. Владелец: Nanoco Technologies Ltd. Дата публикации: 2019-02-20.

Formation of thin semiconductor layers by low-energy plasma enhanced chemical vapor deposition and semiconductor heterostructure devices

Номер патента: WO2004085717A1. Автор: Hans Von Kaenel. Владелец: Eidgenoessische Technische Hochschule Zuerich. Дата публикации: 2004-10-07.

Temporary adhesive for production of semiconductor device, and adhesive support and production method of semiconductor device using the same

Номер патента: US09505953B2. Автор: Kazuhiro Fujimaki,Ichiro Koyama,Yu Iwai. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Lamp with particles coated by vapor deposition

Номер патента: US20030057824A1. Автор: Christoforos Kazazis,Daniel Carril,Keith Klinedinst. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2003-03-27.

Vapor deposition mask with metal plate

Номер патента: US09527098B2. Автор: Hiroyuki Nishimura,Yutaka Matsumoto,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata,Takashi Takekoshi,Yoshinori Hirobe,Masato Ushikusa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2016-12-27.

Chemical vapor condensation deposition of photoresist films

Номер патента: WO2022177704A1. Автор: Kelvin Chan,Lakmal Charidu KALUTARAGE,Mark Joseph Saly. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-25.

Vapor deposition mask with metal plate

Номер патента: US11511301B2. Автор: Hiroyuki Nishimura,Yutaka Matsumoto,Toshihiko Takeda,Katsunari Obata,Takashi Takekoshi,Yoshinori Hirobe,Masato Ushikusa. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2022-11-29.

Method of producing sheet electrotechnical steel with oriented structure and production line for its production

Номер патента: RU2695853C1. Автор: Сигэхиро ТАКАДЗЁ,Хиротака ИНОЭ,Сэйдзи ОКАБЭ,Такэси ОМУРА. Владелец: ДжФЕ СТИЛ КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2019-07-29.

Feeder for volatile compounds supply to chemical gas-phase deposition reactors

Номер патента: RU2722914C1. Автор: Андрей Рафаилович Кауль,Борис Вадимович Селезнев,Дмитрий Игоревич Шароваров,Рой Роевич Нигаард,Юлия Александровна Осипова,Артём Михайлович Макаревич,Илья Игоревич Садыков. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Оксифилм" (ООО "Оксифилм"). Дата публикации: 2020-06-04.

Fluoro-containing thermal chemical vapor deposition process and article

Номер патента: US20180163308A1. Автор: David A. Smith. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-06-14.

Method for preparing multi-wall carbon nanotubes using chemical vapor deposition with an atomization system

Номер патента: US9878912B2. Автор: Muataz Ali Atieh,Fahad Ali RABBANI,Zuhair Omar MALAIBARI. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2018-01-30.

Method for preparing multi-wall carbon nanotubes using chemical vapor deposition with an atomization system

Номер патента: US09878912B2. Автор: Muataz Ali Atieh,Fahad Ali RABBANI,Zuhair Omar MALAIBARI. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2018-01-30.

Inverted diffusion stagnation point flow reactor for vapor deposition of thin films

Номер патента: CA2016970A1. Автор: Prasad N. Gadgil. Владелец: SIMON FRASER UNIVERSITY. Дата публикации: 1991-11-16.

Initiated chemical vapor deposition and structuration of polyoxymethylene

Номер патента: US20220372201A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN. Владелец: DREXEL UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-11-24.

Initiated chemical vapor deposition and structuration of polyoxymethylene

Номер патента: WO2021163025A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN. Владелец: Drexel Uniiversity. Дата публикации: 2021-08-19.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: MY174019A. Автор: Wenjun Qin,Aaron D Rhodes,Chad Fero,Jeffrey C Gum. Владелец: OCI Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-04.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: WO2014100401A1. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron D. RHODES. Владелец: GTAT CORPORATION. Дата публикации: 2014-06-26.

Methods and Systems for Stabilizing Filaments in a Chemical Vapor Deposition Reactor

Номер патента: US20140170337A1. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron Dean Rhodes. Владелец: GTAT Corp. Дата публикации: 2014-06-19.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US09701541B2. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron Dean Rhodes. Владелец: OCI Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Low pressure chemical vapor deposition of silicon dioxide with oxygen enhancement of the chlorosilane- nitrous oxide reaction

Номер патента: CA1166128A. Автор: Bernard M. Kemlage. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-04-24.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US10556799B2. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-02-11.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US20170096345A1. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-04-06.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US20180339907A1. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-11-29.

Shell connection device and chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: LU505605B1. Автор: Haibo Huo. Владелец: Univ Zhengzhou Aeronautics. Дата публикации: 2024-05-24.

Susceptor assembly for a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: WO2023164196A1. Автор: Nagaraja Shashidhar,Thao Nguyen,Shahab Khandan,Abhijit Rao,Steven BURDETTE. Владелец: Metox Technologies, Inc.. Дата публикации: 2023-08-31.

Processing system and method for chemical vapor deposition

Номер патента: EP1100980A2. Автор: Joseph T. Hillman. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2001-05-23.

Chemical vapor deposition process for depositing a titanium oxide coating

Номер патента: US09938619B2. Автор: Jun Ni,Srikanth Varanasi,Douglas M. Nelson. Владелец: Pilkington Group Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Growth of silicon and boron nitride nanomaterials on carbon fibers by chemical vapor deposition

Номер патента: US09676627B2. Автор: Lingchuan Li. Владелец: University of Dayton. Дата публикации: 2017-06-13.

Process and apparatus for supplying zinc vapor continuously to a chemical vapor deposition process from a continuous supply of solid zinc

Номер патента: US5383969A. Автор: Michael A. Pickering,Jeffery L. Kirsch,James C. Macdonald,Alexander Teverovsky. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1995-01-24.

Chemical vapor deposition process for depositing titanium nitride films from an organo-metallic compound

Номер патента: US20020051847A1. Автор: Salman Akram. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-02.

Chemical vapor deposition system cleaner

Номер патента: US5109562A. Автор: John W. Albrecht. Владелец: C V D System Cleaners Corp. Дата публикации: 1992-05-05.

Triangular deposition chamber for a vapor deposition system

Номер патента: CA2120092C. Автор: Jitendra S. Goela,Lee E. Burns,James C. Macdonald,Alexander Teverovsky. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1997-05-20.

Process for the deposition of thin layers by chemical vapor deposition

Номер патента: US20020127338A1. Автор: Annette Saenger. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-09-12.

Chemical vapor deposition device capable of reciprocating rotation and lifting

Номер патента: US20240327986A1. Автор: Xueqin Pan,Xiaoliang Jin,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Chemical vapor deposition raw material containing organic nickel compound, and chemical vapor deposition method using the chemical vapor deposition raw material

Номер патента: US20160115587A1. Автор: Masayuki Saito,Satoshi Miyazaki,Ryosuke Harada,Kazuharu Suzuki,Shunichi Nabeya. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-04-28.

Chemical vapor deposition raw material containing organic nickel compound, and chemical vapor deposition method using the chemical vapor deposition raw material

Номер патента: US9447495B2. Автор: Masayuki Saito,Satoshi Miyazaki,Ryosuke Harada,Kazuharu Suzuki,Shunichi Nabeya. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-09-20.

Thermal chemical vapor deposition coating

Номер патента: US20180258529A1. Автор: James B. Mattzela,Paul H. Silvis,Gary A. Barone,Thomas F. Vezza,William David Grove. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-09-13.

Metal organic chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20240175135A1. Автор: Sung-Chul Choi,Kwang-Il Cho. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Method of producing near-net shape free standing articles by chemical vapor deposition

Номер патента: US20010048171A1. Автор: Jitendra Goela,Michael Pickering,Zlatko Salihbegovic,Mitch Boudreaux. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2001-12-06.

Method for producing articles by chemical vapor deposition and the articles produced therefrom

Номер патента: CA2068152A1. Автор: Thomas R. Anthony,Robert H. Ettinger,Charles D. Iacovangelo,William L. Mowrey,Sidney P. Young,David W. Woodruff. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1992-12-13.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: WO2023031951A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Prerna Goradia. Дата публикации: 2023-03-09.

Selective area chemical vapor deposition

Номер патента: CA2028438C. Автор: Michael A. Pickering,Raymond L. Taylor,Joseph T. Keeley,Jitendra Singh Goela. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1993-11-30.

Synthesis and use of precursors for vapor deposition of tungsten containing thin films

Номер патента: US20190300468A1. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Miika Mattinen,Timo Hatanpää. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-10-03.

Abatement of effluent from chemical vapor deposition processes using ligand exchange resistant metal-organic precursor solutions

Номер патента: EP1230420A1. Автор: Jose Arno,Mark Holst,Ray Dubois,Rebecca Faller. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 2002-08-14.

Novel group IV metal precursors and a method of chemical vapor deposition using the same

Номер патента: US20020058843A1. Автор: Dae Kim,Young Cho,Wan Lee,Ik Lee,Yo Min,Sun Lim,Bo Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-05-16.

Aerosol-assisted chemical vapor deposition of nickel sulfide nanowires for electrochemical water oxidation

Номер патента: US20230407497A1. Автор: Muhammad Ali Ehsan,Abbas Saeed Hakeem. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2023-12-21.

Organometallic chemical vapor deposition of films utilizing organic heterocyclic compounds

Номер патента: US4509997A. Автор: Peter J. Wright,Brian Cockayne,Richard J. M. Griffiths. Владелец: UK Secretary of State for Defence. Дата публикации: 1985-04-09.

Chemical vapor deposition process for depositing titanium nitride films from an organo-metallic compound

Номер патента: US20030165619A1. Автор: Salman Akram. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-04.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: WO2023059827A1. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2023-04-13.

Chemical vapor deposition method of silicon dioxide film

Номер патента: US5360646A. Автор: Katsumi Morita. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1994-11-01.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US8298338B2. Автор: Ji Hye Shim,Changsung Sean KIM,Sang Duk Yoo,Jong Pa HONG,Won Shin LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-10-30.

Method of reducing carbon incorporation into films produced by chemical vapor deposition involving organic precursor compounds

Номер патента: US5576071A. Автор: Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1996-11-19.

Methods of depositing aluminum nitride templating layers using thermal pulsed chemical vapor deposition for the enhancement of aluminum nitride thick films and related films

Номер патента: US20240052493A1. Автор: Andrew Kummel,Aaron McLeod,Scott UEDA. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2024-02-15.

Compressible tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: US20230115177A1. Автор: Jacob Thomas,Chase Parker,Bryan C. Hendrix,John N. Gregg,Scott L. Battle,Donn K. Naito,James Schindler,Benjamin H. OLSON. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: WO2023059827A9. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-02-15.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: EP4413177A1. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-14.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US20200040447A1. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US10975467B2. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2021-04-13.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US20190085446A1. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Compressible tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: EP4413176A1. Автор: Jacob Thomas,Chase Parker,Bryan C. Hendrix,John N. Gregg,Scott L. Battle,Donn K. Naito,James Schindler,Benjamin H. OLSON. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-14.

Auxiliary gasline-heating unit in chemical vapor deposition

Номер патента: US20010042930A1. Автор: Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Peng-Yih Peng,Fu-Yang Yu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-22.

개시제를 이용한 화학 기상 증착법(iCVD, initiated chemical vapor deposition)을 통해 전자 부품에 고분자 박막을 형성하는 장치 및 그 제조 방법

Номер патента: KR20220168089A. Автор: 김하영,김호연,김용호,김창재,김광순,이다미. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2022-12-22.

Substituted cycloalkene new copper precursors for chemical vapor deposition of copper metal thin films

Номер патента: WO2002086189A1. Автор: David R. Evans,Sheng Teng Hsu,Tue Nguyen,Wei-Wei Zhuang,Lawrence J. Charneski. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2002-10-31.

Compounds for forming alumina films using chemical vapor deposition method and process for preparing the compound

Номер патента: US20030010256A1. Автор: Hyun-koock Shin. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2003-01-16.

Novel coating method of complex 3d structures using low pressure chemical vapor deposition

Номер патента: US20240102167A1. Автор: William C. West,Matthew R. Dickie,Harold Frank GREER,Billy Chun-Yip Li,Su C. Chi. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2024-03-28.

Substituted cycloalkene new copper precursors for chemical vapor deposition of copper metal thin films

Номер патента: EP1387898A1. Автор: David R. Evans,Sheng Teng Hsu,Tue Nguyen,Wei-Wei Zhuang,Lawrence J. Charneski. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2004-02-11.

Solid source and method for the synthesis of silicon-containing precursors for chemical vapor deposition

Номер патента: US09944532B2. Автор: Mihai Scarlete,Cetin Aktik. Владелец: SOCPRA Sciences et Genie SEC. Дата публикации: 2018-04-17.

Chemical vapor deposition using N,O polydentate ligand complexes of metals

Номер патента: US09528182B2. Автор: Gary S. Silverman,Roman Y. Korotkov,Martin E. Bluhm. Владелец: Arkema Inc. Дата публикации: 2016-12-27.

Precursor compound for atomic layer deposition(ald), chemical vapor deposition(cvd) and ald/cvd deposition using the same

Номер патента: KR20210093011A. Автор: 박정우,석장현,문기영,염규현,이현경. Владелец: 주식회사 한솔케미칼. Дата публикации: 2021-07-27.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US5803974A. Автор: Tadahiro Ohmi,Nobumasa Suzuki,Nobuo Mikoshiba,Kazuo Tsubouchi,Kazuya Masu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-09-08.

Organometallic antimony compounds useful in chemical vapor deposition processes

Номер патента: US4960916A. Автор: John C. Pazik. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1990-10-02.

Metal organic chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240167159A1. Автор: Sung-Chul Choi,Kwang-Il Cho. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Apparatus for low pressure chemical vapor deposition

Номер патента: US5441570A. Автор: Chul-Ju Hwang. Владелец: Jein Technics Co Ltd. Дата публикации: 1995-08-15.

Chemical vapor deposition method

Номер патента: US3565676A. Автор: Robert A Holzl. Владелец: Fansteel Inc. Дата публикации: 1971-02-23.

Method for low temperature chemical vapor deposition of aluminides containing easily oxidized metals

Номер патента: US5503874A. Автор: John F. Ackerman,William R. Stowell,John H. Wood,Adrian M. Beltran. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1996-04-02.

Deposition metalizing bulk material by chemical vapor

Номер патента: US4606941A. Автор: William C. Jenkin. Владелец: Jenkin William C. Дата публикации: 1986-08-19.

Plasma-activated chemical vapor deposition of fluoridated cyclic siloxanes

Номер патента: US5230929A. Автор: Gerardo Caporiccio,Riccardo D'agostino,Pietro Favia. Владелец: Dow Corning Corp. Дата публикации: 1993-07-27.

Method for the production of highly pure copper thin films by chemical vapor deposition

Номер патента: US5441766A. Автор: Hyung S. Choi,Young S. Cho,Chong J. Lim,Soon T. Hwang. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 1995-08-15.

Apparatus for chemical vapor deposition (CVD) with showerhead

Номер патента: US8298370B2. Автор: Chul Soo Byun. Владелец: Piezonics Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-30.

Chemical vapor deposition of mullite coatings and powders

Номер патента: AU4963496A. Автор: Rao Mulpuri,Vinod Sarin. Владелец: Boston University. Дата публикации: 1996-07-24.

Method for chemical vapor deposition of titanium nitride films at low temperatures

Номер патента: US5378501A. Автор: Robert F. Foster,Joseph T. Hillman. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1995-01-03.

Chemical vapor deposition process

Номер патента: US4547404A. Автор: Bryant A. Campbell,Nicholas E. Miller. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1985-10-15.

Metal organic vapor deposition procedure for preparing group III--V compounds on a heated substrate

Номер патента: US4436769A. Автор: Rodney H. Moss,Marc M. Faktor. Владелец: British Telecommunications plc. Дата публикации: 1984-03-13.

Vacuum deposition process and apparatus for producing films having high uniformity

Номер патента: US5063086A. Автор: Douglas B. Meakin. Владелец: General Electric Co PLC. Дата публикации: 1991-11-05.

Chemical vapor deposition method and apparatus

Номер патента: EP3377671A1. Автор: Daniel J. DESROSIER,Chad R. FERO. Владелец: GTAT Corp. Дата публикации: 2018-09-26.

Device and methods for chemical vapor deposition

Номер патента: US20230257882A1. Автор: Chyi-Tsong Ni,Chih-Tsung Lee,Kuang-Wei Cheng,Yung-Tsun LIU,Sung-Ju Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Abatement of effluent from chemical vapor deposition processes using ligand exchange resistant metal-organic precursor solutions

Номер патента: WO2001029281A9. Автор: Jose Arno,Mark Holst,Ray Dubois,Rebecca Faller. Владелец: Advanced Tech Materials. Дата публикации: 2001-09-27.

Process for the elaboration of powders uniformly coated with ultrafine silicon-base particles using chemical vapor decomposition in the presence of core powders

Номер патента: US5298296A. Автор: Jean-Marie Friedt,Masahiko Matsukata,Toshinori Kojima,Eiichi Ozawa. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 1994-03-29.

Exhaust system for chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4608063A. Автор: Takashi Kurokawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1986-08-26.

Chemical vapor deposition apparatus for forming thin film

Номер патента: US5209182A. Автор: Tomohiro Ohta,Eiichi Kondoh,Kenichi Otsuka,Tohru Mitomo,Hiroshi Sekihashi. Владелец: Kawasaki Steel Corp. Дата публикации: 1993-05-11.

Method for etching and controlled chemical vapor deposition

Номер патента: US4468283A. Автор: Irfan Ahmed. Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-08-28.

METHOD FOR PREPARING THICKNESS-CONTROLLED GRAPHENE USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND Cu-Ni THIN FILM LAMINATE CATALYST

Номер патента: KR101999564B1. Автор: 조길원,이효찬,유민석. Владелец: 재단법인 나노기반소프트일렉트로닉스연구단. Дата публикации: 2019-07-12.

