Method and apparatus for substrate transfer in a thermal treatment chamber
Номер патента: US20180337073A1
Опубликовано: 22-11-2018
Автор(ы): Atsushi Kitani, Chia-Hung Chen, Hsin-Hsien Wu, James Hoffman
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 22-11-2018
Автор(ы): Atsushi Kitani, Chia-Hung Chen, Hsin-Hsien Wu, James Hoffman
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Heat treatment method and heat treatment apparatus for heating substrate by irradiating substrate with light
Номер патента: US09920993B2. Автор: Tatsufumi Kusuda,Kazuyuki Hashimoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.