Method and a device for epitaxial growth of objects by chemical vapor deposition

Номер патента: US6093253A. Автор: Yujing Liu,Christer Hallin,Peter Lofgren,Chun Yuan Gu. Владелец: ABB Research Ltd Switzerland. Дата публикации: 2000-07-25.

Precursor for chemical vapor deposition and thin film formation process using the same

Номер патента: US20040086643A1. Автор: Hiroki Sato,Kazuhisa Onozawa. Владелец: Asahi Denka Kogyo KK. Дата публикации: 2004-05-06.

Chemical vapor deposition method and coatings produced therefrom

Номер патента: CA2393531C. Автор: William J. Dalzell, Jr.,Miodrag Oljaca,Andrew T. Hunt,Subramaniam Shanmugham,Girish Deshpande,Shara S. Shoup,Jan Tzyy-Jiuan Hwang,Nii Sowa Laye,Trifon Tomov,Aimee Poda,Michelle Hendrick. Владелец: Microcoating Technologies Inc. Дата публикации: 2011-02-15.

Chemical vapor deposition of aluminum films using dimethylethylamine alane

Номер патента: US5191099A. Автор: Everett C. Phillips,Wayne L. Gladfelter. Владелец: University of Minnesota. Дата публикации: 1993-03-02.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US4250210A. Автор: Jeffrey N. Crosby,Robert S. Hanley. Владелец: International Nickel Co Inc. Дата публикации: 1981-02-10.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US10480065B2. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2019-11-19.

In-situ solid chemical vapor deposition precursor delivery

Номер патента: US20240060178A1. Автор: Ying She,Olivier H. Sudre,Jun NABLE. Владелец: Raytheon Technologies Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

In-situ solid chemical vapor deposition precursor delivery

Номер патента: EP4328351A1. Автор: Ying She,Olivier H. Sudre,Jun NABLE. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-02-28.

Selenophene-Based Low Band Gap Active Layers by Chemical Vapor Deposition

Номер патента: US20130089659A1. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-04-11.

Method for growing halide perovskite nanocrystals through in-situ chemical vapor deposition

Номер патента: US20240035194A1. Автор: Chao FAN,Haiping He,Xingliang DAI. Владелец: Wenzhou Xinxin Taijing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Multi-disc chemical vapor deposition system with cross flow gas injection

Номер патента: WO2024118472A1. Автор: Johannes Kaeppeler,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-06-06.

Multi-disc chemical vapor deposition system

Номер патента: US20240175132A1. Автор: Bojan Mitrovic,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Species controlled chemical vapor deposition

Номер патента: US20170327950A1. Автор: Keith Daniel Humfeld,De'Andre James Cherry. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-11-16.

Selenophene-based low band gap active layers by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2013095733A3. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-08-22.

Method of manufacturing an injector for chemical vapor deposition processing

Номер патента: US5935647A. Автор: Jay B. DeDontney,Nicholas M. Gralenski,Adam Q. Miller. Владелец: WJ Semiconductor Equipment Group Inc. Дата публикации: 1999-08-10.

Chemical vapor deposition

Номер патента: CA1087040A. Автор: Jeffrey N. Crosby,Robert S. Hanley. Владелец: Vale Canada Ltd. Дата публикации: 1980-10-07.

Vertical chemical vapor deposition apparatus having nozzle for spraying reaction gas toward wafers

Номер патента: US20090159004A1. Автор: Takahiro Yoshioka. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2009-06-25.

Multi-disc chemical vapor deposition system

Номер патента: WO2024118468A1. Автор: Bojan Mitrovic,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-06-06.

Multi-disc chemical vapor deposition system with cross flow gas injection

Номер патента: US20240175133A1. Автор: Johannes Kaeppeler,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Chemical vapor deposition apparatus and methods of using the apparatus

Номер патента: SG153849A1. Автор: Michael Howard Rucker,Scott Andrew Weaver,George Theodore Dalakos,Daniel Joseph Lewis,Matthew David Saylor,Victor Lienkong Lou. Владелец: Gen Electric. Дата публикации: 2009-07-29.

Selenophene-based low band gap active layers by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2013095733A2. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-06-27.

Vapor deposition reactor for forming thin film

Номер патента: WO2010019007A3. Автор: Sang In LEE. Владелец: SYNOS TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2010-04-15.

Ferroelectric composition, ferroelectric vapor deposition target and method of making a ferroelectric vapor deposition target

Номер патента: US20020132721A1. Автор: Jianxing Li,Tim Scott,Tamara White. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2002-09-19.

Ferroelectric composition, ferroelectric vapor deposition target and method of making a ferroelectric vapor deposition target

Номер патента: WO2001044535A1. Автор: Jianxing Li,Tim Scott,Tamara White. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2001-06-21.

Vapor-deposited film having barrier performance

Номер патента: US09650191B2. Автор: Shigenobu Yoshida,Koji Yamauchi,Shigeto Kimura,Tooru Hachisuka. Владелец: MITSUBISHI PLASTICS INC. Дата публикации: 2017-05-16.

Method of automatically cleaning a vacuum vapor deposition tank

Номер патента: US5492569A. Автор: Junji Nakada. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1996-02-20.

Vapor deposition device and vapor deposition method

Номер патента: US20190233930A1. Автор: Jian Xu,Yaoyang Liu. Владелец: Shanghai Tianma Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-01.

Coating particles in a fluidized bed by vapor deposition

Номер патента: EP1298182A3. Автор: Christoforos Kazazis,Daniel Carril,Keith-A Klinedinst. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2006-02-08.

Method of coating particles by vapor deposition

Номер патента: US20030059530A1. Автор: Christoforos Kazazis,Daniel Carril,Keith Klinedinst. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2003-03-27.

Vapor deposition material

Номер патента: US6143437A. Автор: Yoshitaka Kubota,Satoshi Kondou. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2000-11-07.

Base paper for vapor deposition paper and vapor deposition paper

Номер патента: US20240309588A1. Автор: Yasutomo Noishiki,Yuta SHAMOTO,Miyoko Tanaka,Misaki Wakabayashi. Владелец: Oji Holdings Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Apparatus and method for introducing small amounts of refractory elements into a vapor deposition coating

Номер патента: US20030140856A1. Автор: Reed Corderman,Melvin Jackson,Richard Nardi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-31.

Vapor deposition device capable of reciprocating rotation and lifting

Номер патента: US20240327987A1. Автор: Wenjun Xie,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Transparent vapor-deposited film

Номер патента: US09822440B2. Автор: Shigeki Matsui,Hiroshi Miyama,Hiroshi Matsuzaki,Kaoru Miyazaki,Takakazu Goto,Teruhisa Komuro,Tatsuo Asuma. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-11-21.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US20190169747A1. Автор: Jae-Hyun Kim,Sung-Chul Kim,Seung-Yong Song,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-06.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US5264039A. Автор: Raymond W. Gobush,Bryan J. Lovejoy. Владелец: Union Carbide Chemicals and Plastics Technology LLC. Дата публикации: 1993-11-23.

Photochemical vapor deposition apparatus and method

Номер патента: CA1181719A. Автор: John W. Peters,Frank L. Gebhart. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1985-01-29.

System and method for vapor deposition coating of extrusion dies using impedance disks

Номер патента: US11697873B2. Автор: Min Shen,Thomas William Brew,Yuehao LI. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2023-07-11.

System and method for vapor deposition coating of extrusion dies using impedance disks

Номер патента: US20220056579A1. Автор: Min Shen,Thomas William Brew,Yuehao LI. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2022-02-24.

Graphene vapor deposition system and process

Номер патента: US20230416908A1. Автор: Richard Tracy McDaniel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-12-28.

Films including a water-soluble layer and a vapor-deposited inorganic coating

Номер патента: US20210362924A1. Автор: Emily Charlotte Boswell,Srinivas Krishnaswamy Mirle,Vesselin Nikolov Shanov,Rachit MALIK,Colin William MCCONNELL. Владелец: Procter and Gamble Co. Дата публикации: 2021-11-25.

Polylactic acid formed body having a vapor-deposited film and method of producing the same

Номер патента: US09845175B2. Автор: Kazuhiko Yamazaki,Takuro Ito,Satoru Kito,Satomi Ozawa. Владелец: Toyo Seikan Group Holdings Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Vapor deposition methods to form group 8-containing films

Номер патента: US09738971B2. Автор: Satoko GATINEAU,Grigory Nikiforov. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-08-22.

Vapor deposition systems and methods

Номер патента: US09556519B2. Автор: Jill Svenja Becker,Douwe Johannes Monsma. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Vapor-deposited film

Номер патента: CA2453596A1. Автор: Noboru Sasaki,Hiroshi Suzuki,Takayuki Nakajima,Takeshi Kanetaka,Miki Oohashi,Ryoji Ishii. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-06.

Vapor deposition of thin films comprising gold

Номер патента: US10145009B2. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Timo Hatanpää,Maarit Mäkelä. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-12-04.

Method to prevent backside growth on substrates in a vapor deposition system

Номер патента: CA2023278C. Автор: Jitendra S. Goela,Raymond L. Taylor,Roy D. Jaworski. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1993-08-31.

Zn-Mg alloy vapor deposition plated metals of high corrosion resistance, as well as method of producing them

Номер патента: US5002837A. Автор: Hiroshi Satoh,Masao Toyama,Shingo Nomura,Hirohiko Sakai,Shoji Miyake,Koki Ikeda,Kazutoshi Shimogori,Hidetoshi Shimoto,Junji Kawahuku. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 1991-03-26.

Seal plates for chemical vapor infiltration & deposition chambers

Номер патента: US20230407463A1. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Seal plates for chemical vapor infiltration and deposition chambers

Номер патента: US11788186B2. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Arrangement and method for measurement of the temperature and of the thickness growth of silicon rods in a silicon deposition reactor

Номер патента: WO2010086363A3. Автор: Vollmar Wilfried,Frank Stubhan. Владелец: CENTROTHERM SITEC GMBH. Дата публикации: 2010-09-23.

Arrangement and method for measurement of the temperature and of the thickness growth of silicon rods in a silicon deposition reactor

Номер патента: EP2391581A2. Автор: Vollmar Wilfried,Frank Stubhan. Владелец: CENTROTHERM SITEC GMBH. Дата публикации: 2011-12-07.

Arrangement and method for measurement of the temperature and of the thickness growth of silicon rods in a silicon deposition reactor

Номер патента: MY154184A. Автор: Wilfried Vollmar,Stubhan Dr Frank. Владелец: CT THERM SITEC GmbH. Дата публикации: 2015-05-15.

Seal plates for chemical vapor infiltration & deposition chambers

Номер патента: EP3882373A1. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2021-09-22.

Metal compound, material for chemical vapor phase growth, and process for forming metal-containing thin film

Номер патента: US20100247765A1. Автор: Naoki Yamada,Senji Wada,Atsuya Yoshinaka. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2010-09-30.

Method for chemical infiltration or vapor deposition

Номер патента: RU2738718C2. Автор: Стефан ГУЖАР,Адриен ДЕЛЬКАМ,Седрик ДЕСКАМ. Владелец: Сафран Серамикс. Дата публикации: 2020-12-15.

Vapor deposition method for depositing a film of fluorine-containing glass on a substrate

Номер патента: US5454847A. Автор: Olivier Perrot,Charles Jacoboni,Brigitte Boulard. Владелец: Alcatel Alsthom Compagnie Generale dElectricite. Дата публикации: 1995-10-03.

Transparent vapor-deposited film

Номер патента: PH12015500676B1. Автор: Shigeki Matsui,Hiroshi Miyama,Hiroshi Matsuzaki,Kaoru Miyazaki,Takakazu Goto,Teruhisa Komuro,Tatsuo Asuma. Владелец: Dainippon Printing Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-18.

Transparent vapor-deposited film

Номер патента: AU2013321072A1. Автор: Shigeki Matsui,Hiroshi Miyama,Hiroshi Matsuzaki,Kaoru Miyazaki,Takakazu Goto,Teruhisa Komuro,Tatsuo Asuma. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2015-05-07.

Photochemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4516527A. Автор: Shinji Sugioka. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 1985-05-14.

Acoustic wave assisted chemical vapor infiltration

Номер патента: EP4368744A1. Автор: Ying She,Jinquan Xu. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-05-15.

Stacking tool fixture for forced flow chemical vapor infiltration

Номер патента: EP4345187A1. Автор: Alyson T. Burdette,Jun NABLE. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-04-03.

Microwave energy-assisted chemical vapor infiltration

Номер патента: WO1993019856A1. Автор: Edward L. Paquette,Iftikhar Ahmad,Richard Silberglitt. Владелец: Technology Assessment And Transfer, Inc.. Дата публикации: 1993-10-14.

Chemical vapor infiltration apparatus and assembly for gas inflow in reaction chamber

Номер патента: AU2023200191A1. Автор: Sheng Ma,Edward M. Willis,Akshay Vinayak Dhamankar. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2023-08-10.

Vapor deposition of LiF thin films

Номер патента: US09909211B2. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Jani Hämäläinen,Miia Mäntymäki. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-03-06.

Apparatus and method for photochemical vapor deposition

Номер патента: CA1297831C. Автор: Scott C. Jackson,Richard E. Rocheleau. Владелец: University of Delaware. Дата публикации: 1992-03-24.

Zirconium-containing film forming compositions for vapor deposition of zirconium-containing films

Номер патента: WO2016106090A1. Автор: Christian Dussarrat,Clement Lansalot-Matras,Julien LIEFFRIG,Hana ISHII. Владелец: L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2016-06-30.

Production method of vapor deposition mask for organic EL display device, metal plate used for producing vapor deposition mask for organic EL display device, and production method thereof

Номер патента: TWI656229B. Автор: 初田千秋,池永知加雄,中山浩明,池田和成,大內詩子. Владелец: 日商大日本印刷股份有限公司. Дата публикации: 2019-04-11.

Compact head and compact system for vapor deposition

Номер патента: US12043894B2. Автор: David MUNOZ-ROJAS. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 2024-07-23.

Methods for the photo-initiated chemical vapor deposition (picvd) of coatings and coatings produced by these methods

Номер патента: EP2989229A1. Автор: Christopher Alex DORVAL DION,Jason Robert TAVARES. Владелец: Polyvalor LP. Дата публикации: 2016-03-02.

Chemical vapor deposition manifold

Номер патента: US6024799A. Автор: Karl Anthony Littau,Chen-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-02-15.

Corrosion-resistant coated article and thermal chemical vapor deposition coating process

Номер патента: US12036765B2. Автор: Min YUAN. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Synthesis of advanced scintillators via vapor deposition techniques

Номер патента: US20130341513A1. Автор: Vinod K. Sarin,Stephen Gibson Topping. Владелец: Boston University. Дата публикации: 2013-12-26.

Chemical vapor deposition of wear resistant coatings onto piston ring running face, side face, and inner diameter in one coating run

Номер патента: EP2906738A1. Автор: Robert Aharonov,Haron GEKONDE. Владелец: Federal Mogul LLC. Дата публикации: 2015-08-19.

Thermal chemical vapor deposition coating process

Номер патента: US20240359430A1. Автор: Min YUAN. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Gas shower device, chemical vapor deposition device and method

Номер патента: US09945031B2. Автор: Yong Jiang,Zhiyou Du. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Synthesis of advanced scintillators via vapor deposition techniques

Номер патента: US20100200757A1. Автор: Vinod K. Sarin,Stephen Gibson Topping. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-08-12.

Chemical vapor deposition of wear resistant coatings onto piston ring running face, side face, and inner diameter in one coating run

Номер патента: US09909210B2. Автор: Robert Aharonov,Haron GEKONDE. Владелец: Federal Mogul LLC. Дата публикации: 2018-03-06.

Chemical vapor deposition

Номер патента: CA1251100A. Автор: Guy Brien,Richard Cloutier,Laszlo Szolgyemy,Edward C.D. Darwall. Владелец: Edward C.D. Darwall. Дата публикации: 1989-03-14.

Initiated chemical vapor deposition of vinyl polymers for the encapsulation of particles

Номер патента: US09492805B2. Автор: Karen K. Gleason,Kenneth K. S. Lau. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2016-11-15.

Chemical vapor deposition apparatus and blocker plate

Номер патента: US20200131640A1. Автор: Chao-chun WANG,Keith Kuang-Kuo Koai,Chih-Yu Wu,Huan-Chieh CHEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Metal organic chemical vapor deposition method and apparatus

Номер патента: US20130095658A1. Автор: Chien-Chih Chen,Ching-Chiun Wang,Chih-Yung Huang,Szu-Hao Chen. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2013-04-18.

Wafer carrier and metal organic chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20220064791A1. Автор: Yen-Lin LAI,Jyun-De Wu,Shen-Jie Wang,Chien-Chih Yen. Владелец: PlayNitride Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: WO2023160793A1. Автор: Hristo Strakov,Vasileios PAPAGEORGIOU,Manfred Pfitzner,Anja BÄUMCHEN. Владелец: Ihi Bernex Ag. Дата публикации: 2023-08-31.

Shower head unit and chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US09493875B2. Автор: Pyung-Yong Um. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Chemical vapor deposition wafer boat

Номер патента: CA1234972A. Автор: Arthur J. Learn,Dale R. DuBois. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1988-04-12.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US5871586A. Автор: John A. Crawley,Victor J. Saywell. Владелец: Thomas Swan and Co Ltd. Дата публикации: 1999-02-16.

Gas delivering apparatus for chemical vapor deposition

Номер патента: US6123776A. Автор: Kuen-Jian Chen,Horng-Bor Lu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-09-26.

Plasma Chemical Vapor Deposition Process

Номер патента: US20230312392A1. Автор: Igor Milicevic,Mattheus Jacobus Nicolaas Van Stralen,Gertjan KRABSHUIS,Antonius Henricus Elisabeth Breuls. Владелец: Draka Comteq BV. Дата публикации: 2023-10-05.

Radiation heated reactor for chemical vapor deposition on substrates

Номер патента: US4263872A. Автор: Vladimir S. Ban. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1981-04-28.

Chemical vapor deposition method for the thin film of semiconductor

Номер патента: CA1268688A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1990-05-08.

Chemical vapor deposition method for the thin film of semiconductor

Номер патента: US4705700A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1987-11-10.

Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition process

Номер патента: US20100323127A1. Автор: John Matthew Warakomski,Christina Ann Rhoton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-12-23.

Chemical vapor deposition wafer boat

Номер патента: US4694778A. Автор: Arthur J. Learn,Dale R. DuBois. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1987-09-22.

Chemical vapor deposition chamber having an adjustable flow flange

Номер патента: US6080241A. Автор: Tingkai Li,Dane C. Scott,Brian Wyckoff. Владелец: Emcore Corp. Дата публикации: 2000-06-27.

Chemical vapor deposition apparatus having a gas diffusing nozzle designed to diffuse gas equally at all levels

Номер патента: US6146461A. Автор: Tae-Chul Kim,Chang-Zip Yang,Jae-Hyuck An. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-11-14.

Chemical vapor deposition method and apparatus

Номер патента: US4638762A. Автор: Montri Viriyayuthakorn,Myung K. Kim. Владелец: AT&T Technologies Inc. Дата публикации: 1987-01-27.

Chemical vapor deposition apparatus for flat display

Номер патента: CN101016622A. Автор: 金南珍,金俊洙. Владелец: SFA Engineering Corp. Дата публикации: 2007-08-15.

Transparent wear-resistant film layer, plastic surface modification method, and product

Номер патента: US20230321686A1. Автор: Jian Zong,Siyue LI,Fuxing LI. Владелец: Jiangsu Favored Nanotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Method for recycling organic ruthenium compound for chemical vapor deposition

Номер патента: US20150087851A1. Автор: Masayuki Saito,Ryosuke Harada,Toshiyuki Shigetomi,Shunichi Nabeya. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2015-03-26.

Physical vapor deposition target assemblies, and methods of forming physical vapor deposition target assemblies

Номер патента: EP1335994A2. Автор: Jianxing Li,Timothy Scott. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2003-08-20.

Vacuum vapor deposition apparatus

Номер патента: US20110005460A1. Автор: Yuji Yanagi,Tatsuya Hirano,Nobuyuki Shigeoka. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2011-01-13.

Device for vapor depositing metal

Номер патента: US20210348260A1. Автор: Lixia RUAN,Daoxu LIU. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Physical vapor deposition apparatus and physical vapor deposition method

Номер патента: US09447494B2. Автор: Atsushi Yumoto,Fujio Hiroki,Naotake Niwa,Takashisa Yamamoto. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-09-20.

Production device and production method for thin film catalyst

Номер патента: EP4335945A1. Автор: Ruoqi QIAN,Jingji QIAN. Владелец: Suzhou Taone Sincere Nanomaterial Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-13.

Vapor deposition method and vapor deposition apparatus for forming organic thin films

Номер патента: US20030131796A1. Автор: Toshitaka Kawashima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-17.

Magnetic device, vapor deposition device and vapor deposition method

Номер патента: US09650709B2. Автор: Jie Yin,Dejiang Zhao,Jianwei Yu,Haoran GAO. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Method of producing articles by vapor deposition of multiconstituent material

Номер патента: CA1209949A. Автор: Robert P.H. Chang. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1986-08-19.

Optical laminate, article, and production method for optical laminate

Номер патента: US20230324584A1. Автор: Tomoaki Kobayashi,Katsutoshi Suzuki,Zhen Huang,Tsuguto Suzuki,Yuko Kibushi. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Vapor deposition method for coating a spectacle lens, physical vapor deposition system and crucible for physical vapor deposition

Номер патента: US11866818B2. Автор: Artur Laukart. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2024-01-09.

Vapor deposition systems and methods, and nanomaterials formed by vapor deposition

Номер патента: WO2023122250A2. Автор: Liangbing Hu,Xizheng Wang. Владелец: University of Maryland, College Park. Дата публикации: 2023-06-29.

Vapor deposition method for coating a spectacle lens, physical vapor deposition system and crucible for physical vapor deposition

Номер патента: US20230265553A1. Автор: Artur Laukart. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2023-08-24.

Vacuum deposition apparatus and vapor deposition method

Номер патента: US20170283938A1. Автор: Peng Xu,Gu Yao,Suwei ZENG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-05.

Vapor deposition method for coating a spectacle lens, physical vapor deposition system and crucible for physical vapor deposition

Номер патента: EP4211288A1. Автор: Artur Laukart. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2023-07-19.

Vapor deposition systems and methods, and nanomaterials formed by vapor deposition

Номер патента: WO2023122250A3. Автор: Liangbing Hu,Xizheng Wang. Владелец: University of Maryland, College Park. Дата публикации: 2023-08-17.

Vapor deposition method for coating a spectacle lens, physical vapor deposition system and crucible for physical vapor deposition

Номер патента: WO2022184585A1. Автор: Artur Laukart. Владелец: CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2022-09-09.

Vacuum vapor-deposition apparatus

Номер патента: US20090314212A1. Автор: Chung-Pei Wang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2009-12-24.

Process for manufacturing multi-layered thin film by dry vacuum vapor deposition

Номер патента: WO2009017376A3. Автор: Hong Chul Kim,Jeong Rae Kim,Hyun Joong Kim. Владелец: CEKO Corp Ltd. Дата публикации: 2009-04-16.

Set comprising a physical vapor deposition machine and an obstruction device, method for coating and obstruction device

Номер патента: EP4296401A1. Автор: Francis Henky,Mark Mildebrath. Владелец: Essilor International SAS. Дата публикации: 2023-12-27.

Physical vapor deposition machine with a shutter having at least one intermediate position

Номер патента: WO2023110807A1. Автор: Francis Henky. Владелец: Essilor International. Дата публикации: 2023-06-22.

Vapor deposition crucible

Номер патента: US20060013949A1. Автор: Makoto Adachi,Takeshi Mitsuishi,Takeshi Imizu,Ken-Ichi Shinde. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-01-19.

Set comprising a physical vapor deposition machine and an obstruction device, method for coating and obstruction device

Номер патента: WO2023247173A1. Автор: Francis Henky,Mark Mildebrath. Владелец: Essilor International. Дата публикации: 2023-12-28.

Electron beam physical vapor deposition apparatus

Номер патента: EP1121475A1. Автор: Robert William Bruce,David John Wortman,Rudolfo Viguie,David Vincent Rigney,Antonio Frank Maricocchi,William Seth Willen,John Douglas Evans, Sr.. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-08-08.

Method for depositing a thin layer on a substrate by laser pulse vapor deposition

Номер патента: US5578350A. Автор: Klaus Schubert,Hermann Mai,Reiner Dietsch. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 1996-11-26.

Chemical vapor infiltration apparatus and process

Номер патента: CA2839406C. Автор: Joseph R. Vargas,Steven J. Seelman,David B. Roberts. Владелец: Zimmer Inc. Дата публикации: 2019-10-29.

Mask for vapor deposition

Номер патента: WO2006020469A3. Автор: Tsutomu Miura,Nobuyuki Mori. Владелец: Nobuyuki Mori. Дата публикации: 2006-05-04.

Methods for controlling physical vapor deposition metal film adhesion to substrates and surfaces

Номер патента: AU2019217883B2. Автор: Akhil Srinivasan,Yifei Wang. Владелец: Medtronic Minimed Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Physical vapor deposition apparatus and physical vapor deposition method

Номер патента: US20110189390A1. Автор: Takahisa Yamamoto,Atsushi Yumoto,Fujio Hiroki,Naotake Niwa. Владелец: Tama-Tlo Ltd. Дата публикации: 2011-08-04.

Physical vapor deposition apparatus and physical vapor deposition method

Номер патента: US20150044391A1. Автор: Atsushi Yumoto,Fujio Hiroki,Naotake Niwa,Takashisa Yamamoto. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2015-02-12.

System for cadmium telluride (cdte) reclamation in a vapor deposition caonveyor assembly

Номер патента: MY154653A. Автор: Reed Max William,Pavol Mark Jeffrey,Rathweg Christopher. Владелец: Primestar Solar Inc. Дата публикации: 2015-07-15.

Ceramic matrix composite structures with controlled microstructures fabricated using chemical vapor infiltration (CVI)

Номер патента: US12054432B2. Автор: Krishan Lal Luthra,Gregory Scot Corman,Jared Hogg Weaver. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-08-06.

Manufacturing medical devices by vapor deposition

Номер патента: US20030018381A1. Автор: Makoto Takeuchi,Forrest Whitcher. Владелец: Scimed Life Systems Inc. Дата публикации: 2003-01-23.

Take up type vacuum vapor deposition device

Номер патента: EP2037001B1. Автор: Nobuhiro Hayashi,Kenji Komatsu,Isao Tada,Atsushi Nakatsuka,Takayoshi Hirono. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-09-14.

Thermal conduction device and vapor deposition crucible

Номер патента: US20180148827A1. Автор: Yang Liu,Yawei Liu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-31.

Electron beam physical vapor deposition apparatus

Номер патента: EP1117853A1. Автор: Robert William Bruce,David John Wortman,Keith H. Betscher,Antonio Frank Maricocchi,John Douglas Evans, Sr.,William Allen Bowlin,Harold Phillips Ii Dillon. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-07-25.

Vapor deposition apparatus for using solid starting materials

Номер патента: US5334250A. Автор: Koichi Tanaka,Shigeo Nakajima,Masaru Yoshida,Takashi Ogura,Akiyoshi Mikami,Kouji Taniguchi,Hiroaki Nakaya,Takuo Yamashita,Katsushi Okibayashi,Kousuke Terada. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1994-08-02.

Techniques for marking a substrate using a physical vapor deposition material

Номер патента: US09849650B2. Автор: Stephen Paul Zadesky,Douglas Weber,Christopher Prest,David Pakula. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Oblique vapor deposition substrate, liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and projection display device

Номер патента: US8654298B2. Автор: Koichi Terao. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2014-02-18.

Oblique vapor deposition substrate, liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and projection display device

Номер патента: US20110242447A1. Автор: Koichi Terao. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2011-10-06.

Techniques for Marking a Substrate using a Physical Vapor Deposition Material

Номер патента: US20180072021A1. Автор: Stephen Paul Zadesky,Douglas Weber,Christopher Prest,David Pakula. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2018-03-15.

Pyrolytic chemical vapor deposition of silicone films

Номер патента: US6045877A. Автор: Karen K. Gleason,Michael C. Kwan. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2000-04-04.

Chemical vapor deposition coating process employing radiant heat and a susceptor

Номер патента: US4496609A. Автор: Walter C. Benzing,Michael A. Mcneilly. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1985-01-29.

Chemical vapor deposition technique for depositing titanium silicide on semiconductor wafers

Номер патента: US5278100A. Автор: Trung T. Doan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1994-01-11.

Consistent alignment mark profiles on semiconductor wafers using metal organic chemical vapor deposition titanium nitride protective layer

Номер патента: US6157087A. Автор: Joe W. Zhao,Keith K. Chao,Shumay X. Dou. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2000-12-05.

Automatic production system and production process of a conductive backsheet with integrated encapsulating and dielectric layer for photovoltaic panels

Номер патента: US09711676B2. Автор: Davide Spotti,Elisa BACCINI. Владелец: VISMUNDA SRL. Дата публикации: 2017-07-18.

Production line and production method for lithium ion battery positive electrode material

Номер патента: EP4443091A1. Автор: Qian Wang,Changdong LI,Yong Cai,Dingshan Ruan,Yong Zeng,Weijian Liu. Владелец: Hunan Bangpu Automobile Circulation Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Conformal coating of lithium anode via vapor deposition for rechargeable lithium ion batteries

Номер патента: US10608249B2. Автор: Fang Liu,Yunfeng Lu,Mei Cai,Qiangfeng Xiao,Duo Xu. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2020-03-31.

Optical fiber preform manufacturing method using crystal chemical vapor deposition including dehydration and dechlorination process and optical fiber manufactured by this method

Номер патента: KR100545813B1. Автор: 이찬주,박래혁,장기완. Владелец: 엘에스전선 주식회사. Дата публикации: 2006-01-24.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2002062593A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2002-08-15.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1397260A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-03-17.

High density plasma chemical vapor deposition process

Номер патента: US20020030033A1. Автор: Water Lur,Shih-Wei Sun,Chih-Chien Liu,Ta-Shan Tseng,W.B. Shieh,J.Y. Wu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-14.

Methods for fabricating integrated circuits using flowable chemical vapor deposition techniques with low-temperature thermal annealing

Номер патента: US09831098B2. Автор: TAO Han,Sukwon Hong,Sandeep Gaan,Xinyuan Dou,Shimpei Yamaguchi,Satyajit Shinde,Carlos Chacon. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Methods for stabilization of self-assembled monolayers (sams) using sequentially pulsed initiated chemical vapor deposition (spicvd)

Номер патента: WO2024019841A1. Автор: Jacques Faguet,Omid Zandi,Ornella Sathoud. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-01-25.

Methods For Stabilization Of Self-Assembled Monolayers (SAMs) Using Sequentially Pulsed Initiated Chemical Vapor Deposition (spiCVD)

Номер патента: US20240017290A1. Автор: Jacques Faguet,Omid Zandi,Ornella Sathoud. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Plasma enhanced chemical vapor deposited (PECVD) silicon nitride barrier layer for high density plasma chemical vapor deposited (HDP-CVD) dielectric layer

Номер патента: US6127238A. Автор: Wei Lu,Yih-Shung Lin,Jia Zhen Zheng,Marvin De-Dui Liao,Kho Liep Chok. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 2000-10-03.

Silicon fixtures for supporting wafers during thermal processing and method of fabrication

Номер патента: EP1297558A2. Автор: Robert L. Davis,Raanan Y. Zehavi,James E. Boyle,Laurence D. Delaney. Владелец: Integrated Materials Inc. Дата публикации: 2003-04-02.

Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Embedded Resistors for ReRAM Cells

Номер патента: US20150179937A1. Автор: Yun Wang,Chien-Lan Hsueh. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2015-06-25.

Plattenanordnung mit CVDD-(Chemical Vapor Deposition Diamond)-Fenstern für den Wärmetransport

Номер патента: DE112019007581B4. Автор: Philip Andrew Swire,Nina Biddle. Владелец: Microchip Tech Caldicot Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

In-situ p-type activation of iii-nitride films grown via metal organic chemical vapor deposition

Номер патента: US20210151329A1. Автор: Manijeh Razeghi. Владелец: Northwestern University. Дата публикации: 2021-05-20.

Growth of carbon nanotube (cnt) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (cvd) process

Номер патента: US20170077370A1. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-03-16.

Growth of carbon nanotube (CNT) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (CVD) process

Номер патента: US09825210B2. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-11-21.

Growth of carbon nanotube (CNT) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (CVD) process

Номер патента: US09544998B1. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-01-10.

Method of carrying out plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US6432493B1. Автор: Tetsuya Taguwa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-08-13.

Selective chemical vapor deposition of tungsten for microdynamic structures

Номер патента: US5149673A. Автор: Liang-Yuh Chen,Noel C. MacDonald,Zuoying L. Zhang. Владелец: Cornell Research Foundation Inc. Дата публикации: 1992-09-22.

Liquid chemical vapor recovery device, wet stripping device, photoresist stripping process, and method for manufacturing thin film transistor-liquid crystal display using the same

Номер патента: US20190064674A1. Автор: Hao Yin,Xiaoning Liu,Qianqian Li,Mingming Wang,Dongseob Kim,Shikai Wang,Yadong Xu,Jun Geng,Yadong Liang,Zhongren JIANG. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-28.

Chemical vapor deposition process

Номер патента: US20020058413A1. Автор: Anand Srinivasan,Raj Narasimhan,Sujit Sharon. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-16.

Power-delivery mechanism and apparatus of plasma-enhanced chemical vapor deposition using the same

Номер патента: US20080295771A1. Автор: Kuan-Chou Chen,Fu-Ching Tung,Yuan-Yuan Chiang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2008-12-04.

Apparatus and arrangements of magnetic field generators to facilitate physical vapor deposition to form semiconductor films

Номер патента: US20140265857A1. Автор: Jeonghee Park,Jae Yeol Park. Владелец: Semicat Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

Air purifier and production method for air purifier

Номер патента: US20220176007A1. Автор: Masakazu Goto. Владелец: Eclair Ltd. Дата публикации: 2022-06-09.

EUV photopatterning of vapor-deposited metal oxide-containing hardmasks

Номер патента: US09996004B2. Автор: David Smith,Dennis M. Hausmann. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Methods for depositing dielectric films via physical vapor deposition processes

Номер патента: US09633839B2. Автор: Yong Cao,Yana Cheng,Xianmin Tang,Rongjun Wang,Thanh X. Nguyen,Srinivas Guggilla,Weimin Zeng,Daniel Lee Diehl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Liquid chemical vapor recovery device, wet stripping device, photoresist stripping process, and method for manufacturing thin film transistor-liquid crystal display using the same

Номер патента: US11231652B2. Автор: Hao Yin,Xiaoning Liu,Qianqian Li,Mingming Wang,Dongseob Kim,Shikai Wang,Yadong Xu,Jun Geng,Yadong Liang,Zhongren JIANG. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-25.

Flame-resistant paper for radio wave absorber member and production method for same

Номер патента: US20230323603A1. Автор: Tomoko Takano,Taira OMORI,Hideaki Karasaki. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2023-10-12.

Process and apparatus for manufacturing a container for accommodating an HG source for a discharge lamp

Номер патента: US20090029624A1. Автор: Josef Schlecht. Владелец: OSRAM GMBH. Дата публикации: 2009-01-29.

2H/1T phase contact engineering for high performance transition metal dichalcogenide chemical vapor sensors

Номер патента: US10436744B2. Автор: F. Keith Perkins,Adam L. Friedman,Paul M. Campbell,James C. Culbertson,Aubrey T. Hanbicki. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2019-10-08.

2H/1T Phase Contact Engineering for High Performance Transition Metal Dichalcogenide Chemical Vapor Sensors

Номер патента: US20170299544A1. Автор: F. Keith Perkins,Adam L. Friedman,Paul M. Campbell,James C. Culbertson,Aubrey T. Hanbicki. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2017-10-19.

Metal-germanium physical vapor deposition for semiconductor device defect reduction

Номер патента: US20080311747A1. Автор: Noel Russell,Douglas E. Mercer,Doufeng Yue,Peijun J. Chen. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2008-12-18.

Prefabricated substrate of array substrate, vapor deposition method, array substrate and display apparatus

Номер патента: US09947902B2. Автор: Lujiang Huangfu,Libin LIU. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Method of depositing copper using physical vapor deposition

Номер патента: US9728414B2. Автор: Wen Yu,Stephen B. Robie,Jeremias D. Romero. Владелец: Cypress Semiconductor Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Methods for sidewall protection of metal interconnect for unlanded vias using physical vapor deposition

Номер патента: US6960529B1. Автор: Jagdish Prasad,Mark M. Nelson,Brett N. Williams. Владелец: AMI Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-11-01.

Buffer Layer for Dielectric Protection in Physical Vapor Deposition Metal Liner Applications

Номер патента: US20240145300A1. Автор: Yu Lei,Wei Lei,Sahil Patel,Xingyao Gao,Shirish A. PETHE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Buffer layer for dielectric protection in physical vapor deposition metal liner applications

Номер патента: WO2024097016A1. Автор: Yu Lei,Wei Lei,Sahil Patel,Xingyao Gao,Shirish A. PETHE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-10.

Module package and production method

Номер патента: US20130168876A1. Автор: Frank Rehme,Claus Reitlinger,Rudolf Bart. Владелец: EPCOS AG. Дата публикации: 2013-07-04.

Lasing dye sensor for chemical vapors

Номер патента: US5185131A. Автор: Terence W. Barrett,John F. Giuliani. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1993-02-09.

Electronic optical lens barrel and production method therefor

Номер патента: US20050173649A1. Автор: Katsuya Okumura,Motosuke Miyoshi. Владелец: Todai TLO Ltd. Дата публикации: 2005-08-11.

Acoustic streaming of condensate during sputtered metal vapor deposition

Номер патента: US20040173452A1. Автор: Mark Doczy,Justin Brask,Robert Turkot. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2004-09-09.

Chemical vapor deposition method for the gaas thin film

Номер патента: CA1305910C. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1992-08-04.

Method for forming aluminum oxide/carbon nanotubes by ultrasonic atomization and chemical vapor deposition

Номер патента: US09834444B2. Автор: Muataz Ali Atieh,Fahad Ali RABBANI,Zuhair Omar MALAIBARI. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2017-12-05.

Combination gas curtains for continuous chemical vapor deposition production of silicon bodies

Номер патента: CA1178179A. Автор: Henry W. Gutsche. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1984-11-20.

Synthesis of ordered microporous carbons by chemical vapor deposition

Номер патента: US09604194B2. Автор: Cemal Ercan,Minkee Choi,Rashid M. Othman,Yuguo Wang,Seokin Choi. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2017-03-28.

Apparatus for growing epitaxial layers on wafers by chemical vapor deposition

Номер патента: US6547876B2. Автор: Michael Spencer,Ian Ferguson,Alexander Gurary. Владелец: Emcore Corp. Дата публикации: 2003-04-15.

Novel combination catalysts based on iron for the substantial synthesis of multi-walled carbon nanotubes by chemical vapor deposition

Номер патента: US20120177545A1. Автор: Abdulaziz A. Bagabas,Mohammed Abdullah Bahattab,Ibrahim M. Al-Najjar. Владелец: King Abdulaziz City for Science and Technology KACST. Дата публикации: 2012-07-12.

Reinforced polyurethane pultrudates and production thereof

Номер патента: RU2598070C2. Автор: Штефан ЛИНДНЕР,Штефан ШЛЯЙЕРМАХЕР,Дирк ВЕГЕНЕР. Владелец: Байер Интеллектуэль Проперти Гмбх. Дата публикации: 2016-09-20.

Chemical vapor deposition apparatus for obtaining high quality epitaxial layer with uniform film thickness

Номер патента: US4992301A. Автор: Masao Mikami,Fumitoshi Toyokawa,Seiichi Shishiguchi. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1991-02-12.

Compounds for use as chemical vapor deposition precursors, thermochromic materials light-emitting diodes, and molecular charge-transfer salts and methods of making these compounds

Номер патента: US6103459A. Автор: Bruce Diel. Владелец: Midwest Research Institute. Дата публикации: 2000-08-15.

Process for treatment of sewage sludge and product of same

Номер патента: WO2020092520A1. Автор: John Moriarty,Raymond E. GROVER,Vernon B. MEACHAM. Владелец: Jrv, Llc.. Дата публикации: 2020-05-07.

Process for the utilisation of organic materials in energy production and production of reusable products

Номер патента: EP1356190A1. Автор: Peter Skov Johansen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-29.

Process and plant producing methanol with use of biomass material

Номер патента: RU2214387C2. Автор: Созо КАНЕКО,Ёсинори КОБАЯСИ,Тацуо КАБАТА,Такеси Аруга. Владелец: Мицубиси Хэви Индастриз, Лтд.. Дата публикации: 2003-10-20.

Methods and devices for producing biodiesel and products obtained therefrom

Номер патента: US09957464B2. Автор: David A Slade,Derek J Winkel,Jared A Downey,Cody J Ellens,Bradley N Albin. Владелец: Renewable Energy Group Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Lipide fermentation treatment continuous process and apparatus to this end

Номер патента: RU2412984C1. Автор: Кристофер Л. Г. Дейтон,Марселу Аугусту САНТОС. Владелец: Бандж Ойлз, Инк.. Дата публикации: 2011-02-27.

Resin composition for direct vapor deposition, molded articles made by using the same, and surface-metallized lamp housing

Номер патента: US20100159134A1. Автор: Yoshihiro Nakai,Takahiro Ikebe,Hideyuki Shigemitsu,Keiji Obata. Владелец: Mitsubishi Rayon Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-24.

Materials and products capable of resisting high temperatures in oxidising medium and method for manufacturing thereof

Номер патента: RU2579054C2. Автор: Франсис РЕБИЙА,Анн-Софи АНДРЕАНИ,Ажелин ПУЛОН,Жак ТЕБО,Анн СОВЕРОШ. Владелец: Сентр Насьональ Де Ля Решерш Сьентифик. Дата публикации: 2016-03-27.

Method and apparatus for manufacturing optical fiber preforms using the outside vapor deposition process

Номер патента: US20050076680A1. Автор: Hyung-Soo Shin,Chan-Yong Park,Man-Soo Choi,Bong-hun Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-04-14.

Hydrophobic materials made by vapor deposition coating and applications thereof

Номер патента: EP2440402A1. Автор: HE Dong,Jikang Yuan. Владелец: Innovanano Inc. Дата публикации: 2012-04-18.

Hydrophobic Materials Made By Vapor Deposition Coating and Applications Thereof

Номер патента: US20140147655A1. Автор: HE Dong,Jikang Yuan. Владелец: Innovanano Inc. Дата публикации: 2014-05-29.

Method of manufacturing products with coating and products with coating produced by this method

Номер патента: RU2359928C2. Автор: Джеймс Дж. ФИНЛИ,Джеймс П. ТИЛЬ. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2009-06-27.

Air controlled electrospray manufacturing and products thereof

Номер патента: US20180369839A1. Автор: Yong Lak Joo,Yevgen ZHMAYEV. Владелец: CORNELL UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-12-27.

Alternating current electrospray manufacturing and products thereof

Номер патента: US20180326433A1. Автор: Yong Lak Joo,Yevgen ZHMAYEV. Владелец: CORNELL UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-11-15.

Method for decontamination of sewage sludge and production of raw materials for production of liquid and solid organomineral fertilizers

Номер патента: RU2717131C1. Автор: Александр Дмитриевич Анисимов,Сергей Николаевич Бубнов,Станислав Викторович Петров. Владелец: Станислав Викторович Петров. Дата публикации: 2020-03-18.

Heat resistant nickel based alloy and product made from it

Номер патента: RU2748445C1. Автор: Евгений Николаевич Каблов,Николай Васильевич Петрушин,Евгений Сергеевич Елютин. Владелец: Акционерное общество "Объединенная двигателестроительная корпорация" (АО "ОДК"). Дата публикации: 2021-05-25.

Plaster board and production method

Номер патента: RU2281860C2. Автор: Тацуказу КИМУРА,Норио ЦУНО,Сейго ИСИБАСИ,Хирокуни ТАНИ,Кенитиро ОСАВА. Владелец: Йосино Джипсум Ко., Лтд.. Дата публикации: 2006-08-20.

Improved method for purification of milk lactoferrin and products thereof

Номер патента: RU2683228C2. Автор: Эндрю БРАУН. Владелец: Муррей Гоулбёрн Ко-Оператив Ко. Лимитед. Дата публикации: 2019-03-26.

Composite particles including fluoropolymer, methods of production and products including them

Номер патента: RU2627857C2. Автор: Стивен Е. Амос,Карлос А. БАРРИОС. Владелец: 3М Инновейтив Пропертиз Компани. Дата публикации: 2017-08-14.

Method for oat fractionation, products manufactured by this method and products application

Номер патента: RU2460335C2. Автор: Ану КАУКОВИРТА-НОРЬЯ,Олави МЮЛЛЮМЯКИ,Хейкки АРО,Вели ХИЕТАНИЕМИ,Юха-Матти ПИХЛАВА. Владелец: Текнологиан Туткимускескус Втт. Дата публикации: 2012-09-10.

Self-adhesive shrinkage label and product with label

Номер патента: RU2505573C2. Автор: Митчел Дж. РЭКОВЭН,Ричард Д. ПАСТОР,Уильям Льюис КОУН,Джеймс Пол ЛОРЕНС,Крейг Уильям ПОТТЕР. Владелец: Эвери Деннисон Копэрейшн. Дата публикации: 2014-01-27.

Method of combined power production and production of hydrogen-enriched gas by steam reforming of hydrocarbon fraction with heat supply by hydrogen burning in place of method realisation

Номер патента: RU2425995C2. Автор: Беатрис ФИШЕР,Фабрис ЖИРУДЬЕР,Антони АРНО. Владелец: Ифп. Дата публикации: 2011-08-10.

Chemical vapor deposition reactor in polysilicon production process

Номер патента: US20240084480A1. Автор: David Keck,Chad Fero. Владелец: Advanced Material Solutions. Дата публикации: 2024-03-14.

Methods of peeling and transferring hetero-epitaxially grown graphene films and products containing said films

Номер патента: RU2568718C2. Автор: Виджайен С. ВЕЕРАСАМИ. Владелец: Гардиан Индастриз Корп.. Дата публикации: 2015-11-20.

Chemical vapor deposition functionalization

Номер патента: US09975143B2. Автор: David A. Smith,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Hydrophobic and oleophobic coating, preparation method therefor, and product

Номер патента: US20230313444A1. Автор: Jian Zong,Siyue LI. Владелец: Jiangsu Favored Nanotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: EP4329948A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn LLC. Дата публикации: 2024-03-06.

Carbon nanotube production device and production method

Номер патента: US20220274836A1. Автор: Suguru Noda,Toshio Osawa,Hisashi Sugime,Zihao Zhang,Katsuya NAMIKI. Владелец: MEIJO NANO CARBON CO Ltd. Дата публикации: 2022-09-01.

Chemical vapor deposition functionalization

Номер патента: US20160059260A1. Автор: David A. Smith,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Manufacturing of diffractive pigments by fluidized bed chemical vapor deposition

Номер патента: US09732228B2. Автор: Alberto Argoitia. Владелец: VIAVI SOLUTIONS INC. Дата публикации: 2017-08-15.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: WO2022232583A8. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn, Llc. Дата публикации: 2023-12-21.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: US20240209567A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Templated synthesis of shape-controlled polymeric nanofibers by chemical vapor deposition (CVD) in liquid crystals

Номер патента: US10907038B2. Автор: Joerg Lahann,Nicholas L. Abbott,Kenneth Cheng,Marco A. BEDOLLA PANTOJA. Владелец: University of Michigan. Дата публикации: 2021-02-02.

Internal coating of a glass tube by plasma pulse-induced chemical vapor deposition

Номер патента: US5059231A. Автор: Volker Paquet,Ulrich Ackermann,Hartmut Bauch. Владелец: Schott Glaswerke AG. Дата публикации: 1991-10-22.

Super hydrophobic film layer, preparation method thereof,and product thereof

Номер патента: US20230303888A1. Автор: Jian Zong,Yongqi TAO,Fuxing LI. Владелец: Jiangsu Favored Nanotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Templated synthesis of shape-controlled polymeric nanofibers by chemical vapor deposition (cvd) in liquid crystals

Номер патента: WO2017181108A1. Автор: Joerg Lahann,Nicholas L. Abbott,Kenneth Cheng,Marco A. BEDOLLA PANTOJA. Владелец: THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF MICHIGAN. Дата публикации: 2017-10-19.

Gas injectors including a funnel- or wedge-shaped channel for chemical vapor deposition (CVD) systems and CVD systems with the same

Номер патента: US9481944B2. Автор: Chantal Arena,Christiaan Werkhoven,Ed Lindow,Ronald Thomas Bertram, JR.. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2016-11-01.

Templated synthesis of shape-controlled polymeric nanofibers by chemical vapor deposition (cvd) in liquid crystals

Номер патента: US20190136033A1. Автор: Joerg Lahann,Nicholas L. Abbott,Kenneth Cheng,Marco A. BEDOLLA PANTOJA. Владелец: University of Michigan. Дата публикации: 2019-05-09.

Templated synthesis of shape-controlled polymeric nanofibers by chemical vapor deposition (cvd) in liquid crystals

Номер патента: EP3442901A1. Автор: Joerg Lahann,Nicholas L. Abbott,Kenneth Cheng,Marco A. BEDOLLA PANTOJA. Владелец: University of Michigan. Дата публикации: 2019-02-20.

Hydrophobic and oleophobic coating, preparation method therefor, and product

Номер патента: TW202206632A. Автор: 宗堅. Владелец: 大陸商江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司. Дата публикации: 2022-02-16.

Massive co2 biofixation process and seaweed biomass production with the use of gravels from oil well drilling

Номер патента: US20230323278A1. Автор: Leonardo Brantes Bacellar Mendes,Rafael RICHARD JOÃO,Ronaldo Bernardo Da Silva,Heraldo Namorato De Souza. Владелец: Petroleo Brasileiro SA Petrobras. Дата публикации: 2023-10-12.

Vapor deposition apparatus and techniques using high purity polymer derived silicon carbide

Номер патента: EP4407079A2. Автор: Mark S. Land. Владелец: Pallidus Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Vapor deposition apparatus and techniques using high purity polymer derived silicon carbide

Номер патента: EP4407079A3. Автор: Mark S. Land. Владелец: Pallidus Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Thermal processing reactor for mixtures, fabrication of the reactor, processes using the reactors and uses of the products obtained

Номер патента: US09555342B2. Автор: Lucie B. Wheeler. Владелец: ENVIROLLEA Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Production process and production device of silicon nitride wave-absorbing material

Номер патента: GB2625432A. Автор: Xu Tao,XIAO Liang,Zeng Xiaofeng,Zhu Fulin,Qian Lihong. Владелец: Hengyang Kaixin Special Material Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-19.

Production process and application of fermented tapioca starch for baking

Номер патента: US11959113B2. Автор: Li Cheng,YAN Hong,Zhaofeng Li,Zhengbiao Gu,Caiming Li,Qiaoting QI. Владелец: JIANGNAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-04-16.

Production Process and Application of Fermented Tapioca Starch for Baking

Номер патента: US20210087597A1. Автор: Li Cheng,YAN Hong,Zhaofeng Li,Zhengbiao Gu,Caiming Li,Qiaoting QI. Владелец: JIANGNAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2021-03-25.

Aluminosilicate Microcrystalline Glass, and Manufacturing Method and Product Thereof

Номер патента: US20210317032A1. Автор: Zhongzhi Tang,BangHong Hu,Kaiwen Huang,Wangchun Lyu,Heshuai SI. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-14.

Aluminosilicate microcrystalline glass, and manufacturing method and product thereof

Номер патента: US12103886B2. Автор: Zhongzhi Tang,BangHong Hu,Kaiwen Huang,Wangchun Lyu,Heshuai SI. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Reusable Freely-Shapable Eco-friendly Recycled Brick Manufacturing Process and Product

Номер патента: US20240043328A1. Автор: Li-Ying Chen,Jhong-He CHEN,Bo-Heng CHEN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-08.

Terpene-based compositions, processes, methodologies for creation and products thereby

Номер патента: US20240309289A1. Автор: Jeffrey Charles Raber,Bradley J. Douglass,Sytze J. Elzinga. Владелец: Scientific Holdings LLC. Дата публикации: 2024-09-19.

Terpene-based compositions, processes, methodologies for creation and products thereby

Номер патента: US20240327750A1. Автор: Jeffrey Charles Raber,Sytze Elzinga,Bradley J. Douglass. Владелец: Scientific Holdings LLC. Дата публикации: 2024-10-03.

Terpene-based compositions, processes, methodologies for creation and products thereby

Номер патента: US20240318097A1. Автор: Jeffrey Charles Raber,Sytze Elzinga,Bradley J. Douglass. Владелец: Scientific Holdings LLC. Дата публикации: 2024-09-26.

Terpene-based compositions, processes, methodologies for creation and products thereby

Номер патента: US20240309288A1. Автор: Elzinga Sytze,Jeffrey Charles Raber,Bradley J. Douglass. Владелец: Scientific Holdings LLC. Дата публикации: 2024-09-19.

Biaxially oriented polyester film and production method therefor

Номер патента: EP4289599A1. Автор: Masayuki Haruta,Nobuyuki Manabe. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-13.

Magnesium alloy material and production process thereof

Номер патента: US09562277B2. Автор: Yoshio Okada,Koji Itakura,Yoshihito Kawamura,Yuuichi Yamada,Michiaki Yamasaki,Mamoru Nakata. Владелец: Kumamoto University NUC. Дата публикации: 2017-02-07.

Methods to identify and characterize prolyl oligo-peptidases by using substrates and products thereof

Номер патента: WO2006100096A2. Автор: Michael JÜRGENS,Peter Schulz-Knappe,Norbert Lamping,Hans-Dieter Zucht,Jens Lamerz,Petra Budde,Horst Rose,Marco Jost. Владелец: DIGILAB BioVisioN GmbH. Дата публикации: 2006-09-28.

Improved method for processing and extracting oil from marine organisms

Номер патента: WO2018037420A1. Автор: Samuel Philip,Iyer Ajay. Владелец: Samuel Philip. Дата публикации: 2018-03-01.

Methods to identify and characterize prolyl oligo-peptidases by using substrates and products thereof

Номер патента: EP1864137A2. Автор: Michael JÜRGENS,Peter Schulz-Knappe,Norbert Lamping,Hans-Dieter Zucht,Jens Lamerz,Petra Budde,Horst Rose,Marco Jost. Владелец: DIGILAB BioVisioN GmbH. Дата публикации: 2007-12-12.

Improved method for processing and extracting oil from marine organisms

Номер патента: EP3504309A1. Автор: Samuel Philip,Iyer Ajay. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-07-03.

Quantum dot-polymer nanocomposite sensor array for chemical vapor sensing

Номер патента: US09958425B1. Автор: Sichu Li. Владелец: Mitre Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Microbiome based systems, apparatus and methods for the exploration and production of hydrocarbons

Номер патента: US09771795B2. Автор: Ryan Gill,John Ely,Rob Knight,Ajay Kshatriya,Paul Henshaw,J. Gregory Caporaso,Dan Knights. Владелец: Biota Technology Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Quantum dot—polymer nanocomposite sensor array for chemical vapor sensing

Номер патента: US09599564B1. Автор: Sichu Li. Владелец: Mitre Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Production method of extrusion billet and production method of magnesium alloy material

Номер патента: US09518314B2. Автор: Kantaro Kaneko,Norio Fujii,Katsuyoshi Kondoh,Akihiko Koshi,Jinsun Liao,Makoto Hotta,Hirohito Kametani. Владелец: Kurimoto Ltd. Дата публикации: 2016-12-13.

Laminate and production method therefor

Номер патента: US12116466B2. Автор: Katsuyoshi Takeshita,Tomohiro Ito,Tomonori Miyamoto,Masayoshi Tokuda,Hideyuki WAKIYASU. Владелец: Nikon Essilor Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Method for extracting lignin from black liquor and products produced thereby

Номер патента: US09902816B2. Автор: Tobias Wittmann,Isabella RICHTER. Владелец: SUNCOAL INDUSTRIES GmbH. Дата публикации: 2018-02-27.

Quantum dot-polymer nanocomposite sensor array for chemical vapor sensing

Номер патента: US09970939B1. Автор: Sichu Li. Владелец: Mitre Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Curable compositions containing compounds with reactive functional groups and polysiloxane resins, industrial products and products containing coatings derived from compositions, and a method for reducing the accumulation of contaminants on the substrate

Номер патента: RU2764133C1. Автор: Бенджамин КАБАГАМБЕ,Сьюзан Ф. ДОНАЛЬДСОН,Рональд Дж. младший КРАЛИК. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2022-01-13.

Biaxially oriented polyester film and production method therefor

Номер патента: EP4289598A1. Автор: Masayuki Haruta,Nobuyuki Manabe. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-13.

Organic film vapor deposition method and a scintillator panel

Номер патента: US20020190223A1. Автор: Toshio Takabayashi,Hiroto Sato,Takuya Homme. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2002-12-19.

Organic film vapor deposition method and a scintillator panel

Номер патента: US20020192372A1. Автор: Toshio Takabayashi,Hiroto Sato,Takuya Homme. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2002-12-19.

Agricultural solution comprising bacteria, fungi and natural compounds having a soil-conditioning and/or decompaction action and a growth-promoting action for plants of agricultural importance, industrial process and use thereof

Номер патента: EP4381946A1. Автор: Josiane FUKAMI,Douglas Fabiano GOMES,Jonas Hipolito DE ASSIS FILHO,Juliana Marcolino GOMES. Владелец: Total Biotecnologia Industria E Comercio SA. Дата публикации: 2024-06-12.

Temperature Detecting Material, Temperature Detecting Ink Using Same, Temperature Indicator, and Product Control System

Номер патента: US20200041359A1. Автор: Masahiro Kawasaki,Kotaro Araya,Shunsuke Mori,Kohhei AIDA. Владелец: Hitachi Industrial Equipment Systems Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-06.

Coating fibers using directed vapor deposition

Номер патента: US12054431B2. Автор: Kang N. Lee,Adam L. Chamberlain,Andrew J. Lazur. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Catalytic cracking process and catalyst system therefor

Номер патента: US11639474B2. Автор: Xingtian Shu,Xiaojie Cheng,Yibin Luo,Genquan Zhu,Ying Ouyang,Enhui XING. Владелец: Sinopec Research Institute of Petroleum Processing. Дата публикации: 2023-05-02.

Processes and intermediate for the large-scale preparation of 2,4,6-trifluoro-n-[6-(1-methyl-piperidine-4-carbonyl)-pyridin-2-yl]-benzamide hemisuccinate, and preparation of 2,4,6-trifluoro-n-[6-(1-methyl-piperidine-4-carbonyl)-pyridin-2-yl]-benzamide acetate

Номер патента: ZA202303699B. Автор: David Andrew Coates,Scott Alan Frank,Aktham Aburub,Roger Ryan Rothhaar,Radhe Krishan Vaid,Mark Steven Kerr. Владелец: ELI LILLY AND COMPANY. Дата публикации: 2024-09-25.

Coating fibers using directed vapor deposition

Номер патента: US09981880B2. Автор: Kang N. Lee,Adam L. Chamberlain,Andrew J. Lazur. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Method for increasing the adhesion of liquid toner printed on a substrate and products based on it

Номер патента: RU2745268C2. Автор: Дэниел Ф. ВАРНЕЛЛ. Владелец: Соленис Текнолоджиз, Л.П.. Дата публикации: 2021-03-22.

Method of producing coal-water fuel and production line for accomplishment thereof

Номер патента: RU2249029C1. Автор: А.Д. Петраков,О.П. Яковлев,С.М. Радченко. Владелец: Радченко Сергей Михайлович. Дата публикации: 2005-03-27.

Method of obtaining cellulose-containing product, and product obtained thereof

Номер патента: RU2525142C2. Автор: Гюнтер БЕРТХОЛЬДТ,Дирк ВОЙСТЕР-БОТЦ,Михаэль ХОФИНГЕР,Катарина ЗАЙФЕ. Владелец: Биорегенератион Гмбх. Дата публикации: 2014-08-10.

Aluminum base alloy and product of such alloy

Номер патента: RU2310005C1. Автор: нников Борис Владимирович Овс,Борис Владимирович Овсянников,Валерий Иванович Попов,Виктор Михайлович Замятин,тин Виктор Михайлович Зам. Владелец: Открытое акционерное общество "Каменск-Уральский металлургический завод". Дата публикации: 2007-11-10.

Remediation of asphaltene-induced plugging of wellbores and production lines

Номер патента: RU2666823C2. Автор: Джон Джастин Фримен,Стэнли Немек Майлем,Эрик Виллем ТЕГЕЛАР,Ричард Брюс Тэйлор. Владелец: Шелл Интернэшнл Рисерч Маатсхаппий Б.В.. Дата публикации: 2018-09-12.

Method of production oil, containing one or more long-chained polyunsaturated fatty acids from biomass, product for babyfood, cosmetic composition and product for animal food (versions), containing said oil

Номер патента: RU2336298C2. Автор: Реймонд БЕРТОЛЕТ,Юнкуан ВАНГ,Джон Брюс ДЖЕРМАН,Гериберт Йоханнес ВАТЦКЕ (младший),Реймонд БЕРТОЛЕТ (CH),Юнкуан ВАНГ (CH),Джон Брюс ДЖЕРМАН (CH),Гериберт Йоханнес ВАТЦКЕ (младший) (CH). Владелец: НЕСТЕК С.А.. Дата публикации: 2008-10-20.

Method for step-by-step retention and production module for obtaining biomacromolecules and their application

Номер патента: RU2769767C1. Автор: Цзюнь ЛИНЬ,Джо ЧЖУ,Цзыцай ЛИ,Шуйцин Сюй,Стивен З. КАН,Цзяньцин ВАН,Цинтан ДУАНЬ,Минянь АНЬ,Миньчжу ЛИ. Владелец: Генор Биофарма Ко., Лтд.. Дата публикации: 2022-04-05.

Production method of fermented food product, pediococcus acidilactici strain dsm 10313- bacteriocin producer, its application and product containg it

Номер патента: RU2336705C2. Автор: СТАНКЕ Мари Луиз ХЕЛЛЕР,СТАНКЕ Мари Луиз ХЕЛЛЕР (DE). Владелец: Кр.Хансен А/С. Дата публикации: 2008-10-27.

Titanium product and production method thereof

Номер патента: RU2699338C1. Автор: Хидеки ФУДЗИИ,Йосихиса СИРАИ,Томоюки КИТАУРА. Владелец: Ниппон Стил Корпорейшн. Дата публикации: 2019-09-04.

Installation for complex gas treatment with increased extraction of gas condensate and production of liquefied natural gas

Номер патента: RU2758362C1. Автор: Андрей Владиславович Курочкин. Владелец: Андрей Владиславович Курочкин. Дата публикации: 2021-10-28.

Processes and intermediate for the large-scale preparation of 2,4,6-trifluoro-N-[6-(1-methyl-piperidine-4-carbonyl)-pyridin-2-yl]-benzamide hemisuccinate, and preparation of 2,4,6-trifluoro-N-[6-(1-methyl-piperidine-4-carbonyl)-pyridin-2-yl]-benzamide acetate

Номер патента: US12071423B2. Автор: David Andrew Coates,Scott Alan Frank,Aktham Aburub,Roger Ryan Rothhaar,Radhe Krishan Vaid,Mark Steven Kerr. Владелец: Eli Lilly and Co. Дата публикации: 2024-08-27.

Process and machine for manufacturing a hollow article made of thin glass

Номер патента: US09670085B2. Автор: Olivier Perrin,Denis Cavallucci,Sylvie Legastelois,Nicolas Castex,Antoine Bruneau. Владелец: Pochet du Courval SAS. Дата публикации: 2017-06-06.

Process for producing low-color and color-stable isocyanatoorganosilanes and products derived therefrom

Номер патента: US09663539B2. Автор: VIKRAM Kumar,David Mark Wilcox,Frank Dominic Mendicino,Steven Roger Bahr,Lina Zhao,Dung-Thi Vu,Jeffrey R. Kelby. Владелец: Momentive Performance Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-30.

Turbulent mesophase pitch process and products

Номер патента: US09376626B1. Автор: Donald P. Malone,Donald M. Lee. Владелец: Advanced Carbon Products Llc. Дата публикации: 2016-06-28.

Polytetrafluoroethylene aqueous dispersion and product thereof

Номер патента: RU2419642C2. Автор: Дзун ХОСИКАВА,Синиа ХИГУТИ,Ясухико МАЦУОКА,Нобуюки ЯМАГИСИ. Владелец: Асахи Гласс Компани, Лимитед. Дата публикации: 2011-05-27.

Special brass alloy and product made therefrom

Номер патента: RU2660552C2. Автор: Герман ГУММЕРТ,Томас ПЛЕТТ,Бьёрн РЕЕТЦ. Владелец: Отто Фукс Коммандитгезельшафт. Дата публикации: 2018-07-06.

Production method of highly porous slaked lime and product thus obtained

Номер патента: RU2719387C2. Автор: Штефан ХИНИ,Марион ЛОРГУЮ,Оливье НИССЕН,Оливье ФРАНСУАСС. Владелец: С.А. Луаст Решерш Э Девелопмен. Дата публикации: 2020-04-17.

Chemical vapor purification of fluorides

Номер патента: USRE32777E. Автор: Robert C. Folweiler. Владелец: GTE Laboratories Inc. Дата публикации: 1988-11-01.

Chemical vapor purification of fluorides

Номер патента: US4652438A. Автор: Robert C. Folweiler. Владелец: GTE Laboratories Inc. Дата публикации: 1987-03-24.

Ceramic matrix composites made by chemical vapor infiltration and methods of manufacture thereof

Номер патента: CA2924053C. Автор: Krishan Lal Luthra,Gregory Scot Corman,Badri Narayan Ramamurthi. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2018-07-17.

Method for making an eyeglass lens coated by means of physical vapor deposition pvd and intermediate assembly for the production of a coated eyeglass lens for said method

Номер патента: EP3695959A1. Автор: Marco QUEBOLI,Carlo RONI,Claudia Fagini,Danilo Mandelli. Владелец: The'lios SpA. Дата публикации: 2020-08-19.

Vapor Deposition Apparatus and Techniques Using High Purity Polymer Derived Silicon Carbide

Номер патента: US20240190710A1. Автор: Mark S. Land. Владелец: Pallidus Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

Thermoplastic material with controlled useful life, method of producing said material and products made from said material

Номер патента: RU2396292C2. Автор: Фердинанд МЕННЛЕ,Коре Рогер РЕДСЕТ,Эмиль Арне КЛЕППЕ,Рогер П. ХЕУГЕ. Владелец: Нор-Икс Индастри Ас. Дата публикации: 2010-08-10.

Assembly device and production system

Номер патента: RU2755803C1. Автор: Да ЛИ,Хэхуа ЦЗИНЬ,Цинвэнь ЛИ,Чжэньчжун ЮН,Маолинь ЛЮ,Дяньли ХУ. Владелец: Сучжоу Джернано Карбон Ко., Лтд.. Дата публикации: 2021-09-21.

Mixed esters of butyric acid and formic acid and acidic polysaccharides and production and use thereof as skin cosmetics

Номер патента: RU2490280C2. Автор: Марко БОСКО,Рита ДЖАННИ,Лука СТУЧЧИ,Антония ТРЕВИЗАН. Владелец: Сиджеа С.Р.Л.. Дата публикации: 2013-08-20.

Method and product for localised or spatial detection of nucleic acid in tissue sample

Номер патента: RU2603074C2. Автор: Йонас ФРИСЕН,Патрик СТОХЛЬ,Йоаким ЛУНДЕБЕРГ. Владелец: Спейшел Транскриптомикс Аб. Дата публикации: 2016-11-20.

New method of producing cemented carbide and product obtained thereof

Номер патента: RU2694401C2. Автор: Сусанне НОРГРЕН,Хосе ГАРСИА. Владелец: САНДВИК ИНТЕЛЛЕКЧУАЛ ПРОПЕРТИ АБ. Дата публикации: 2019-07-12.

Method to increase frequency of embryo implantation in mammal mother uterus, application of effective amount of beta-galactoside-binding lectine or its derivatives, beta-galactosid-binding lectine or derivatives and product

Номер патента: RU2631598C2. Автор: БАРУФФИ Марселу ДИАС,СИЛВА КАРВАЛЬЮ МОРАНИ Эрика ДА,Марселу РОНКОЛЕТТА,Камилло Дел Систиа АНДРАДЕ,РОДРИГЕС Лилиан КАТАЛДИ. Владелец: Универсидади Ди Сан Паулу-Усп. Дата публикации: 2017-09-25.

Latex paint film resistant to water adverse effects, composition for producing said film and production method thereof

Номер патента: RU2418825C2. Автор: Роберт Дж. ШИРИН,Йонг ЯНГ,Мохаммад АЗИФ. Владелец: Коламбия Иншуранс Компани. Дата публикации: 2011-05-20.

Composition of non-hydrogenised vegetable fats, its production method and products containing this composition

Номер патента: RU2404239C2. Автор: Бернар КЛЭНЕВЕРК,ДЕН БРЕМТ Карен ВАН. Владелец: Фудзи Ойл Юроп. Дата публикации: 2010-11-20.

Improvements in the manufacture and production of artificial resins and lacquers and artificial masses therefrom

Номер патента: GB344626A. Автор: . Владелец: IG Farbenindustrie AG. Дата публикации: 1931-03-12.

Method of producing target virus or target proteins different from adenovirus, expression cell and host cell and production methods thereof, use of expression cell

Номер патента: RU2449015C2. Автор: Инго ЙОРДАН,Фолькер Зандиг,Элизабет БРУНДКЕ. Владелец: Пробиоген Аг. Дата публикации: 2012-04-27.

Method for making an eyeglass lens coated by means of physical vapor deposition PVD

Номер патента: US11774777B2. Автор: Marco QUEBOLI,Carlo RONI,Claudia Fagini,Danilo Mandelli. Владелец: The'lios SpA. Дата публикации: 2023-10-03.

Thin film high TC oxide superconductors and vapor deposition methods for making the same

Номер патента: US5447906A. Автор: Richard J. Gambino,Praveen Chaudhari,Robert B. Laibowitz,James A. Lacey,Roger H. Koch,Joseph M. Viggiano. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1995-09-05.

Coating fibers using directed vapor deposition

Номер патента: US20180244580A1. Автор: Kang N. Lee,Adam L. Chamberlain,Andrew J. Lazur. Владелец: Rolls Royce Corp. Дата публикации: 2018-08-30.

Systems and methods for remotely monitoring inventory and product life-cycle

Номер патента: EP4042352A1. Автор: David Durand,Todd Pritts,Jeffrey Thomas CESNIK. Владелец: Roth River Inc. Дата публикации: 2022-08-17.

Digitally printed anti-copy document and processes and products therefor

Номер патента: US09738106B2. Автор: Judy Wailling WU. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-22.

Methods, Systems, and Products for Providing Communications Services

Номер патента: US20090132325A1. Автор: Steven N. Tischer,Barrett Morris Kreiner,Danna K. Hodges. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-05-21.

Methods, systems, and products for providing communications services

Номер патента: US7904509B2. Автор: Steven N. Tischer,Barrett Morris Kreiner,Donna K. Hodges. Владелец: AT&T INTELLECTUAL PROPERTY I LP. Дата публикации: 2011-03-08.

Production plan generation device, production plan generation program, and production plan generation method

Номер патента: EP3617821A1. Автор: Hiroshi Ikeda,Masakazu Ishizuka. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2020-03-04.

Light-based data entry for personal inventory and product support system

Номер патента: US20160055488A1. Автор: Harry Bims. Владелец: Protocomm Systems LLC. Дата публикации: 2016-02-25.

System and method for associating products and product labels

Номер патента: US12118506B2. Автор: Ran TAO,Sarjoun Skaff,Marios Savvides,Uzair Ahmed,Sreena Nallamothu,Nikhil Mohan. Владелец: Bossa Nova Robotics. Дата публикации: 2024-10-15.

Organic polymeric antireflective coatings deposited by chemical vapor deposition

Номер патента: CA2400157A1. Автор: Ram W. Sabnis,Terry Brewer,Douglas Guerrero,Mary J. Spencer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-30.

Magnetic recording head for perpendicular recording with enhanced covering power of protective film, fabrication process, and magnetic disk storage apparatus mounting the magnetic recording head

Номер патента: US20060090329A1. Автор: Tomohiro Okada,Isao Nunokawa,Atsushi Kato,Ichiro Oodake. Владелец: Hitachi Global Storage Technologies Netherlands BV. Дата публикации: 2006-05-04.

Thermal ink jet with chemical vapor deposited nozzle plate

Номер патента: CA2506728C. Автор: Kia Silverbrook. Владелец: SILVERBROOK RESEARCH PTY LTD. Дата публикации: 2010-08-24.

Chemically vapor deposited saw guides

Номер патента: US5415069A. Автор: Jerry Collins,John Hoover,Al Latham. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1995-05-16.

METHOD FOR MANUFACTURING OF COMPOSITE SUPERCONDUCTING WIRE BASED ON Nb3Sn COMPOSITION AND PRODUCTION LINE FOR MANUFACTURING OF COMPOSITE SUPERCONDUCTING WIRE BASED ON Nb3Sn COMPOSITION

Номер патента: RU2559803C2. Автор: Александр Константинович Шиков,Дмитрий Константинович Фигуровский,Александра Евгеньевна Воробьёва,Ильдар Мансурович Абдюханов,Елена Александровна Дергунова,Евгений Васильевич Никуленков,Мансур Нурахметович Насибулин,Надежда Викторовна Трактирникова. Владелец: Акционерное общество "Высокотехнологический научно-исследовательский институт неорганических материалов имени академика А.А. Бочвара". Дата публикации: 2015-08-10.

Method and apparatus for making production plan of recycled material and products utilizing recycled material

Номер патента: US20060282347A1. Автор: Masayuki Ichinohe,Yuzo Hiroshige. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2006-12-14.

Method of poultry manure processing and product of processing

Номер патента: RU2145587C1. Автор: Л.К. Ковалев,Е.Л. Веселова. Владелец: ТОО Научно-экспертное общество "Эльтрон". Дата публикации: 2000-02-20.

High-density grow rack system with integrated track conveyance and post-processing and controls

Номер патента: US20240237589A1. Автор: Cheng Li. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-18.

Thermal imaging process and products using image rigidification

Номер патента: US20030064302A1. Автор: Jonathan Caspar,Gregory Weed,Harvey Taylor,Rolf Gabrielsen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-04-03.

Modular and production system with high flexibility of use and operation, for combined manufacturing of customized print, paper and paperboard processing and binding

Номер патента: EP3331708A1. Автор: Carmine Mastalia. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-06-13.

Processing and production method for machine-harvested cotton with low mechanical damage to fibers

Номер патента: AU2023202399B1. Автор: Lei Guo,Na Zhang,Zhiwu Xu,Weiran Wang,Liwen TIAN,Liantao Liu,Zhanbiao Wang,Guoling NI,Tongren WANG,Hongtao Wu,Aierxi Alifu,Yuxian Xi. Владелец: Awati Xinya Cotton Industry Co ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Methods for encapsulating a substrate and products produced from same

Номер патента: US09677287B2. Автор: Barbara L. Laukhuff,Lawrence C. Neeper. Владелец: AFI Licensing LLC. Дата публикации: 2017-06-13.

Photoresist pattern formation through etching where the imaging exposure changes in a given direction in the desired pattern and inclined vapor deposition is utilized to deposit a film

Номер патента: US5366849A. Автор: Yoshikazu Nakagawa,Masayuki Sonobe. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 1994-11-22.

Multi-function integrated work table and production system using the same

Номер патента: US12117817B2. Автор: Isao Aramaki,Makoto Mizukawa,Nobuyuki Murai,Hironori Mizoguchi,Takakatsu Isozumi,Tadahiro Fujiwara,Shoichi Hayakawa,Naoto Shiroma. Владелец: Kawada Robotics Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Process of making blood compatible irregular product and product made by said process

Номер патента: RU2430744C2. Автор: Ален КАРПЕНТЬЕ,Марион МЕЛО,Антуан КАПЕЛЬ. Владелец: Карма. Дата публикации: 2011-10-10.

Method of separing methanol gas and production of polymer grade low carbon alkene

Номер патента: RU2427561C2. Автор: Хьюилинг ЖАНГ,Лонгву ЧЕНГ,Жиюань СОНГ,Ксиаёджиан МИН. Владелец: Дакинг Петрочемикал Инжиниринг Ко., Лтд.. Дата публикации: 2011-08-27.

Dispensers for edible products and methods of their use and production

Номер патента: RU2373815C2. Автор: Дио С. КАВЕРО,Раймонд Е. КЛЕППЕР,Чарльз КУРТИСС,Джеймс Люк. ДЖЕНКИНС,Сангеун КИМ,Стюарт ЛЕСЛИ,Джустин ВАЛДИНГЕР,Дио С. КАВЕРО (US),Раймонд Е. КЛЕППЕР (US),Чарльз КУРТИСС (US),Джеймс Люк. ДЖЕНКИНС (US),Сангеун КИМ (US),Стюарт ЛЕСЛИ (US),Джустин ВАЛДИНГЕР (US). Владелец: Вм. Ригли Дж. Компани. Дата публикации: 2009-11-27.

Method for hydrogen storage and production by aluminum hydrolysis for off-line power plants incorporating electrochemical generators

Номер патента: RU2260880C2. Автор: Г.В. Кулаков,В.Б. Аваков,В.И. Зинин,Б.А. Иваницкий,И.К. Ландграф. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный научно-исследовательский институт судовой электротехники и технологии" (ФГУП "ЦНИИ СЭТ"). Дата публикации: 2005-09-20.

Method of production of fertilizer and production line for realization of this method

Номер патента: RU2281273C2. Автор: Александр Макарович Салдаев,Виктор Владимирович Бородычев,Алексей Семенович Овчинников,Мари Михайловна Гавра,Мария Михайловна Гавра,Олес Владимировна Данилко,Олеся Владимировна Данилко. Владелец: Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Волгоградская государственная сельскохозяйственная академия" (ФГОУ ВПО ВГСХА). Дата публикации: 2006-08-10.

Nanoscale gold catalysts, activating agents, support media, and related methodologies useful for making such catalyst systems especially when the gold is deposited onto the support media using physical vapor deposition

Номер патента: CA2540036C. Автор: Thomas E. Wood,Allen R. Siedle,Marvin E. Jones,Craig S. Chamberlain,Larry A. Brey,Gina M. Buccellato. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2013-10-22.

Product check system and product check method

Номер патента: EP1408437A4. Автор: Takayoshi Ueno,Hiroshi Onishi,Tetsuji Kawakami,Hitoshi Naganuma,Narito Shibaike,Yuka Okada. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-27.

Method for manufacturing a component, component, and production facility for manufacturing the component

Номер патента: US20230027331A1. Автор: Franz Lorey. Владелец: Edag Engineering GmbH. Дата публикации: 2023-01-26.

Cream cheese composition with low protein content and production method of cream cheese with low protein content

Номер патента: RU2375882C2. Автор: Джимбай П. ЛОХ,Элис С. ЧА,Изабэль М. ЛЭЙИ,Тед Райли ЛИНДСТРОМ,Ана П. РОДРИГЕС. Владелец: КРАФТ ФУДЗ ГЛОБАЛ БРЭНДС ЭлЭлСи. Дата публикации: 2009-12-20.

Injection mould for radial-flow impeller, mould inserts and production of said impeller

Номер патента: RU2572647C2. Автор: Андреа МАССИНИ,Иакопо ДЖОВАННЕТТИ,Массимо ГАЙННОЦЦИ,Балинт ЭКСЕЛ,Кристоф ЛАНОД,Джулиан О'ФЛИНН,Скотт ФИНН. Владелец: Нуово Пиньоне С.п.А.. Дата публикации: 2016-01-20.

Method of separating sludge sediments and production of biogas

Номер патента: RU2283289C2. Автор: А. Бонде Торбен,Йорген Педерсен Ларс. Владелец: Грин Фарм Энерджи А/С. Дата публикации: 2006-09-10.

Method to produce feed for animals or food and product made by this method

Номер патента: RU2563683C1. Автор: Карстен ГРЕБЕР,Йоханнес П. ШЛЕБУШ. Владелец: МАРС ИНКОРПОРЕЙТЕД. Дата публикации: 2015-09-20.

Method of chemical benefication of iron ore and production line for its realization

Номер патента: RU2022037C1. Автор: А.И. Коваленко,О.Ф. Лебедев,С.А. Помазан. Владелец: Научно-исследовательский институт по проблемам Курской магнитной аномалии им.Л.Д.Шевякова. Дата публикации: 1994-10-30.

Low-temperature dephlegmation unit with separation for complex gas treatment and production of liquefied natural gas

Номер патента: RU2739038C2. Автор: Андрей Владиславович Курочкин. Владелец: Андрей Владиславович Курочкин. Дата публикации: 2020-12-21.

Device for controlling gas gap of graphite-uranium reactor process channel

Номер патента: RU2377672C1. Автор: Александр Сергеевич Богачев,Вячеслав Владимирович Борисенко,Алексей Германович Орлов,Владимир Иосифович Борисенко,Алексей Степанович Бухарский. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-внедренческое предприятие "Кропус" (ООО "НВП "Кропус"). Дата публикации: 2009-12-27.

Magnesium-phosphate compound fertiliser and production method thereof

Номер патента: RU2411223C1. Автор: . Владелец: Закрытое акционерное общество "Техно-ТМ". Дата публикации: 2011-02-10.

Saw for cutting silicon into seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: EP2731770A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: SunEdison Inc. Дата публикации: 2014-05-21.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A3. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-02-05.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A4. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2009-01-07.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2005-01-05.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2003-10-23.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: CA3217114A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-11-03.

Method of producing photoluminescence of individual color centers in vapor-deposited diamond

Номер патента: RU2655026C1. Автор: Владимир Алексеевич Кукушкин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики Российской академии наук" (ИПФ РАН). Дата публикации: 2018-05-23.

Directed vapor deposition and assembly of polymer micro - and nanostructures

Номер патента: WO2023081751A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN,Tien Hong NGUYEN. Владелец: DREXEL UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-05-11.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition of advanced lubricant for thin film storage medium

Номер патента: US20090263592A1. Автор: Lei Li,Michael Joseph Stirniman,Jing Gui,Jianwei Liu,Yiao-Tee Hsia. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2009-10-22.

System for machining seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: WO2013135631A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: MEMC Electronic Materials S.p.A.. Дата публикации: 2013-09-19.

System for machining seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: EP2825350A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: SunEdison Inc. Дата публикации: 2015-01-21.

Entity functional area and product use identification

Номер патента: US20240086945A1. Автор: Robert J. Fox,Abhinav Kaitha. Владелец: Hg Insights Inc. Дата публикации: 2024-03-14.

Apparatus and method for monitoring hydrate decomposition area under different drilling and production processes

Номер патента: US09598936B1. Автор: HAO LI,Ye Chen,Baojiang Sun,Yonghai Gao,Wenchao Sun. Владелец: China University of Petroleum East China. Дата публикации: 2017-03-21.

Method to increase shelf life of whole grain flour and product

Номер патента: RU2603513C2. Автор: Нин Чжоу,Бинь ЧЖАО,Тимоти С. ХАНСЕН,Майкл А. ДАФФИН,Доменико Р. КАССОН,Дайан Л. ГАННОН,Линн С. ХАЙНЕС,Джеймс М. МАННС,Джинни И. ЗИМЕРИ,Питер УОРФОЛК,Энтони ПРАСЕК. Владелец: Интерконтинентал Грейт Брендс Ллк. Дата публикации: 2016-11-27.

Holding apparatus and product monitoring system

Номер патента: US12036048B2. Автор: Roland-Alois Högerle,Stephanie Auber. Владелец: Aesculap AG. Дата публикации: 2024-07-16.

Production apparatus of monodisperse particle and production process of monodisperse particle and monodisperse particle produced by the process

Номер патента: US20020178866A1. Автор: Akira Kawasaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-05.

An apparatus and process for recovering propellant and product from aerosols

Номер патента: WO1992007763A1. Автор: Viney James Knott,Peter John Ling. Владелец: S.C. Johnson & Son, Inc.. Дата публикации: 1992-05-14.

System and process for the detailed design and production of reinforcement for buildings

Номер патента: WO2007014866A2. Автор: Apostolos Konstantinidis. Владелец: Apostolos Konstantinidis. Дата публикации: 2007-02-08.

Heat-sealable chemical vapor-sensor bag

Номер патента: US11009493B2. Автор: Michael L. Bishop,Christopher H. Clark. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2021-05-18.

Machine for making liquid or semi-liquid food products and production system comprising the machine

Номер патента: US20190281857A1. Автор: Andrea Cocchi,Roberto Lazzarini. Владелец: Ali Group SRL. Дата публикации: 2019-09-19.

System, method, and product for protecting a real estate value

Номер патента: US20110178952A1. Автор: Kenneth L. Herzberg,Andrew J. Herzberg. Владелец: SIRIUS VALUE PROTECTION LLC. Дата публикации: 2011-07-21.

Heat-sealable chemical vapor-sensor bag

Номер патента: US20190234923A1. Автор: Michael L. Bishop,Christopher H. Clark. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2019-08-01.

Culinary processes and products

Номер патента: AU2018269540B2. Автор: Yurely JIMENEZ ANGULO,Andrew Jesse CARTWRIGHT,Debra Joy Adele CLEMENT. Владелец: McCormick and Co Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Heat-not-burn aerosol generating substrate, and product and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240358066A1. Автор: Yong Zhang,Yongyang Shen,Dongwei Kong,Zhixiong XU. Владелец: Ccobato Shenzhen Technology Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Vapor deposition deposited photoresist, and manufacturing and lithography systems therefor

Номер патента: US09829805B2. Автор: Timothy W. Weidman,Paul Deaton,Timothy Michaelson,Barry Lee Chin,Majeed Foad. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

System and method for product tracking and product temperature profiling

Номер патента: US09460413B2. Автор: Charles G. Butts,Bryan M. Elwood,Walter Jeff Tipton,Paul M. Steinhoff. Владелец: Thermo Fisher Scientific Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Processes and systems for nucleic acid sequence assembly

Номер патента: EP4235677A2. Автор: Michael Schnall-Levin,Iain MacCallum. Владелец: 10X Genomics Inc. Дата публикации: 2023-08-30.

Mint-containing composite cellulose fiber and production method thereof

Номер патента: US09890477B2. Автор: Yixin Liu,Pengcheng Li,Xiaozhi Chen,Jintao Wu,Mingliang Jiang. Владелец: Bestee Material Tsingtao Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Chemical vapor trap and vacuum drying system including same

Номер патента: US5289641A. Автор: Richard C. Fuksa,John Balamuta. Владелец: Welch Vacuum Technology Inc. Дата публикации: 1994-03-01.

Incense and Chemical Vaporization Method Using Incense

Номер патента: MY195165A. Автор: Kawamori Hideo,Sugiura Masaaki,NISHIGUCHI Taihei. Владелец: Fumakilla Ltd. Дата публикации: 2023-01-11.

Process for producing at least one filament, vapour-depositing apparatus for carrying out such a process and filament-production installation with such a vapour-depositing apparatus

Номер патента: US20240124262A1. Автор: Detlef Kolb. Владелец: Dietze and Schell Maschinenfabrik GmbH and Co KG. Дата публикации: 2024-04-18.

Extraction process and apparatus

Номер патента: WO2024136679A1. Автор: Ross Milne,Anne Gordon,Nathan SHEPPARD,Marissa LAW. Владелец: Leaft Foods Ip Limited. Дата публикации: 2024-06-27.

Method and apparatus for measuring the insect repellent properties of chemical vapors

Номер патента: US3572131A. Автор: Robert H Wright,Francis E Kellogg,Donald J Burton,Philip N Daykin. Владелец: USA. Дата публикации: 1971-03-23.

Centralized and autonomous waste gas treatment system for multiple work processes and how to manage it

Номер патента: RU2753521C1. Автор: Хэнди Е,Цзиньчао ВЭЙ,Чанци ЛЮ. Владелец: Чжуне Чантянь Интернешнал Энджиниринг Ко., Лтд. Дата публикации: 2021-08-17.

Fat composition, method of producing said fat composition and product containing said fat composition

Номер патента: RU2768981C1. Автор: Каролина Кристина БЕНЕДИ САНТАМАРИЯ,Мария де ла О МАРТИН МАРТИН,Хосе Висенте ГАРСИЯ БЕРРОКАЛ,Педро Антонио ЭСТЕЛЬЕС БЛЭЙ. Владелец: Борхес Агрикалчерел Энд Индастриал Эдибле Оилс С.А.У.. Дата публикации: 2022-03-28.

Method of collection of many different products listed in order, in product gathering system and product gathering system

Номер патента: RU2619795C2. Автор: ДЕ ВЕЕРДОНК Вилко Йоханнес Адрианус Антониус ВАН. Владелец: Вандерланде Индастриз Б.В.. Дата публикации: 2017-05-18.

Method of producing salt product with low content of sodium and product obtained using said method

Номер патента: RU2528937C2. Автор: Геррит Ян СТОККЕРС,Эверт АЛЬТЕНА. Владелец: Акцо Нобель Кемикалз Интернэшнл Б.В.. Дата публикации: 2014-09-20.

Method of manufacturing products from a test sheet with filling, device for the realization of such method and product obtained

Номер патента: RU2647320C1. Автор: Александр Николаевич Куприй. Владелец: Александр Николаевич Куприй. Дата публикации: 2018-03-15.

Machine for multiphase confectionary product production and product production method

Номер патента: RU2402227C2. Автор: Джоан Фабре ФОРНАГУЕРА. Владелец: Вм. Ригли Дж. Компани. Дата публикации: 2010-10-27.

Method and device for manufacture of aerated food product and product manufactured with such method and device usage

Номер патента: RU2535260C2. Автор: Мелис АБИЛОВ,Шимон МАЦУРА,Тадеуш КЛАУС,Стефен ПИРСОН,Джули СИМОНСОН. Владелец: Крафт Фудз Ар Энд Ди, Инк.. Дата публикации: 2014-12-10.

Method for producing acidified protein product from casein and product thus obtained

Номер патента: RU2741528C2. Автор: Нико НУРМИ,Пяйви МЮЛЛЯРИНЕН. Владелец: Валио Лтд. Дата публикации: 2021-01-26.

Apparatus and method for top removal of granular and fine material from a fluidized bed deposition reactor

Номер патента: WO2008150552A8. Автор: Stephen M. Lord. Владелец: Lord Stephen M. Дата публикации: 2010-01-14.

Production line control device, production line control method, and production line control system

Номер патента: US20230341823A1. Автор: Daisuke Osagawa. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Processing and utilizing audio signals based on speech separation

Номер патента: US20240127844A1. Автор: Amnon Shashua,Roi Nathan,Tal ROSENWEIN,Oren Tadmor,Ronen Katsir,Oded LACHER,Yonatan SHIFTAN. Владелец: Orcam Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Recognizing product labels and products located on product storage structures

Номер патента: WO2024167769A1. Автор: Lingfeng Zhang,Mingquan Yuan,Yutao Tang,Zhaoliang Duan,Avinash M. JADE,Paul LOBO. Владелец: Walmart Apollo, LLC. Дата публикации: 2024-08-15.

Systems and methods for recognizing product labels and products located on product storage structures of product storage facilities

Номер патента: US20240265663A1. Автор: Lingfeng Zhang,Mingquan Yuan,Yutao Tang,Zhaoliang Duan,Avinash M. JADE,Paul Lewis Lobo. Владелец: Walmart Apollo LLC. Дата публикации: 2024-08-08.

Total product development and management system and product modeling method for the same

Номер патента: WO2009072818A3. Автор: Ki Bum Kim,Sang Gil Park,Dae Yeon Park,Byung Bum Kim. Владелец: Byung Bum Kim. Дата публикации: 2009-08-06.

Mixture for production of a beverage and production method thereof

Номер патента: RU2709964C1. Автор: Дмитрий Геннадьевич Салятов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ЭкоСибирь". Дата публикации: 2019-12-23.

Method for production of chewing gum granulaes, chewing composition extrusion and granulation system and product - chewing gum

Номер патента: RU2356238C2. Автор: Рикке МИККЕЛЬСЕН,Нильс Раун ШМИДТ. Владелец: Гумлинк А/С. Дата публикации: 2009-05-27.

Method of increasing the biological status and productivity of farm poultry and livestock by using of biologically active additive of natural origin

Номер патента: RU2663325C1. Автор: Александра Александровна Данилова,Наталья Александровна Юрина,Денис Васильевич Осепчук,Сергей Иванович Кононенко,Екатерина Александровна Максим,Ирина Рашидовна Тлецерук,Евгений Викторович Чернышов,Наталья Владимировна Ляшенко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Краснодарский научный центр по зоотехнии и ветеринарии" ФГБНУ КНЦЗВ. Дата публикации: 2018-08-03.

Device for drum-type machine for manufacturing products from layered dough shell with filling, production method appropriate for such device and product obtained when using such device

Номер патента: RU2631389C1. Автор: Александр Николаевич Куприй. Владелец: Александр Николаевич Куприй. Дата публикации: 2017-09-21.

Chewing gum composition moistening mouth cavity (versions) and products containing it

Номер патента: RU2539636C2. Автор: Цзюньцзе ГУАНЬ,Адити ШЕТТИ,Тине ХОАНГ,Теодор Джеймс АНАСТАСИОУ,Дороти Эллен ЭУАН,Дайно Карло ФЕРРИ,Клаудия Л. ФРОЭБИ,Дебора Энн ЛЕВЕНСОН,Джойслин П. МЭЙ,Тасула А. МИКАЭЛИДОА,Дебора Линн ОСБОРН. Владелец: Интерконтинентал Грейт Брэндс ЛЛС. Дата публикации: 2015-01-20.

Device for production of concrete stones and production of at least two-colour concrete stones

Номер патента: RU2572874C2. Автор: Норберт Фоппе. Владелец: Рекерс Фервальтунгс Гмбх Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2016-01-20.

Method and a device for production of a thermoplastic pipe with double walls and production of a connective coupling

Номер патента: RU2258002C2. Автор: Манфред А. А. ЛЮПКЕ,Стефан А. ЛЮПКЕ. Владелец: Стефан А. ЛЮПКЕ. Дата публикации: 2005-08-10.

Paper rolls installation and production method

Номер патента: RU2721801C2. Автор: Фабио ПЕРИНИ. Владелец: ФУТУРА С.п.а.. Дата публикации: 2020-05-22.

Product based on conjugated linoleic acid and product manufacture method

Номер патента: RU2462876C2. Автор: Маурицио ЛОРЕНЦОН. Владелец: Сила С.Р.Л.. Дата публикации: 2012-10-10.

Pharmaceuticals microencapsulated by vapor deposited polymers and method

Номер патента: US5393533A. Автор: Ronald J. Versic. Владелец: Dodge Ronald T Co. Дата публикации: 1995-02-28.

Method, device and system for chewing gum sheet and product production

Номер патента: RU2512168C2. Автор: Мартин Р. ЧЕРВЕНКА,Деннис В. РИБОЛТ,Скотт Дж. БРАУН,Мариано В. АРТИАГА. Владелец: Вм. Ригли Дж. Компани. Дата публикации: 2014-04-10.

Method of manufacturing molded product, tool equipment and product of tubular form

Номер патента: RU2673365C2. Автор: Масахико САТО,Тохру ЙОСИДА. Владелец: Ниппон Стил Энд Сумитомо Метал Корпорейшн. Дата публикации: 2018-11-26.

Device for address storage and product accounting

Номер патента: RU2751469C1. Автор: Дмитрий Владимирович Конкин. Владелец: Дмитрий Владимирович Конкин. Дата публикации: 2021-07-14.

Stabilised whole-grain flour production and products of such flour

Номер патента: RU2472345C2. Автор: Нин Чжоу,Луиз СЛЕЙД,Линн С. ХЕЙНС,Гарри Ира ЛЕВАЙН,Джеймс МАННЗ,Дайан ГАННОН,Эдвард Д. ХАУИ,Михейлос Н. МИХАЛОС,С. Уилльям ЭППЕРСОН,Сарват ГЭБРИЕЛ,Доменико КАССОНЕ,Дженни Э. ЗИМЕРИ. Владелец: КРАФТ ФУДЗ ГЛОБАЛ БРЭНДС ЭлЭлСи. Дата публикации: 2013-01-20.

Vapor deposition paper and method for producing same

Номер патента: EP4279263A1. Автор: Yasutomo Noishiki,Yuta SHAMOTO,Miyoko Tanaka,Misaki Wakabayashi. Владелец: Oji Holdings Corp. Дата публикации: 2023-11-22.

Methods of marking products to permit tracking their later identification and tracking, applications of such methods, and products produced by such methods

Номер патента: WO2011163296A3. Автор: Yariv Glazer. Владелец: Yariv Glazer. Дата публикации: 2012-03-01.

Processing and utilizing audio signals according to activation selections

Номер патента: US20240127843A1. Автор: Amnon Shashua,Roi Nathan,Tal ROSENWEIN,Oren Tadmor,Ronen Katsir,Oded LACHER,Yonatan SHIFTAN. Владелец: Orcam Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Automated Decline Curve and Production Analysis Using Automated Production Segmentation, Empirical Modeling, and Artificial Intelligence

Номер патента: US20230296011A1. Автор: Cenk TEMIZEL,Uchenna Odi,Karri Srinivasa Reddy. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2023-09-21.

Method and product line for in-line processing of food products

Номер патента: US12075789B2. Автор: Patricia Hoekstra-Suurs. Владелец: Marel Further Processing BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Order-fulfillment and product-handling system with random item induction and collation

Номер патента: US12122604B1. Автор: Robert Terzini. Владелец: Tension International Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Method and apparatus for continuous forming of chocolate and products obtained with the use of the same

Номер патента: RU2269899C2. Автор: Томас М. КОЛЛИНЗ,Джон МАРТИН,Джеймс М. САТТЛ,Нил А. УИЛЛКОКС,Алфред В. КАМПОРИНИ. Владелец: Марс, Инкорпорейтед. Дата публикации: 2006-02-20.

Fibre production system and production method

Номер патента: RU2670124C2. Автор: Озлем ТУРКАСЛАН. Владелец: Кордса Глобал Эндустриел Иплик Ве Корд Бези Санайи Ве Тиджарет Аноним Ширкети. Дата публикации: 2018-10-18.

Irrigated agricultural crops yield and productivity evaluation method in the forest-protected landscapes

Номер патента: RU2661829C1. Автор: Ольга Васильевна Рулева,Наталья Николаевна Овечко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный научный центр агроэкологии, комплексных мелиораций и защитного лесоразведения Российской академии наук" (ФНЦ агроэкологии РАН). Дата публикации: 2018-07-19.

Method of manufacturing chewing medicinal forms for delivery of medications and products

Номер патента: RU2519670C2. Автор: Нил Э ПОЛСЕН,Роланд ДЖОНСОН,Майкл КОФФИ. Владелец: Байер Б.В.. Дата публикации: 2014-06-20.

Method for making tubular compression product and product obtained using said method

Номер патента: RU2604448C2. Автор: Рейнальд КОНВЕР,Орелиа РЮЭР,Жеральд КАТТИО,Паскаль МОТЕ. Владелец: Тюасн. Дата публикации: 2016-12-10.

Method of continuous forming of bent or twisted profiles and production line to this end

Номер патента: RU2402396C2. Автор: Ларс ИНГВАРССОН. Владелец: ОРТИК 3Ди ЭЙБИ. Дата публикации: 2010-10-27.

Carbon bearings via vapor deposition

Номер патента: US4005163A. Автор: Jack C. Bokros. Владелец: General Atomics Corp. Дата публикации: 1977-01-25.

Vapor deposition of photoconductive selenium onto a metallic substrate having a molten metal coating as bonding layer

Номер патента: US4094675A. Автор: Hans-Hermann Beschoner,Gottfried Guder,Hartmut Dulken,Karl-Heinz Kassel. Владелец: Licentia Patent Verwaltungs GmbH. Дата публикации: 1978-06-13.

Integrated milling and production device

Номер патента: US11781392B2. Автор: Kevin James Rudy,Gunther H H von Gynz-Rekowski,Mark Joshua Miller. Владелец: Workover Solutions Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Integrated milling and production device and method

Номер патента: WO2020205613A1. Автор: Gunther HH VON GYNZ-REKOWSKI,Kevin James Rudy,Mark Joshua Miller. Владелец: Workover Solutions, Inc.. Дата публикации: 2020-10-08.

Contact drum freezer system for automated and/or mech-anized food process lines, and products produced thereby

Номер патента: US20240260594A1. Автор: Robert G. Nothum, Jr.,Ryan Doyle Nothum. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-08-08.

Card, device, product and product management system

Номер патента: EP1155382A1. Автор: Mitchell Curtis Green,Michael Charles Walters,Rita Cards Etc Pty Limited SCHADE. Владелец: Cards Etc Pty Ltd. Дата публикации: 2001-11-21.

Integrated milling and production device and method

Номер патента: CA3134832A1. Автор: Kevin James Rudy,Mark Joshua Miller,Gunther H. H. von Gynz-Rekowski. Владелец: Workover Solutions Inc. Дата публикации: 2020-10-08.

System for customized formulation and production of cleaning products and associated methods

Номер патента: WO2021091930A1. Автор: Stephen E. Decker. Владелец: Decker Stephen E. Дата публикации: 2021-05-14.

Working roller of pinch-pass mill, method of pinch-pass flat rolling and product of flat rolled metal

Номер патента: RU2705187C1. Автор: Франк Бейер,Мартин БРЕЧНАЙДЕР,Михель МАКСИШ,Сфен ЛУНКЕ,Мориц РАДСЦАТ,Бьорн ХИЛЬДЕБРАНДТ,Йюрген ШПЕР,Томас РОУЧЕК,Маркус ХИНКЕЛЬ. Владелец: Зальцгиттер Флахшталь Гмбх. Дата публикации: 2019-11-05.

Fiber elements, fibrous structures and products containing inhibiting agent, and methods for production thereof

Номер патента: RU2683101C1. Автор: Марк Роберт СИВИК,Пол Томас ВЕЙСМАН,Марк Уильям ХАМЕРСКИЙ,Паул Деннис ТРОХАН. Владелец: Дзе Проктер Энд Гэмбл Компани. Дата публикации: 2019-03-26.

Vegetable enriched caviar and production method thereof

Номер патента: RU2710786C1. Автор: Эльвира Анатольевна Пьяникова,Оксана Валерьевна Евдокимова,Тамара Николаевна Иванова,Дарья Константиновна Тарасенко,Елена Дмитриевна Полякова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учрежедение высшего образования "Юго-Западный государственный университет" (ЮЗГУ). Дата публикации: 2020-01-13.

Method for knitting products such tights, corresponding machine and product

Номер патента: RU2517126C2. Автор: Паоло КОНТИ. Владелец: Голден Лейди Компани С.П.А.. Дата публикации: 2014-05-27.

Device for production of macro fibres from logs and production of wood composite of macro fibres

Номер патента: RU2541390C2. Автор: Ульрих МЮЛЛЕР,Петер ГРЕТЕР,Штефан ФРИБОРТ,Раймунд МАУРИТЦ. Владелец: Дока Индустри Гмбх. Дата публикации: 2015-02-10.

Elastic element and product for single-use wear, including elastic element

Номер патента: RU2752879C1. Автор: Сюнсукэ САКАИ. Владелец: Дайо Пейпер Корпорейшн. Дата публикации: 2021-08-11.

Method of knitting with double feeding for product, such as tights and other similar product, machine for implementation of said method, and product produced by said machine

Номер патента: RU2499854C2. Автор: Паоло КОНТИ. Владелец: Голден Лейди Компани С.П.А.. Дата публикации: 2013-11-27.

Polymer end cap, method of its manufacture, method of protection of hollow cylindrical product and product with an installed cap

Номер патента: RU2659010C1. Автор: Денис Николаевич Сницарь,Дмитрий Викторович Чернусский. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Мехсервис". Дата публикации: 2018-06-26.

Crunchy granola clusters and products prepared therefrom

Номер патента: RU2660242C2. Автор: Кристофер М. КОУЛМЭН. Владелец: Дзе Квейкер Оутс Компани. Дата публикации: 2018-07-05.

Method of decorative modification of coin surfaces, medals, tokens made of metals plastic in cold deforming or their alloys and product made by this method

Номер патента: RU2465794C1. Автор: Алексей Михайлович Гончаров,Андрей Викторович Иванцов,Андрей Львович Манджос. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Гознак" (Фгуп "Гознак"). Дата публикации: 2012-11-10.

Method of spacing of the prospecting, development and production wells on the oil and natural gas fields based on the three-dimensional geologic model

Номер патента: RU2305301C1. Автор: Владимир Семенович Славкин,Сергей Сергеевич Гаврилов,Алексей Дмитриевич Алексеев,Василий Николаевич Колосков,Дмитрий Сергеевич Кучерявенко,Владимир Семенович Славкин (RU),Алексей Дмитриевич Алексеев (RU),Сергей Сергеевич Гаврилов (RU),Василий Николаевич Колосков (RU),венко Дмитрий Сергеевич Кучер (RU). Владелец: Закрытое акционерное общество "Моделирование и мониторинг геологических объектов им. В.А. Двуреченского ЗАО "МиМГО". Дата публикации: 2007-08-27.

Visualization and enhancement of latent fingerprints using low pressure dye vapor deposition

Номер патента: US8507028B2. Автор: Calvin Thomas Knaggs. Владелец: Linde North America Inc. Дата публикации: 2013-08-13.

Catheter with vapor deposited features on tip

Номер патента: US20240198037A1. Автор: Shubhayu Basu,Dustin R. Tobey,Cesar FUENTES-ORTEGA,Pieter E. VAN NIEKERK. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-20.

Automated in-mold label handling and product unloading device for use with a plastic material injection-molding machine

Номер патента: US12023832B2. Автор: Wilhelmus Canisius Franciscus MOENS. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-02.

Method for joining plastic materials and products made of materials of various kind, such as natural leather, regenerated leather, natural hide, synthetic hide, fabrics of any kind, wood and the like, without the aid of any kind of bonding agents or adhesive materials, and product obtained with such joining method

Номер патента: WO2009034468A3. Автор: Mario Bertoglio. Владелец: Dibi S R L. Дата публикации: 2009-06-04.

SUBSTRATE FOR SUSPENSION, AND PRODUCTION PROCESS THEREOF

Номер патента: US20120000698A1. Автор: . Владелец: Dai Nippon Printing Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

BIS-(1(2)H-TETRAZOL-5-YL) AMINE AND PRODUCTION METHOD THEREFOR

Номер патента: US20120004419A1. Автор: TODA Toshiyuki,KOFUKUDA Toru. Владелец: TOYO BOSEKI KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Chemical vapor deposition of metal compound coatings utilizing metal sub-halide

Номер патента: CA1224091A. Автор: M. Javid Hakim. Владелец: Liburdi Engineering Ltd. Дата публикации: 1987-07-14.

PROCESSING OF TITANIUM-ALUMINUM-VANADIUM ALLOYS AND PRODUCTS MADE THEREBY

Номер патента: US20120003118A1. Автор: Hebda John J.,Hickman Randall W.,Graham Ronald A.. Владелец: ATI PROPERTIES, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

EASY ADHESION POLYAMIDE FILM AND PRODUCTION METHOD THEREFOR

Номер патента: US20120003440A1. Автор: Okuzu Takayoshi,Kuwata Hideki. Владелец: UNITIKA LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS SPECTROMETRY ASSAY FOR THIOPURINE-S-METHYL TRANSFERASE ACTIVITY AND PRODUCTS GENERATED THEREBY

Номер патента: US20120003676A1. Автор: Haddon William F.,Clarke Nigel J.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Scalable Portable Sensory and Yield Expert System for BioMass Monitoring and Production

Номер патента: US20120003728A1. Автор: Lanoue Mark Allen,Kaliczak Janek. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Masking techniques in chemical vapor deposition

Номер патента: CA1199715A. Автор: Robert D. Burnham. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1986-01-21.

Method for iron-ore concentrate processing and iron-ore concentrate manufacturing line

Номер патента: RU2451757C2. Автор: Владимир Иванович Килин,Николай Иванович Байбородов,Леонид Николаевич Писарев,Анатолий Васильевич Сочнев,Николай Александрович Мартынов,Владимир Петрович Любичев,Олег Николаевич Гачегов. Владелец: Открытое акционерное общество "Евразруда". Дата публикации: 2012-05-27.

Nanotechnological method of determining presence and quantitative content of rare and dispersed chemical elements in rocks, ore and products from their processing

Номер патента: RU2370764C2. Автор: Галина Андреевна Олейникова,Елена Геннадиевна Панова,Владимир Анатольевич Шишлов,Лариса Ивановна Русанова. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие Всероссийский Геологический Институт им. А.А. Карпинского (ВСЕГЕИ). Дата публикации: 2009-10-20.

Method for chemically treating vulcanized oils, and products so obtained

Номер патента: GB596940A. Автор: . Владелец: KARL WERNER POSNANSKY. Дата публикации: 1948-01-14.

Improvements in the Manufacture and Production of Colouring Matters Containing Sulphur and of Intermediate Compounds.

Номер патента: GB190704592A. Автор: James Yate Johnson. Владелец: Individual. Дата публикации: 1907-12-05.

A method of preparing a chocolate product containing a pureed fruit and/or vegetable composition, and product

Номер патента: NZ752858A. Автор: Ryan Malcolm. Владелец: Rhuby Innovations Pty Ltd. Дата публикации: 2019-11-14.

Method and production line for manufacturing reinforced construction material

Номер патента: RU2100190C1. Автор: В.С. Попов,Ю.А. Абрамов,С.А. Шилина,З.Р. Папаризос. Владелец: Акционерное общество открытого типа "ИМАКО". Дата публикации: 1997-12-27.

Multifunctional ground-based system for receiving, processing and distributing remote earth probing information (mnkpor dzz)

Номер патента: RU2552109C1. Автор: Анатолий Васильевич Шишанов,Владимир Васильевич Ромашкин,Михаил Ефимович Синькевич,Павел Алексеевич Лошкарев,Александр Игоревич Макеров,Валерий Александрович Заичко,Овнан Олегович Тохиян. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точных приборов". Дата публикации: 2015-06-10.

Ballistic protective plate capable of stopping 3300 j projectile and production thereof

Номер патента: RS20110244A. Автор: Mile Dragic. Владелец: Mile Dragic. Дата публикации: 2011-10-31.

Ballistic protective plate capable of stopping 3700 j projectile and production thereof

Номер патента: RS20110246A. Автор: Mile Dragic. Владелец: Mile Dragic. Дата публикации: 2011-10-31.

Ballistic protective plate capable of stopping 4100 j projectile and production thereof

Номер патента: RS20110245A. Автор: Mile Dragic. Владелец: Mile Dragic. Дата публикации: 2011-10-31.

Process and apparatus for converting hydrocarbon into fatty acids

Номер патента: GB148892A. Автор: . Владелец: Deutsche Erdoel AG. Дата публикации: 1921-09-08.

Subsea platform for drilling and production of liquid and gaseous minerals

Номер патента: RU2045618C1. Автор: В.М. Пашин,О.М. Палий,В.Е. Спиро,Б.А. Кузнецов,А.М. Пузырев. Владелец: Центральный научно-исследовательский институт им.акад.А.Н.Крылова. Дата публикации: 1995-10-10.

ADSORBENT FOR FEED AND PRODUCTS PURIFICATION IN A REFORMING PROCESS

Номер патента: US20120000825A1. Автор: Gorawara Jayant K.,Kanazirev Vladislav I.,Sullivan Dana K.,Rosin Richard R.. Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods for Improving Viability and Productivity in Cell Culture

Номер патента: US20120003735A1. Автор: Dorai Haimanti,Ly Celia,Sauerwald McClain Tina M.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Process equipment system for heat exchanging structures production for air-cooled gas apparatus, slip ways for heat exchanging structures production, slip ways for gas intake header or cooled gas outlet header assembling and installation and production slipways for central support element under fan motor

Номер патента: RU2342240C2. Автор: Николай Павлович Селиванов. Владелец: Николай Павлович Селиванов. Дата публикации: 2008-12-27.

Production of foam materials and production line to this end

Номер патента: RU2535548C1. Автор: Евгений Николаевич Каблов,Валерий Анатольевич Михайлов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов (ФГУП "ВИАМ"). Дата публикации: 2014-12-20.

Method of production of organo-mineral fertilizers and production line for realization of this method

Номер патента: RU2296731C2. Автор: Александр Дмитриевич Петраков,Сергей Михайлович Радченко,Олег Павлович Яковлев,Максим Викторович Ефанов,Александр Иванович Галочкин,Петр Рейнгольдович Шотт,Вера Владимировна Высоцка,Вера Владимировна Высоцкая. Владелец: Вера Владимировна Высоцкая. Дата публикации: 2007-04-10.

Method of producing semolina by wet granulation technology using phototrophic biomass and fusa of organic oils and production line to this end

Номер патента: RU2411885C1. Автор: Александр Анатольевич Шевцов,Лариса Игоревна Лыткина,Алексей Викторович Дранников,Дмитрий Александрович Бритиков,Александр Владимирович Пономарёв,Евгения Сергеевна Шенцова,Дмитрий Сергеевич Хорхордин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежская государственная технологическая академия". Дата публикации: 2011-02-20.

Composition and production method for high-boiled sugar mass "fondant"

Номер патента: RU2325070C1. Автор: Валерий Николаевич Иванов,Галина Андреевна Афанасьева,Надежда Гавриловна Васильева,Римма Акремовна Шарафутдинова. Владелец: Валерий Николаевич Иванов. Дата публикации: 2008-05-27.

Lactis acid bacillus strains syndicate and production method of biologically active additive or leaven for production of fermented milk products based on this syndicate

Номер патента: RU2376366C2. Автор: Наталья Альгимантасовна Зыкова,Алексей Владимирович Молокеев,Наталья Валентиновна Молокеева,Рома Мирославовна Ильина,Татьяна Леонидовна Карих,Татьяна Васильевна Соколова,Леонид Георгиевич Никулин,Александр Георгиевич Куслий,Вячеслав Владимирович Мироненко,Галина Владимировна Ясудис,Ирина Александровна Гусева. Владелец: Закрытое акционерное общество "Вектор-БиАльгам". Дата публикации: 2009-12-20.

Complex additive with biologically active properties for bakery products based on soya drink and\or soya okara and product that contains it

Номер патента: RU2356246C2. Автор: Александр Геннадьевич Дмитриев,Юрий Менделевич Кацнельсон,Станислав Людвигович Люблинский,Ирина Николаевна Люблинская,Александр Викторович Котровский. Владелец: Александр Викторович Котровский. Дата публикации: 2009-05-27.

Modular technological complex of peat digging and production of agglomerated fuel

Номер патента: RU2470984C1. Автор: Алексей Викторович Большунов,Александр Викторович Михайлов,Эльдар Абдоллович Кремчеев,Дмитрий Олегович Нагорнов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный горный университет". Дата публикации: 2012-12-27.

Method for steel manufacturing, steel, and products made from the same

Номер патента: RU2244756C1. Автор: А.Д. Волосков,С.Ю. Нижегородов. Владелец: ОАО "Омутнинский металлургический завод". Дата публикации: 2005-01-20.

Method of obtaining hydrogen and products of oxidation of aluminium and device to this end

Номер патента: RU2342470C2. Автор: Игорь Николаевич Могилевский. Владелец: Игорь Николаевич Могилевский. Дата публикации: 2008-12-27.

Method for production of alpha-1-antitrypsin and product useful in medicine

Номер патента: RU2268736C1. Автор: Алексей Алексеевич Иванов,Арон Леонидович Берковский,Антон Алексеевич Игонин,Екатерина Михайловна Пальцева,Валентин Юрьевич Уваров,Елена Владимировна Сергеева. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "БиоГениус". Дата публикации: 2006-01-27.

Collagen film with plurality of openings, method for perforating of film, method for wrapping and placing into netted bag of food products (versions) and product coated with collagen film

Номер патента: RU2289257C2. Автор: Франц МАЗЕР,Оливер ТЮРК. Владелец: Натурин Гмбх Унд Ко. Дата публикации: 2006-12-20.

Method of identifying transgenic dna sequences in plant material and products based on plant material

Номер патента: RU2386698C1. Автор: Виктор Васильевич Кузнецов,Владимир Дылыкович Цыдендамбаев,Игорь Анатольевич Митрохин,Дмитрий Дмитриевич Абрамов. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физиологии растений им. К.А. Тимирязева РАН. Дата публикации: 2010-04-20.

Lactobacillus delbrueckii TS1-06 STRAIN USED FOR MAKING BACTERIAL PREPARATIONS AND PRODUCTION OF LIQUID SOUR MILK BROTH AS FOOD PRODUCT FOR MEDICAL AND PREVENTIVE PURPOSES

Номер патента: RU2391393C1. Автор: Александр Николаевич Суворов,Галина Геннадиевна Алехина,Анна Николаевна Бочкарева. Владелец: Галина Геннадиевна Алехина. Дата публикации: 2010-06-10.

Chemical vapor purification of fluorides

Номер патента: CA1262506A. Автор: Robert C. Folweiler. Владелец: GTE Laboratories Inc. Дата публикации: 1989-10-31.

Process and Arrangement for Utilizing Liquid Air in Heat Motors.

Номер патента: GB189918278A. Автор: . Владелец: Gesellschaft fuer Lindes Eismaschinen AG. Дата публикации: 1900-08-11.

Method for preparation and production of preventive water and beverages based on wine, wine water and medical plants extracts

Номер патента: RU2597184C1. Автор: Александр Юрьевич Цыбров,Артем Александрович Цыбров. Владелец: Артем Александрович Цыбров. Дата публикации: 2016-09-10.

Method for extraction of vegetal raw materials, chlorophyll-containing bioactive product manufacture method, involving such extraction, and product

Номер патента: RU2573310C1. Автор: Валерия Борисовна Некрасова,Евгений Вениаминович Ахтемиров. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Фитолон-наука". Дата публикации: 2016-01-20.

Reagent for changing direction of filtration streams when performing treatment of bottomhole formation zone in injection and production wells, and a method of preparing the same

Номер патента: RU2312881C1. Автор: Александр Илларионович Миков,Анатолий Иванович Шипилов. Владелец: Анатолий Иванович Шипилов. Дата публикации: 2007-12-20.

Means to improve immunity and productivity of peas

Номер патента: RU2442305C1. Автор: Нинэль Ефимовна Павловская,Ирина Николаевна Гагарина,Всеволод Викторович Роговин,Валентина Михайловна Муштакова,Варвара Александровна Фомина,Ирина Вячеславовна Горькова,Анатолий Иванович Ерохин,Ксения Николаевна Козявина. Владелец: Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Орловский государственный аграрный университет" (ФГОУ ВПО Орел ГАУ). Дата публикации: 2012-02-20.

Method for maintenance of temperature condition in dwelling houses and production areas and device for its realization

Номер патента: RU2298135C1. Автор: Сергей Анатольевич Ермаков. Владелец: Сергей Анатольевич Ермаков. Дата публикации: 2007-04-27.

A process of producing food supplements from jackfruit-derived materials and products therefrom

Номер патента: PH22018000340Y1. Автор: Luzviminda Cristobal Hipolito. Владелец: Luzviminda Cristobal Hipolito. Дата публикации: 2018-10-26.

A process of producing food supplements from jackfruit-derived materials and products therefrom

Номер патента: PH22018000340U1. Автор: Luzviminda Cristobal Hipolito. Владелец: Luzviminda Cristobal Hipolito. Дата публикации: 2018-10-26.

ALLOY ON BASIS OF INTERMETALLIC COMPOUND Ni3Al AND PRODUCT, MADE OF IT

Номер патента: RU2349663C1. Автор: Евгений Николаевич Каблов,Виктор Васильевич Сидоров,Ольга Анатольевна Базылева,В чеслав Петрович Бунтушкин,Вячеслав Петрович Бунтушкин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ"). Дата публикации: 2009-03-20.

Vertical residential and production farm

Номер патента: RU2436917C1. Автор: Михаил Васильевич Жуков,Василий Петрович Жуков,Эмилия Евгеньевна Жукова,Антон Михайлович Жуков. Владелец: Михаил Васильевич Жуков. Дата публикации: 2011-12-20.

Cheese made of recombined milk and production method thereof

Номер патента: RU2595415C2. Автор: Витаутас Фядаравичюс. Владелец: ТОО "Марс-2". Дата публикации: 2016-08-27.

Method of producing spring and production line to this end

Номер патента: RU2478015C1. Автор: Олег Иванович Шаврин. Владелец: Олег Иванович Шаврин. Дата публикации: 2013-03-27.

Proppant and production method of proppant

Номер патента: RU2559266C1. Автор: Александр Николаевич Новиков,Борис Абрамович Симановский,Владимир Анатольевич Можжерин,Виктор Павлович Мигаль,Галина Николаевна Салагина,Вячеслав Яковлевич Сакулин,Евгений Аркадьевич Штерн,Олег Михайлович Розанов. Владелец: Открытое акционерное общество "Боровичский комбинат огнеупоров". Дата публикации: 2015-08-10.

ALLOY BASED ON INTERMETALLIC COMPOUND Ni3Al AND PRODUCT MANUFACTURED FROM THE SAME

Номер патента: RU2308499C1. Автор: Евгений Николаевич Каблов,Юрий Александрович Бондаренко,Ольга Анатольевна Базылева,Валентина Алексеевна Сурова,Людмила Анатольевна Сомова. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ"). Дата публикации: 2007-10-20.

Method of transfer under water pressure and product manufactured by transfer under water pressure

Номер патента: RU2345902C2. Автор: Ватару ИКЕДА,Нобуюки ОТАКИ,Томоми КИЙОТАКИ. Владелец: Кьюбик Ко., Лтд.. Дата публикации: 2009-02-10.

Floor heating system of living quarters and production facilities

Номер патента: RU2357154C2. Автор: Александр Леонидович Медведев,Владимир Петрович Цой. Владелец: Владимир Петрович Цой. Дата публикации: 2009-05-27.

Titanium-base alloy and product manufactured from this alloy

Номер патента: RU2308497C1. Автор: Евгений Николаевич Каблов,Анатолий Иванович Хорев,Надежда Алексеевна Ночовная,Надежда Алексеевна Ночовна. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ"). Дата публикации: 2007-10-20.

High-temperature carbon-graphite heat-insulating material and production method thereof

Номер патента: RU2398738C1. Автор: Игорь Андреевич Годунов,Виктор Васильевич Авдеев,Сергей Геннадьевич Ионов,Анатолий Николаевич Селезнев,Андрей Трофимович Матвеев,Наталья Евгеньевна Сорокина,Александр Афанасьевич Свиридов. Владелец: Институт новых углеродных материалов и технологий (Закрытое акционерное общество) (ИНУМиТ (ЗАО)). Дата публикации: 2010-09-10.

METHOD OF DETERMINING WEIGHT CONCENTRATION OF BASIC AND TRACE ELEMENTS IN MATERIALS AND PRODUCTS MADE FROM DYSPROSIUM TITANATE (Dy2O3·TiO2), DYSPROSIUM HAFNATE (nDy2O3·mHfO2) AND MIXTURES THEREOF

Номер патента: RU2449261C1. Автор: Анатолий Васильевич Захаров,Ирина Михайловна Смирнова,Ирина Михайловна Смирнова (RU),Анатолий Васильевич Захаров (RU). Владелец: Открытое акционерное общество "Государственный научный центр Научно-исследовательский институт атомных реакторов". Дата публикации: 2012-04-27.

Method to detox wastes of construction materials contaminated with lewisite and products of its transformations

Номер патента: RU2460596C2. Автор: Валентина Федоровна Занозина,Аркадий Данилович Зорин,Станислав Михайлович Швецов,Евгений Николаевич Каратаев,Алексей Алексеевич Никонов,Виктор Матвеевич Корнев,Александр Владимирович Катышев. Владелец: Открытое акционерное общество "Капролактам-Дзержинск". Дата публикации: 2012-09-10.

Method for processing of logs and production of sawn goods

Номер патента: RU2387534C1. Автор: Юрий Михайлович Гайдуцкий. Владелец: Юрий Михайлович Гайдуцкий. Дата публикации: 2010-04-27.

Method and device for well bottom zone and productive reservoir treatment

Номер патента: RU2317409C1. Автор: Эдуард Петрович Крошечкин,Татьяна Сергеевна Лючевская,Олег Алексеевич Гуркин,Андрей Борисович Золин,Антонин Михайлович Армишев. Владелец: ООО "Научно-производственное объединение "Волгахимэкспорт". Дата публикации: 2008-02-20.

Improvements in the manufacture and production of wetting, washing, dispersing and like agents

Номер патента: GB441878A. Автор: . Владелец: IG Farbenindustrie AG. Дата публикации: 1936-01-27.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.